KR920000010A - 방사선-감작 포지티브 레지스트 조성물 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

방사선-감작 포지티브 레지스트 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. 2-t-부틸-4-메틸페놀과 2-t-부틸-6-메틸페놀로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 화합물 및 m-크레졸을 함유하는 페놀 혼합물과 알데히드의 축합 반응에 의해 수득 가능한 수지(Ⅰ)을 함유하는 알칼리 용해성 수지, 및 1,2-퀴논 디아지드 화합물을 함유하는 포지티브 레지스트 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 수지(Ⅰ)이 m-크레졸 및 2-t부틸-6-메틸페놀의 90:10~40:60 몰비의 혼합물과 알데히드의 축합 생성물인 포지티브 레지스트 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 수지(Ⅰ)이 m-크레졸 및 2-t부틸-6-메틸페놀의 90:10~40:60 몰비의 혼합물과 알데히드의 축합 생성물인 포지티브 레지스트 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 수지(Ⅰ)이 폴리스티렌으로 환산한 분자량이 6000이하인 범위의 GPC면적 비율이 65%이하이고, 폴리스티렌으로 환산한 분자량이 900이하인 범위의 GPC면적 비율이 30%이하인 것을 특징으로 하고, 알칼리 용해성 수지가 수지(Ⅰ)과 하기식(Ⅱ)의 화합물을 함유하는 포지티브 레지스트 조성물.
    (식중, R1,R2및 R3는 동일 또는 상이하고 각각 C1~C5알킬기 또는 C1~C5알콕시기이며; R'은 수소원자 또는 C1~C3알킬기이고; k,m 및 n은 각각 0~3의 정수이다.)
  5. 제4항에 있어서, 식(Ⅱ)의 R1및 R2가 모두 메틸기이고, R1은 수소원자이며, m 및 n은 각각 2이고 k는 0포지티브 레지스트 조성물.
  6. 제4항에 있어서, 화합물(Ⅱ)의 함량이 알칼리 용해성수지 총중량 100중량부 당4~50중량부인 포지티브 레지스트 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 수지(Ⅰ)이 폴리스티렌으로 환산한 분자량이 6000이하인 범위의 GPC면적 비율이 65%이하이고, 폴리스티렌으로 환산한 분자량이 900 이하인 범위의 GPC 면적 비율이 30%이하인 것을 특징으로 하고; 알칼리 용해성 수지가 수지; (Ⅰ)과, 폴리스티렌으로 환산할때 GPC에 의해 측정한 중량 평균 분자량이 2000~200인 저분자량 노블락 수지(Ⅲ)를 함유하는 포지티브 레지스트 조성물.
  8. 제7항에 있어서, 노블락 수지(Ⅲ)의 함량이 알칼리 용해성 수지 총중량 100중량부당 4~50 중량부인 포지티브 레지스트 조성물.
  9. 제7항에 있어서, 노블락 수지(Ⅲ)가 폴리스티렌으로 환산할때 GPC로 측정한 중량 평균 분자량이 1000~200인 포지티브 레지스트 조성물.
  10. 제7항에 있어서, 노블락 수지(Ⅲ)가 크레졸과 포르말린의 축합 생성물인 포지티브 레지스트 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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