KR860001472A - Vlsi 화학반응기 - Google Patents

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KR860001472A
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캐디 와이니에이.
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케네스엘. 피쉬맨
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Abstract

내용 없음

Description

VLSI 화학반응기
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 처리될 웨이퍼 위에 소정갭이 유지되고 있으며 중앙으로 유체가 공급되는 유체흐름 안내판 및 반응기를 통하는 유체를 제어하기 위한 피이드백 경로를 보여주는 표기한 화학반응기의 도형도.
제2도는 제 1도 화학반응기의 반전형태의 도형도.
제3도는 제 1도 및 2도의 화학반응기에 사용하기 위한 유체흐름 안내판에 대한 여러가지 구성의 도형단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
20:구동장치, 18:축, 30:갭, 24:도관, 32:수직제어장치, 36:구동시스템.

Claims (31)

  1. 기판의 오염이 최소가 되게하는 기판을 처리하는데 사용하는 화학반응기에 있어서, 소정 방향으로 실질적으로 평편한 기판을 지지하도록된 호울더; 상기 기판과 간격을 같고 인접해 위치해 있으며 상기 기판의 평편한 표면에 평행인 실질적으로 평편한 표면을 가진 유체흐름 안내판; 처리되는 동안 유체가 모든 상기 갭을 점유하도록 처리되는 동안 상기 안내판을 통하여 유체를 공급하기 위한 흐름제어 수단을 포함하는 수단; 상기 안내판과 상기기판사이의 갭을 조정하기 위한 수단; 및 상기안내판과 상기 기판 사이에 상대운동을 제공하기 위한 수단으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 화학반응기.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 운동은 회전운동인 것을 특징으로 하는 화학반응기.
  3. 제 2항에 있어서, 상기 기판은 상기 안내과 상대적으로 회전되며 상기 안내판은 정지상태를 유지하는 것을 특징으로 하는 화학반응기.
  4. 제 2항에 있어서, 상기 안내판은 상기 기판과 상대적으로 회전되며 상기 안내판은 정지상태를 유지하는 것을 특징으로 하는 화학반응기.
  5. 제 2항에 있어서, 상기 기판 및 안내판은 방향으로 회전되는 것을 특징으로 하는 화학반응기.
  6. 제 1항에 있어서, 상기 안내판 또는 상기 기판중 하나가 정지상태에 유지되는 것을 특징으로 하는 화학반응기.
  7. 제 1항에 있어서, 상기 호울더는 상기 기판의 온도를 제어하기 위한 수단을 포함하고 있는것을 특징으로 하는 화학반응기.
  8. 제 7항에 있어서, 상기 온도제어 수단은 상기 호울더 내에서 조정된 온도의 유체를 순환시키기위한 위한 수단을 포함하고 있는것을 특징으로 하는 화학반응기.
  9. 제 7항에 있어서, 상기 온도제어 수단은 상기 호울더의온도를 제어하기 위한 전기수단을 포함하고 있는것을 특징으로 하는 화학반응기.
  10. 제 9항에 있어서, 상기 전기수단은 상기 호울더내에 가열코일과 상기 코일에 전기 에너지를 인가하기 위한 수단을 포함하고 있는것을 특징으로 하는 화학반응기.
  11. 제 9항에 있어서, 상기 전기수단은 펜레티어 장치를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 화학방응기.
  12. 제 1항에 있어서, 상기 안내판은 상기 평편한 표면에 그를 통하여 분산되는 유체의 혼합분배를 증가시키기 위한 수단을 포함하고 있는것을 특징으로 하는 화학반응기.
  13. 제 12항에 있어서, 혼합물 증가시키기 위한 상기 수단은 상기 안내판 표면에 외측으로 뻗은 홈을 포함하고 있는것을 특징으로 하는 화학반응기.
  14. 제 12항에 있어서, 혼합을 증가시키기 위한 상기 수단은 상기 안내판 표면상에 외측으로 뻗은 융기부를 포함하고 있는것을 특징으로 하는 화학반응기.
  15. 제 1항에 있어서, 상기 용체공급 수단은 상기 안내판의 중앙을 통하며 이에 인접한 일 또는 그보다 많은 창을 포함하고 있는것을 특징으로 하는 화학반응기.
  16. 제 15항에 있어서, 적어도 상기 창중의 하나는 확장분할 오리피스를 포함하고 있는것을 특징으로 하는 화학반응기.
  17. 제 15항에 있어서, 적어도 상기 창중의 하나는 상기 안내판 표면에서 제한되는 것을 특징으로 하는 화학반응기.
  18. 제 15항에 있어서, 적어도 상기 창중의 하나는 상기 기판을 향해 외측으로 벌어져 있는것을 특징으로 하는 화학반응기.
  19. 제 15항에 있어서, 상기 창중 하나는 상기 안내판의 중앙에 있으며 더우기 상기 안내판과 상기 기판사이의 갭에 유체기포가 존재하는 것을 방지하기 위하여 그것의 중앙근처에 상기 안내판을 통하는 유체방출채널을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학반응기.
  20. 제 5항에 있어서, 상기 안내판과 상기 기판의 회전축이 기포생성을 방지하기 위하여 편의되어 있는 것을 특징으로 하는 화학반응기.
  21. 제 1항에 있어서, 더우기 상기 갭내의 유체의 소정매개 변수를 모니터하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학반응기.
  22. 제 21항에 있어서, 더우기 상기 검사된 매개변수에 응하여 상기 안내판을 통하는 유체흐름을 변경하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학반응기.
  23. 제 21항에 있어서, 상기 모니터 수단은 상기 갭으로 광을 향하게하며 상기 갭내의 광을 검출하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학반응기.
  24. 제 23항에 있어서, 상기 광조정 수단은 적오도 상기 안내판의 일부분을 통하는 광로를 설정하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학반응기.
  25. 제 24항에 있어서, 상기 광로설정 수단은 상기 안내판내에 광학적으로 투명한 창을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 화학반응기.
  26. 제 1항에 있어서, 상기 안내판은 소정파장의 광에 대해 광학적으로 투명한 것을 특징으로 하는 화학반응기.
  27. 제 26항에 있어서, 더우기 광원과 상기 안내판을 통하여 상기 갭으로 향하게 조정하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학반응기.
  28. 제 27항에 있어서, 상기 광원은 원형이며 상기 안내판위의 중앙에 위치해 있는 것을 특징으로 하는 화학반응기.
  29. 기판의 상면과 접촉하는 화학약품에 의해 처리되는 기판의 처리시에 오염을 감소시키는 방법에 있어서, 기판과 호울더를 준비하는 단계; 상기 기판위에 즉시 유체흐름 안내판을 준비하는 단계; 화학약품이 기판의 중앙으로부터 외측으로 흐르도록 하는 조합된 혼합작용과 심심력 작용에 의해 상기 기판과 유체흐름 안내판 사이에 상대운동을 하는 단계; 및 어떤 활성화학 반응이 일어나도록 기판과 유체흐름 안내판 사이에 상대운동을 하는 단계; 및 어떤 활성화학 반응이 기판의 표면에서 일어나고 있는 처리동안 유체가 채워지는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
  30. 제 29항에 있어서, 더우기 최초에는 비교적 큰 갭을 가지나 갭으로 유체가 유입된 후에 갭을 줄여서 갭내에 기포발생을 감소시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 발법.
  31. 제 29항에 있어서, 상기 방법은 유체안내판에 대한 기판의 상대운동은 회전운동으로서 rpm이 낮으며, 화학반응을 일으키는 동작유체는 불활성 개스로 대체되며, 안내판과 기판사이의 상대적인 회전속도는 적어도 건조처리 동안의 크기정도 만큼 증가되는 건조공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화학반응기.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019850005295A 1984-07-24 1985-07-24 Vlsi 화학반응기 KR860001472A (ko)

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