KR890016573A - 반도체기억장치 - Google Patents

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KR890016573A
KR890016573A KR1019890004803A KR890004803A KR890016573A KR 890016573 A KR890016573 A KR 890016573A KR 1019890004803 A KR1019890004803 A KR 1019890004803A KR 890004803 A KR890004803 A KR 890004803A KR 890016573 A KR890016573 A KR 890016573A
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유끼히데 스즈끼
마사야 무라나까
마사미찌 이시하라
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미다 가쓰시게
가부시끼가이샤 히다찌세이사꾸쇼
오노 미노루
히다찌초엘에스아이엔지니어링 가부시끼가이샤
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    • H10B12/30DRAM devices comprising one-transistor - one-capacitor [1T-1C] memory cells
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Abstract

내용 없음

Description

반도체기억장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 2 도는 본 발명의 실시예인 공유센스방식을 사용한 DRAM의 주요부의 등가회로도. 제 3 도는 본 발명의 실시예인 공유센스방식을 사용한 DRAM의 주요부 단면도로써, 좌측은 상기 제 2 도의 메모리셀 M이 대응하는 단면도이고, 우측은 상기 제 2 도의 프리차지회로 DPI의 일부에 대응하는 단면도.

Claims (6)

  1. 반도체기판의 제 1 의 영역에 마련되어 서로 평행하게 연장하는 여러개의 제 1의 데이타선, 상기 여러개의 제 1 의 데이선과 각각 교차하는 부분에서 적어도 1개의 MISFET를 포함하는 제 1 의 메모리셀이 마련되어 제 1 의 메모리셀 어레이를 구성하고, 상기 제 1 의 영역에 마련되어 상기 제 1 의 데이타선의 연장방향과 다른 방향으로 서로 평행하게 연장하는 여러개의 제 1 의 워드선, 상기 반도체기판의 제 1 의 영역과 대향하는 위치에 마련된 제 2 의 영역, 상기 제 2 의 영역에 마련되어 상기 제 1의 데이타선과 동일방향으로 서로 평행하게 연장하는 여러개의 제 2 의 데이타선, 상기 여러개의 제 2 의 데이타선과 교차하는 부분에서 적어도 1개의 MISFET를 포함하는 제 2 의 메모리셀이 마련되어 제 2 의 메모리셀 어레이를 구성하고, 상기 제 2 의 영역에 마련되어 상기 제 1의 워드선과 동일방향으로 연장하고, 서로 평행하게 연장하는 여러개의 제 2 의 워드선, 상기 제 1의 메모리 셀 및 제 2 의 메모리셀에 기억된 정보를 리드, 또는 상기 제 1의 메모리셀 및 제 2 의 메모리셀에 정보를 라이트하기 위한 주변회로가 마련되고, 상기 주변회로는 상기 여러개의 제1 및 제 2 의 데이타선에 대응하는 여러개의 제 3 의 데이타선을 갖고, 상기 제 1의 영역과 제 2 의 영역사이에 마련된 제 3 의 영역 및 상기 제 1의 영역과 상기 제 3 의 영역사이에 마련되고 상기 여러개의 제 1의 데이타선의 각각과 직렬로 접속된 여러개의 제 1의 스위치용 MISFET와 상기 제 2 의 영역과 제 3 의 영역사이에 마련되고 상기 여러 개의 제 2 의 데이타선의 각각과 접속된 여러개의 제 2 의 스위치용 MISFET를 포함하며, 상기 여러개의 제 1의 스위치용 MISFET와 상기 여러개의 제 2 의 스위치용 MISFET는 상기 제 3 의 영역에 마련된 주변회로의 여러개의 제 3 의 데이타선에 각각 접속되고, 상기 여러개의 제 3 의 데이타선의 적어도 1개에는 상기 제 1의 메모리셀 및 상기 제 2 의 메모리셀에서 리드되는 정보를 공통으로 측정할 수 있는 측정용 단자가 마련되어 있는 반도체 기억장치.
  2. 특허청구의 범위 제 1 항에 있어서, 상기 측정용단자는 상기 데이타선을 형성하는 배선층보다 위층인 배선층에 의해 형성되고, 상기 데이타선을 형성하는 배선충에 전자적으로 접속되는 반도체기억장치.
  3. 특허청구의 범위 제 2 항에 있어서, 상기 측정용 단자는 상기 제 3 의 영역에 형성된 적어도 상기 메모리셀에서 리드되는 정보의 측정시에 고정전위로 되는 배선충 사이에 배치되는 반도체기억장치.
  4. 특허청구의 범위 제 3 항에 있어서, 상기 고정전위로 되는 배선층은 상기 측정용 단자를 형성하는 배선층과 동일층의 배선층에 의해 형성되는 반도체 기억장치.
  5. 특허청구의 범위 제 4 항에 있어서, 상기 제1, 제2 및 제3의 데이타선은 각각 여러개의 상보성 데이타선쌍을 갖고 있으며, 상기 제3의 데이타선의 여러개의 상보성 데이타선쌍에 상기 측정용 단자가 1조 마련되는 반도체 기억장치.
  6. 특허청구의 범위 제 1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2의 메모리 셀은 DRAM의 메모리셀인 반도체기억장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890004803A 1988-04-28 1989-04-12 반도체 기억장치 KR0134776B1 (ko)

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