KR900000727A - 내식제 조성물 - Google Patents

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KR900000727A
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마꼬또 하나바따
히로또시 나까니시
고지 구와나
유끼오 하나모또
후미오 오이
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모리 히데오
스미또모 가가꾸고오교 가부시끼가이샤
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides

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Abstract

내용 없음

Description

내식제 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 합성예 1에서 수득된 화합물의 질량 스펙트럼이며,
제2도는 합성예 2에서 수득된 화합물의 질량 스펙트럼이다.

Claims (4)

  1. 알칼리 용성 수지와 하기 일반식(Ⅰ)의 페놀 화합물의 퀴논 디아지드 술폰산 에스테르를 포함하는 양화성 내식제 조성물.
    [상기식에서, Y1및 Y2는 각각 수소원자, 알킬기 또는 히드록실기이며 (단, Y1과 Y2중 적어도 하나는 히드록실기임), Z1,Z2,Z3,Z4,Z5,Z6및 Z7은 같거나 다르고 각각 수소원자, 히드록실기, 알킬기, 시클로알킬기, 아릴기 또는 할로겐 원자이며(단, Z1,Z2,Z3,Z4,Z5,Z6및 Z7중 적어도 둘은 히드록실기임), R1,R2및 R3는 같거나 다르고 각각 수소원자, 알킬기, 아케닐기, 시클로알킬기 또는 아릴기임]
  2. 제1항에 있어서, Z1,Z2,Z3,Z4,Z5,Z6및 Z7중 둘이 히드록실기인 양화성 내식제 조성물.
  3. 제1항에 있어서, Z1,Z2,Z3,Z4,중 적어도 하나가 히드록실기이고 Z5,Z6및 Z7중 적어도 하나가 히드록실기인 야화성 내식제 조성물.
  4. 제1항에 있어서, Y2,Z2및 Z6가 히도록실기인 양화성 내식제 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2715480B2 (ja) * 1988-10-13 1998-02-18 住友化学工業株式会社 ポジ型レジスト用組成物
CA2023791A1 (en) * 1989-08-24 1991-02-25 Ayako Ida Radiation-sensitive positive resist composition
US5322757A (en) * 1989-09-08 1994-06-21 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Positive photoresists comprising a novolak resin made from 2,3-dimethyl phenol,2,3,5-trimethylphenol and aldehyde with no meta-cresol present
JP2629988B2 (ja) * 1989-12-14 1997-07-16 住友化学工業株式会社 ポジ型レジスト組成物
JP2715328B2 (ja) * 1990-01-19 1998-02-18 富士写真フイルム株式会社 ポジ型フオトレジスト組成物
JP2715327B2 (ja) * 1990-01-19 1998-02-18 富士写真フイルム株式会社 感光性樹脂組成物
JP2761786B2 (ja) * 1990-02-01 1998-06-04 富士写真フイルム株式会社 ポジ型フオトレジスト組成物
WO1992012205A1 (en) * 1991-01-11 1992-07-23 Sumitomo Chemical Company, Limited Positive resist composition
JP3070116B2 (ja) * 1991-03-25 2000-07-24 住友化学工業株式会社 多価フェノール化合物およびそれを用いてなるポジ型レジスト組成物
JP2976597B2 (ja) * 1991-04-17 1999-11-10 住友化学工業株式会社 キノンジアジドスルホン酸エステルの製造方法
EP0510670B1 (en) * 1991-04-26 1996-09-25 Sumitomo Chemical Company, Limited Positive resist composition
JP3139088B2 (ja) * 1991-04-26 2001-02-26 住友化学工業株式会社 ポジ型レジスト組成物
DE69223083T2 (de) * 1991-04-26 1998-07-02 Sumitomo Chemical Co Positivarbeitende Resistzusammensetzung
JP3064595B2 (ja) 1991-04-26 2000-07-12 住友化学工業株式会社 ポジ型レジスト組成物
EP0886183A1 (en) * 1993-12-17 1998-12-23 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive-working photoresist composition
JPH0859530A (ja) * 1994-06-15 1996-03-05 Sumitomo Chem Co Ltd ポリヒドロキシ化合物及びそれを含有するポジ型レジスト組成物
JP3444562B2 (ja) * 1995-03-28 2003-09-08 東京応化工業株式会社 レジスト溶液の調製方法
JP3427562B2 (ja) * 1995-05-09 2003-07-22 住友化学工業株式会社 ポジ型レジスト組成物
US6040107A (en) * 1998-02-06 2000-03-21 Olin Microelectronic Chemicals, Inc. Photosensitive diazonaphthoquinone esters based on selected cyclic alkyl ether-containing phenolics and their use in radiation sensitive mixtures
KR20010051350A (ko) * 1999-11-01 2001-06-25 이시마루 기미오, 다께우찌 마사아끼 활성 입자, 감광성 수지 조성물 및 패턴 형성 방법
US20030033252A1 (en) * 2001-08-09 2003-02-13 Buttridge Kelly A. Methods and systems for check processing using blank checks at a point-of-sale
WO2006013697A1 (ja) 2004-08-02 2006-02-09 Fujifilm Corporation 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP5247093B2 (ja) 2007-09-14 2013-07-24 富士フイルム株式会社 アゾ化合物、硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP5473239B2 (ja) 2008-03-25 2014-04-16 富士フイルム株式会社 金属フタロシアニン染料混合物、硬化性組成物、カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法
JP5315267B2 (ja) 2009-03-26 2013-10-16 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、キノフタロン色素
JP5791874B2 (ja) 2010-03-31 2015-10-07 富士フイルム株式会社 着色組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置
CN103086859B (zh) * 2011-11-08 2015-11-11 清华大学 2,4-二羟基-5,6-取代-1-卤代苯衍生物、其合成方法及其应用
JP2017171837A (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 住友化学株式会社 レゾルシンとアセトンとの縮合物の製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL76414C (ko) * 1949-07-23
US3046119A (en) * 1950-08-01 1962-07-24 Azoplate Corp Light sensitive material for printing and process for making printing plates
JPS55139375A (en) * 1979-04-18 1980-10-31 Sumitomo Chem Co Ltd Production of hydroxyflavan
EP0025599B1 (en) * 1979-09-13 1984-12-19 The Wellcome Foundation Limited Benzopyran compounds, useful as chemotherapeutic agents
JPS6197278A (ja) * 1984-10-16 1986-05-15 Mitsubishi Chem Ind Ltd ナフトキノンジアジド系化合物及び該化合物を含有するポジ型フオトレジスト組成物
JPH0814696B2 (ja) * 1987-09-17 1996-02-14 富士写真フイルム株式会社 感光性樹脂組成物

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DE68927140D1 (de) 1996-10-17

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