KR940010225A - 반도체 웨이퍼의 이면(裏面)세정장치 - Google Patents

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Abstract

반도체 웨이퍼의 이면을 세정하는 장치는, 주면이 상향이면서 또한 실질적으로 수평으로 되도록 웨이퍼를 끼워 지지하여 유지하기 위한 1쌍의 홀더를 구비한다. 홀더는 수평방향에 있어서 상대적으로 접근, 이반이동가능함과 함께, 승강가능하도록 되어 있다. 홀더에 유지된 상태의 웨이퍼의 이면에는 회전브러쉬가 접촉한다. 회전브러쉬는. 그 자신의 축주위에서 자전구동함과 함께, 웨이퍼의 실질적인 중심을 축으로 공전구동된다. 회전브러쉬의 샤프트에는 플렉시블관이 접속되고, 플렉시블관을 통하여 세정수인 순수한 물과, 200℃정도로 가열된 건조용의 질소가스가 선택적으로 웨이퍼의 이면에 공급된다. 또한, 웨이퍼의 주면에는, 웨이퍼의 이면으로부터의 비상물이, 주면에 이르는 것을 방지하는 배리어 가스로서 청정한 질소가스가 공급된다.

Description

반도체 웨이퍼의 이면(裏面)세정장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 관계된 세정장치의 제1실시예의 요부를 나타낸 단면도,
제2도는 동 세정장치가 배치되는 처리시스템을 나타낸 사시도,
제3도는 동 세정장치의 웨이퍼 유지수단을 나타낸 평면도,
제4도는 동 세정장치의 세정브러쉬의 구동기구를 나타낸 평면도.

Claims (20)

  1. 반도체 처리가 시행되는 주면과, 이것과는 반대쪽의 이면과를 구비하는 반도체웨이퍼의 상기 이면을 세정함에 있어서, 상기 웨이퍼를 실질적으로 수평방향에 있어서 끼워지지하여 유지하기 위한 적어도 1쌍의 홀더와, 상기 웨이퍼는, 상기 주면이 상향이고 또한 실질적으로 수평이 되도록 상기 홀더에 지지되는 것과, 상기 홀더를 수평방향에 있어서 상대적으로 접근 및, 떨어지도록 이동시키기 위한 홀더 구동수단과, 상기 홀더에 유지된 상태의 상기 웨이퍼의 상기 이면에 세정수를 공급하기 위한 제1공급수단과, 상기 홀더에 유지된 상태의 상기 웨이퍼의 상기 이면으로부터 상기 세정수를 사용하여 오염물을 제거하기 위한 세정수단과, 상기 홀더에 유지된 상태의 상기 웨이퍼의 상기 이면에 건조가스를 공급하기 위한 제2공급수단을 구비하는 반도체웨이퍼의 이면세정장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 세정수단은, 상기 웨이퍼의 상기 이면에 접촉하여 이것을 문지르는 브러쉬와, 상기 브러쉬를 그 자신의 축주위에서 자전시키는 제1구동수단과, 상기 브러쉬를 자전시킨 상태로 상기 웨이퍼의 상기 이면상을 이동시키는 제2구동수단을 구비하는 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제2구동수단은, 상기 웨이퍼의 실질적인 중심을 축으로 하여 상기 브러쉬를 공정시키는 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 홀더에 유지된 상태의 상기 웨이퍼의 상기 이면과 상기 브러쉬를 상대적으로 접근 및 떨어지도록 하는 브러쉬 승강 수단을 더욱 구비하는 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 브러쉬 승강수단은, 상기 브러쉬를 상기 제1 및 제2구동수단과 함께 일체적으로 이동시키는 것인 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 홀더에 유지된 상태의 상기 웨이퍼의 상기 이면으로부터의 비상물이, 상기 웨이퍼의 상기 주면에 닿는 것을 방지하는 배리어가스를 상기 주면에 공급하는 제3공급수단을 더욱 구비하는 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제1구동수단은 상기 브러쉬의 틀의 하부에 접속된 제1샤프트를 구비하고, 상기 제2구동수단은 상기 제1샤프트를 편심위치에 축지지하는 회전판과, 상기 회전판을 축지지하는 제2샤프트를 구비하고, 상기 제2샤프트의 중심은 상기 웨이퍼의 중심과 실질적으로 정렬된 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 브러쉬의 상기 틀 및 상기 제1샤프트에 축구멍이 형성됨과 함께, 상기 제1샤프트의 아래끝단에 상기 축구멍과 연이어 통하도록, 세정수원에 접속된 플렉시블관이 접속되고, 상기 플렉시블관 및 상기 축구멍이 상기 세정수를 공급하는 제1공급수단의 일부로서 기능하는 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 브러쉬의 상기 틀이, 용기형상으로 됨과 동시에, 상기 제1샤프트에 접속된 저판과, 이것과 이간하여 내부에 배열설치되며 또한 다수개의 구멍을 가지는 확산판을 구비하고, 상기 저판과 확산판의 사이의 공간이 세정수헷더로서 기능하는 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 플렉시블관이, 전환밸브를 통하여 건조가스원과 상기 세정수원에 접속되고, 상기 플렉시블관 및 상기 축구멍이 상기 건조가스를 공급하는 상기 제2공급수단의 일부로서 기능하는 장치.
  11. 제9항에 있어서, 상기 제2샤프트에 별도의 축구멍이 형성됨과 함께, 상기 제2샤프트의 아래끝단에 상기 별도의 축구멍이 연이어 통하도록, 건조가스원에 접속된 별도의 플렉시블관이 접속되고, 또한 상기 웨이퍼의 상기 이면에 지향된 건조가스 노즐의 기초끝단이 상기 별도의 축구멍과 연이어 통하도록 상기 제2샤프트에 접속되며, 상기 별도의 플렉시블관 및 상기 별도의 축구멍이 상기 건조가스를 공급하는 상기 제2공급수단의 일부로서기능하는 장치.
  12. 제9항에 있어서, 상기 홀더를 승강시키는 홀더 승강수단을 더욱 포함하는 장치.
  13. 제9항에 있어서, 상기 홀더에 유지된 상태의 상기 웨이퍼의 주위를 포위하도록 배열설치된 배기구 및 이것에 접속된 배기덕트를 더욱 구비하는 장치.
  14. 주면과, 이것과는 반대쪽의 이면을 구비하는 반도체웨이퍼의 상기 주면에 레지스트를 도포함과 함께, 상기 이면을 세정하는 레지스트 도포시스템으로서, (a) 상기 웨이퍼의 상기 주면에 레지시트를 도포하는 레지시트 도포장치와, (b) 상기 웨이퍼의 상기 이면을 세정하는 세정장치와, 상기 세정장치는, 상기 웨이퍼를 실질적으로 수평방향에 있어서 끼워 지지하기 위한 적어도 한쌍의 홀더와, 상기 웨이퍼는, 상기 주면이 상향이며 또한 실질적으로 수평으로 되도록 상기 홀더에 지지됨과 함께, 상기 홀더를 수평방향에 있어서 상대적으로 접근, 이반이동시키기 위한 홀더 구동수단과, 상기 홀더에 유지된 상태의 상기 웨이퍼의 상기 이면에 세정수를 공급하기 위한 제1공급수단과, 상기 홀더에 유지된 상태의 상기 웨이퍼의 상기 이면으로부터 상기 세정수를 사용하여 오염물을 제거하기 위한 세정수단과, 상기 홀더에 유지된 상태의 상기 웨이퍼의 상기 이면에 건조가스를 공급하기 위한 제2공급수단을 구비함과 함께, (c) 상기 도포장치와 상기 세정장치의 사이에서 상기 웨이퍼를 반송하는 반송수단을 구비하는 시스템.
  15. 제14항에 있어서, 상기 반송수단이 반송아암을 포함하며, 상기 반송아암은 상기 홀더의 수평방향의 이동에 간섭하지 않도록 형성되는 시스템.
  16. 제15항에 있어서, 상기 세정수단은, 상기 웨이퍼의 상기 이면에 접촉하여 이것을 문지르는 브러쉬와, 상기 브러쉬를 그 자신의 축주위에서 자전시키는 제1 구동수단과, 상기 브러쉬를 자전시킨 상태로 상기 웨어퍼의 상기 이면상을 이동시키는 제2구동수단을 구비하는 시스템.
  17. 제16항에 있어서, 상기 제2구동수단이, 상기 웨이퍼의 실질적인 중심을 축으로하여 상기 브러쉬를 공전시키는 시스템.
  18. 제17항에 있어서, 상기 홀더에 유지된 상태의 상기 웨이퍼의 상기 이면과 상기 브러쉬를 상대적으로 접근 및 떨어지도록 하는 브러쉬 승강수단을 더욱 구비하는 시스템.
  19. 제18항에 있어서, 상기 브러쉬 승강수단은, 상기 브러쉬를 상기 제1및 제2구동수단과 함께 일체적으로 이동시키는 것인 시스템.
  20. 제19항에 있어서, 상기 홀더에 유지된 상태의 상기 웨이퍼의 상기 이면으로부터의 비상물이, 상기 웨이퍼의 상기 주면에 이르는 것을 방지하는 배리어가스를 상기 주면에 공급하는 제3공급수단을 더욱 구비하는 시스템.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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