JP2012004158A - 洗浄方法、洗浄装置、露光方法、露光装置およびデバイス製造方法。 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】照明光学系2および投影光学系PLが備える光学部材の少なくとも一つに設けられ、光学部材の反射面に対して複数の方向から、洗浄光CLを射出する洗浄用光源CSを備える露光装置100を提供する。洗浄用光源CSは、コンデンサーミラー19aの反射面の前方に、開口部31を有する環状部材で形成されている。
【選択図】図4
Description
本発明の態様はこのような事情に鑑み、ミラーの反射面を洗浄することを目的とする。
本発明の第1実施形態について、図1から図4を参照して説明する。図1は、本発明の第1実施形態に係る露光装置100の全体構成を概略的に示した図である。この露光装置100は、露光光ELとして、約5〜40nmの波長を有するEUV(Extreme UltraViolet:極端紫外)光を用いて、投影光学系PLを介してレチクルRに形成されたパターン像を、感光性材料(レジスト)が塗布されたウエハWに転写するステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置である。
次に、本発明の第2実施形態に係る洗浄装置CM2について、図5を参照して説明する。なお、第1実施形態と相違する部分について主に説明するものとし、第1実施形態と同じ構成については、説明を省略するものとする。
次に、本発明の第3実施形態について、図6を参照して説明する。
本発明の第4実施形態に係る洗浄装置CM4について、図7および図8を参照して説明する。
Claims (41)
- 光学部材の反射面に洗浄光を照射し、前記反射面を洗浄する洗浄装置において、
前記反射面に対して複数の方向から、前記洗浄光を射出する洗浄用光源と、
前記洗浄用光源から射出された洗浄光のうち前記反射面とは異なる方向に照射される前記洗浄光を前記反射面に反射する反射部材と、を備えたことを特徴とする洗浄装置。 - 前記洗浄用光源は、前記反射面の前方の斜め方向から前記反射面に向けて、前記洗浄光を照射することを特徴とする請求項1に記載の洗浄装置。
- 前記洗浄用光源は、前記反射面の前方に開口部を有する環状部材であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の洗浄装置。
- 前記環状部材は、環状のランプを有することを特徴とする請求項3に記載の洗浄装置。
- 前記洗浄用光源は、前記反射面の前方に、前記反射面を囲むように設けられることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の洗浄装置。
- 前記洗浄用光源は、前記反射面を囲むように設置される複数のランプであることを特徴とする請求項5に記載の洗浄装置。
- 前記反射部材は、前記光学部材の反射面に向けて開口した第1開口部と、前記反射面の前方に開口した第2開口部とを有することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の洗浄装置。
- 前記反射部材は、曲面を有することを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の洗浄装置。
- 前記反射部材は、放物面を有することを特徴とする請求項1から請求項7に記載の洗浄装置。
- 前記放物面の焦点位置に、前記洗浄用光源が設置されることを特徴とする請求項9に記載の洗浄装置。
- 前記反射部材は、複数の反射要素を有することを特徴とする請求項7から請求項10のいずれか一項に記載の洗浄装置。
- 前記反射部材は、前記第2開口部の中心を通り、前記第2開口部を含む平面に垂直な平面における断面形状に、複数の曲線形状を有することを特徴とする請求項11に記載の洗浄装置。
- 前記反射部材は、前記第2開口部の中心を通り、前記第2開口部を含む平面に垂直な平面における断面形状に、複数の直線形状を有すること特徴とする請求項11に記載の洗浄装置。
- 前記反射部材は、前記洗浄用光源に対して前記反射面の外側に設けられる第1反射要素と、
前記反射面から離れた前記第1反射要素の一端部に接続され、前記洗浄光を反射する第2反射要素と、
前記反射面に近い前記第1反射要素の他端部に接続され、前記洗浄光を反射する第3反射要素と、
を有することを特徴とする請求項13に記載の洗浄装置。 - 前記第1反射要素の一端部が、前記第1反射要素に対して傾斜しているとともに、前記第1反射要素の他端部が、前記第1反射要素に対して傾斜していることを特徴とする請求項14に記載の洗浄装置。
- 前記反射部材は、前記洗浄光の光量を調整する調整部材をさらに備えることを特徴とする請求項1から請求項15のいずれか一項に記載の洗浄装置。
- 前記調整部材は、前記複数の反射要素の少なくとも一部に設けられることを特徴とする請求項16に記載の洗浄装置。
- 前記反射部材は、前記第1反射要素の他端部と接続する第3反射要素の一端部とは異なる前記第3反射要素の他端部に接続され、前記洗浄光の光量を調整する調整部材を備えることを特徴とする請求項14または請求項15に記載の洗浄装置。
- 前記調整部材は、前記洗浄用光源から射出された洗浄光の一部を遮光することを特徴とする請求項16から請求項18のいずれか一項に記載の洗浄装置。
- 前記調整部材は、前記洗浄用光源から射出された洗浄光の一部を透過させることを特徴とする請求項16から請求項18のいずれか一項に記載の洗浄装置。
- 前記調整部材は、前記洗浄用光源から射出された洗浄光の一部を反射することを特徴とする請求項16から請求項18のいずれか一項に記載の洗浄装置。
- 前記調整部材は、前記洗浄光が通過可能な通過部を複数有することを特徴とする請求項16から請求項22のいずれか一項に記載の洗浄装置。
- 前記調整部材は、鋸歯状を有することを特徴とする請求項16から請求項22のいずれか一項に記載の洗浄装置。
- 前記洗浄用光源は、前記反射面の前方に配置され、環状に配列された複数の発光部を有することを特徴とする請求項1から請求項23のいずれか一項に記載の洗浄装置。
- 光源から射出された光を用いて、第1面を照明する照明光学系と、前記第1面に配列されたパターンを第2面の物体に投影する投影光学系とを備える露光装置において、
前記照明光学系または前記投影光学系に設けられる複数の光学部材のうち、少なくとも一つの光学部材に設けられ、前記光学部材の反射面を洗浄する請求項1から請求項24のいずれか一項に記載の洗浄装置を備える露光装置。 - 光源から射出された光を用いて、第1面を照明する照明光学系と、前記第1面に配列されたパターンを第2面の物体に投影する投影光学系とを備える露光装置において、
前記照明光学系および前記投影光学系が備える光学部材の少なくとも一つに設けられ、前記光学部材の反射面に対して複数の方向から、前記洗浄光を射出する洗浄用光源を備える露光装置。 - 前記洗浄用光源は、前記反射面の前方の斜め方向から前記反射面に向けて、前記洗浄光を照射することを特徴とする請求項26に記載の露光装置。
- 前記洗浄用光源は、前記反射面の前方に開口部を有する環状部材であることを特徴とする請求項26または請求項27に記載の露光装置。
- 前記環状部材は、環状のランプを有することを特徴とする請求項28に記載の露光装置。
- 前記洗浄用光源は、前記反射面の前方に、前記反射面を囲むように設けられることを特徴とする請求項26から請求項29のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記洗浄用光源は、前記反射面を囲むように設置された複数のランプであることを特徴とする請求項30に記載の露光装置。
- 前記配列されたパターンは、反射型のレチクルに形成された回路パターン像であることを特徴とする請求項25から請求項31のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記配列されたパターンは、デジタルマイクロミラーデバイスによって形成された回路パターンであることを特徴とする請求項25から請求項31のいずれか一項に記載の露光装置。
- 請求項25から請求項33のいずれか一項に記載の露光装置を用いて、前記第1面に配列されたパターンを前記第2面の物体に露光する露光工程と、
前記配列されたパターンが転写された前記物体を現像し、前記パターンに対応する形状のマスク層を前記物体の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記物体の表面を加工する加工工程と、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。 - 光源から射出された光を反射する反射面を有する光学部材を用いて、第1面に配列されたパターンを、第2面の物体に露光する露光方法において、
前記光学部材の反射面に対して、複数の方向から、前記反射面を洗浄する洗浄光を照射し、
前記洗浄光のうち前記反射面とは異なる方向に照射される洗浄光を、前記光学部材の反射面に反射して、前記光学部材の反射面を洗浄する洗浄工程を有することを特徴とする露光方法。 - 前記洗浄工程では、前記光学部材の反射面における光強度分布が前記反射面内で均一になるように、前記洗浄光を照明することを特徴とする請求項35に記載の洗浄方法。
- 前記洗浄工程では、前記光学部材の反射面における光強度分布が前記光学部材の光軸に対して対称となるように、前記洗浄光を照明することを特徴とする請求項35に記載の洗浄方法。
- 前記第1面に配列されたパターンを前記第二面の物体に露光する露光動作中に、前記洗浄工程を行うことを特徴とする請求項35から請求項37のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記第1面に配列されたパターンを前記第二面の物体に露光する露光動作が停止している時に、前記洗浄工程を行うことを特徴とする請求項35から請求項38のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記第1面に配列されたパターンは、反射型のレチクルに形成された回路パターンであることを特徴とする請求項35から請求項39のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記第1面に配列されたパターンは、デジタルマイクロミラーデバイスによって形成された回路パターンであることを特徴とする請求項35から請求項39のいずれか一項に記載の露光方法。
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---|---|---|---|---|
US9335642B2 (en) | 2012-09-06 | 2016-05-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | EUV exposure apparatus and cleaning method |
JP2019090677A (ja) * | 2017-11-14 | 2019-06-13 | 日機装株式会社 | 試験装置および発光装置の試験方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6140032A (ja) * | 1984-07-24 | 1986-02-26 | ジェイ ティー ベイカー インコーポレーテッド | Vlsi化学反応器 |
JP2000218156A (ja) * | 1998-11-25 | 2000-08-08 | Hooya Shot Kk | 紫外光照射装置 |
JP2005244015A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Nikon Corp | 露光装置、露光装置の光学素子の光洗浄方法、及び微細パターンを有するデバイスの製造方法 |
JP2005332972A (ja) * | 2004-05-20 | 2005-12-02 | Nikon Corp | 光学素子、光学装置、及び半導体デバイスの製造方法 |
JP2007013054A (ja) * | 2005-07-04 | 2007-01-18 | Nikon Corp | 投影露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
JP2007027419A (ja) * | 2005-07-15 | 2007-02-01 | Canon Inc | 露光装置 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6140032A (ja) * | 1984-07-24 | 1986-02-26 | ジェイ ティー ベイカー インコーポレーテッド | Vlsi化学反応器 |
JP2000218156A (ja) * | 1998-11-25 | 2000-08-08 | Hooya Shot Kk | 紫外光照射装置 |
JP2005244015A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Nikon Corp | 露光装置、露光装置の光学素子の光洗浄方法、及び微細パターンを有するデバイスの製造方法 |
JP2005332972A (ja) * | 2004-05-20 | 2005-12-02 | Nikon Corp | 光学素子、光学装置、及び半導体デバイスの製造方法 |
JP2007013054A (ja) * | 2005-07-04 | 2007-01-18 | Nikon Corp | 投影露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
JP2007027419A (ja) * | 2005-07-15 | 2007-02-01 | Canon Inc | 露光装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9335642B2 (en) | 2012-09-06 | 2016-05-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | EUV exposure apparatus and cleaning method |
JP2019090677A (ja) * | 2017-11-14 | 2019-06-13 | 日機装株式会社 | 試験装置および発光装置の試験方法 |
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