KR970012970A - 반도체장치의 제조에 사용되는 레티클 (reticle) - Google Patents
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- semiconductor devices
- chip region
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
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Abstract
반도체장치의 제조에 사용되는 레티클(reticle)이 게시되어 있다. 본 발명은 반도체장치의 제조공정에 사용되는 레티클에 있어서, 적어도 하나 이상의 메인 칩 영역의 상/하 또는 좌/우에 테스트 칩 영역을 구비하여, 상기 메인 칩 영역이 상기 레티클의 중앙으로부터 한쪽으로 치우치지 않도록 배치하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 노광공정시 촛점불량을 크게 감소시킬 수 있어 패턴 형성 후에 패턴불량을 개선시킬 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 레티클의 평면도이다.
Claims (1)
- 반도체장치의 제조공정에 사용되는 레티클(reticle)에 있어서, 적어도 하나 이상의 메인 침 영역의 상/하 또는 좌/우에 테스트 칩 영역을 구비하여, 상기 메인 침 영역이 상기 레티클의 중앙으로부터 한 쪽으로 치우치지 않도록 배치하는 것을 특징으로 하는 레티클
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950025734A KR970012970A (ko) | 1995-08-21 | 1995-08-21 | 반도체장치의 제조에 사용되는 레티클 (reticle) |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950025734A KR970012970A (ko) | 1995-08-21 | 1995-08-21 | 반도체장치의 제조에 사용되는 레티클 (reticle) |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970012970A true KR970012970A (ko) | 1997-03-29 |
Family
ID=66595226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950025734A KR970012970A (ko) | 1995-08-21 | 1995-08-21 | 반도체장치의 제조에 사용되는 레티클 (reticle) |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970012970A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101037488B1 (ko) * | 2003-12-15 | 2011-05-26 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 공정에 이용되는 레티클 |
-
1995
- 1995-08-21 KR KR1019950025734A patent/KR970012970A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101037488B1 (ko) * | 2003-12-15 | 2011-05-26 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 공정에 이용되는 레티클 |
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