KR900008612A - 반도체제조공정중 웨이퍼상의 패턴크기를 모니터링하기 위한 테스트패턴 - Google Patents

반도체제조공정중 웨이퍼상의 패턴크기를 모니터링하기 위한 테스트패턴 Download PDF

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KR900008612A
KR900008612A KR1019880015778A KR880015778A KR900008612A KR 900008612 A KR900008612 A KR 900008612A KR 1019880015778 A KR1019880015778 A KR 1019880015778A KR 880015778 A KR880015778 A KR 880015778A KR 900008612 A KR900008612 A KR 900008612A
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semiconductor manufacturing
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KR1019880015778A
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윤희선
조도현
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안시환
삼성전자 주식회사
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내용 없음.

Description

반도체제조공정중 웨이퍼상의 패턴크기를 모니터링하기 위한 테스트패턴
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 테스트 패턴도,
제3도는 본 발명의 작용에 대한 설명도.

Claims (2)

  1. 반도체 제조공정중 사진공정과 식각 공정에서 웨이퍼 상의 주요패턴의 크기를 현미경에 위한 관측만으로도 정확하게 알수 있도록 하기 위해, 마스크 또는 레 티클 상에 다수의 사각형 테스트 패턴들을 이격적으로 형성하되, 상기 각 테스트패 턴은 웨이퍼상의 주요패턴 크기 관측에 적합하도록 일정크기(α)만큼 점점 증가시 키면서 배열해 놓은 것을 특징으로 하는 테스트 괘턴.
  2. 제1항에 있어서, 상기 테스크패턴들을 다수개 사각형패턴을 각각 형성하도록 배치하고, 각 사각형 패턴간의 간격(D)은 광의 근접효과를 없애도륵 하는 범위로 조정하며, 웨이퍼상의 패턴크기 관측에 적합하도록 상기 다수개의 사각형테스트패턴들을 기본 패턴으로 하여, 각 사각형의 크기를 일정크기(α)만큼 점점 증가시키되 상기 기본 패턴과 동일모양으로 하여 다수 배열해 놓은 것을 특징으로 하는 테스트 패턴.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019880015778A 1988-11-29 1988-11-29 반도체제조공정중 웨이퍼상의 패턴크기를 모니터링하기 위한 테스트패턴 KR900008612A (ko)

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