KR930022148A - 포지티브 포토레지스트 조성물 - Google Patents

포지티브 포토레지스트 조성물 Download PDF

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KR930022148A
KR930022148A KR1019930005315A KR930005315A KR930022148A KR 930022148 A KR930022148 A KR 930022148A KR 1019930005315 A KR1019930005315 A KR 1019930005315A KR 930005315 A KR930005315 A KR 930005315A KR 930022148 A KR930022148 A KR 930022148A
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유지 우에다
나오끼 다께야마
히로미 우에끼
다께히로 구스모또
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모리 히데오
스미또모 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명은 하기 일반식(I)로 표시되는 화합물과 알데히드의 축합반응을 통해 얻어지는 알칼리 용해성 수지, 용해 억제제 및 광유도 산 전구체로 이루어지는 포지티브 포토레지스트 조성물을 제공한다.
[상기 식에서, R1내지 R9는 각각 독립하여 수소원자, 할로겐 원자, 알킬기, 알케닐기, -OH기등을 나타내고; 단, R1내지 R9중의 적어도 하나는 -OH기이고, 적어도 2개의 수소원자가 상기 -OH기의 o- 또는 p-위치에 부착되어 있음]
본 포지티브 포토레지스트 조성물은 해상력, 형상, 감도등과 같은 성능면에서 우수하다.

Description

포지티브 포토레지스트 조성물
내용없음

Claims (6)

  1. 하기 일반식(I)로 표시되는 화합물을 포함한 페놀화합물과 알데히드 성분의 축합반응을 통해 얻어질 수 있는 알칼리 용해성 수지, 용해 억제제 및 광유도 산 전구체로 이루어지는 포지티브 포토레지스트 조성물.
    [상기 식에서, R1내지 R9는 각각 독립하여 수소원자, 할로겐원자, 치환되거나 또는 치환되지 않은 직쇄 또는 측쇄인 알킬 또는 알케닐기, -OH기 또는 치환되거나 치환되지 않은 알킬카르보닐기를 나타내고; 단, R1내지 R9중의 적어도 하나는 -OH기이고, 적어도 2개의 수소원자가 상기 -OH기의 o-또는 p-위치에 부착되어 있음]
  2. 제1항에 있어서, 상기 용해 억제제가 3급-부톡시카르보닐옥시기에 의해 치환된 벤젠링을 함유하는 화합물인 것을 특징으로 하는 포지티브 포토레지스트 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 3급-부톡시카르보닐옥시기에 의해 치환된 벤젠링을 함유하는 상기 화합물이 하기 일반식(Ⅱ)로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 포지티브 포토레지스트 조성물.
    [상기 식에서, R10내지 R17은 각각 독립하여 수소원자, 할로겐원자, 치환되거나 또는 치환되지 않은 직쇄 또는 측쇄인 알킬 또는 알케닐기 또는 치환되거나 또는 치환되지 않은 알킬카르보닐기를 나타내고; A는 -O-, -SO2-또는 탄소수 1 내지 6의 치환되거나 또는 치환되지 않은 알킬렌기를 나타냄]
  4. 제1항 내지 제3항중의 어느 한 항에 있어서, 상기 광유도 산 전구체는 하기 일반식(Ⅲ)으로 표시되는 N-히드록시이미드 화합물의 술폰상 에스테르인 것을 특징으로 하는 포지티브 포토레지스트 조성물.
    [상기 식에서, R18은 치환되거나 또는 치환되지 않은 아릴렌, 알킬렌 또는 알케닐렌기를 나타내고, R19는 치환되거나 또는 치환되지 않은 알킬 또는 아릴기를 나타냄]
  5. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 광유도 산 전구체가 하기 일반식(Ⅳ)로 표시되는 에스테르인 것을 특징으로 하는 포지티브 포토레지스트 조성물.
    [상기 식에서, R20은 치환되거나 또는 치환되지 알킬 또는 아릴기를 나타내고, n은 1 내지 3의 정수임]
  6. 제1항에 있어서, 상기 일반식(I)의 화합물은, 식중의 적어도 하나의 R1내지 R4가 -OH기이고, 적어도 하나의 R5내지 R9도 -OH기인 화합물인 것을 특징으로 하는 포지티브 포토레지스트 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
KR1019930005315A 1992-04-10 1993-03-31 포지티브 포토레지스트 조성물 KR930022148A (ko)

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JP3393915B2 (ja) * 1994-03-04 2003-04-07 住友化学工業株式会社 化学増幅型レジスト組成物
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