KR920020262A - 포지티브 레지스트 조성물 - Google Patents

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KR920020262A
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야스노리 도이
가즈히꼬 하시모또
하루요시 오사끼
료따로 하나와
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모리 히데오
스미또모가가꾸고오교 가부시끼가이샤
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Abstract

내용 없음

Description

포지티브 레지스트 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (5)

  1. 에틸 락테이트와 (a) n-아밀 아세테이트 및 (b) 2- 헵탄온으로 구성된 군으로 부터 선택된 용매 1종 이상을 5:95 내지 80:20의 중량비로 혼합한 혼합용매, 퀴논 디아지드 화합물 및 알칼리 가용성 수지를 부가물로서 함유하는 포지티브 레지스트 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 퀴논 디아지드 화합물이 하기 일반식(II)의 옥시프라반 화합물과 퀴논 디아지드 술폰산과의 에스테르인 포지티브 레지스트 조성물 :
    (식중, Y1및 Y2는 동일 또는 상이하며 각각 수소원자, 히드록실기 또는 C1~C4알킬기이고, 단 그중 하나 이상은 히드록실기이며 ; Z1, Z2, Z3, Z4, Z5, Z6및 Z7은 동일 또는 상이하며 각각 수소원자, 할로겐 원자, 히드록실기, C1~C4알킬기, C5~C8시클로알킬기 또는 아릴기이고, 단 그중 둘 이상은 히드록실기이며 ;R1, R2, R3, R4및 R5는 동일 또는 상이하며 각각 수소 원자, C1~C10알킬기, C2~C4알케닐기, 시클로헥실기 또는 아릴기이고, 단, R4및 R5중 하나 이상은 C1~C10알킬기,C2~C4알케닐기 시클로헥실기 또는 아릴기이다.)
  3. 제1항에 있어서, 알칼리 수용성 수지가 노볼락 수지인 포지티브 레지스트 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 혼합 용매가 에틸 락테이트와 2-헵탄온의 혼합물인 포지티브 레지스트 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 혼합 용매가 에틸 락테이트, n- 아밀 아세테이트 및 2-헵탄온의 혼합물인 포지티브 레지스트 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920007037A 1991-04-26 1992-04-25 포지티브 레지스트 조성물 KR100224151B1 (ko)

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