KR960015085A - 퀴논디아지드의 합성법 및 이것을 함유하는 포지형 레지스트 - Google Patents
퀴논디아지드의 합성법 및 이것을 함유하는 포지형 레지스트 Download PDFInfo
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Abstract
폴리히드록시화합물과 1,2-나프토퀴논디아지드-5-(및/또는 -4-)술포닐클로리드의 에스테르화반응에 의해 퀴논디아지드에스테르를 합성할 때에, 하기 일반식(I) 또는 (II)로 표시되는 염기화합물을 염기촉매로서 사용하는 것을 특징으로 하는 퀴논디아지드에스테르의 합성법 및 그 합성법에 의해 얻어지는 에스테르를 함유하는 포지형 포트레지스트가 개시되어 있다.
(식중, R1∼R15는 상기한 정의한 같다).
특정한 수산기가 분자내에 잔존하는 소망한 감광물을 고선택적으로 합성할 수 있는 퀴논디아지드에스테르의 합성법을 제공하고, 고해상력으로 또 해상력의 막두께 의존성이 작고 현상 잔유물이 발생하기 어렵고, 경시안 정성이 우수한 포지형 포토레지스트를 제공한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (3)
- 폴리히드록시화합물과 1,2-나프토퀴논디아지드-5-(및/또는 -4-)술포닐클로리드의에스테르화반응에 의해 퀴논디아지드에스테르를 합성할때에, 하기 일반식(I) 또는 (II)로 표시되는 염기화합물을 염기촉매로서 사용하는 것을 특징으로 하는 퀴논디아지드에스테르의 합성법.(식중, R1∼R15는 각각 수소원자 또는 탄소수 1∼4의 알킬기(단 R1, R10, R11은 수소원자가 아니다)를 나타내고, 1,m,n은 각각 1 또는 2를 나타낸다).
- 제1항에 있어서, 상기한 염기화합물이 N-메틸피롤리딘, N-메틸피페리딘 또는 1,4-디메틸피페라진인 퀴논디아지드에스테르의 합성법.
- 제1항 또는 제2항의 합성법에 의해 얻어지는 퀴논디아지드에스테르 및 알카리 가용성수지를 함유하는 것을 특징으로 하는 포지형 포토레지스트.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24135494 | 1994-10-05 | ||
JP94-241354 | 1994-10-05 | ||
JP94-267490 | 1994-10-31 | ||
JP26749094A JP3365874B2 (ja) | 1994-10-05 | 1994-10-31 | キノンジアジドの合成法およびこれを含むポジ型レジスト |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960015085A true KR960015085A (ko) | 1996-05-22 |
Family
ID=26535214
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950034113A KR960015085A (ko) | 1994-10-05 | 1995-10-05 | 퀴논디아지드의 합성법 및 이것을 함유하는 포지형 레지스트 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5523396A (ko) |
EP (1) | EP0706089A3 (ko) |
JP (1) | JP3365874B2 (ko) |
KR (1) | KR960015085A (ko) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4219435B2 (ja) * | 1997-12-15 | 2009-02-04 | 東京応化工業株式会社 | ポリフェノールジエステル化物の製造方法およびポジ型感光性組成物 |
US8265907B2 (en) * | 1999-03-03 | 2012-09-11 | Card Guard Scientific Survival Ltd. | System and a method for physiological monitoring |
AUPQ064999A0 (en) * | 1999-05-28 | 1999-06-24 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Patterned carbon nanotube films |
JP4179579B2 (ja) * | 2000-05-08 | 2008-11-12 | 東洋合成工業株式会社 | 1,2−ナフトキノンジアジド系感光剤の製造方法 |
WO2005000597A1 (ja) * | 2003-06-25 | 2005-01-06 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | 記録材料用顕色剤 |
TWI498882B (zh) * | 2004-08-25 | 2015-09-01 | Dolby Lab Licensing Corp | 音訊解碼器 |
KR101040994B1 (ko) * | 2006-04-13 | 2011-06-16 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 포지티브형 포토레지스트 필름 |
KR100987784B1 (ko) * | 2006-04-13 | 2010-10-18 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 포지티브형 포토레지스트용 조성물 |
KR101146622B1 (ko) * | 2009-08-31 | 2012-05-16 | 금호석유화학 주식회사 | 감광성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 조성물 |
WO2016060670A1 (en) * | 2014-10-16 | 2016-04-21 | Sunny Pharmtech Inc. | Method of making vitamin k1 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3220816A1 (de) * | 1982-06-03 | 1983-12-08 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Lichtempfindliche komponenten fuer positiv arbeitende fotoresistmaterialien |
EP0227487B1 (en) * | 1985-12-27 | 1992-07-15 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Positive type radiation-sensitive resin composition |
US5250669A (en) * | 1987-12-04 | 1993-10-05 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | Photosensitive compound |
US5272036A (en) * | 1988-10-28 | 1993-12-21 | Matsushita Electronic Industrial Co., Ltd. | Pattern forming contrast enhanced material utilizing water soluble photosensitive diazo compound and pattern forming method |
US5300396A (en) * | 1990-11-28 | 1994-04-05 | Hoechst Celanese Corporation | Process of making naphthoquinone diazide esters using lactone solvents |
JPH04328555A (ja) * | 1991-04-26 | 1992-11-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型フオトレジスト組成物 |
DE4137325A1 (de) * | 1991-11-13 | 1993-05-19 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches gemisch auf der basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches material |
EP0658807B1 (en) * | 1993-12-17 | 2000-04-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive-working photoresist composition |
JP3224115B2 (ja) * | 1994-03-17 | 2001-10-29 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型フオトレジスト組成物 |
-
1994
- 1994-10-31 JP JP26749094A patent/JP3365874B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-09-21 US US08/531,861 patent/US5523396A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-04 EP EP95115664A patent/EP0706089A3/en not_active Withdrawn
- 1995-10-05 KR KR1019950034113A patent/KR960015085A/ko active Search and Examination
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0706089A3 (en) | 1997-02-19 |
JPH08157445A (ja) | 1996-06-18 |
EP0706089A2 (en) | 1996-04-10 |
US5523396A (en) | 1996-06-04 |
JP3365874B2 (ja) | 2003-01-14 |
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A201 | Request for examination | ||
AMND | Amendment | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
AMND | Amendment | ||
B601 | Maintenance of original decision after re-examination before a trial | ||
J301 | Trial decision |
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