KR890005570A - 포지티브 방사선-감응성 혼합물, 및 이로부터 제조된 방사선-감응성 기록물질 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (8)
- 화학선(actinic radiation)의 작용하에 산을 형성하는 화합물, 및 하기 일반식 (I)의 실레놀 에테르 그룹을 함유하는 산-분해가능 화합물을 함유함을 특징으로 하는 포지티브 방사선-감응성 혼합물.상기식에서, R1및 R2는 동일하거나 상이하고, 알킬 , 사이클로알킬 또는 아릴이며 ; R3은 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 -O-R7이고 ; R4R5및 R6은 동일하거나 상이하며, 수소, 알킬, 사이클로알킬, 알케닐, 사이클로알케닐 또는 아릴이고 ; R7은 수소, 알킬, 사이클로알킬, 알케닐, 사이클로알케닐, 아릴 또는 실릴이다.
- 제1항에 있어서, 추가의 산-분해가능 화합물이 존재하는 방사선-감응성 혼합물.
- 제2항에 있어서, 화합물이 실릴 에테르 그룹을 함유하는 방사선-감응성 혼합물.
- 제1항 내지 제3항중 어느 한항에 있어서, 산-분해가능 화합물이 단량체인 방사선-감응성 혼합물.
- 제1항 내지 제4항중 어느 한 항에 있어서, 방사선으로 인해 산을 형성하는 화합물이 단량체인 방사선-감응성 혼합물.
- 제5항에 있어서, 추가로 수-불용성이지만, 알칼리수용액 중에서는 가용성인 결합체를 함유하는 방사선-감응성 혼합물.
- 필수적으로 담체, 및 제 1항 내지 제6항중 어느 한항에서 청구된 방사선-감응성 혼합물로부터 제조된 방사선-감응성 코팅물을 함유함을 특징으로 하는 포지티브 기록 물질.
- 제1항에 내지 제6항중 어느 한 항에서 청구된 방사선-감응성 혼합물을, 접착촉진제로 임의 코팅된 담체에 적용하고, 이 물질을 건조시키고, 계속해서 화학선으로 이미지와이즈(imagewise)조사시킨 후, 계속해서 알칼리 수용액 현상제로 현상하여 영상을 노출시킴을 특징으로 하는, 포지티브 기록 물질을 제조하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19873730783 DE3730783A1 (de) | 1987-09-13 | 1987-09-13 | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
DEP3730783.5 | 1987-09-13 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR890005570A true KR890005570A (ko) | 1989-05-15 |
Family
ID=6335941
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019880011786A KR890005570A (ko) | 1987-09-13 | 1988-09-13 | 포지티브 방사선-감응성 혼합물, 및 이로부터 제조된 방사선-감응성 기록물질 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4916046A (ko) |
EP (1) | EP0324059A3 (ko) |
JP (1) | JPH01106038A (ko) |
KR (1) | KR890005570A (ko) |
DE (1) | DE3730783A1 (ko) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3907953A1 (de) * | 1989-03-11 | 1990-09-13 | Hoechst Ag | Strahlungshaertbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial fuer hochenergetische strahlung |
DE3930086A1 (de) * | 1989-09-09 | 1991-03-21 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
DE3930087A1 (de) * | 1989-09-09 | 1991-03-14 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
DE4005212A1 (de) * | 1990-02-20 | 1991-08-22 | Basf Ag | Strahlungsempfindliches gemisch |
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EP1647570A4 (en) * | 2003-07-18 | 2006-07-12 | Oji Paper Co | FLARED STELLED PRODUCT AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CH621416A5 (ko) * | 1975-03-27 | 1981-01-30 | Hoechst Ag | |
DE2718254C3 (de) * | 1977-04-25 | 1980-04-10 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Strahlungsempfindliche Kopiermasse |
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-
1987
- 1987-09-13 DE DE19873730783 patent/DE3730783A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-09-07 EP EP19880114588 patent/EP0324059A3/de not_active Withdrawn
- 1988-09-13 KR KR1019880011786A patent/KR890005570A/ko not_active Application Discontinuation
- 1988-09-13 US US07/243,819 patent/US4916046A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-09-13 JP JP63227653A patent/JPH01106038A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0324059A3 (de) | 1991-07-17 |
JPH01106038A (ja) | 1989-04-24 |
EP0324059A2 (de) | 1989-07-19 |
US4916046A (en) | 1990-04-10 |
DE3730783A1 (de) | 1989-03-23 |
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