KR910005098A - 방사선 민감성 포지티브 레지스트 조성물 - Google Patents

방사선 민감성 포지티브 레지스트 조성물 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

방사선 민감성 포지티브 레지스트 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
도면은 수지(I) 제조시 바람직한 m-크레졸, p-크레졸 및 2,3,5-트리메틸페놀 사이의 몰비를 나타내는 삼원 다이아 그램이다.

Claims (24)

  1. m-크레졸, 2,3,5-트리메틸페놀 및 임의적인 p-크레졸 혼합물을 알데히드와 축합 반응시켜 수득한 수지(I)과 폴리스티렌으로 환산환 중량 평균 분자량이 200 내지 2000인 저분자량 노블락(Ⅱ)로 구성되어 있는 알칼리 용해성 수지(A)와 1,2-퀴논디아지드 혼합물로 구성되어 있음을 특징으로 하는 포지티브 레지스트 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 수지(I)은 폴리스티렌으로 환산한 분자량이 900 이하인 범위의 GPC에서의 면적비가 25%이하임을 특징으로 하는 포지티브 레지스트 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 수지(I)은 폴리스티렌으로 환산한 분자량이 6000 이하인 범위의 GPC에서의 면적비가 40% 내지 65%임을 특징으로 하는 포지티브 레지스트 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 폴르스티렌으로 환산한 분자량이 6000 이하인 범위의 GPC에서의 면적비가 50% 내지 65%인 포지티브 레지스트 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 수지(I)은 폴리스티렌으로 환산한 중량 평균 분자량이 2000 내지 20,000인 포지티브 레지스트 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 수지(I)은 도면의 삼원 다이아그램의 빗금친 부분(경계선 포함)내에 m-크레졸, p-크레졸 및 2,3,5-트리메틸페놀의 단량체 조성물을 가지고 있는 포지티브 레지스트 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 저분자량 노볼락(Ⅱ)이 크레졸 노볼락인 포지티브 레지스트 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 저분자량 노볼락(Ⅱ)가 폴리스티렌으로 환산한 중량 평균 분자량이 200 내지 1000인 포지티브 레지스트 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 저분자량 노볼락(Ⅱ)의 함량이 전 알칼리 용해성 수지 100 중량부당 4 내지 50중량부인 포지티브 레지스트 조성물.
  10. m-크레졸, 2,3,5-트리메틸페놀 및 임의적인 p-크레졸 혼합물을 알데히드와 축합 반응시켜 수득한 수지(I)과 일반식(Ⅲ)의 화합물로 구성되어 있는 알칼리 용해성 수지(B)와 1,2-퀴논디아지드 화합물로 구성되어 있음을 특징으로 하는 포지티브 레지스트 조성물.
    〔상기식에서, R1, R2및 R3는 각각 C1∼C5알킬기 또는 C1∼C5알콕시기이며, ℓ,m 및 n은 각각 0∼3이고, R'는 수소원자 또는 C1∼C3알키리이다.〕
  11. 제10항에 있어서, 수지(I)은 폴리스티렌으로 환산한 분자량이 900 이하인 범위의 GPC에서의 면적비가 25%을 초과하지 않음을 특징으로 하는 포지티브 레지스트 조성물.
  12. 제11항에 있어서, 수지(I)은 폴리스티렌으로 환산한 분자량이 6000 이하인 범위의 GPC에서의 면적비가 40% 내지 65% 임을 특징으로 하는 포지티브 레지스트.
  13. 제12항에 있어서, 폴리스티렌으로 환산한 분자량이 6000 이하인 범위의 GPC에서의 면적비가 50% 내지 65%인 포지티브 레지스트 조성물.
  14. 제10항에 있어서, 수지(I)은 폴리스티렌으로 환산한 분자량이 2000 내지 20,000인 포지티브 레지스트 조성물.
  15. 제10항에 있어서, 수지(I)이 도면의 삼원 다이아그램의 빗금친 부분(경계선 포함)내에 m-크레졸, p-크레졸 및 2,3,5-트리메틸페놀의 단량체 조성물을 가지고 있는 포지티브 레지스트 조성물.
  16. 제10항에 있어서, 화합물(Ⅲ)이 다음의 화합물로 구성된 군으로부터 선택한 화합물인 포지티브 레지스트 화합물.
  17. 제10항에 있어서, 화합물(Ⅲ)이
    인 포지티브 레지스트 화합물.
  18. 제10항에 있어서, 화합물(Ⅲ)이 함량이 전 알칼리 용해성 수지 100중량부당 4 내지 40 중량부인 포지티브 레지스트 조성물.
  19. 몰비가 80:20 내지 30:70인 m-메톡시페놀과 2,3,5-트리메틸페놀의 혼합물을 알데히드와 축합 반응시켜 수득한 수지(Ⅳ)로 구성되어 있는 알칼리 용해성 수지(C)와 1,2-퀴논디아지드 화합물로 구성되어 있음을 특징으로 하는 포지티브 레지스트 조성물.
  20. 제19항에 있어서, 수지(Ⅳ)는 폴리스티렌으로 환산한 중량 평균 분자량이 2000 내지 20,000인 포지티브 레지스트 조성물.
  21. 제19항에 있어서, 알칼리 용해성 수지(C)가 화합물(Ⅲ)을 함유하고 있는 포지티브 레지스트 조성물.
  22. 제19항에 있어서, 수지(Ⅳ)는 폴리스티렌으로 환산한 분자량이 900 이하인 범위의 GPC에서의 면적비가 15%를 초과하지 않음을 특징으로 하고 화합물(Ⅲ)의 함량이 전 알칼리 용해성 수지 100 중량부당 4 내지 40 중량부인 포지티브 레지스트 조성물.
  23. 제1항, 10항 또는 19항에 있어서, 1,2-퀴논디아지드 화합물이 평균 둘 이상의 히드록시가 에스테르화되는 2,3,4,4'-테트라히드록시벤조페논의 1,2-퀴논디아지드-5-술폰산 에스테르인 포지티브 레지스트 조성물.
  24. 제1항, 10항 또는 19항에 있어서, 1,2-퀴논디아지드 화합물이 평균 둘 이상의 히드록시가 에스테르화되는 다음과 같은 일반식의 히드록시플라반 화합물의 1,2-퀴논디아지드-5-술폰산 에스테르인 포지티브 레지스트 조성물.
    〔상기식에서, q는 0 내지 4이고, r은 1 내지 5이며, R4,R5및 R6은 각각 수소원자, 알킬기, 알케닐기, 시클로헥실기 또는 아릴기이다.〕
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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