KR930021602A - 시클릭 카보네이트 화합물류, 이들 화합물의 제조방법 및 이들 화합물을 사용한 포지티브 포토레지스트 조성물 - Google Patents

시클릭 카보네이트 화합물류, 이들 화합물의 제조방법 및 이들 화합물을 사용한 포지티브 포토레지스트 조성물 Download PDF

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히로미 우에끼
다께히로 구스모또
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Abstract

본 발명은 하기 시클릭 카보네이트 화합물, 알칼리 용해성 수지 및 광유도 산 전구체로 이루어진 포지티브 포토레지스트 조성물 뿐만아니라 화학적으로 증폭된 포지 티브 포토테지스트에 사용하기 위한 용해 억제제로서 유용한 하기 구조식 (5)로 표시되는 시클릭 카보네이트 화합물 등의 제조방법을 제공한다. 본 조성물은 해상력, 형상,감도등과 같은 성능면에서 우수한 포지티브 포토레지스트를 제공한다.

Description

시클릭 카보네이트 화합물류, 이들 화합물의 제조방법 및 이들 화합물을 사용한 포지티브 포토레지스트 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 실시예1 화합물의 H1-NMR을 나타낸 도면이다.
제2도는 제1도의 7PPM 부근에 나타난 큰 피크를 나타낸 도면 이다.

Claims (8)

  1. 하기 일반식(1)로 표시되는 시클릭 카보네이트 화합물.
    [상기 식에서, Rl내지 R9는 각각 독립하여 수소원자, 할로겐원자, 치환되거나 또는 치환되지 않은 직쇄 또는 측쇄인 알킬 또는 알케닐기, 3급-부톡시카르보닐옥시기, 또는 아세틸기를 나타내고, 단, R1내지 R4중의 적어도 하나는 3급-부톡시카르보닐옥시기이며, R5내지 R9중의 적어도 하나도 3급-부톡시카르보닐옥시기 임].
  2. 제1항의 일반식(1)로 표시되는 용해 억제제.
  3. 하기 일반식 (Ⅱ)로 표시되는 화합물을 디-3급-부틸디카보네이트와 영기성 촉매 존재하에서 반응시키는것을 특징으로 하는 제1항 기재의 일반식 (1)로 표시되는 화합물의 제조방법.
    [상기 식에서, Z1내지, Z9는 각각 독립하여 수소원자, 할로겐원자, 치환되거나 또는 치환되지 않는 직쇄 또는 측쇄인 알킬 또는 알케닐기, -OH기 토는 아세틸기를 나타내고, 단, Z1내지 Z4중의 적어도 하나는 ―OH기이고, Z5내지 R9중의 적어도 하나도 -OH기임).
  4. 제1항 기재의 시클릭 카보네이트 화합물, 알칼리 용해성 수지 및 광유도산 전구체로 이루어지는 포지티브포토레지스트 조성물.
  5. 제4항에 있어서. 상기 알칼리 용해성 수지는, 하기 일반식 (Ⅱ)으로 표시되는 화합물올 함유하는 페놀성분과알데히드 성분의 축합반응을 통해 얻어질 수 있는 노보락 수지 또는 폴리비닐 페놀인 것을 특징으로 하는 프지티브 포토레지스트 조성물.
    [상기 식에서, Y1내지 Y9는 각각 독립하여 수소원자, 할로겐원자, 치환되거나 또는치환되지 않은 직쇄 또는 측쇄인 알킬 또는 아케닐기, -OH기 또는 아세틸기를 나타내고, 단, Y1내지 Y9증의 적어도 하나는 ―OH기이고, 적어도 두개의 수소원자가 상기 -OH기의 O- 또는 P-위치에 부착되어 있음.]
  6. 제5항에 있어서, 상기 광유도 산 겐구체는 하기 일반식 (IV)로 표시되는 N-히도록시이미드 화합물의 술폰산 에스테르인 것을 특징으로 하는 포지티브 포토레지스드 조성물.
    [상기 식에서, R10은 치환되거나또는 치환되지 않은 아릴렌, 알킬렌 또는 알케닐렌기를 나타내고, Rll은 치환되거나 또는 치환되지 않은 알킬 또는 아릴기를 나타냄].
  7. 제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 광유도 산 전구체는 하기 일반식 (V)로 표시되는 에스테르인 것을 특징으로 하는 포지티브 포토레지스트 조성물.
    [상기 식에서, R12는 치환되거나 또는 치환되지 않은 알킬 또는 아릴기를 나타내고, n은 1 내지 3의 정수임].
  8. 제5항에 있어서, 상기 일반식(Ⅲ)의 화합물은, 식중의 적어도 하나의 Yl내지 Y4가 -OH기이고, 적어도 하나의 Y5내지 Z9도 -OH기인 화합물인 것을 특징으로 하는 포지티브 포토레지스트 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019930005314A 1992-04-10 1993-03-31 시클릭 카보네이트 화합물류, 이들 화합물의 제조방법 및 이들 화합물을 사용한 포지티브 포토레지스트 조성물 KR930021602A (ko)

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