DE10051053A1 - Verfahren zum Schutz elektronischer oder mikromechanischer Bauteile - Google Patents
Verfahren zum Schutz elektronischer oder mikromechanischer BauteileInfo
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Abstract
Es wird ein Verfahren zum Schutz elektronischer oder mikromechanischer Bauteile, die mindestens eine Kontaktfläche (12) zur elektrischen Kontaktierung aufweisen, vorgeschlagen. Dabei werden in erster Linie empfindliche Bauteile wie beispielsweise elektronische Mikrochips mit Bondpads vor Verschmutzung und Korrosion geschützt. Das Verfahren beinhaltet die Aufbringung einer organischen Schutzschicht (14) zumindest auf die Kontaktflächen (12) der Bauteile.
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Schutz
elektronischer oder mikromechanischer Bauteile vor Ver
schmutzung und/oder Korrosion nach dem Oberbegriff des An
spruchs 1 sowie auf ein mit einer Schutzschicht versehenes
Bauteil und dessen Verwendung.
Während des Herstellungsprozesses von elektronischen oder
mikromechanischen Bauteilen werden Verfahren benötigt, mit
deren Hilfe die Oberfläche eines solchen Bauteils zumindest
partiell vor Verschmutzung geschützt werden kann. So werden
beispielsweise Mikrochips im Verbund erzeugt und müssen ab
schließend durch einen mechanischen Vorgang, im einfachsten
Falle durch Sägen, vereinzelt werden. Die dabei auftretenden
Stäube und Schlämme verschmutzen beispielsweise die Kontakt
flächen der Mikrochips und müssen entfernt werden. Bei robu
sten Bauteilen kann dies durch eine Hochdruckreinigung ge
schehen, bei empfindlichen elektronischen oder mikromechani
schen Bauteilen ist dies wegen einer möglichen Beschädigung
nicht möglich.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren bereit
zustellen, das den Schutz insbesondere von Kontaktflächen elek
tronischer oder mikromechanischer Bauteile vor Verschmutzung
und/oder Korrosion gewährleistet.
Das erfindungsgemäße Verfahren mit den kennzeichnenden Merk
malen des Anspruchs 1 hat den Vorteil, daß es den Schutz
auch empfindlicher elektronischer oder mikromechanischer
Bauteile vor Verschmutzung und/oder Korrosion wirkungsvoll
gewährleistet. Dies wird durch den Auftrag einer organischen
Schutzschicht zumindest auf die Kontaktflächen des Bauteils
bewirkt.
Mit den in den Unteransprüchen aufgeführten Maßnahmen sind
vorteilhafte Weiterbildungen des erfindungsgemäßen Verfah
rens möglich.
So werden die Bauteile derart kontaktiert, daß eine vorheri
ge Entfernung der Schutzschicht entfällt und das Bauteil
während und nach der Herstellung vor Korrosion geschützt
ist. Dabei wird die Schutzschicht während der Kontaktierung
durchstoßen.
Bei einer besonders vorteilhaften Ausführungsform des erfin
dungsgemäßen Verfahrens wird eine Komponente zur Erzeugung
der Schutzschicht dem während des Sägeprozesses verwendeten
Kühlwasser zugesetzt, so daß die Aufbringung der Schutz
schicht in den Vereinzelungsprozeß der Bauteile integriert
werden kann.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der einzigen
Figur schematisch dargestellt und in der nachfolgenden Be
schreibung näher erläutert.
In Fig. 1 ist ein elektronisches oder mikromechanisches
Bauteil schematisiert dargestellt, das auf einem beispiels
weise aus Silicium bestehenden Substrat 10 eine Kontaktflä
che 12 aufweist, die der elektrischen Kontaktierung des Bau
teils dient. Eine derartige Kontaktfläche wird auch als
Bondpad bezeichnet. Sie kann Aluminium, eine Aluminium/-
Kupferlegierung, Nickel, Silber, eine Silber/Palladium
legierung, Kupfer oder Gold beinhalten.
Elektronische oder mikromechanische Bauteile werden übli
cherweise als Verbund hergestellt und gegen Ende des Her
stellungsprozesses auf mechanischem Wege, üblicherweise
durch Sägen, vereinzelt. Dabei werden auf den Bauteilen Sä
geschlämme abgelagert, die sehr fest haften und eine nach
folgende zuverlässige Kontaktierung der Bauteile verhindern.
Bei robusten Bauteilen können nach der Vereinzelung die Sä
geschlämme mittels einer Hochdruckreinigung entfernt werden,
bei empfindlichen Bauteilen ist dies nicht möglich.
Daher werden vor der Vereinzelung zumindest die Kontaktflä
chen 12 des Bauteils mit einer organischen Schutzschicht 14
versehen, je nach Anwendungsfall kann auch die restliche
Oberfläche des Bauteils ganz oder partiell mit der Schutz
schicht 14 überzogen werden. Die Schutzschicht 14 bewirkt
neben dem Schutz vor Verschmutzung gleichzeitig eine Vermei
dung der Korrosion des Bauteils.
Bei der Kontaktierung wird die Kontaktfläche 12 des Bauteils
mit einem elektrischen Leiter 16 versehen, wobei der elek
trische Leiter 16 so auf die Oberfläche der Kontaktfläche 12
aufgebracht ist, daß er die Schutzschicht 14 durchstößt. Da
bei eignen sich grundsätzlich alle üblichen Schweiß- und
Lötverfahren, als besonders günstig hinsichtlich einer mög
lichst geringen Verletzung der Schutzschicht 14 hat sich
hingegen ein Reibschweißen unter Ultraschalleinwirkung er
wiesen. Alternativ ist es durchaus möglich, die Schutz
schicht 14 zwischen der Vereinzelung und der Kontaktierung
wieder zu entfernen. Die Vorgehensweise richtet sich nach
dem konkreten Einzelfall.
Vor dem Aufbringen der organischen Schutzschicht 14 auf die
Kontaktfläche bzw. die Oberfläche des Bauteils wird bei
spielsweise eine Oberflächenbehandlung des Bauteils durchge
führt. Dabei wird das Bauteil entfettet und gegebenenfalls
mittels einer wässrigen Lösung, die Wasserstoffperoxid
und/oder alkalische Bestandteile enthalten kann, angeätzt,
um eine reaktive Oberfläche mit endständigen OH-Gruppen zu
erhalten.
Als Schutzschicht 14 eignen sich gut haftende, dünne Schich
ten oder Lacke, die beispielsweise Polysilane, Polysiloxane,
Polyglycole oder Polyetherglycole enthalten. Auch der Auf
trag von Wachsen oder Ölen ist denkbar. Besonders vorteil
haft ist die Verwendung von fluorsubstituierten Verbindun
gen. Diese bilden eine hydrophobe Oberfläche und erleichtern
die Kontaktierung des Bauteils. Wird beispielsweise als
elektrischer Leiter 16 ein Aluminiumdraht verwendet, so bil
det sich während der Kontaktierung Aluminiumfluorid, das als
Flußmittel wirkt und die Festigkeit der Kontaktstelle we
sentlich erhöht.
Zum Auftragen der Schutzschicht 14 eignen sich Verfahren wie
Spincoaten, Aufsprühen, Tauchen, Lackieren, Beträufeln und
Siebdrucken. Auch Verfahren wie CVD, bei denen die Verbin
dungen unter vermindertem Druck aufgedampft werden, eignen
sich. Dies gilt auch für plasmaunterstützte Abscheidungen,
Sputtern und PVD.
Besonders geeignet sind als Ausgangsverbindungen Organotri
alkoxysilane oder Organotrichlorsilane, die sowohl mit Sili
cium- als auch mit Aluminiumoberflächen gut reagieren. Zwei
Ausführungsbeispiele werden im folgenden beschrieben.
Die Oberfläche eines Siliciumwafers 10 mit mindestens
einer Kontaktstelle 12 aus Aluminium wird in einem Va
kuumofen bei ungefähr 150°C und ca. 10 mbar für 5 Mi
nuten gasförmigem Hexamethyldisilazan ausgesetzt. Die
Oberfläche verhält sich anschließend hydrophob.
Auf die Oberfläche eines Siliciumwafers 10 mit minde
stens einer Kontaktstelle 12 aus Aluminium wird eine
0.5 prozentige Lösung von 1,1,2,2 Tetrahydroperfluoroc
tyltriethoxysilan in 2-Propanol gegeben und nach 10 Mi
nuten Wartezeit mittels eines Spincoaters bei circa
4000 Umdrehungen pro Minute 30 Sekunden lang abge
schleudert. Der Wafer wird 10 Minuten lang auf ungefähr
120°C erhitzt. Die so erzeugte Schutzschicht 14 ermög
licht die Kontaktierung des Bauteils beispielsweise mit
einem 50 µm starken Aluminiumdraht, wobei die Kontak
tierung aufgrund der Bildung von Aluminiumfluorid während
des Kontaktierungsvorganges eine höhere Stabilität
aufweist als bei Bauteilen ohne Schutzschicht.
Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Erzeugung der Schutz
schicht 14 in den Vereinzelungsprozeß integriert wird, da so
ein Verarbeitungsschritt eingespart werden kann. Dabei wer
den die Verbindungen zur Bildung der Schutzschicht bei
spielsweise dem Spül- und Kühlwasser der Wafersäge zuge
setzt. Die wasserlöslichen Verbindungen bilden auf der be
netzten Oberfläche des Bauteils sofort eine Schutzschicht 14
aus, die das Bauteil vor haftenden Schlämmen schützt. Alter
nativ kann die Schutzschicht auch mittels eines wäßrigen
Tauchbads aufgebracht werden.
Als Verbindungen eignen sich dazu Mono- und Diester einer
Phosphor- oder Phosphonsäure, wobei vor allem deren teil
fluorierte Derrivate geeignet sind. Ein drittes Ausführungs
beispiel wird nachfolgend beschrieben.
Ein Siliciumwafer mit Kontaktstellen 12 aus Aluminium
wird in eine 0.1 prozentige wäßrige Lösung von 1,1,2,2
Tetrahydroperfluorhexylphosphonsäure oder 1, 1, 2,2 Te
trahydroperfluoroctylphosphonsäure getaucht, die 5% 2-
Propanol enthält, und nach einer Verweilzeit von 10 Mi
nuten herausgenommen und abgespült. Danach wird der Wa
fer 10 Minuten auf etwa 120°C erhitzt.
Die Erfindung ist nicht auf die beschriebenen Ausführungs
beispiele beschränkt, sondern neben der Kombination mehrerer
der beschriebenen Methoden zur Aufbringung der organischen
Schutzschicht 14 sind weitere Anwendungsfelder denkbar, die
einen wirksamen Schutz vor Verunreinigungen oder Korrosion
voraussetzen. So können auch durchaus robuste Gegenstände
aus Metall mit einer derartigen Schutzschicht versehen wer
den.
Claims (17)
1. Verfahren zum Schutz elektronischer oder mikromecha
nischer Bauteile, die mindestens eine Kontaktfläche zur
elektrischen Kontaktierung aufweisen, insbesondere von elek
tronischen Mikrochips mit Bondpads, vor Verschmutzung
und/oder Korrosion, vorzugsweise bei der Vereinzelung eines
Verbundes der Bauteile, dadurch gekennzeichnet, daß eine or
ganische Schutzschicht (14) zumindest auf die Kontaktflächen
(12) der Bauteile aufgebracht wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß bei der Verschweißung von Anschlußdrähten (16) mit den
Kontaktflächen (12) der Bauteile die Schutzschicht (14)
durchkontaktiert wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Kontaktierung der Bauteile nach einer Entfernung der
Schutzschicht (14) erfolgt.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Schutzschicht (14) als Schutzkompo
nente Silane, Siloxane, Polysiloxane, Polyetherverbindungen
und/oder deren fluorierte Derivate enthält.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß die Schutzschicht (14) durch Spincoaten, Tauchen, plas
maunterstütztes Abscheiden, CVD, PVD oder Sputtern aufgetra
gen wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Schutzschicht (14) als Schutzkompo
nente eine Phosphonsäure, einen Phosphonsäureester, einen
Phosphorsäureester und/oder deren fluorierte Derivate ent
hält.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß die Schutzschicht (14) durch Spülung des Verbundes der
Bauteile mit einer die Schutzkomponente enthaltenden Lösung
erzeugt wird.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß vor dem Aufbringen der Schutz
schicht (14) eine Entfettung der Bauteile durchgeführt wird.
9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß vor dem Aufbringen der Schutz
schicht (14) eine chemische Aktivierung der Kontaktfläche
(12) mittels einer Spülung mit einer alkalischen und/oder
wasserstoffperoxidhaltigen Lösung durchgeführt wird.
10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Vereinzelung des Verbundes
der Bauteile auf mechanischem Wege, insbesondere durch Sägen
erfolgt.
11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Kontaktierung der Bauteile
unter der Einwirkung von Ultraschall erfolgt.
12. Elektronisches oder mikromechanisches Bauteil mit
mindestens einer Kontaktfläche zur Kontaktierung des Bau
teils, insbesondere elektronischer Mikrochip mit Bondpads,
dadurch gekennzeichnet, daß die Kontaktfläche (12) eine or
ganische Schutzschicht (14) aufweist.
13. Bauteil nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß
die Schutzschicht (14) durch Anschlußdrähte (16) durchkon
taktierbar ist.
14. Bauteil nach Anspruch 12 und 13, dadurch gekennzeich
net, daß die Schutzschicht (14) als Schutzkomponente Silane,
Siloxane, Polysiloxane, Polyetherverbindungen und/oder deren
fluorierte Derivate enthält.
15. Bauteil nach Anspruch 12 und 13, dadurch gekennzeich
net, daß die Schutzschicht (14) als Schutzkomponente eine
Phosphonsäure, einen Phosphonsäureester, einen Phosphorsäu
reester und/oder deren fluorierte Derivate enthält.
16. Bauteil nach einem der Ansprüche 12 bis 15, gekennzeichnet
durch die Herstellung mittels eines Verfahrens nach einem der
Ansprüche 1 bis 11.
17. Verwendung eines Bauteils nach einem der Ansprüche 12
bis 16 zur Herstellung von Sensoren, insbesondere von Luft
massensensoren.
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