JP3232673B2 - 多価フェノール化合物の製造方法 - Google Patents

多価フェノール化合物の製造方法

Info

Publication number
JP3232673B2
JP3232673B2 JP21138792A JP21138792A JP3232673B2 JP 3232673 B2 JP3232673 B2 JP 3232673B2 JP 21138792 A JP21138792 A JP 21138792A JP 21138792 A JP21138792 A JP 21138792A JP 3232673 B2 JP3232673 B2 JP 3232673B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
acid
polyhydric phenol
reaction
phenol compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP21138792A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0656814A (ja
Inventor
直子 鈴木
弘俊 中西
淳 富岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP21138792A priority Critical patent/JP3232673B2/ja
Priority to CA002099823A priority patent/CA2099823A1/en
Priority to KR1019930013744A priority patent/KR100262280B1/ko
Priority to MX9304677A priority patent/MX9304677A/es
Priority to TW082106205A priority patent/TW232689B/zh
Priority to EP93112648A priority patent/EP0582309A2/en
Publication of JPH0656814A publication Critical patent/JPH0656814A/ja
Priority to US08/378,942 priority patent/US5556995A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3232673B2 publication Critical patent/JP3232673B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D311/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
    • C07D311/02Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D311/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
    • C07D311/02Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D311/04Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
    • C07D311/58Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4
    • C07D311/64Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4 with oxygen atoms directly attached in position 8
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C27/00Processes involving the simultaneous production of more than one class of oxygen-containing compounds

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、フォトレジスト用感光
剤の中間体又はフォトレジスト用増感剤等として有用
な、一般式(I)
【0002】
【化3】
【0003】(式中、R1 、R2 及びR3 は各々独立し
て、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアル
キル基、アラルキル基又はアリール基を表わす)で示さ
れる多価フェノール化合物の製造方法に関する。
【0004】
【従来の技術】一般式(I)の多価フェノール化合物に
類似したフェニルクロマン誘導体の製造法として、例え
ば、英国特許第 822,659号明細書の実施例には、水を反
応溶媒として無機酸の存在下、レゾルシノールとアセト
ンとをモル比2:3〜2:1で反応させる方法が記載さ
れている。しかしながら、ピロガロールを用いた縮合反
応にこの方法を応用しても、多価フェノール化合物を高
純度で、しかも良好な収率で得るのは難しかった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を解決して、ピロガロールを原料として、工業的有利な
方法で、前記式(I)で示される多価フェノール化合物
を製造しようとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、一般
式(II)
【0007】
【化4】
【0008】(式中、R1 、R2 及びR3 は上記と同じ
意味を表わす)で示される化合物とピロガロールとを、
有機溶媒及び酸触媒の存在下に縮合反応させることによ
り、前記一般式(I)で示される多価フェノール化合物
を製造する方法を提供するものである。
【0009】R1 、R2 及びR3 で表されるアルキル基
及びアルケニル基としては、各々炭素数4以下のもの
が、シクロアルキル基としては、炭素数3〜8のもの
が、またアラルキル基及びアリール基としては、各々炭
素数12以下のものが、それぞれ挙げられる。好ましい
1 、R2 及びR3 としては、各々独立に、例えば、水
素原子、メチル基及びエチル基が挙げられる。一般式
(II)で示される化合物としては、例えば、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の脂肪
族ケトン、メチルシクロヘキシルケトン等の脂環式ケト
ン、アセトフェノン等の芳香族ケトンなどが挙げられ
る。
【0010】一般式(II)で示される化合物とピロガロ
ールとのモル比は、通常、1:1〜1:10であり、好
ましくは1:2〜1:4である。反応に用いる酸触媒と
しては、例えば、塩化水素、硫酸、燐酸等の無機酸、メ
タンスルホン酸、トリクロロ酢酸、トリフロロ酢酸、p
−トルエンスルホン酸等の有機酸、スルホン酸基を有す
る陽イオン交換樹脂〔オルガノ(株)製のアンバーリス
ト15等〕などが挙げられる。これらの酸触媒の中では有
機酸が好ましく、有機酸の中でも特にp−トルエンスル
ホン酸が好ましい。酸触媒の使用量は、その種類により
異なるが、一般式(II)で示される化合物1モルに対し
て、通常0.01〜1.5モル、好ましくは0.01〜0.
15モルである。また有機溶媒としては、例えば、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアル
コール類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロピ
ル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチ
ル、酢酸n−アミル等の酢酸エステル類などが挙げられ
る。これらの有機溶媒の中では酢酸エステル類が好まし
く、酢酸エステル類の中でも特に酢酸エチルが好まし
い。有機溶媒の使用量は、ピロガロール100重量部に
対し、通常50〜500重量部、好ましくは110〜2
50重量部である。
【0011】縮合反応は、好ましくは、ピロガロール、
酸触媒及び有機溶媒の混合物中に、一般式(II)で示さ
れる化合物を連続的又は間欠的に、好ましくは連続的に
供給することにより行われる。またこの縮合反応は、通
常20〜100℃で、好ましくは35〜65℃で行われ
る。反応時間は、通常1〜72時間、好ましくは3〜3
0時間である。
【0012】縮合反応終了後は、反応混合物をアルカリ
で中和するのが好ましく、縮合反応終了後、直ちに中和
するのが特に好ましい。中和に用いるアルカリとして
は、例えば、アンモニア、炭酸アンモニウム、酢酸アン
モニウム等のアンモニウム塩、燐酸カリウム、燐酸ナト
リウム等のアルカリ金属塩などが挙げられる。これらの
アルカリは通常、水溶液として使用される。アルカリの
使用量は、反応に用いた酸触媒1モルに対して通常1〜
10モル、好ましくは1.2〜7モルである。中和温度
は、通常5〜70℃、好ましくは20〜65℃である。
【0013】中和後の反応混合物は通常、反応溶媒とし
て酢酸エステル類を使用した場合にはそのまま水洗さ
れ、一方、反応溶媒としてアルコール類を使用した場合
には、酢酸エチルやトルエン等の抽出溶媒を添加した
後、水洗される。水洗後の有機層は、例えば、そのまま
キノンジアジドスルホン酸ハライドと反応させて感光剤
とすることもできるが、通常は、常法により有機層中の
有機溶媒及び抽出溶媒を蒸留等の手段により除去する。
有機溶媒及び抽出溶媒の除去は、溶媒除去後の残分中、
通常は溶媒量が20重量%以下、好ましくは5重量%以
下となるように行えばよい。
【0014】溶媒除去後の残分は、例えば、そのままキ
ノンジアジドスルホン酸ハライドと反応させて感光剤と
することもできるが、水等を用いた再結晶により多価フ
ェノール化合物を単離するのが好ましい。再結晶に用い
る水の量は、溶媒除去後の残分と水との混合物中、通常
15〜80重量%、好ましくは20〜70重量%であ
る。再結晶時のピロガロール量は、好ましくは約6〜約
40重量%、より好ましくは約8〜約35重量%となる
ようにすればよい。再結晶時の温度は、通常5〜70
℃、好ましくは20〜60℃である。また再結晶時に
は、必要により種晶を添加してもよい。再結晶により析
出した結晶は、濾過、水洗、乾燥等の慣用手段を用いて
取り出される。
【0015】
【実施例】次に実施例を挙げて、本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限
定されるものではない。例中、濃度を表す%は、特記な
いかぎり重量基準である。また、高速液体クロマトグラ
フィー(HPLC)は、(株)島津製作所製の LC-6Aを用い
て次の条件で測定したものであり、それに基づく絶対検
量線法により純度を決定した。
【0016】 カラム :Sumipax ODS A-212 移動相A:0.5%蟻酸/イオン交換蒸留水 移動相B:0.5%蟻酸/アセトニトリル 流量 :1.5ml/分 検出器 :UV 280nm
【0017】移動相については、初期濃度をA/B=9
0/10とし、移動相中のB濃度を毎分3%の割合で上
げていき、最終濃度をA/B=0/100とした。
【0018】実施例1 ピロガロール85.6g(0.68モル)、 p−トルエ
ンスルホン酸2.6g(0.014モル)及び酢酸エチル
171.2gの混合物中に、38〜42℃で攪拌下、ア
セトン13.0g(0.22モル)を30分かけて滴下し
た。 滴下終了後、同温度で20時間反応を行った。反
応終了後、38〜42℃で28%アンモニア水3.4g
により中和した。中和後、水91gを加えて58〜62
℃に昇温した。同温度で洗浄後、分液して有機層を得
た。この有機層に水91gを加えて洗浄し、分液した。
この操作を繰り返した後、得られた有機層225gを7
0〜85℃/150Torrの条件で濃縮して、油状物質8
0gを得た。これに水8gを加えて、攪拌しながら23
〜25℃/20時間の条件で再結晶させた。得られた結
晶を濾過し、ケーキをよく圧迫して母液を除去した。得
られたケーキを水30gで洗浄した。この洗浄操作をさ
らに2回繰り返した後、得られたケーキを80℃/20
〜40Torrの条件で24時間乾燥して、下式で示される
多価フェノール化合物13.4gを得た。アセトンに対
する収率は36%、 HPLCで測定した純度は97%であ
った。
【0019】
【化5】
【0020】1 H-NMRスペクトル(溶媒:アセトンd6,TMS)化学シフト値: 0.80 ppm (s, 3H), 1.23 ppm (s, 3H), 1.69 ppm (s, 3H), 1.90 ppm (d, 1H, J=約 14 Hz), 3.01 ppm (d, 1H, J=約 14 Hz), 6.23 ppm (d, 1H, J=8.6 Hz), 6.42 ppm (d, 1H, J=8.6 Hz), 6.50 ppm (d, 1H, J=8.6 Hz), 6.57 ppm (d, 1H, J=8.6 Hz), 約 7.5 ppm (s, 5H). マススペクトル: m/e 332(M+) 融点: 183〜184℃
【0021】実施例2 ピロガロール945.8g(7.50モル)、p−トルエ
ンスルホン酸29.3g(0.15モル)及び酢酸エチル
1892gの混合物中に、38〜42℃で攪拌下、アセ
トン145.2g(2.50モル)を1時間かけて滴下し
た。滴下終了後、同温度で20時間反応を行った。反応
終了後、38〜42℃で28%アンモニア水62.5g
により中和した。中和後、水1500gを加えて58〜
62℃に昇温した。同温度で洗浄後、分液して有機層を
得た。この有機層に水1500gを加えて洗浄し、分液
した。 この操作を2回繰り返した後、得られた有機層
2376gを60〜80℃で減圧下に濃縮して、油状物
質を得た。これに水を加えてさらに減圧下で濃縮して、
油状物質700gを得た。これに水462gを加えて、
攪拌しながら25〜27℃/18時間の条件で再結晶さ
せた。得られた結晶を濾過し、ケーキをよく圧迫して母
液を除去した。得られたケーキを水300gで洗浄し
た。この洗浄操作をさらに2回繰り返した後、得られた
ケーキを70℃/20〜40Torrの条件で24時間乾燥
して、実施例1で得たのと同じ多価フェノール化合物を
得た。アセトンに対する収率は40.8%、 HPLCで測定
した純度は94.5%であった。
【0022】比較例1 ピロガロール98.4g(0.78モル)、p−トルエン
スルホン酸13.9g(0.07モル)及び水49.2g
の混合物中に、38〜42℃で攪拌下、アセトン34.
8g(0.60モル)を30分かけて滴下した。 滴下
終了後、同温度で70時間反応を行った。反応終了後、
38〜42℃で28%アンモニア水9gにより中和し
た。中和後、酢酸エチル200g及び水115gを加え
て洗浄し、分液して有機層を得た。この有機層に水11
5gを加えて洗浄し、分液した。この操作を繰り返した
後、得られた有機層を濃縮して、油状物質101gを得
た。これに酢酸エチル12g及びトルエン166gを加
えて、攪拌しながら再結晶させた。得られた結晶を濾過
し、ケーキをよく圧迫して母液を除去した。得られたケ
ーキを酢酸エチル6g及びトルエン83gの混合溶媒で
洗浄した。このケーキを80℃/20〜40Torrの条件
で20時間乾燥して、実施例1で得たのと同じ多価フェ
ノール化合物を得た。アセトンに対する収率は15%、
HPLCで測定した純度は93%であった。
【0023】実施例3 メタノール280gにピロガロール257.3g及び3
6%塩酸92.3gを加え、撹拌下45〜50℃に昇温
して、均一溶液にした。ここにアセトン34.8gを3
0分かけて滴下し、その後、同温度で8時間撹拌した。
反応終了後、反応溶液に水4リットル及び酢酸エチル
1.1リットルを加えて分液した。得られた有機層に水
3リットル、酢酸エチル200ミリリットル及びトルエ
ン150ミリリットルを加えて水洗した。分液後、得ら
れた有機層に水3リットルを加えて水洗した。さらに2
回水洗した後、得られた有機層を濃縮して、油状物質1
03gを得た。これに酢酸エチル13g及びトルエン1
70gを加えて再結晶を行い、70℃で乾燥して、2
2.6gの多価フェノール化合物を得た。
【0024】参考例1 内容積300mlの三つ口フラスコに、実施例1で得られ
た化合物を6.64g及びナフトキノン−(1,2)−
ジアジド−(2)−5−スルホン酸クロリドを24.1
8g(両者のモル比1:4.5)、並びにジオキサンを
150g仕込んだ後、撹拌して完溶させた。 撹拌下、
フラスコを水浴に浸して反応温度を20〜25℃にコン
トロールしながら、トリエチルアミン10.0gを30
分間で滴下した。その後、同温度で20時間撹拌した。
反応終了後、反応混合物をイオン交換水中に注ぎ、次い
で濾過、乾燥して、エステル化率90%の感光剤を得
た。
【0025】
【発明の効果】本発明によれば、一般式(I)で示され
る多価フェノール化合物を高純度で、しかも良好な収率
で得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭54−130575(JP,A) 特開 平4−295472(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 311/60 B01J 31/02 103 C07B 61/00 300 CA(STN) CAOLD(STN) REGISTRY(STN)

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(II) 【化1】 (式中、R1 、R2 及びR3 は各々独立して水素原
    アルキル、アルケニル、シクロアルキル、ア
    ラルキル基又はアリール基を表わす)で示される化合物
    とピロガロールとを、有機溶媒及び酸触媒の存在下に縮
    合反応させることを特徴とする一般式(I) 【化2】 (式中、R1 、R2 及びR3 は上記と同じ意味を表わ
    す)で示される多価フェノール化合物の製造方法。
  2. 【請求項2】酸触媒が有機酸である請求項1に記載の製
    造方法。
  3. 【請求項3】有機酸がp−トルエンスルホン酸である請
    求項2に記載の製造方法。
  4. 【請求項4】有機溶媒が酢酸エステルである請求項1〜
    3のいずれかに記載の製造方法。
  5. 【請求項5】縮合反応後の反応混合物をアルカリで中和
    る請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。
  6. 【請求項6】一般式(I)の多価フェノール化合物を
    水を用い再結晶法により単離する請求項1〜5のいず
    れかに記載の製造方法。
JP21138792A 1992-08-07 1992-08-07 多価フェノール化合物の製造方法 Expired - Lifetime JP3232673B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21138792A JP3232673B2 (ja) 1992-08-07 1992-08-07 多価フェノール化合物の製造方法
CA002099823A CA2099823A1 (en) 1992-08-07 1993-07-05 Process for the preparation of polyhydric phenol compounds
KR1019930013744A KR100262280B1 (ko) 1992-08-07 1993-07-21 다가 페놀 화합물의 제조방법
TW082106205A TW232689B (ja) 1992-08-07 1993-08-03
MX9304677A MX9304677A (es) 1992-08-07 1993-08-03 Procedimiento para la preparacion de compuestos defenol polihidrico.
EP93112648A EP0582309A2 (en) 1992-08-07 1993-08-06 Process for the preparation of polyhydric phenol compounds
US08/378,942 US5556995A (en) 1992-08-07 1995-01-26 Process for the preparation of polyhydric phenol compounds

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21138792A JP3232673B2 (ja) 1992-08-07 1992-08-07 多価フェノール化合物の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0656814A JPH0656814A (ja) 1994-03-01
JP3232673B2 true JP3232673B2 (ja) 2001-11-26

Family

ID=16605121

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21138792A Expired - Lifetime JP3232673B2 (ja) 1992-08-07 1992-08-07 多価フェノール化合物の製造方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5556995A (ja)
EP (1) EP0582309A2 (ja)
JP (1) JP3232673B2 (ja)
KR (1) KR100262280B1 (ja)
CA (1) CA2099823A1 (ja)
MX (1) MX9304677A (ja)
TW (1) TW232689B (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3528242B2 (ja) * 1994-06-23 2004-05-17 住友化学工業株式会社 ヒドロキシフラバン化合物の製造方法
US5726257A (en) * 1994-08-30 1998-03-10 Sumitomo Chemical Company, Ltd. Esterified resorcinol-carbonyl compound condensates and epoxy resins therewith
US5821345A (en) * 1996-03-12 1998-10-13 Shipley Company, L.L.C. Thermodynamically stable photoactive compound
TW475926B (en) * 1996-06-06 2002-02-11 Sumitomo Chemical Co Novel ester compound and thermosetting resin composition using the same

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE557525A (ja) * 1956-05-17
JPS55139375A (en) * 1979-04-18 1980-10-31 Sumitomo Chem Co Ltd Production of hydroxyflavan
JPS6127980A (ja) * 1984-07-18 1986-02-07 Mitsui Petrochem Ind Ltd オキシフラバン化合物の製造法
JP3070116B2 (ja) * 1991-03-25 2000-07-24 住友化学工業株式会社 多価フェノール化合物およびそれを用いてなるポジ型レジスト組成物

Also Published As

Publication number Publication date
MX9304677A (es) 1994-03-31
KR940003950A (ko) 1994-03-14
CA2099823A1 (en) 1994-02-08
KR100262280B1 (ko) 2000-08-01
JPH0656814A (ja) 1994-03-01
US5556995A (en) 1996-09-17
TW232689B (ja) 1994-10-21
EP0582309A2 (en) 1994-02-09
EP0582309A3 (ja) 1994-04-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10279506A (ja) ビスヒドロキシメチル化合物の製造方法
EP0200638A1 (fr) Procédé de préparation du chlorhydrate de phényl-1 diéthyl amino carbonyl-1 aminométhyl-2 cyclopropane (Z)
JP3232673B2 (ja) 多価フェノール化合物の製造方法
JP3756205B2 (ja) 芳香族ニトリルの製造方法
JP3223377B2 (ja) 対称的な2,2’−メチレンビスベンゾトリアゾリル フェノール類の製造方法
JP3000731B2 (ja) オキシフラバン類の製造法
EP0008973B1 (fr) Procédé de fabrication des acides phénoxylactiques, de leurs dérivés et produits obtenus
JPH02172963A (ja) 置換1、2―ナフトキノン―(2)―ジアジド―4―スルホン酸エステルの製法
US5696283A (en) Preparation of methyl isoproylideneaminooxyacetoxyacetate
JP2824159B2 (ja) (S)−(−)−α−ダマスコンの製法
JPH09132561A (ja) (2rs,3rs)−3−(2′−アミノフエニルチオ)−2−ヒドロキシ−3−(4″−メトキシフエニル)−プロピオン酸メチルエステルの製造法
JPS6317869A (ja) 2−低級アルキル−4−アミノ−5−ホルミルピリミジンの製造法
US5041620A (en) Method for producing optically active 2-cyclopenten-4-one-1-ol esters, 2-cyclopenteno-4-one-1-ol ester and complexes thereof with optically active 1,6-diphenyl-2,4-hexadiyne-1,6-diol
EP0663394B1 (en) Process for preparing 5-aminodihydropyrrole, intermediate thereof and process for preparing said intermediate
JPS60115554A (ja) デアセチルモキシシリトの製造方法
JPH10175957A (ja) 1−エチル−5−ヒドロキシピラゾールの製法
JP2842591B2 (ja) 4−ヒドロキシクマリンの製造法
JP3787868B2 (ja) テトラフェノール系化合物の製造方法
JP2000198779A (ja) 3―アルキルフラバノノ―ル誘導体の精製法
JP2833672B2 (ja) β−ケトニトリル類の製造方法
JPS59225147A (ja) O−置換−ヒドロキシルアミンを製造する方法
US5395977A (en) Process for producing optical active 4-hydroxy-2-cyclopentenone
JPH1017515A (ja) ビナフチル化合物及びその製造法
WO1994005640A1 (en) Process for producing tetrahydroisoquinoline-3-carboxylic acid derivative
JPH01197478A (ja) N―(2―クロロベンジル)―2―(2―チエニル)エチルアミンの製法

Legal Events

Date Code Title Description
S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080921

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080921

Year of fee payment: 7

RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D05

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080921

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090921

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100921

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110921

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110921

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120921

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term