KR910010715A - 반도체 메모리 - Google Patents
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- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body
- H01L27/10—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도 및 제3도는 본 발명의 제1 및 제2실시에에 따른 반도체 메모리를 각각 도시하는 평면도.
Claims (6)
- 반도체 메모리에 있어서, 반도체 기판상의 활성 영역과 반도체 기판상의 전원 라인을 접속하는 콘택트 홀이 2개의 인접한 전원라인에서 서로 엇갈려 위치하고, 상기 2개의 인접한 전원 라인중 한 라인의 각 콘택트 홀의 양쪽에 뻗은 2개의 워드 라인이, 한 전원 라인의 콘택트 홀로부터 엇갈려 위치한, 다른 전원 라인의 2개의 인접한 콘택트 홀 사이에 뻗어 있도록 구성된 반도체 메모리.
- 제1항에 있어서, 상기 워드 라인이 선형으로 되어있는 반도체 메모리.
- 제2항에 있어서, 다수의 상기 워드 라인이 상기 활성 영역에 대해서 비스듬하게, 서로 평행하게 뻗어있는 반도체 메모리.
- 제3항에 있어서, 상기 전원 라인이 선형으로 되어있는 반도체 메모리.
- 제4항에 있어서, 상기 다수의 전원 라인이 서로에 대해서는 평행하고, 상기 활성 영역에 대해서는 비스듬하고, 상기 워드 라인에 대해서는 직각이 되도록 구성된 반도체 메모리.
- 제1항 내지 제5항중 어느 한 항에 있어서, 상기 활성 영역과 상기 워드 라인 사이의 교차점에 있는, 상기 활성 영역과 상기 워드 라인 사이의 중간층이 플로팅 게이트를 형성하도록 구성된 반도체 메모리.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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