KR940010216A - 반도체 장치의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
비아 콘택홀 형성등과 같은 과식각이 행하여지는 반도체 장치의 제조 공정중에서 정렬표식이 과식각에 의해 손상되는 것을 방지하기 위하여 상기 정렬표식의 상부에 감광막패던을 형성하여 보호하였다.
따라서 식각 공정시 정렬표시의 표면이 손상되지 않아 반도체 웨이퍼를 노광 마스크등과 같은 반도체 제조장비와, 정확하게 정렬할 수 있어 공정이 지연되지 않고, 재공정이 불필요하며, 반도체 장치의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3(A)~(D)도는 이 발명에 따른 반도체 장치의 제조 공정도이다.
Claims (2)
- 스크라이브 라인상에 위치 검출용으로 정렬표식들이 형성되어 있는 반도체 웨이퍼상에 감광막패턴을 형성하는 반도체 장치의 제조방법에 있어서, 상기 정렬표식의 상부를 덮도록 감광막 패턴을 형성하여 상기 정렬표식의 상부를 보호하도록 하는 반도체 장치의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 감광막 패턴을 포지티브 감광액 및 네가티브 감광액으로 이루어지는 군에서 임의로 선택되는 하나의 감광액으로 형성하는 반도체 장치의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019920020468A KR940010216A (ko) | 1992-10-31 | 1992-10-31 | 반도체 장치의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019920020468A KR940010216A (ko) | 1992-10-31 | 1992-10-31 | 반도체 장치의 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR940010216A true KR940010216A (ko) | 1994-05-24 |
Family
ID=67210523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019920020468A KR940010216A (ko) | 1992-10-31 | 1992-10-31 | 반도체 장치의 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR940010216A (ko) |
-
1992
- 1992-10-31 KR KR1019920020468A patent/KR940010216A/ko not_active Application Discontinuation
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