KR970012024A - 자기 헤드 제조용 노광 장치에서의 얼라인먼트 방법 - Google Patents

Abstract

직사각형의 기판상에 일렬로 배열된 복수개의 노광 영역 각각에 대하여 마스크에 형성된 패턴을 투영 광학계를 통하여 전사할 때에, 상기 복수의 노광 영역의 배열 상태를 따라 기판상에 형성된 복수의 위치 맞추기용의 기판 마크를 얼라인먼트 검출계에 의해 검출하여 상기 기판을 얼라인먼트하는 방법은 이하를 포함한다.

상기 기판을 설치하는 스테이지를 상기 투영 광학계의 결상면내에서 이동시키고, 상기 결상면내의 상기 얼라인먼트 검출 영역내에 상기 기판의 엣지를 배치하고, 상기 스테이지의 이동 방향인 제1방향과 상기 엣지 방향을 일치시키는 프리얼라인먼트 공정과, 상기 복수의 마크 중, 제1마크를 상기 검출 영역내에 배치하여 그 위치를 검출하고, 상기 스테이지를 상기 제1방향으로 이동시킨 후 상기 제1기판 마크와는 다른 제2기판 마크를 상기 검출 영역내에 배치하여 그 위치를 검출하고, 그러한 검출 결과를 기초로 상기 제1방향과 상기 노광 영역의 배열 방향을 일치시키는 파인얼라인먼트 공정.

Description

자기 헤드 제조용 노광 장치에서의 얼라인먼트 방법

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도는 자기 헤드 제조용 노광 장치의 개략적인 구성을 나타내는 도면.

Claims (13)

1. 직사각형의 기판상에 배열된 복수개의 노광 영역에 대하여 마스크에 형성된 패턴을 투영 광학계를 통하여 전사할 때에, 얼라인먼트 검출계를 사용하여 상기 직사각형의 기판과 상기 마스크를 얼라인먼트하는 얼라인먼트 방법에 있어서, 상기 얼라인먼트 검출계에 의해 상기 기판의 엣지를 검출하고, 그 검출 결과를 바탕으로 상기 기판을 탑재하는 스테이지가 이동 가능한 제1방향과 상기 엣지 방향을 일치시키도록 위치 결정하는 제1공정과, 상기 얼라인머트 검출계에 의해 상기 기판의 미리 정해진 기준점을 검출하여, 상기 기준점과 소정의 위치 관계에 있는 복수개의 기판 마크 중 적어도 2개의 기준 마크를 상기 얼라인먼트 검출계에 의해 검출하고, 그 검출 결과를 바탕으로 상기 제1방향과 상기 기판상의 노광 영역의 배열 방향을 일치시키도록 위치결정하는 제2공정과, 상기 얼라인먼트 검출계에 의해 상기 마스크상에 나란히 형성된 복수개의 마스크 마크 중 제1마스크 마크를 통하여 상기 스테이지상의 기준 마크를 검출함과 함께, 제1마스크 마크와는 다른 제2마스크 마크를 통하여 기준 마크를 검출하고, 그 검출 결과를 기초로 상기 제1방향과 상기 마스크상의 마스크 마크의 배열 방향이 일치하도록 위치 결정하는 제3공정을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 기준 마크는 상기 기판상의 기준 마크 또는 상기 스테이지상의 마크를 포함하는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 방법.
3. 제1항에 있어서, 상기 제1, 제2공정의 위치 결정은 상기 직사각형의 기판을 회전하는 것을 포함하며, 상기 제3의 위치 결정은 상기 마스크를 회전하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 방법.
4. 제1항에 있어서, 상기 얼라인먼트 검출계는 상기 투영 광학계의 결상면내의 소정 위치에 검출 영역을 가지며, 상기 제1공정에서는 상기 제1공정과, 직교하는 제2방향으로 상기 스테이지를 이동시켜 상기 검출 영역내에 상기 엣지를 배치하고, 상기 제2공정에서는 상기 제1방향으로 상기 스테이지를 이동시켜 상기 기준점을 상기 검출 영역내에 배치하고, 상기 기준점과 상기 2개의 기판 마크 사이의 설계상의 위치 관계를 바탕으로 상기 스테이지를 이동시켜, 상기 2개의 마크를 순차 상기 검출 영역내에 배치하는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 방법.
5. 제1항에 있어서, 상기 스테이지의 회전 중심 위치와 상기 얼라인먼트 검출계의 결상 위치에서의 검출 영역의 상대적인 위치 관계를 구해 두고, 상기 직사각형의 기판을 회전시킬 때, 상기 상대적인 위치 관계를 바탕으로 상기 얼라인먼트 검출계의 검출 영역외에 상기 엣지 또는 상기 기준 마크가 나오지 않도록 상기 스테이지를 이동시키는 얼라인먼트 방법.
6. 제1항에 있어서, 상기 제3공정에서, 상기 얼라인먼트 검출계는 상기 마스크에 대하여 이동함으로써, 상기 제1의 마스크 마크와 상기 제2의 마스크 마크를 통하여 기준 마크를 검출하는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 방법.
7. 제1항에 있어서, 상기 직사각형의 기판은 장방형상의 자기 헤드용 기판이고, 상기 엣지는 장변측의 엣지인 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 방법.
8. 직사각형의 기판상에 일렬로 배열된 복수개의 노광 영역 각각에 대하여 마스크에 형성된 패턴을 투영 광학계를 통하여 전사할 때, 상기 복수개의 노광 영역의 배열 방향에 따라 상기 기판상에 형성된 복수개의 위치 맞추기용 기판 마크를 얼라인먼트 검출계에 의해 검출하여 상기 기판을 얼라인먼트하는 얼라인먼트 방법에 있어서, 상기 기판을 탑재하는 스테이지를 상기 투영 광학계의 결상면상에서 이동시키고, 상기 결상면내의 상기 얼라이먼트 검출계의 검출 영역내에 상기 기판의 엣지를 배치하여, 상기 스테이지의 이동 방향인 제1방향과 상기 엣지의 방향을 일치시키는 프리 얼라인먼트 공정과, 상기 복수개의 마크 중 제1마크를 상기 검출 영역내에 배치하고 그 위치를 검출하여, 상기 스테이지를 상기 제1의 방향으로 이동시키고 상기 제1기판 마크와는 다른 제2의 기판 마크를 상기 검출 영역내에 배치하여 그 위치를 검출하고, 그러한 검출 결과를 바탕으로 상기 제1방향과 상기 노광 영역의 배열 방향을 일치시키는 파인 얼라인먼트 공정을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 방법.
9. 제8항에 있어서, 상기 직사각형의 기판은 장방형상의 자기 헤드용 기판이고, 상기 엣지는 장변측의 엣지인 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 방법.
10. 제8항에 있어서, 상기 프리 얼라인먼트 공정에서는, 상기 제1방향과 직교하는 제2방향으로 상기 스테이지를 이동시켜 상기 검출 영역내의 상기 엣지를 배치하는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 방법.
11. 제8항에 있어서, 상기 파인 얼라인먼트 공정에서는 상기 엣지를 검출한 상태에서 상기 제1방향으로 이동시켜고, 상기 직사각형의 기판의 모서리를 검출하고, 상기 직사각형의 모서리에서 소정 위치에 배치되는 상기 제1기판 마크와 상기 제2기판 마크를 검출하는 얼라인먼트 방법.
12. 제8항에 있어서, 상기 얼라인먼트 검출계에 의해, 상기 마스크상에 나란히 형성된 복수개의 마스크 마크중 제1마스크 마크를 통하여 상기 스테이지상의 기준 마크를 검출함과 함께, 상기 제1마스크 마크와는 다른 제2마스크 마크를 통하여 상기 기준 마크를 검출하여, 그 검출 결과를 바탕으로 상기 제1방향과 상기 마스크상의 마스크 마크의 배열 방향이 일치하도록 위치 결정하는 레티클 얼라인먼트 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 방법.
13. 제12항에 있어서, 상기 기준 마크는 상기 기판상의 기준 마크 또는 상기 스테이지상의 마크를 포함하는 것을 특징으로 하는 얼라인먼트 방법.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.