JPH0656814A - 多価フェノール化合物の製造方法 - Google Patents
多価フェノール化合物の製造方法Info
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Abstract
法を提供する。 【構成】 一般式(II) 【化1】 (式中、R1 〜R3 はそれぞれ水素原子、アルキル基等
を表わす。)で示される化合物とピロガロールとを、有
機溶媒及び酸触媒の存在下に縮合反応させることを特徴
とする一般式(I) 【化2】 (式中、R1 〜R3 は上記と同じ意味である。)で示さ
れる多価フェノール化合物の製造方法。
Description
剤又は増感剤等の中間体として有用な一般式(I)
て水素原子又はアルキル、アルケニル、シクロアルキ
ル、アラルキルもしくはアリール基を表わす。)で示さ
れる多価フェノール化合物の製造方法に関する。
ルクロマン誘導体の製造法として、例えば英国特許第82
2659号明細書の実施例には、水を反応溶媒として無機酸
の存在下、レゾルシノールとアセトンとをモル比2:3
〜2:1で反応させる方法が記載されている。しかしな
がら、この方法を、一般式(II)
意味を表わす。)で示される化合物とピロガロールとの
縮合反応に応用しても、多価フェノール化合物を高純度
且つ良好な収率で得られないという問題点がある。
解決して、工業的有利な多価フェノール化合物の製造方
法を提供する。
(II)で示される化合物とピロガロールとを、有機溶
媒及び酸触媒の存在下に縮合反応させることを特徴とす
る上記一般式(I)で示される多価フェノール化合物の
製造方法である。
しくはアルケニル基又はシクロアルキル基としては各
々、炭素数4以下又は炭素数3〜8のものが挙げられ
る。同じく、アラルキルもしくはアリール基としては炭
素数12以下のものが挙げられる。好ましいR1 、R2 及
びR3 としては、例えば水素原子、メチルもしくはエチ
ル基が挙げられる。一般式(II)で示される化合物と
しては、例えばアセトン、メチルエチルケトンもしくは
メチルイソブチルケトン等の脂肪族ケトン、メチルシク
ロヘキシルケトン等の脂環式ケトン又はアセトフェノン
等の芳香族ケトン等が挙げられる。
ロールとのモル比は通常、1:1〜1:10であり、好ま
しくは1:2〜1:4である。酸触媒としては、塩化水
素、硫酸もしくは燐酸等の無機酸、メタンスルホン酸、
トリクロロ酢酸、トリフロロ酢酸もしくはp−トルエン
スルホン酸等の有機酸、又はスルホン酸基を有する陽イ
オン交換樹脂〔例えばオルガノ(株)製アンバーリスト
15等〕が挙げられる。これらの酸触媒の中、有機酸が好
ましく、有機酸の中でも特にp−トルエンスルホン酸が
好ましい。酸触媒の使用量はその種類により異なるが、
通常、一般式(II)で示される化合物1モルに対して
0.01〜1.5 モルであり、好ましくは一般式(II)で示
される化合物1モルに対して0.01〜0.15モルである。有
機溶媒としては、例えばメタノール、エタノールもしく
はイソプロピルアルコール等のアルコール類、又は酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸イソプロ
ピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチルもしくは酢酸n
−アミル等の酢酸エステルが挙げられる。これらの有機
溶媒の中、酢酸エステルが好ましく、酢酸エステルの中
でも特に酢酸エチルが好ましい。有機溶媒の使用量は通
常、ピロガロール100 重量部に対して50〜500 重量部で
あり、好ましくはピロガロール100 重量部に対して110
〜250 重量部である。
触媒及び有機溶媒の混合物中に一般式(II)で示され
る化合物を連続的もしくは間欠的に(好ましくは連続的
に)供給することにより行われる。縮合反応は通常20〜
100 ℃で行われ、好ましくは35〜65℃で行われる。反応
時間は通常1〜72時間であり、好ましくは3〜30時間で
ある。縮合反応終了後、反応混合物をアルカリで中和す
ることが好ましく、縮合反応終了後、直ちに中和するこ
とが特に好ましい。
酸アンモニウムもしくは酢酸アンモニウム等のアンモニ
ウム塩、又は燐酸カリウムもしくは燐酸ナトリウム等の
アルカリ金属塩等が挙げられる。これらのアルカリは通
常、水溶液として使用される。アルカリの使用量は酸触
媒1モルに対して通常1〜10モル、好ましくは1.2 〜7
モルである。中和温度は通常5〜70℃、好ましくは20〜
65℃である。中和後の反応混合物は通常、上記有機溶媒
として酢酸エステルを使用した場合にはそのまま水洗さ
れる。一方、上記有機溶媒としてアルコール類を使用し
た場合には酢酸エチルもしくはトルエン等の抽出溶媒を
添加後、水洗される。水洗後の有機層はそのまま、例え
ばキノンジアジドスルホン酸ハライドと反応させて感光
剤とすることもできるが、通常は、常法により有機層中
の有機溶媒及び抽出溶媒を蒸留等の手段により除去す
る。有機溶媒及び抽出溶媒の除去については、溶媒除去
後の残分中、通常は溶媒量が20重量%以下、好ましくは
5重量%以下になるように行えばよい。溶媒除去後の残
分はそのまま、例えばキノンジアジドスルホン酸ハライ
ドと反応させて感光剤とすることもできるが、水等を用
いて再結晶により多価フェノール化合物を単離すること
がより好ましい。再結晶時の水量は溶媒除去後の残分と
水との混合物中、通常15〜80重量%、好ましくは20〜70
重量%である。再結晶時のピロガロール量は好ましくは
約6〜約40重量%(より好ましくは約8〜約35重量%)
である。再結晶時の温度は通常5〜70℃、好ましくは20
〜60℃である。又、再結晶時には必要により、種晶を添
加してもよい。再結晶時に析出した結晶は濾過、水洗及
び乾燥等の慣用手段を用いて単離される。
説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定
されるものではない。例中、HPLC〔島津製作所(株)製
LC-6A 〕の測定(絶対検量線法)条件は次のとおりであ
る。 カラム:Sumipax ODS A-212 移動相A:0.5 %蟻酸/イオン交換蒸留水 移動相B:0.5 %蟻酸/アセトニトリル 流量:1.5ml /分 検出器:UV 280nm 但し、移動相については初期濃度をA/B=90/10と
し、移動相中のB濃度を毎分3%の割合で上げていき、
最終濃度をA/B=0/100 とした。
ン酸2.6 g(0.014 モル)及び酢酸エチル171.2 gの混
合物中に、攪拌下、38〜42℃でアセトン13.0g(0.22モ
ル)を30分かけて滴下した。滴下終了後、同温度で20時
間反応した。反応終了後、38〜42℃で、28%アンモニア
水3.4 gにより中和した。中和後、水91gを加えて58〜
62℃に昇温した。同温度で洗浄後、分液して有機層を得
た。得られた有機層に水91gを加えて洗浄・分液した。
この操作を繰り返した後、得られた有機層225 gを70〜
85℃/150Torr の条件で濃縮して油状物質80gを得た。
これに水8gを加えて攪拌しながら23〜25℃/20時間の
条件で再結晶させた。得られた結晶を濾過後、濾過後の
ケーキをよく圧迫して母液を除去した。得られたケーキ
を水30gで洗浄した。この洗浄操作をさらに2回繰り返
した後、得られたケーキを80℃/20〜40Torrの条件で24
時間乾燥して下式
ンに対する収率36%、HPLCで測定した純度97%)1 HNMRスペクトル(溶媒:アセトンd6,TMS)化学
シフト値0.80ppm(s,3H)、1.23ppm(s,3H) 、1.69ppm(s,
3H) 、1.90ppm(d,1H,J=約14Hz) 、3.01ppm (d,1H,J =
約14Hz) 、6.23ppm(d,1H,J=8.6Hz)、6.42ppm(d,1H,J=
8.6Hz)、6.50ppm(d,1H,J=8.6Hz)、6.57ppm(d,1H,J=8.
6Hz)、約7.5 ppm(s,5H) マススペクトル m/e 332(M+) 融点 183〜184℃
ホン酸29.3g(0.15モル)及び酢酸エチル1892gの混合
物中に、攪拌下、38〜42℃でアセトン145.2 g(2.50モ
ル)を1時間かけて滴下した。滴下終了後、同温度で20
時間反応した。反応終了後、38〜42℃で、28%アンモニ
ア水62.5gにより中和した。中和後、水1500gを加えて
58〜62℃に昇温した。同温度で洗浄後、分液して有機層
を得た。得られた有機層に水1500gを加えて洗浄・分液
した。この操作を2回繰り返した後、得られた有機層23
76gを60〜80℃(減圧下)の条件で濃縮して油状物質を
得た。これに水を加えてさらに減圧下で濃縮して油状物
質700 gを得た。これに水462 gを加えて、攪拌しなが
ら25〜27℃/18時間の条件で再結晶させた。得られた結
晶を濾過後、濾過後のケーキをよく圧迫して母液を除去
した。得られたケーキを水300 gで洗浄した。この洗浄
操作をさらに2回繰り返した後、得られたケーキを70℃
/20〜40Torrの条件で24時間乾燥して、実施例1と同じ
多価フェノール化合物を得た。(アセトンに対する収率
40.8%、HPLCで測定した純度94.5%)
ン酸13.9g(0.07モル)及び水49.2gの混合物中に、攪
拌下、38〜42℃でアセトン34.8g(0.60モル)を30分か
けて滴下した。滴下終了後、同温度で70時間反応した。
反応終了後、38〜42℃で、28%アンモニア水9gにより
中和した。中和後、酢酸エチル200 g及び水115 gを加
えて洗浄・分液して有機層を得た。得られた有機層に水
115 gを加えて洗浄・分液した。この操作を繰り返した
後、得られた有機層を濃縮して油状物質101 gを得た。
これに酢酸エチル12g及びトルエン166 gを加えて、攪
拌しながら再結晶させた。得られた結晶を濾過後、濾過
後のケーキをよく圧迫して母液を除去した。得られたケ
ーキを酢酸エチル6g及びトルエン83gの混合溶媒で洗
浄した。得られたケーキを80℃/20〜40Torrの条件で20
時間乾燥して、実施例1と同じ多価フェノール化合物を
得た。(アセトンに対する収率15%、HPLCで測定した純
度93%)
92.3gを加え、撹拌下45〜50℃に昇温し均一溶液にし
た。ここにアセトン34.8gを30分かけて滴下し、滴下終
了後、同温度で8時間撹拌した。反応終了後、反応溶液
に水4L 及び酢酸エチル1.1 L を加えて分液した。得ら
れた有機層に水3L 、酢酸エチル200 ml及びトルエン15
0 mlを加えて水洗した。分液後、得られた有機層に水3
L を加えて水洗した。さらに、2回水洗後、得られた有
機層を濃縮して油状物質103 gを得た。これに、酢酸エ
チル13g及びトルエン170 gを加えて再結晶を行い、70
℃で乾燥後22.6gの多価フェノール化合物を得た。
化合物の6.64g及びナフトキノン−(1,2)−ジアジ
ド−(2)−5−スルホン酸クロリド24.18 g(モル比
1:4.5 )、並びにジオキサン150 gを仕込んだ後、
撹拌して完溶させた。撹拌下、フラスコを水浴に浸して
反応温度を20〜25℃にコントロールしながら、トリエチ
ルアミン10.0gを30分間で滴下した。滴下終了後、同温
度で20時間撹拌した。反応終了後、イオン交換水中に反
応混合物を注ぎ、次いで濾過及び乾燥して感光剤(エス
テル化率90%)を得た。
る多価フェノール化合物を高純度且つ良好な収率で得る
ことができる。
Claims (6)
- 【請求項1】一般式(II) 【化1】 (式中、R1 、R2 及びR3 は各々独立して水素原子又
はアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アラルキル
もしくはアリール基を表わす。)で示される化合物とピ
ロガロールとを、有機溶媒及び酸触媒の存在下に縮合反
応させることを特徴とする一般式(I) 【化2】 (式中、R1 、R2 及びR3 は上記と同じ意味を表わ
す。)で示される多価フェノール化合物の製造方法。 - 【請求項2】酸触媒が有機酸である請求項1に記載の製
造方法。 - 【請求項3】有機酸がp−トルエンスルホン酸である請
求項2に記載の製造方法。 - 【請求項4】有機溶媒が酢酸エステルである請求項1〜
3のいずれかに記載の製造方法。 - 【請求項5】縮合反応後の反応混合物をアルカリで中和
することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の
製造方法。 - 【請求項6】多価フェノール化合物の単離を、水を用い
る再結晶法で行う請求項1〜5のいずれかに記載の製造
方法。
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1995
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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