KR920018040A - 다가 페놀 화합물 및 그것을 함유하는 포지티브 레지스트 조성물 - Google Patents

다가 페놀 화합물 및 그것을 함유하는 포지티브 레지스트 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR920018040A
KR920018040A KR1019920004862A KR920004862A KR920018040A KR 920018040 A KR920018040 A KR 920018040A KR 1019920004862 A KR1019920004862 A KR 1019920004862A KR 920004862 A KR920004862 A KR 920004862A KR 920018040 A KR920018040 A KR 920018040A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
alkyl group
positive resist
hydrogen atom
alkyl
Prior art date
Application number
KR1019920004862A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100198185B1 (ko
Inventor
준 도미오까
야스노리 우에따니
히로또시 나까니시
료따로 하나와
아야꼬 이다
Original Assignee
모리 히데오
스미또모가가꾸고오교 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 모리 히데오, 스미또모가가꾸고오교 가부시끼가이샤 filed Critical 모리 히데오
Publication of KR920018040A publication Critical patent/KR920018040A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100198185B1 publication Critical patent/KR100198185B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
    • C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D311/04—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
    • C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D311/04—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
    • C07D311/58—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4
    • C07D311/64—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4 with oxygen atoms directly attached in position 8
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides
    • G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives

Abstract

내용 없음

Description

다가 페놀 화합물 및 그것을 함유하는 포지티브 레지스트 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (13)

  1. 하기 일반식(Ⅰ)의 다가 페놀 화합물 ;
    (식 중, R1내지 R5는 각각 수소원자, 알킬기, 알케닐기, 시클로알킬기 또는 아릴기이고, 단 R1및 R2중 최소 하나는 알킬기, 알케닐기, 시클로알킬기 또는 아릴기이다.)
  2. 제 1항에 있어서, R1, R2또는 R5가 C1~C4알킬기이고, R3또는 R4가 수소원자 또는 C1~C4알킬기인 다가 페놀 화합물.
  3. 제 2항에 있어서, 알킬기가 메틸기 또는 에틸기인 다가 페놀 화합물.
  4. 하기 일반식(Ⅰ)의 다가 페놀 화합물의 퀴논 디아지드 술포네이트 :
    (식 중, R1내지 R5는 각각 수소원자, 알킬기, 알케닐기, 시클로알킬기 또는 아릴기이고, 단 R1및 R2중 최소 하나는 일킬기, 알케닐기, 시클로알킬기 또는 아릴기이다.)
  5. 제 4항에 있어서, 일반식(Ⅰ)에서, R1, R2또는 R5가 C1~C4알킬기이고, R3또는 R4가 수소원자 또는 C1~C4알킬기인 퀴논 디아지드 술포네이트.
  6. 제 5항에 있어서, 알킬기가 메틸기 또는 에틸기인 퀴논 디아지드 술포네이트.
  7. 하기 일반식(Ⅰ)의 다가 페놀 화합물의 퀴논 디아지드 술포네이트 최소 1종과 알킬리용해성 수지를 혼합물 형태로 함유하는 포지티브 레지스트 조성물 :
    (식 중, R1내지 R5는 각각 수소원자, 알킬기, 알케닐기, 시클로알킬기 또는 아릴기이고, 단 R1및 R2중 최소 하나는 일킬기, 알케닐기, 시클로알킬기 또는 아릴기이다.)
  8. 제 7항에 있어서, 일반식(Ⅰ)에서, R1, R2또는 R5가 C1~C4알킬기이고, R3또는 R4가 수소원자 또는 C1~C4알킬기인 포지티브 레지스트 조성물.
  9. 제 8항에 있어서, 알킬기가 메틸기 또는 에틸기인 조성물.
  10. 제 7항에 있어서, 하기 일반식(Ⅱ)의 페놀 화합물의 퀴논 디아지드 술포네이트를 추가로 함유하는 포지티브 페지스트 조성물.
    (식 중, R6내지 R10은 각각 수소원자, 알킬기, 알케닐기, 시클로알킬기 또는 아릴기이고, 단 R6및 R7중 최소 하나는 알킬기, 알케닐기, 시클로알킬기 또는 아릴기이다.)
  11. 제 10항에 있어서, 일반식(Ⅱ)에서, R6, R7또는 R10이 C1~C4알킬기이고, R8또는 R9가 수소원자 또는 C1~C4알킬기인 포지티브 레지스트 조성물.
  12. 제 11항에 있어서, 알킬기가 메틸기 또는 에틸기인 포지티브 레지스트 조성물.
  13. 제 10항에 있어서, 페놀 화합물(Ⅰ)의 에스테르화 비가 최소 60%이고 페놀 화합물(Ⅱ)의 에스테르화 비가 최소 60%인 포지티브 레지스트 조성물.
    ※ 참고사항 ; 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920004862A 1991-03-25 1992-03-25 다가 페놀 화합물 및 그것을 함유하는 포지티브 레지스트 조성물 KR100198185B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3060024A JP3070116B2 (ja) 1991-03-25 1991-03-25 多価フェノール化合物およびそれを用いてなるポジ型レジスト組成物
JP91-60024 1991-03-25

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR920018040A true KR920018040A (ko) 1992-10-21
KR100198185B1 KR100198185B1 (ko) 1999-06-15

Family

ID=13130088

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019920004862A KR100198185B1 (ko) 1991-03-25 1992-03-25 다가 페놀 화합물 및 그것을 함유하는 포지티브 레지스트 조성물

Country Status (7)

Country Link
US (3) US5436107A (ko)
EP (1) EP0505987B1 (ko)
JP (1) JP3070116B2 (ko)
KR (1) KR100198185B1 (ko)
CA (1) CA2062861A1 (ko)
DE (1) DE69216884T2 (ko)
MX (1) MX9201327A (ko)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5342734A (en) * 1992-02-25 1994-08-30 Morton International, Inc. Deep UV sensitive photoresist resistant to latent image decay
JP3232673B2 (ja) * 1992-08-07 2001-11-26 住友化学工業株式会社 多価フェノール化合物の製造方法
JP3528242B2 (ja) * 1994-06-23 2004-05-17 住友化学工業株式会社 ヒドロキシフラバン化合物の製造方法
EP0695740B1 (en) 1994-08-05 2000-11-22 Sumitomo Chemical Company Limited Quinonediazide sulfonic acid esters and positive photoresist compositions comprising the same
US5726257A (en) * 1994-08-30 1998-03-10 Sumitomo Chemical Company, Ltd. Esterified resorcinol-carbonyl compound condensates and epoxy resins therewith
JP3444562B2 (ja) * 1995-03-28 2003-09-08 東京応化工業株式会社 レジスト溶液の調製方法
JP3427562B2 (ja) * 1995-05-09 2003-07-22 住友化学工業株式会社 ポジ型レジスト組成物
TW475926B (en) * 1996-06-06 2002-02-11 Sumitomo Chemical Co Novel ester compound and thermosetting resin composition using the same
US6040107A (en) * 1998-02-06 2000-03-21 Olin Microelectronic Chemicals, Inc. Photosensitive diazonaphthoquinone esters based on selected cyclic alkyl ether-containing phenolics and their use in radiation sensitive mixtures
US8991676B2 (en) * 2007-03-15 2015-03-31 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Surgical staple having a slidable crown
WO2015131088A1 (en) 2014-02-27 2015-09-03 University Surgical Associates, Inc. Interactive display for surgery

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE68927140T2 (de) * 1988-06-13 1997-04-30 Sumitomo Chemical Co Photolackzusammensetzung
JP2715480B2 (ja) * 1988-10-13 1998-02-18 住友化学工業株式会社 ポジ型レジスト用組成物

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04295472A (ja) 1992-10-20
US5587492A (en) 1996-12-24
EP0505987B1 (en) 1997-01-22
DE69216884T2 (de) 1997-06-26
MX9201327A (es) 1992-10-30
CA2062861A1 (en) 1992-09-26
US5436107A (en) 1995-07-25
US5714620A (en) 1998-02-03
DE69216884D1 (de) 1997-03-06
EP0505987A1 (en) 1992-09-30
KR100198185B1 (ko) 1999-06-15
JP3070116B2 (ja) 2000-07-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR890006755A (ko) 수-기제 실리콘-유기 중합체 조성물 및 이의 제조방법
KR900009935A (ko) 액정 조성물
KR900000727A (ko) 내식제 조성물
KR870003974A (ko) 비시클로 치환된 페닐아세토니트릴 유도체
KR920018040A (ko) 다가 페놀 화합물 및 그것을 함유하는 포지티브 레지스트 조성물
KR920015158A (ko) 네거티브 포토레지스트 조성물
KR900004820A (ko) 안정화된 합성수지조성물
KR920701869A (ko) 포지티브 레지스트 조성물
KR900002125A (ko) 내식막 조성물
KR910000947A (ko) 금속 안료 조성물
KR920702890A (ko) 포지티브 레지스트 조성물
KR880014002A (ko) 에폭시화합물 및 그를 함유하는 에폭시 수지 조성물
KR920020262A (ko) 포지티브 레지스트 조성물
KR890006639A (ko) 벤조티아진 디옥사이드 유도체
KR900018279A (ko) 반도체밀봉용 수지조성물.
KR930001324A (ko) 레지스트 조성물
KR910014347A (ko) 티오알칸산-치환된 n.n-디알킬히드록시아민 및 안정화된 윤활제 조성물
KR920001242A (ko) 포지티브 레지스트 조성물
KR910006779A (ko) 감방사선성 포지티브 레지스트 조성물
KR880001744A (ko) 내방사선성 폴리올레핀 조성물
KR920018523A (ko) 포지티브 레지스트 조성물
KR900014564A (ko) 난연화 반응(reaction)수지 조성물
KR930022148A (ko) 포지티브 포토레지스트 조성물
KR900702423A (ko) 전자사진용 토너
KR940014685A (ko) 청색 염료 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120206

Year of fee payment: 14

EXPY Expiration of term