KR950029844A - 포토마스크(Photomask) 제작방법 - Google Patents
포토마스크(Photomask) 제작방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 포토마스크(Photomask) 제작방법에 관한 것으로, 특히 블라인드 세트에 의하여 포토마스크를 가리고 노광을 실시함으로써 웨이퍼(wafer)상의 프러덕트 다이(product die)를 증가시킬 수 있는 우수한 효과가 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 종래 기술에 의한 포토마스크의 평면도, 제2도는 종래 기술에 의한 포토마스크에 의하여 프러덕트 다이와 테스트 다이가 형성된 반도체 웨이퍼를 나타내는 평면도, 제3도는 본 발명에 의한 블록킹 면을 형성한 포토마스크의 평면도.
Claims (2)
- 포토마스크 제작방법에 있어서, 프러덕트 다이 패턴(2)과 테스트 다이 패턴(4)과 블라인드 세트에 의하여 구분하기 위한 블록킹 면(12)를 포함한 포토마스크를 상기 블라인드 세트에 의하여 가리고 노광을 실시함으로써 웨이퍼상의 프로덕트 다이를 증가시키는 것을 특징으로 하는 포토마스크 제작방법.
- 제1항에 있어서, 상기 블록킹 면(12)은 크롬을 사용한 한 개 또는 두 개이상의 패턴인 것을 특징으로 하는 포토마스크 제작방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940006949A KR950029844A (ko) | 1994-04-01 | 1994-04-01 | 포토마스크(Photomask) 제작방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940006949A KR950029844A (ko) | 1994-04-01 | 1994-04-01 | 포토마스크(Photomask) 제작방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR950029844A true KR950029844A (ko) | 1995-11-24 |
Family
ID=66677655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019940006949A KR950029844A (ko) | 1994-04-01 | 1994-04-01 | 포토마스크(Photomask) 제작방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR950029844A (ko) |
-
1994
- 1994-04-01 KR KR1019940006949A patent/KR950029844A/ko not_active Application Discontinuation
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