JP2977471B2 - ウエハのアラインメントマークの配置方法 - Google Patents
ウエハのアラインメントマークの配置方法Info
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- JP2977471B2 JP2977471B2 JP7240564A JP24056495A JP2977471B2 JP 2977471 B2 JP2977471 B2 JP 2977471B2 JP 7240564 A JP7240564 A JP 7240564A JP 24056495 A JP24056495 A JP 24056495A JP 2977471 B2 JP2977471 B2 JP 2977471B2
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- Japan
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- alignment
- mark
- wafer
- marks
- mask
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、順次投影露光装置
（以下、ステッパーという）を用いてウエハ上の感光性
有機膜へ順次露光し、ウエハの全面にマスクのパターン
を等倍で転写する場合のウエハのアラインメントマーク
の配置方法に関する。
（以下、ステッパーという）を用いてウエハ上の感光性
有機膜へ順次露光し、ウエハの全面にマスクのパターン
を等倍で転写する場合のウエハのアラインメントマーク
の配置方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４（ａ）、図４（ｂ）は、従来のステ
ッパーにおけるマスクとウエハの露光領域の位置関係を
示す説明図である。図４（ａ）、図４（ｂ）において、
３０はマスク、３１はウエハ、３２はウエハ３１の露光
領域、３３はウエハ３１の露光領域３２ごとに設けられ
る十字形のアラインメントマークである。露光領域３２
の中心線３４は点線で示してあり、アラインメントマー
ク３３は中心線３４の両側の対称の位置に形成してあ
る。
ッパーにおけるマスクとウエハの露光領域の位置関係を
示す説明図である。図４（ａ）、図４（ｂ）において、
３０はマスク、３１はウエハ、３２はウエハ３１の露光
領域、３３はウエハ３１の露光領域３２ごとに設けられ
る十字形のアラインメントマークである。露光領域３２
の中心線３４は点線で示してあり、アラインメントマー
ク３３は中心線３４の両側の対称の位置に形成してあ
る。
【０００３】この図では、３層分のアラインメントマー
ク３３が形成されており、中心線３４に最も近い位置か
ら遠ざかるにつれて、第１層用のマーク３３１、第２層
用のマーク３３２、第３層用のマーク３３３が配置され
る。各層用のマーク３３と対応する層のマスク３０のア
ラインメントマーク３５の位置を一致させることによ
り、マスク３０と露光領域３２の正確な位置合わせが行
われる。そして、各層のマスク３０のパターンが露光領
域３２に等倍で転写される。このマスク３０は、例えば
第１層用はトランジスタのコレクタ領域を形成するため
のパターン、第２層用はベースを形成するパターン、第
３層用はエミッタを形成するパターンというようにウエ
ハに形成される領域を規定するパターンが形成されてい
る。
ク３３が形成されており、中心線３４に最も近い位置か
ら遠ざかるにつれて、第１層用のマーク３３１、第２層
用のマーク３３２、第３層用のマーク３３３が配置され
る。各層用のマーク３３と対応する層のマスク３０のア
ラインメントマーク３５の位置を一致させることによ
り、マスク３０と露光領域３２の正確な位置合わせが行
われる。そして、各層のマスク３０のパターンが露光領
域３２に等倍で転写される。このマスク３０は、例えば
第１層用はトランジスタのコレクタ領域を形成するため
のパターン、第２層用はベースを形成するパターン、第
３層用はエミッタを形成するパターンというようにウエ
ハに形成される領域を規定するパターンが形成されてい
る。
【０００４】図４（ａ）は、ウエハ３１の２層用のマー
ク３３２と対応するマスク３０のマーク３５の位置が点
線で示すように一致し、露光領域３２とマスク３０の正
常な位置合わせが完了している状態を示している。図４
（ｂ）は、２層用のマスク３０と露光領域３２の位置合
わせが正常な位置からずれている状態を示している。す
なわち、右側ではマスク３０のマーク３５は露光領域３
２の３層用のマーク３３３と一致し、左側では一層用の
マーク３３１と一致している。図４（ｂ）は正常な位置
合わせではないから、露光領域３２に正常な２層用のパ
ターンの転写ができない。マスク３０の一対のマーク３
５と露光領域３２の一対のマーク、つまり左側のマーク
３３１と右側のマーク３３３の位置が一致しているの
で、ステッパーでは誤った判断によりこのような位置合
わせが行われる。従来のウエハ３１では、複数層分のマ
ーク３３が連続して並ぶことによりこのような誤った判
断がステッパーにより行われると考えられる。
ク３３２と対応するマスク３０のマーク３５の位置が点
線で示すように一致し、露光領域３２とマスク３０の正
常な位置合わせが完了している状態を示している。図４
（ｂ）は、２層用のマスク３０と露光領域３２の位置合
わせが正常な位置からずれている状態を示している。す
なわち、右側ではマスク３０のマーク３５は露光領域３
２の３層用のマーク３３３と一致し、左側では一層用の
マーク３３１と一致している。図４（ｂ）は正常な位置
合わせではないから、露光領域３２に正常な２層用のパ
ターンの転写ができない。マスク３０の一対のマーク３
５と露光領域３２の一対のマーク、つまり左側のマーク
３３１と右側のマーク３３３の位置が一致しているの
で、ステッパーでは誤った判断によりこのような位置合
わせが行われる。従来のウエハ３１では、複数層分のマ
ーク３３が連続して並ぶことによりこのような誤った判
断がステッパーにより行われると考えられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、マス
クとウエハの露光領域の位置合わせが常に正常に行われ
るようにしたウエハのアラインメントマークの配置方法
を提供することにある。
クとウエハの露光領域の位置合わせが常に正常に行われ
るようにしたウエハのアラインメントマークの配置方法
を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のウエハのアライ
ンメントマークの配置方法は、ウエハの露光領域の中心
線に対して、両側の対称の位置に各層のアラインメント
マークを形成してあり、該アラインメントマークは露光
領域の端で中心線に対し直角方向に１列に並び、しかも
２層分が連続し、空領域を介して他の層の該マークが並
ぶように形成してあることを特徴とする。
ンメントマークの配置方法は、ウエハの露光領域の中心
線に対して、両側の対称の位置に各層のアラインメント
マークを形成してあり、該アラインメントマークは露光
領域の端で中心線に対し直角方向に１列に並び、しかも
２層分が連続し、空領域を介して他の層の該マークが並
ぶように形成してあることを特徴とする。
【０００７】
【発明の実施の形態】位置合わせが正常でない場合に
は、マスクの一対のアラインメントマークの一つがウエ
ハのアラインメントマークの存在しない空領域の位置と
一致し、光学的に正常な位置として検出できないように
してある。
は、マスクの一対のアラインメントマークの一つがウエ
ハのアラインメントマークの存在しない空領域の位置と
一致し、光学的に正常な位置として検出できないように
してある。
【０００８】
【実施例】以下、本発明のウエハのアラインメントマー
クの配置方法の実施例を示す図１、図２を参照しながら
説明する。図１はウエハの露光領域を示す平面図、図２
はマスクの平面図である。図１において、１Ａから５
Ａ、１Ｂから５Ｂはウエハ１５の露光領域７ごとに形成
されている十字形のアラインメントマークであり、１Ａ
と１Ｂは第１層用、２Ａと２Ｂは第２層用、３Ａと３Ｂ
は第３層用、４Ａと４Ｂは第４層用、５Ａと５Ｂは第５
層用のマークである。
クの配置方法の実施例を示す図１、図２を参照しながら
説明する。図１はウエハの露光領域を示す平面図、図２
はマスクの平面図である。図１において、１Ａから５
Ａ、１Ｂから５Ｂはウエハ１５の露光領域７ごとに形成
されている十字形のアラインメントマークであり、１Ａ
と１Ｂは第１層用、２Ａと２Ｂは第２層用、３Ａと３Ｂ
は第３層用、４Ａと４Ｂは第４層用、５Ａと５Ｂは第５
層用のマークである。
【０００９】これらのマークは、露光領域７の端の領域
１４に形成され、点線で示す露光領域７の中心線８に対
して直角方向に１列に並び、中心線８の両側の対称の位
置に各層のマークが形成されている。しかも、マークは
２層分が連続して並び、その連続する２層分のマークに
はマークの存在しない１つの空領域９が隣接する。空領
域９の幅Ｗはほぼ１層分のマークの形成される幅であ
る。連続するマークは、２層用と３層用、４層用と５層
用のマークである。露光領域７は、一点鎖線で囲まれた
領域と領域１４からなり、その外側のウエハ１５の領域
は別の露光領域である。Ｌ２は、中心線８から２層用の
マーク２Ａ、２Ｂの中心までの長さを示している。
１４に形成され、点線で示す露光領域７の中心線８に対
して直角方向に１列に並び、中心線８の両側の対称の位
置に各層のマークが形成されている。しかも、マークは
２層分が連続して並び、その連続する２層分のマークに
はマークの存在しない１つの空領域９が隣接する。空領
域９の幅Ｗはほぼ１層分のマークの形成される幅であ
る。連続するマークは、２層用と３層用、４層用と５層
用のマークである。露光領域７は、一点鎖線で囲まれた
領域と領域１４からなり、その外側のウエハ１５の領域
は別の露光領域である。Ｌ２は、中心線８から２層用の
マーク２Ａ、２Ｂの中心までの長さを示している。
【００１０】図２において、１０はマスクであり、点線
で示す中心線１１に対して対称な位置に一対のアライン
メントマーク２Ｃ、２Ｄを形成してある。このマスク１
０は、転写するパターンを形成する領域１２、アライン
メントマークを形成する領域１３からなり、領域１３は
領域１２の端に設けられる。領域１３を除く領域１２の
面積と、領域１４を除く露光領域７の面積は同じであ
る。マスク１０は、中心線１１からマーク２Ｃ、２Ｄの
中心までの長さがＬ２であり、２層用のマスクである。
で示す中心線１１に対して対称な位置に一対のアライン
メントマーク２Ｃ、２Ｄを形成してある。このマスク１
０は、転写するパターンを形成する領域１２、アライン
メントマークを形成する領域１３からなり、領域１３は
領域１２の端に設けられる。領域１３を除く領域１２の
面積と、領域１４を除く露光領域７の面積は同じであ
る。マスク１０は、中心線１１からマーク２Ｃ、２Ｄの
中心までの長さがＬ２であり、２層用のマスクである。
【００１１】このように形成されたマスク１０と露光領
域７の位置合わせは、マスク１０のマーク２Ｃ、２Ｄと
露光領域７におけるマーク２Ａ、２Ｂの位置を夫々一致
させることにより正常な位置合わせが行える。そして、
領域１３のマーク２Ｃ、２Ｄと領域１２に形成されたパ
ターンが夫々領域１４と露光領域７に等倍で転写され
る。マスク１０が右側に一つのマーク分だけずれて、マ
ーク２Ｃがマーク３Ａに重なる場合、マーク２Ｄはマー
ク２Ｂとマーク１Ｂ間の空領域９に重なる。つまり、マ
ーク２Ｄは重なるべきマークが存在しない。
域７の位置合わせは、マスク１０のマーク２Ｃ、２Ｄと
露光領域７におけるマーク２Ａ、２Ｂの位置を夫々一致
させることにより正常な位置合わせが行える。そして、
領域１３のマーク２Ｃ、２Ｄと領域１２に形成されたパ
ターンが夫々領域１４と露光領域７に等倍で転写され
る。マスク１０が右側に一つのマーク分だけずれて、マ
ーク２Ｃがマーク３Ａに重なる場合、マーク２Ｄはマー
ク２Ｂとマーク１Ｂ間の空領域９に重なる。つまり、マ
ーク２Ｄは重なるべきマークが存在しない。
【００１２】このようなずれた状態は、ステッパーが光
学的に正常とは認識しないので、位置合わせが行われる
ことはない。無論、左側にずれた場合でも、マスク１０
のマーク２Ｃはマーク１Ａとマーク２Ａ間の空領域９に
重なり、重なるべきマークは存在しない。このように、
マスク１０が正常な位置からずれた場合には、マスク１
０の片側のマークがウエハの空領域９に重なることによ
り、誤った位置合わせが光学的にわかるようにしてあ
り、常に正常な位置合わせが行われる。
学的に正常とは認識しないので、位置合わせが行われる
ことはない。無論、左側にずれた場合でも、マスク１０
のマーク２Ｃはマーク１Ａとマーク２Ａ間の空領域９に
重なり、重なるべきマークは存在しない。このように、
マスク１０が正常な位置からずれた場合には、マスク１
０の片側のマークがウエハの空領域９に重なることによ
り、誤った位置合わせが光学的にわかるようにしてあ
り、常に正常な位置合わせが行われる。
【００１３】図３は、ウエハのアラインメントマークの
他の実施例を示す平面図である。図３は、アラインメン
トマークが露光領域１７ごとに６層分形成してある。露
光領域１７の中心線１８に対称に２１Ａと２１Ｂ、２２
Ａと２２Ｂ、２３Ａと２３Ｂ、２４Ａと２４Ｂ、２５Ａ
と２５Ｂ、２６Ａと２６Ｂの偶数層分のアラインメント
マークを形成してある。この場合も、２層分のアライン
メントマークが連続し、その両側に空領域２９があるよ
うに配置されている。なお、空領域９、２９の幅Ｗは、
ステッパーの検知精度の見地からアラインメントマーク
のその並ぶ方向に沿った最大長の０．５倍から１．５倍
が望ましい。この最大長は実施例では、アラインメント
マークの十字の水平方向の一辺の長さである。また、ア
ラインメントマークの形状は実施例では十字形であった
が、ステッパーの認識できる形状であれば他の形状でも
よい。
他の実施例を示す平面図である。図３は、アラインメン
トマークが露光領域１７ごとに６層分形成してある。露
光領域１７の中心線１８に対称に２１Ａと２１Ｂ、２２
Ａと２２Ｂ、２３Ａと２３Ｂ、２４Ａと２４Ｂ、２５Ａ
と２５Ｂ、２６Ａと２６Ｂの偶数層分のアラインメント
マークを形成してある。この場合も、２層分のアライン
メントマークが連続し、その両側に空領域２９があるよ
うに配置されている。なお、空領域９、２９の幅Ｗは、
ステッパーの検知精度の見地からアラインメントマーク
のその並ぶ方向に沿った最大長の０．５倍から１．５倍
が望ましい。この最大長は実施例では、アラインメント
マークの十字の水平方向の一辺の長さである。また、ア
ラインメントマークの形状は実施例では十字形であった
が、ステッパーの認識できる形状であれば他の形状でも
よい。
【００１４】
【発明の効果】以上述べたように本発明のウエハのアラ
インメントマークの配置方法は、ウエハの露光領域の中
心線に対して、両側の対称の位置に各層のアラインメン
トマークを形成してあり、該アラインメントマークは露
光領域の端で中心線に対し直角方向に１列に並び、しか
も２層分が連続し、空領域を介して他の層の該マークが
並ぶように形成してある。これにより、中心線に対して
左右にずれた状態でのマスクとウエハの露光領域の位置
合わせが行われなくなり、常に正常な位置合わせが行わ
れることにより、マスクのパターンのウエハ上への転写
が正確に行われる。
インメントマークの配置方法は、ウエハの露光領域の中
心線に対して、両側の対称の位置に各層のアラインメン
トマークを形成してあり、該アラインメントマークは露
光領域の端で中心線に対し直角方向に１列に並び、しか
も２層分が連続し、空領域を介して他の層の該マークが
並ぶように形成してある。これにより、中心線に対して
左右にずれた状態でのマスクとウエハの露光領域の位置
合わせが行われなくなり、常に正常な位置合わせが行わ
れることにより、マスクのパターンのウエハ上への転写
が正確に行われる。
【図１】 本発明のウエハのアラインメントマークの配
置方法の実施例を示すウエハの平面図である。
置方法の実施例を示すウエハの平面図である。
【図２】 マスクの平面図である。
【図３】 本発明のウエハのアラインメントマークの配
置方法の他の実施例を示すウエハの平面図である。
置方法の他の実施例を示すウエハの平面図である。
【図４】 従来のアラインメントマークの配置方法を示
す説明図である。
す説明図である。
１Ａ〜５Ａ、１Ｂ〜５Ｂ アラインメントマーク ７ 露光領域 ９ 空領域 １５ ウエハ
Claims (2)
- 【請求項１】 ウエハの露光領域の中心線に対して、両
側の対称の位置に各層のアラインメントマークを形成し
てあり、該アラインメントマークは露光領域の端で中心
線に対し直角方向に１列に並び、しかも２層分が連続
し、空領域を介して他の層の該マークが並ぶように形成
してあることを特徴とするウエハのアラインメントマー
クの配置方法。 - 【請求項２】 空領域の幅は、アラインメントマークの
並ぶ方向に沿った最大長の０．５〜１．５倍である請求
項１のウエハのアラインメントマークの配置方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7240564A JP2977471B2 (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | ウエハのアラインメントマークの配置方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7240564A JP2977471B2 (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | ウエハのアラインメントマークの配置方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0963945A JPH0963945A (ja) | 1997-03-07 |
| JP2977471B2 true JP2977471B2 (ja) | 1999-11-15 |
Family
ID=17061409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7240564A Expired - Fee Related JP2977471B2 (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | ウエハのアラインメントマークの配置方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2977471B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100307222B1 (ko) * | 1998-06-05 | 2001-10-19 | 박종섭 | 마스크 프레임 |
-
1995
- 1995-08-25 JP JP7240564A patent/JP2977471B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0963945A (ja) | 1997-03-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |