KR960008978A - 반도체 소자의 정렬 마크 보호방법 - Google Patents
반도체 소자의 정렬 마크 보호방법 Download PDFInfo
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
본 발명은 반도체 소자의 정렬 마크 보호방법에 관한 것으로, 정렬 마크 형성후의 소자제조공정중 발생되는 정렬 마크의 손상을 방지하기 위해 정렬 마크(Alignment Mark) 상부에 보호막을 형성시키므로써 정렬 마크의 형태를 양호하게 유지시킬 수 있도록 한 반도체 소자의 정렬 마크 보호방법에 관한 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3a 및 제3b도는 본 발명에 따른 반도체 소자의 정렬 마크 보호방법을 설명하기 위한 소자의 단면도.
Claims (3)
- 반도체 소자 제조공정중 포트마스크 정렬시 기준점으로 사용하기 위해 형성된 다수의 정렬마크(2)가 후공정시 손상되는 것을 방지하기 위하여, 상기 정렬마크(2)가 형성된 영역의 전체상부면에 보호막(3)을 형성시키는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 정렬마크 보호방법.
- 제1항에 있어서, 상기 정렬마크(2) 및 보호막(3)은 도전물인 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 정렬마크 보호방법.
- 제1항에 있어서, 상기 보호막(3) 형성은 반도체 소자 제조공정중 폴리실리콘 증착공정으로 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 정렬마크 보호방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940019059A KR960008978A (ko) | 1994-08-02 | 1994-08-02 | 반도체 소자의 정렬 마크 보호방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940019059A KR960008978A (ko) | 1994-08-02 | 1994-08-02 | 반도체 소자의 정렬 마크 보호방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR960008978A true KR960008978A (ko) | 1996-03-22 |
Family
ID=66697730
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019940019059A KR960008978A (ko) | 1994-08-02 | 1994-08-02 | 반도체 소자의 정렬 마크 보호방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR960008978A (ko) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100419054B1 (ko) * | 1996-10-25 | 2004-05-22 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체메모리소자의제조방법 |
| KR100660893B1 (ko) * | 2005-11-22 | 2006-12-26 | 삼성전자주식회사 | 정렬 마크막을 구비하는 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
| KR100850144B1 (ko) * | 2006-08-31 | 2008-08-04 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 얼라인먼트 마크 보호 방법 |
-
1994
- 1994-08-02 KR KR1019940019059A patent/KR960008978A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100419054B1 (ko) * | 1996-10-25 | 2004-05-22 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체메모리소자의제조방법 |
| KR100660893B1 (ko) * | 2005-11-22 | 2006-12-26 | 삼성전자주식회사 | 정렬 마크막을 구비하는 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
| KR100850144B1 (ko) * | 2006-08-31 | 2008-08-04 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 얼라인먼트 마크 보호 방법 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| WITN | Withdrawal due to no request for examination |