KR920013028A - 광증감제 조성물 - Google Patents

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KR920013028A
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이이 포트빈 로버트
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아이리인 티이 브라운
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Abstract

내용 없음

Description

광증감제 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (13)

  1. 하기 일반 구조식 :
    (상기 식에서, R은 수소, 메틸, 에틸 및 페닐로부터 선택된다)을 갖는 헥사플루 오로-비스-페놀 및 하기 일반 구조식 :
    (상기 식에서, R은 수소, 메틸, 에틸 및 페닐로부터 선택된다)을 갖는 비스-헥사플루오로 에테르로부터 선택된, 헥사플루오로이소프로필리덴기를 함유한 디아조 불소화 에스테르로 구성되는 광증감제 조성물.
  2. 제1항에 있어서, R이 수소인 헥사플루오로-비스-페놀로 구성되는 광증감제 조성물.
  3. 제1항에 있어서, R'이 수소인 비스-헥사 플루오로에테르로 구성되는 광증감제 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 디아조함량이 0.5 내지 50%인 광증감제 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 디아조함량이 0.5 내지 50%인 광증감제 조성물.
  6. 제1항에 따른 광증감제 조성물 및 불소화 히드록시 폴리아미드로 구성된 양화광증감제 조성물.
  7. 제6항에 있어서, 상기 불소화 히드록시 폴리아미드가 산염화물과 헥사플루오로-2,2-비스-(3-아미노-4-히드록시페닐)프로판의 반응 생성물로 구성되는 양화광증감제 조성물.
  8. 제6항에 있어서, 상기 불소화 히드록시 폴리아미드가, 하기 일반 구조식 :
    (상기식에서, x는S,SO2, 직접적인 결합, O,R-C-R 및 C=O로 부터 선택되고; Y는 S,SO2, 직접적인 결합, 페닐,
    로부터 선택되며, R은 CF3, 저급 알킬 또는 페닐이며 단, x또는Y중 적어도 하나는 R이 CF3인 기를 함유한 R이다.)을 갖는 폴리아미드로 구성되는 양화광증감성 조성물.
  9. 제6항에 있어서, 상기 불소화 히드록시 폴리아미드가, 하기 일반 구조식 :
    (상기식에서, (1)R은 하기 일반구조식:
    의 4가 방향족 부분이고;
    (2) R'은(상기식에서, X는 수소 또는, C3-C8의 치환 또는 비치환 저급 알킬 및 치환 또는 비치환 페닐로부터 독립적으로 선택된 치환체이고; Z는 클로로, 브로모, 플루오로, 요오드 및 C1-C6의 저급 알릴로부터 독립적으로 선택되고;n은 독립적으로 0또는 1이다.)으로부터 독립적으로 선택된 1가 부분이며; (3)R는 치환 또는 비치환 알킬렌, 알리시클릭 또는 아틸렌 부분으로부터 선택된다.)을 갖는 폴리아미드로 구성되는 양화광증감성 조성물.
  10. 제1항의 광증감제 조성물, 결합제 수지 및 용매로 구성되는 액체 양화감광성 내식막 조성물.
  11. 제10항에 있어서, 결합제 수지가 노브락 수지로 구성되는 감광성 내식막 조성물.
  12. 제10항에 있어서, 결합제 수지가 폴리히드록시스티렌 수지로 구성 되는 감광성 내식막 조성물.
  13. 제10항에 있어서, 용매가, 메틸 에틸 케톤, 프로필렌 글리콜 메틸, 에테르, 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 시클로펜타는, 아세톤, N-메틸피롤리돈 및 감마-부티로탁톤으로 구성되는 군으로부터 선택되는 감광성 내식막 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019910023226A 1990-12-17 1991-12-17 광증감제 조성물 KR100214323B1 (ko)

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