KR970008173A - 수율개선을 위하여 배치된 워드라인을 갖는 반도체 기억장치 - Google Patents

수율개선을 위하여 배치된 워드라인을 갖는 반도체 기억장치 Download PDF

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Abstract

수율개선을 위하여 배치된 워드라인을 갖는 반도체 기억장치가 개시되어 있다. 본 발명은 셀 어레이 영역 상부에 하나의 주 워드라인에 의해 제어되고 항상 같은 전위를 갖는 복수의 블록 워드라인을 그 한 쪽 옆에 차례로 배치함으로써, 서로 다른 전압을 가지면서 인접한 두 개의 배선 사이의 영역 면적을 최소화시킬 수 있다. 따라서, 셀 어레이 영역 상부에 오염입자에 의한 패턴불량 또는 브릿지가 발생할 경우 확률적으로 수율저하를 감소시킬 수 있다.

Description

수율개선을 위하여 배치된 워드라인을 갖는 반도체 기억장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 제1도의 블록 다이아그램에 도시한 주 워드라인(NWL), 블록워드라인(BWL), 접지선(Vss), 및 전원선(Vcc)을 본 발명에 의해 셀 어레이 영역 상에 배열한 상태의 일 부분을 도시한 배치도이다.

Claims (3)

  1. 셀 어레이 영역 상부에 하나의 주 워드라인, 복수의 블록 워드라인, 복수의 접지선, 및 복수의 전원선을 포함하는 반도체 기억장치에 있어서, 일정영역의 셀을 선택하는 기능을 갖는 주 워드라인; 및 상기 주 워드라인에 의해 제어되고 그 한 쪽 옆에 차례로 배치된 복수의 블록 워드라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 기억장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 전원선 양 옆에 서로 이웃한 두 개의 주 워드라인을 각각 배치하는 것을 특징으로 하는 반도체 기억장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 접지선 양 옆에 서로 다른 두 개의 주 워드라인에 의해 제어되는 복수의 블록 워드라인을 각각 배치하는 것을 특징으로 하는 반도체 기억장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950022941A 1995-07-28 1995-07-28 수율개선을 위하여 배치된 워드라인을 갖는 반도체 기억장치 KR0183725B1 (ko)

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JP3178427B2 (ja) * 1998-08-18 2001-06-18 日本電気株式会社 半導体記憶装置
KR100507379B1 (ko) * 2002-07-05 2005-08-09 주식회사 하이닉스반도체 워드라인 구동 회로
US6992603B2 (en) * 2004-03-31 2006-01-31 Intel Corporation Single-stage and multi-stage low power interconnect architectures
US7046578B2 (en) 2004-08-23 2006-05-16 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for memory device wordline

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5432730A (en) * 1993-12-20 1995-07-11 Waferscale Integration, Inc. Electrically programmable read only memory array

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