KR900002123A - 감방사선성 양성 내식막 조성물 - Google Patents

감방사선성 양성 내식막 조성물 Download PDF

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후미오 오오이
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마꼬또 하나바따
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Abstract

내용 없음

Description

감방사선성 양성 내식막 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. 하기 일반식(I)의 포릴페놀 화합물을 함유하는 알칼리-용해성 수지 및 1,2-퀴논 디아지드 화합물을 함유함을 특징으로 하는 양성 내식막 조성물.
    X-α-H (I)
    [식중, X는 하기 일반식의 기이다 :
    또한 α는 하기 일반식(A)의 반복단위를 함유하는 2가의 기이다 :
    (식중, n은 1 이상의 수이고 ; a, b, c, d, e 및 f는 같거나 다르고 0 내지 3의 수이며, 이때 d+f는 1 이상을 조건으로 하고 ; R1, R2및 R3는 같거나 다르고 및 C1~C18알킬기, C1~C18알콕시기, 카르복실기 또는 할로겐원자이고 ; R4는 수소원자, C1~C18알킬기 또는 아릴기이다.)]
  2. 제1항에 있어서, X가 하기 일반식의 기인 양성 내식막 조성물.
    [식중, R1, a 및 b는 상기에 정의한 바와동일하고, α는 하기 일반식의 반복단위를 함유하는 2가의 기이다:
    (식중, R2, R3, R4, d, e, f 및 n은 상기에 정의한 바와 동일하다.)]
  3. 제1항에 있어서, 일반식(A)의 n이 1 이상이고 5 이하인 양성 내식막 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 폴리페놀 화합물(I)의 함량이 총알칼리-용해성 수지 100중량부당 4 내지 40중량부인 양성 내식막 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 폴리페놀 화합물(I)이 하기 일반식의 최소한 하나의 화합물인 양성 내식막 조성물.
    (식중, g는 0, 1 또는 2이다.)
  6. 제5항에 있어서, 폴리페놀 화합물(I)이 하기 일반식(1)의 양성 내식막 조성물.
  7. 제5항에 있어서, 폴리페놀 화합물(I)이 하기 일반식(2)의 양성 내식막 조성물.
  8. 제5항에 있어서, 폴리페놀 화합물(I)이 하기 일반식(3)의 양성 내식막 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 알칼리-용해성 수지가 노볼락 수지인 양성 내식막 조성물.
  10. 제9항에 있어서, 노볼락 수지가 폴리스티렌으로 전환되었을 경우에 GPC에 의하여 측정된 중량평균 분자량이 2,000 이상인 노볼락 수지의 중량에 대하여 30 내지 90중량%인 저분자량 분획을 총수지로부터 제거하므로써 제조되는 고분자량 노볼락 수지인 양성 내식막 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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