KR960026084A - 반도체 소자의 측정마크 보호방법 - Google Patents
반도체 소자의 측정마크 보호방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 소정의 오버레이나 정렬정도를 측정하기 위한 측정마크(13,22)를 소자분리층 상부에 형성하는 제1단계; 및 상기 측정마크 상부에 보호층(14,23)을 형성하는 제2단계를 포함하는 것을 특징으로 하여, 오버레이나 정렬도를 향상시키고, 이에 따라 제품 특성 및 수율을 향상시킬 수 있는 특유의 효과가 있는 반도체 소자의 측정마크 보호방법에 관한 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2A도 내지 제3도는 본 발명의 측정마크 보호방법에 따라 패턴 형성과정을 도시한 단면도.
Claims (3)
- 소정의 오버레이나 정렬정도를 측정하기 위한 측정마크를 소자분리층 상부에 형성하는 제1단계; 및 상기 측정마크 상부에 보호층을 형성하는 제2단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 측정마크 보호방법.
- 제1항에 있어서, 상기 보호층은 전도층인 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 측정 마크 보호방법.
- 제2항에 있어서, 상기 전도층은 금속층이나 폴리실리콘층인 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 측정마크 보호방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940034741A KR960026084A (ko) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 반도체 소자의 측정마크 보호방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940034741A KR960026084A (ko) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 반도체 소자의 측정마크 보호방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR960026084A true KR960026084A (ko) | 1996-07-22 |
Family
ID=66688594
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019940034741A KR960026084A (ko) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 반도체 소자의 측정마크 보호방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR960026084A (ko) |
-
1994
- 1994-12-16 KR KR1019940034741A patent/KR960026084A/ko not_active Application Discontinuation
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