KR950704804A - 웨이퍼 처리 방법 및 그 장치(Wafer processing machine vacuum front end method and apparatus) - Google Patents

웨이퍼 처리 방법 및 그 장치(Wafer processing machine vacuum front end method and apparatus)

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KR950704804A KR1019950702285A KR19950702285A KR950704804A KR 950704804 A KR950704804 A KR 950704804A KR 1019950702285 A KR1019950702285 A KR 1019950702285A KR 19950702285 A KR19950702285 A KR 19950702285A KR 950704804 A KR950704804 A KR 950704804A
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Abstract

웨이퍼가 회전가능한 판위의 홀더에서 수직 배향으로 유지되고 스퍼터된 막을 적용시키는것과 같은 처리를 하기 위한 다수의 처리장치를 통하여 연속되는 캐로절형 웨이퍼 처리기계는, 웨이프가 수평으로 배치되는 카세트 모듈과 처리 기계의 로딩 및 언로딩 스테이션 사이에서 이송챔버를 통하여 웨이퍼를 이송하는 진공의 전방단부 모듈을 구비한다. 상기 이송챔버는 웨이퍼 이송아암과, 정렬 스테이션과, 예열 및 가스제거 스테이션과, 상기 예열 스테이션과 양호하게 결합되는 냉각 스테이션 및, 웨이퍼가 처기 기계와 교환되는 상승 스테이션을 포함한다. 상기 아암은 카세트 모듈로 부터 상기 정렬기로 처리가 되지 않은 웨이퍼를 각각 이동한 다음, 예열 스테이션으로 이동하고, 그 다음 상승 스테이션으로 이동한다. 또한 상기 아암은 처리된 웨이퍼를 상승 스테이션으로 부터 냉각 스테이션 및 카세트 모듈로 이동시킨다. 하나의 카세드 모듈로 벤트되고, 다시 로드되거나 대체되며, 진공으로 펌프되는 반면에, 다른 웨이퍼는 처리 기계를 통하여 사이클된다.

Description

웨이퍼 처리 방법 및 그 장치(Wafer processing machine vacuum front and method and apparatus)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 제1도 장치를 도시하는 제1도의 2-2선을 따라 취한 평면도.

Claims (5)

  1. 진공의 주 챔버와, 상기 주챔버의 수평축 주위의 수직면에서 동일한 각도 간극으로 이격되게 배치되고 다수의 처리 스테이션과 로딩 및 언로딩 스테이션을 포함하는 다수의 워크 스테이션과, 워크 스테이션을 통하여 연속정으로 홀더를 운반하고 상기 워크 스테이션 중의 서로 다른 하나에서 상기 각 홀더를 동시에 위치시키기 위하여, 상기 수평축에 대한 각도 간극에서 장착된 다수의 웨이퍼 홀더를 가지며 상기 주챔버에 회전 가능하게 장창된 인텍스판과, 진공의 이송챔버와, 이송 챔버에 배치된 다수의 처리 스테이션 및, 상기 이송 챔버와 웨이퍼 처리 기계의 로딩 및 언로딩 스테이션 사이에서 소통되는 로딩 및 언로딩 포트를 구비하는 이송 모둘과, 수직 스택에서 수평으로 배치된 다수의 웨이퍼를 지지하기 위한 수단을 각각 포함하고, 밀봉 가능한 포트를 통하여 이송 모듈의 이송챔퍼에 선택적으로 연결한 내부를 가지는 2개의 웨이퍼 카세트 로드록크 챔버와, 처리 스테이션 및, 상기 각 처리 스테이션과 상기 각 로드록크 챔버에 있는 수용위치로 부터 웨이퍼를 집어올리고 그 곳에 웨이퍼를 침착시키며, 상기 각 수용위치 사이에서 웨이퍼를 이송하기 위하여 작동가능한 이송챔버내의 이송아암을 포함하고, 상기 처리 스테이션은, 위치된 웨이퍼의 회전 및 편심정렬을 위한 수단을 구비하는 웨이퍼 정렬 스테이션과, 웨이퍼 가열수단을 가진 웨이퍼 예열 스테이션과, 웨이퍼 냉각수단을 가진 웨이퍼 냉각 스테이션 및, 웨이퍼를 회전시키고, 이송 챔버의 수평 배향과 웨이퍼 처리 기계의 로딩 및 언로딩 스테이션에서 홀더의 수직 배향에 사이에서 로딩 및 언로딩 포트를 통하여 웨이퍼를 운반하기 위한 수단을 포함하는 웨이퍼 상승 스테이션을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리장치.
  2. 진공챔버와, 수직 배향에서 웨이퍼를 유지하기 위하여 위치된 홀더를 가진 진공챔버에서 로딩 및 언로딩 스테이션을 구비한 웨이퍼 처리장치용 이송모듈에 있어서, 진공의 이송챔버와, 상기 이송챔버내에서 수직축에 대하여 피봇된 반경방향으로 연장가능한 웨이퍼 이송아암과, 이송아암의 수직축에 대하여 대략 수평면으로 배치된 다수의 처리 스테이션과, 상기 이송아암과 웨이퍼 처리 기계의 로딩 및 언로딩 스테이션 사이에서 소통되는 로딩 및 언로딩 포트와, 수직 스택에서 수평으로 배치된 다수의 웨이퍼를 지지하기 위하여 랙을 각각 포함하고 이송챔버에서 밀봉가능한 포트를 통하여 선택적으로 연결가능한 내부를 가지는 2개의 웨이퍼 카세트 로드록크 챔버와, 상기 처리 스테이션과, 웨이퍼를 유지하기 위한 수단을 가지며, 이송챔버의 수평면의 수평방향과 상기 기계의 로딩 및 언로딩 스테이션에서 상기 홀더의 수직 배향 사이에서 로딩 및 언로딩 포트를 통하여 웨이퍼를 스윙하고 운반하기 위하여 상기 이송모듈에 피봇식으로 장착된 평면을 포함하는 웨이퍼 상승 스테이션 및, 상기 이송아암을 포함하고, 상기 처리 스테이션은 웨이퍼를 물리적으로 접촉하지 않고 위치된 웨이퍼의 회전 및 편심 정렬의 정보를 가진 신호를 발생하기 위한 수단을 가진 웨이퍼 정렬 스테이션을 포함하고, 상기처리 스테이션은 2개 섹션의 온도처리 스테이션과, 웨이퍼 가열수단을 구비하는 예열섹션과, 웨이퍼 냉각수단을 구비하는 냉각 섹션 및, 수용위치와 상기 각 섹션 사이에서 웨이퍼를 이동하기 위한 이동가능한 웨이퍼 지지체를 부가로 포함하며, 상기 이송아암을 상기 수직축의 단부에서 피봇식으로 연결된 연장가능한 부재를 포함하고, 자유단부에서 웨이퍼 결합기를 구비하며, 상기 아암을 결합기와 웨이퍼를 결합하고 상기 각 처리 스테이션과 상기 로드록크 챔버의 각 랙크에 있는 수용위치로부터 웨이퍼를 집어올려서 그곳에서 웨이퍼를 침착시키며, 상기 각 수용 위치 사이에서 웨이퍼를 이송하기 위하여 작동 가능한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리장치용 이송모듈.
  3. 적어도 하나의 카세트 모듈의 수직스택에 이격되고 수평으로 배향된 다수의 웨이퍼를 제공하고, 이송챔버와 소통되는 진공 환경에서 제1카세트 모듈을 포함하는 단계와, 상기 제1카세트 모듈로부터 이송챔버의 정렬 스테이션까지 수평으로 배향된 웨이퍼를 이동시켜서 상기 웨이퍼를 정렬하는 단계와, 정렬 스테이션으로부터 상기 이송모듈의 예열스테이션까지 상기 정렬된 웨이퍼를 이동하며 웨이퍼의 가스를 제거하기 위하여 웨이퍼를 가열하는 단계와, 상기 예열 스테이션으로부터 이송모듈의 상승스테이션까지 상기 가스가 제거된 웨이퍼를 이동시키는 단계와, 상기 상승 스테이션의 수평 배향으로부터 웨이퍼 처리기계의 로딩 스테이션의 수직 배향까지 로딩포트를 통하여 웨이퍼를 이동시키는 단계와 웨이퍼 처리기계의 수직 방향에 있을 동안에 웨이퍼를 처리하는 단계와, 상기 웨이퍼 처리기계의 로딩 스테이션의 수직 배향으로 부터 상승 스테이션의 수평 배향까지 로딩포트를 통하여 상기 처리된 웨이퍼를 이동시키는 단계와, 상기 상승 스테이션으로 부터 이송모듈의 냉각스테이션까지 웨이퍼를 이동시켜서 웨이퍼를 냉각시키는 단계 및 상기 냉각 스테이션으로 부터 카세트 모듈의 저장위치까지 웨이퍼를 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼를 유지하고 처리하는 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 예열 스테이션 및 냉각 스테이션은 예열 및 냉각스테이션에서 이송챔버에 위치되고, 상기 예열 스테이션 및 냉각 스테이션으로 웨이퍼를 이동시키는 단계는, 예열 및 냉각 스테이션에서 웨이퍼를 수용위치로 이동시킨 다음에 수용위치로 부터 상기 각각의 가열 또는 냉각 스테이션으로 웨이퍼를 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼를 유지하고 처리하는 방법.
  5. 제3항에 있어서, 상기 적어도 하나의 카세트 모듈은 제2카세트 모듈을 부가로 포함하고, 상기 웨이퍼를 유지하고 처리하는 방법은 상기 제1카세트 모듈로 부터의 웨이퍼가 처리될 동안에 처리되지 않은 다수의 웨이퍼를 가진 제2카세트 모듈에서 다수의 처리된 웨이퍼를 대체하는 단계를 부가로 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼를 유지하고 처리하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950702285A 1992-12-04 1993-12-03 웨이퍼 처리 방법 및 그 장치(Wafer processing machine vacuum front end method and apparatus) KR950704804A (ko)

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