KR940018701A - 포지티브형 포토레지스트 조성물 - Google Patents

포지티브형 포토레지스트 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 p-비닐페놀 또는 이의 유도체와 스티렌의 공중합체를 함유하는 알칼리-가용성 수지와, 용해억제제 및 광-유도 산 전구물질로 이루어지는 포지티브형 포토레지스트 조성물을 제공한다.
본 발명의 포지티브형 포토레지스트 조성물은 내열성, 막두께 보존율, 접착력 및 형상과 같은 여러 성능을 우수하게 유지하면서 원자외선 리도그래피에 있어 감도와 해상도가 뛰어나다.

Description

포지티브형 포토레지스트 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (7)

  1. p-비닐페놀 또는 이의 유도체와 스티렌의 공중합체를 함유하는 알칼리-가용성 수지와, 용해억제제 및 광-유도 산 전구물질로 이루어지는 포지티브형 포토레지스트 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 p-비닐페놀 유도체가 p-t-부톡시카르보닐옥시스티렌인 것을 특징으로 하는 포지티브형 포토레지스트 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기한 p-비닐페놀 또는 이의 유도체와 스티렌의 공중합체가 하기 일반식(Ⅰa) 또는(Ⅰb)로 표시되는 기를 갖는 것임을 특징으로 하는 포지티브형 포토레지스트 조성물.
    (단, 상기 식에서, m, n 및 p는 (m+p) : n이 50 : 50에서 95 : 5이고, p : (m+p)는 1 : 50에서 45 : 50를 충족시키는 정수이다).
  4. 제 1 항 내지 제 3 항중의 어느 한 항에 있어서, 상기한 용해억제제는 하기 일반식(Ⅱ)으로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 포지티브형 포토레지스트 조성물.
    (단, 상기 식에서, R1내지 R9는 각기 수소원자, 알킬기, t-부톡시카르보닐옥시기 또는 히드록시기를 나타내고, 또한 R1내지 R4중의 적어도 하나는 t-부톡시카르보닐옥시기이고, 그리고 R5내지 R9중의 하나는 t-부톡시카르보닐옥시기이다).
  5. 제 1 항 내지 제 4 항중의 어느 한 항에 있어서, 상기 광-유도 산 전구물질이 하기 일반식(Ⅲ)으로 표시되는 에스테르인 것을 특징으로 하는 포지티브형 포토레지스트 조성물.
    (단, 상기 식에서, R10은 임으로 치환된 아릴렌, 알킬렌 또는 알케닐렌기를 나타내고, R11은 임의로 치환된 알킬 또는 알릴기를 나타낸다).
  6. 제 1 항 내지 제 4 항중의 어느 한 항에 있어서, 상기 광-유도 산 전구물질이 하기 일반식(Ⅳ)으로 표시되는 디술폰화합물인 것을 특징으로 하는 포지티브형 포토레지스트 조성물.
    (단, 상기 식에서, R12및 R13은 각기 수소원자, 알킬기 또는 알콕시기를 나타낸다).
  7. 제 1 항 내지 제 4 항중의 어느 한 항에 있어서, 상기 광-유도 산 전구물질이 하기 일반식(Ⅴ)으로 표시되는 에스테르인 것을 특징으로 하는 포지티브형 포토레지스트 조성물.
    (단, 상기 식에서, R14는 임의로 치환된 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, R15는 수소원자, 알킬기, 알콕시기 또는 알킬카르보닐옥시기를 나타낸다).
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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