KR920017118A - 불휘발성 반도체 기억장치 - Google Patents

불휘발성 반도체 기억장치 Download PDF

Info

Publication number
KR920017118A
KR920017118A KR1019920001708A KR920001708A KR920017118A KR 920017118 A KR920017118 A KR 920017118A KR 1019920001708 A KR1019920001708 A KR 1019920001708A KR 920001708 A KR920001708 A KR 920001708A KR 920017118 A KR920017118 A KR 920017118A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrical
selecting
conducting terminal
selecting means
nonvolatile semiconductor
Prior art date
Application number
KR1019920001708A
Other languages
English (en)
Other versions
KR950008674B1 (ko
Inventor
마고도 야마모도
나고오 고바야시
Original Assignee
시기.모리야
미쓰비시뎅끼 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 시기.모리야, 미쓰비시뎅끼 가부시끼가이샤 filed Critical 시기.모리야
Publication of KR920017118A publication Critical patent/KR920017118A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR950008674B1 publication Critical patent/KR950008674B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/10Programming or data input circuits
    • G11C16/14Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/08Address circuits; Decoders; Word-line control circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/10Programming or data input circuits
    • G11C16/12Programming voltage switching circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/32Timing circuits

Abstract

내용 없음

Description

불휘발성 반도체 기억장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 한 실시예의 불휘발성 반도체 기억장치에서 있어 메모리 어레이의 구성을 개념적으로 표시한 회로도, 제2도는 실시예의 불휘발성 반도체 기억장치에 있어서 데이타 소거시의 워드선, 비트선 및 소스선의 전위를 표형식으로 표시한 그림.

Claims (2)

  1. 복수의 행 및 복수의 열에 배치된 복수의 메모리셀과 전기복수의 행에 대응하여 설치되는 복수의 워드선과 전기복수의 열에 대응하여 설치되는 복수의 배트선과를 비치하고, 전기복수의 메모리셀의 각각은 대응하는 전기비트선에 접속되는 제1도통단자와 대응하는 전기워드선에 접속되는 제어단자와, 전하를 축적하기 위한 프로팅게이트 영역과 제2도의 도통단자가 있는 전계효과 반도체 소자를 포함하고, 데이터 소거시에, 전기복수의 비트선중 어느것을 선택하는 제1선택수단과, 전기데이타 소거시에, 전기복수의 워드선중 어느 것을 선택하는 제2선택수단과, 전기데이타 소거시에, 전기 제1선택수단에 의해 선택된 전기 어느것의 비트선과, 전기 제2선택수단에 의해 선택된 전기 어느것의 워드선과의 사이에 대응하는 전기 제1도통단자와 대응하는 전기 프로팅 게이트 영역과의 사이에 터널현상이 생기게 하는 소정이 고전압을 인가하는 제1의 전압인가수단과를 다시 비치한 불휘발성 반도체 기억장치.
  2. 제1항에 있어서, 전기복수의 메모리셀의 전기 제2도통단자를 공통으로 접속되어 데이타 일괄소거시에 전기 공통으로 접속된 제2도통단자와, 전기복수의 워드선과의 사이에, 전기공통으로 접속된 제2도통단자와 대응하는 전기프로팅 게이트 영역과의 사이에 터널현상이 생기게 하는 소정의 고전압을 인가하는 제2의 전압인가수단을 다시 설치한 불휘발성 반도체 기억장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920001708A 1991-02-08 1992-02-06 불휘발성 반도체 기억장치 및 그의 데이타소거방법 KR950008674B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3018044A JPH04255996A (ja) 1991-02-08 1991-02-08 不揮発性半導体記憶装置
JP91-018044 1991-02-08
JP91-18044 1991-02-08

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR920017118A true KR920017118A (ko) 1992-09-26
KR950008674B1 KR950008674B1 (ko) 1995-08-04

Family

ID=11960691

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019920001708A KR950008674B1 (ko) 1991-02-08 1992-02-06 불휘발성 반도체 기억장치 및 그의 데이타소거방법

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5293212A (ko)
JP (1) JPH04255996A (ko)
KR (1) KR950008674B1 (ko)
DE (1) DE4203560C2 (ko)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4302195C2 (de) * 1993-01-27 1996-12-19 Telefunken Microelectron Verfahren zum Betrieb eines nichtflüchtigen Halbleiterspeichers
US5579261A (en) * 1995-04-21 1996-11-26 Advanced Micro Devices, Inc. Reduced column leakage during programming for a flash memory array
KR0172366B1 (ko) * 1995-11-10 1999-03-30 김광호 불휘발성 반도체 메모리 장치의 독출 및 프로그램 방법과 그 회로
US5966332A (en) * 1995-11-29 1999-10-12 Sanyo Electric Co., Ltd. Floating gate memory cell array allowing cell-by-cell erasure
EP0782268B1 (en) * 1995-12-29 2002-04-24 STMicroelectronics S.r.l. Supply voltages switch circuit
JP3189740B2 (ja) * 1997-06-20 2001-07-16 日本電気株式会社 不揮発性半導体メモリのデータ修復方法
KR100485356B1 (ko) * 1997-06-26 2005-07-25 주식회사 하이닉스반도체 플래시메모리셀
US6492675B1 (en) 1998-01-16 2002-12-10 Advanced Micro Devices, Inc. Flash memory array with dual function control lines and asymmetrical source and drain junctions
US6621755B2 (en) * 2001-08-30 2003-09-16 Micron Technology, Inc. Testmode to increase acceleration in burn-in
US6650563B2 (en) * 2002-04-23 2003-11-18 Broadcom Corporation Compact and highly efficient DRAM cell
US7710767B2 (en) * 2005-01-25 2010-05-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Memory cell array biasing method and a semiconductor memory device
KR100706797B1 (ko) * 2005-08-23 2007-04-12 삼성전자주식회사 각각의 워드 라인에 다른 레벨의 소거 전압을 인가하는낸드 플래시 메모리 장치
JP2012146033A (ja) * 2011-01-07 2012-08-02 Toshiba Corp メモリ装置
CN111739571A (zh) * 2019-03-25 2020-10-02 亿而得微电子股份有限公司 低电流电子可擦除可重写只读存储器阵列的快速擦除方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3175125D1 (en) * 1980-11-20 1986-09-18 Toshiba Kk Semiconductor memory device and method for manufacturing the same
US4451905A (en) * 1981-12-28 1984-05-29 Hughes Aircraft Company Electrically erasable programmable read-only memory cell having a single transistor
US4698787A (en) * 1984-11-21 1987-10-06 Exel Microelectronics, Inc. Single transistor electrically programmable memory device and method
US4920512A (en) * 1987-06-30 1990-04-24 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Non-volatile semiconductor memory capable of readily erasing data
US5050125A (en) * 1987-11-18 1991-09-17 Kabushiki Kaisha Toshiba Electrically erasable programmable read-only memory with NAND cellstructure
JPH01137496A (ja) * 1987-11-20 1989-05-30 Mitsubishi Electric Corp 不揮発性半導体記憶装置
US5047814A (en) * 1988-02-05 1991-09-10 Emanuel Hazani E2 PROM cell including isolated control diffusion
US4949309A (en) * 1988-05-11 1990-08-14 Catalyst Semiconductor, Inc. EEPROM utilizing single transistor per cell capable of both byte erase and flash erase
JP2732070B2 (ja) * 1988-07-12 1998-03-25 三菱電機株式会社 不揮発性半導体記憶装置の書込み方法
US5047981A (en) * 1988-07-15 1991-09-10 Texas Instruments Incorporated Bit and block erasing of an electrically erasable and programmable read-only memory array
US5134449A (en) * 1989-12-04 1992-07-28 Texas Instruments Incorporated Nonvolatile memory cell with field-plate switch
US5122985A (en) * 1990-04-16 1992-06-16 Giovani Santin Circuit and method for erasing eeprom memory arrays to prevent over-erased cells

Also Published As

Publication number Publication date
DE4203560C2 (de) 1996-03-28
DE4203560A1 (de) 1992-08-13
KR950008674B1 (ko) 1995-08-04
US5293212A (en) 1994-03-08
JPH04255996A (ja) 1992-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3728695A (en) Random-access floating gate mos memory array
KR950021688A (ko) 불휘발성 반도체 기억장치 및 그 제조방법
KR920018954A (ko) 반도체 메모리 장치
KR910019060A (ko) 불휘발성 반도체 기억장치
KR910006996A (ko) 비휘발성 메모리 어레이
KR950027845A (ko) 반도체 메모리장치
KR920017118A (ko) 불휘발성 반도체 기억장치
KR950034801A (ko) 기억장치
KR930005221A (ko) 반도체 메모리 장치
JPS6425394A (en) Nonvolatile semiconductor memory device
KR19980019017A (ko) 저 전원 전압에서의 동작에 적합한 메모리 및 이 메모리용의 감지 증폭기(Memory suitable for operation at low power supply voltages and sense amplifier therefor)
KR910010526A (ko) 페이지 소거 가능한 플래쉬형 이이피롬 장치
KR890001101A (ko) 반도체 기억장치
KR900003895A (ko) 반도체메모리셀 및 반도체메모리장치
KR850001612A (ko) 반도체 다치(多値) 기억장치
KR980006291A (ko) 강유전체 메모리
KR900015164A (ko) Nand메모리셀구조를 갖춘 eeprom
KR930005020A (ko) 망사 구조의 전원선을 가지는 반도체 메모리 장치
KR920022304A (ko) 과 소거 방지 수단을 가진 트랜지스터 셸 플래쉬 메모리 어레이
US3618053A (en) Trapped charge memory cell
US3750115A (en) Read mostly associative memory cell for universal logic
KR910005313A (ko) 메모리블럭으로 분할된 메모리셀 어레이를 갖는 전기적 소거 가능한 반도체 불휘발성 기억장치
US4360896A (en) Write mode circuitry for photovoltaic ferroelectric memory cell
KR910003839A (ko) 데이타 저장셀로 강자성체를 사용하는 반도체 집적회로장치
US3662356A (en) Integrated circuit bistable memory cell using charge-pumped devices

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20000726

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee