KR20220106763A - 자동화된 토탈 네일 케어 시스템, 장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
네일 케어를 위한 시스템, 디바이스 및 방법이 제공된다. 네일 케어 시스템은 성형 시스템, 광택 제거 시스템 및/또는 큐티클 관리 시스템; 비전 시스템; 매니큐어 도포 시스템; 및 이동성 시스템을 포함한다. 네일 시스템은 가속 건조 시스템, 손 마사지 시스템, 네일 식별/진단/상태 추정 시스템, 인클로저, 손/발 받침 시스템, 컴퓨터 소프트웨어 시스템, 컴퓨터 하드웨어 시스템, 카트리지/포드 시스템 및 멀티-툴 시스템을 추가로 포함할 수 있다. 관련 장치, 기술 및 물품도 또한 기재되어 있다.
Description
관련 출원에 대한 상호 참조
본 출원은 2019년 10월 29일에 출원된, "자동화된 토탈 네일 케어를 위한 장치 및 방법"이라는 표제의 미국 가특허 출원 제62/927,462호 및 2020년 3월 26일에 출원된, "자동화된 토탈 네일 케어를 위한 장치 및 방법"이라는 표제의 미국 가특허 출원 제62/994,933호에 대한 우선권을 주장하며, 이들 각각은 본원에 참고로 인용된다.
기술 분야
본 개시내용은 네일 케어(nail care)를 위한 시스템, 디바이스(device) 및 방법에 관한 것이다. 구체적으로, 본 개시내용은 하나 이상의 비전 시스템(vision system), 에나멜/광택(enamel/polish) 제거 시스템, 네일 성형 시스템(nail shaping system), 큐티클(cuticle) 관리 시스템, 에나멜/광택 도포 시스템, 가속 건조 시스템, 손 마사지 시스템, 네일 식별/진단/상태 추정 시스템, 이동성 메커니즘 시스템, 인클로저(enclosure), 손/발 받침 시스템, 보조 팔뚝 지지 시스템, 컴퓨터 소프트웨어 시스템, 컴퓨터 하드웨어 시스템, 소모성 카트리지/포드(catridge/pod) 시스템, 클라우드 컴퓨팅(cloud computing) 시스템, 사용자 장치 및 멀티-툴(multi-tool) 시스템을 포함하는 네일 케어 시스템에 관한 것이다. 관련 장치, 기술 및 물품도 또한 기재되어 있다.
네일 케어를 위해 개발된 디바이스 및 방법은 비전, 이동성 및 광택 도포와 관련된다. 그러나, 개발된 디바이스와 방법으로 달성된 결과는 전문적인 품질의 매니큐어를 제공할 수 없었다. 개발된 시스템은 비전, 이동성 및 광택 도포와 함께 성형, 광택 제거 또는 큐티클 관리의 중요성을 인식하지 못했다. 개발된 디바이스와 방법의 실제 결과는 열등했고 살롱 품질의 네일 트리트먼트를 달성할 수 없었다. 개발된 스프레이 페인팅 시스템은 네일이 이미 잘 손질된 경우에만 완전히 효과적이었다. 개발된 매니큐어(성형 및 큐티클 관리) 시스템은 광택을 제거하지 않았다. 개발된 광택 제거제는 네일을 성형하거나 큐티클을 관리하지 못했다. 자동화 또는 반자동화 장치에서 전문적인 품질의 매니큐어를 달성하는 데 어려움으로 인해, 네일 매니큐어, 광택 제거 및 네일 페인팅 시스템의 조합은 지금까지 시도되지 않았다.
본 발명자들은 관련 기술의 디바이스 및 방법과 관련된 상기 언급된 문제점을 극복하는 네일 케어의 디바이스 및 방법의 개선점을 개발했다. 당업계의 수 많은 진보 중에서, 본 발명자들은 네일 케어 공정에 대한 성형, 광택 제거 및/또는 큐티클 관리의 중요성을 인식하고, 본원에서 기술적으로 진보되고 효과적인 네일 케어 시스템을 기재한다.
요약
다음의 특징들 중 하나 이상은 임의의 실행 가능한 조합에 포함될 수 있다.
매니큐어(manicure) 또는 페디큐어(pedicure)를 전달하기 위한 시스템, 장치, 디바이스 및 방법이 제공된다.
네일 케어 시스템은 성형 시스템, 광택 제거 시스템 및 큐티클 관리 시스템; 비전 시스템; 매니큐어 도포 시스템; 및 이동성 시스템 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
성형 시스템은 회전 운동, 선형 왕복 운동 및 회전 진동 중 하나 이상을 위해 구성될 수 있으며, 여기서 성형 시스템은 연마 요소를 포함한다.
광택 제거 시스템은 스폰지, 이의 표면 상의 반원형 홈(semi-circular groove) 또는 홈 패턴, 및 브러시 중 하나 이상을 포함하는 광택 제거 도구를 포함할 수 있다.
큐티클 관리 시스템은 버니싱 도구를 포함할 수 있다.
비전 시스템은 이미지 획득 시스템, 조명 시스템 및 머신 비전 처리 시스템을 포함할 수 있다.
머신 비전 처리 시스템은 적어도 하나의 프로세서를 갖는 컴퓨터 장치와 적어도 하나의 프로세서에 의한 실행을 위한 적어도 하나의 프로그램을 저장하는 메모리를 포함할 수 있고, 상기 적어도 하나의 프로그램은 적어도 하나의 프로세서에 의해 실행될 때, 적어도 하나의 프로세서가 동작을 수행하도록 하는 명령어를 포함한다.
동작은 비전 시스템으로부터 이미지 정보를 수신하는 단계; 수신된 이미지를 전처리하는 단계; 전처리된 이미지의 분석에 기초하여 네일 범위 및 네일 높이 프로파일을 결정하는 단계; 전처리된 이미지의 분석에 기초하여 손가락과 네일 배치를 결정하는 단계; 결정된 네일 범위, 결정된 네일 높이 프로파일 및 결정된 손가락 및 네일 배치에 기초하여 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 비전 시스템, 매니큐어 도포 시스템 및 이동성 시스템 중 하나 이상에 대한 작동 명령어를 출력하는 단계 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
매니큐어 도포 시스템은 노즐과 유체 연통(fluid communication)하는 저장소(reservoir) 또는 바이알(vial)을 포함할 수 있다.
저장소 또는 바이알은 캡을 포함할 수 있고, 상기 캡은 노즐에 대해 고정된 상태로 유지되도록 구성될 수 있고, 저장소 또는 바이알은 노즐에 대해 이동되어 저장소 또는 바이알 내의 유체가 노즐로부터 유출되도록 구성될 수 있다.
이동성 시스템은 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 적어도 3개의 방향으로, 그리고 적어도 2개의 축을 중심으로 회전식으로 이동하도록 구성될 수 있다.
네일 케어 시스템은 가속 건조 시스템을 추가로 포함할 수 있다.
네일 케어 시스템은 손 마사지 시스템을 추가로 포함할 수 있다.
네일 케어 시스템은 네일 식별, 진단 및 상태 추정 시스템을 추가로 포함할 수 있다.
네일 케어 시스템은 이동성 시스템, 하나 이상의 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템을 둘러싸도록 구성되고 적어도 3개의 방향으로, 그리고 적어도 2개의 축을 중심으로 회전적으로 동일한 것의 이동을 허용하도록 구성된 인클로저 시스템을 추가로 포함할 수 있다.
네일 케어 시스템은 하나 이상의 기준, 및 양측 대칭성(bilateral symmetry)을 갖는 적어도 하나의 손가락 가이드를 포함하는 손 받침 또는 발 받침 시스템을 추가로 포함할 수 있다.
네일 케어 시스템은 매니큐어 도포 시스템의 하나 이상의 구성 요소, 및 광택 제거 시스템을 포함하는 카트리지 또는 포드 시스템을 추가로 포함할 수 있다.
네일 케어 시스템은 이동성 시스템에 의한 이동을 위해 구성되고, 큐티클 시스템, 성형 시스템, 도포 시스템, 및 제거 시스템 중 하나 이상과 맞물리도록 구성된 멀티-툴 시스템을 추가로 포함할 수 있다.
네일 케어 방법으로서, 장치가 제공되고, 상기 장치가 적어도 하나의 프로세서와 적어도 하나의 프로세서에 의한 실행을 위한 적어도 하나의 프로그램을 저장하는 메모리를 갖고, 상기 적어도 하나의 프로그램이 적어도 하나의 프로세서에 의해 실행될 때, 적어도 하나의 프로세서가 성형 시스템, 광택 제거 시스템 및 큐티클 관리 시스템 중 하나 이상; 비전 시스템; 매니큐어 도포 시스템; 및 이동성 시스템의 협력 동작을 포함하는 동작을 수행하도록 하는 명령어를 포함하는, 방법.
상기 방법은 비전 시스템으로부터 이미지 정보를 수신하는 단계; 수신된 이미지를 전처리하는 단계; 전처리된 이미지의 분석에 기초하여 네일 범위 및 네일 높이 프로파일을 결정하는 단계; 전처리된 이미지의 분석에 기초하여 손가락 및 네일 배치를 결정하는 단계; 결정된 네일 범위, 결정된 네일 높이 프로파일 및 결정된 손가락 및 네일 배치에 기초하여 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 비전 시스템, 매니큐어 도포 시스템, 및 이동성 시스템 중 하나 이상을 위한 동작 명령어를 출력하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
상기 방법은 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 네일에 대해 시작점으로 구동하는 단계; 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상의 중심을 네일의 측면 주름(lateral fold)으로 구동하는 단계; 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 네일에 대해 임의의 적합한 방향으로 이동시키는 단계; 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 들어 올리는 단계; 및 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 네일에 대해 또 다른 지점으로 구동하는 단계를 포함하는 컴퓨터 구현 도구 이동 방법을 추가로 포함할 수 있다.
상기 방법은 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 소정의 패턴에 따라 구동하여 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 네일의 하나 이상의 해부학적 특징에 근접한 소정의 위치에 배치하여 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상의 동작을 수행하는 단계를 포함하는 컴퓨터 구현 도구 이동 방법을 추가로 포함할 수 있다.
상기 방법은 단일 네일, 복수의 네일 및/또는 다수의 네일을 포함하는 전체 손을 위한, 및 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 구동 및 작동시키기 위한 명령어를 생성하기 위한 컴퓨터 구현 경로 계획 방법을 추가로 포함할 수 있다.
네일 케어 시스템은 적어도 하나의 프로세서와 적어도 하나의 프로세서에 의한 실행을 위한 적어도 하나의 프로그램을 저장하는 메모리를 갖는 디바이스를 포함할 수 있고, 상기 적어도 하나의 프로그램은 적어도 하나의 프로세서에 의해 실행될 때, 성형 시스템, 광택 제거 시스템 및 큐티클 관리 시스템 중 하나 이상; 비전 시스템; 매니큐어 도포 시스템; 및 이동성 시스템의 협력 동작을 포함하는 동작을 수행하도록 하는 명령어를 포함한다.
시스템은 사용자 인터페이스, 네일 형상 모델 시스템, 동작 구성 시스템, 손 모델 시스템, 운동학적 모델 시스템(kinematic model system), 및 경로 플래너 시스템을 포함하는 경로 플래너 적용을 포함하는 컴퓨터 아키텍처(architecture)를 추가로 포함할 수 있다.
컴퓨터 아키텍처는 인클로저 시스템, 비전 시스템, 패스 플래너 적용, 및 사용자 인터페이스 시스템을 포함하는 비전 시스템 아키텍처를 추가로 포함할 수 있다.
네일 케어를 위한 적어도 하나의 프로그램, 적어도 하나의 프로세서에 의해 실행하기 위한 적어도 하나의 프로그램 및 적어도 하나의 프로그램을 저장하는 메모리를 저장하는 비일시적 컴퓨터 판독 가능 저장 매체(non-transitory computer-readable storage system)로서, 상기 적어도 하나의 프로그램은 적어도 하나의 프로세서에 의해 실행될 때, 적어도 하나의 프로세서가 성형 시스템, 광택 제거 시스템 및 큐티클 관리 시스템 중 하나 이상; 비전 시스템; 매니큐어 도포 시스템; 및 이동성 시스템의 협력 동작을 포함하는 동작을 수행하도록 하는 명령어를 포함한다.
비일시적인 컴퓨터 판독 가능 저장 매체는 비전 시스템으로부터 이미지 정보를 수신하는 단계; 수신된 이미지를 전처리하는 단계; 전처리된 이미지의 분석에 기초하여 네일 범위 및 네일 높이 프로파일을 결정하는 단계; 전처리된 이미지의 분석에 기초하여 손가락 및 네일 배치를 결정하는 단계; 결정된 네일 범위, 결정된 네일 높이 프로파일 및 결정된 손가락 및 네일 배치에 기초하여 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 비전 시스템, 매니큐어 도포 시스템, 및 이동성 시스템 중 하나 이상에 대한 작동 명령어를 출력하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
비일시적인 컴퓨터 판독 가능 저장 매체는 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 네일에 대해 시작점으로 구동하는 단계; 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상의 중심을 네일의 측면 주름으로 구동하는 단계; 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 네일에 대해 임의의 적합한 방향으로 이동시키는 단계; 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 들어 올리는 단계; 및 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 네일에 대해 또 다른 지점으로 구동하는 단계를 포함하는 컴퓨터 구현 도구 이동 방법을 추가로 포함할 수 있다.
비일시적인 컴퓨터 판독 가능 저장 매체는 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 소정의 패턴에 따라 구동하여 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 네일의 하나 이상의 해부학적 특징에 근접한 소정의 위치에 배치하여 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상의 동작을 수행하는 단계를 포함하는 컴퓨터 구현 도구 이동 방법을 추가로 포함할 수 있다.
비일시적인 컴퓨터 판독 가능 저장 매체는 단일 네일, 복수의 네일 및/또는 복수의 네일을 포함하는 완전한 손을 위한, 및 하나 이상의 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템을 구동 및 작동하기 위한 명령어를 생성하기 위한 컴퓨터 구현 경로 계획 방법을 추가로 포함할 수 있다.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 다음 중 하나 이상을 포함할 수 있다: 인클로저; 매니큐어의 동작에 적합한 위치에 사용자의 손이나 발을 편안하게 유지하도록 설계된 하나 이상의 특징(예: 손 받침 또는 발 받침); 네일의 위치 및/또는 형상 및/또는 경계를 검출하기 위한 시스템 및 소프트웨어(예: 검출 시스템); 네일에서 에나멜을 제거하는 디바이스; 네일을 성형하기 위한 디바이스; 큐티클 또는 이의 일부를 관리(예: 제거, 이동, 박화 등)하기 위한 디바이스; 매니큐어를 네일에 도포하기 위한 하나 이상의 디바이스; 네일 상의 매니큐어의 건조를 가속하기 위한 디바이스; 다양한 매니큐어 단계에 사용하기 위한 하나 이상의 디바이스의 선택을 가능하게 하는 메커니즘(즉, 디바이스 선택); 매니큐어 또는 이의 일부 동안 임의의, 일부 또는 모든 디바이스를 위치시키는 메커니즘; 장치 내에 소모품(예: 매니큐어, 광택 제거제)을 저장하는 수단; 소모품(성형 또는 버핑 요소, 매니큐어, 광택 제거제 등)을 보유하는 카트리지용 용기; 하나 이상의 외부 컴퓨터를 장치에 연결할 수 있게 하는 하나 이상의 커넥터; 장치에 무선으로 연결하는 수단(예: Wi-Fi, 블루투스, 무선 통신, IR 원격 제어 등); 매니큐어 또는 이의 일부를 자동으로 제공하는 공정을 제어하는 관련 메모리 및 주변 디바이스와 함께 컴퓨터 또는 프로세서; 및/또는 네일 또는 손가락 또는 발가락을 검출하고 매니큐어 또는 이의 일부를 제공할 때 장치의 동작을 제어하는 프로그램.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 편리한 보기 및 동작에 도움이 되는 방식으로 전화 또는 다른 장치를 유지하기 위한 하나 이상의 특징을 포함할 수 있다.
인클로저는 불투명한 재료로 구성되며 인클로저 내의 외부 광량을 줄이거나 제어하도록 설계되었을 수 있다.
손 받침 또는 발 받침은 다음 중 하나 이상과 함께 사용하도록 설계될 수 있다: 왼손 또는 오른손 또는 왼발 또는 오른발을 개별적으로(즉, 각각의 손발에 하나의 받침이 필요할 수 있다); 왼손 및 오른손, 또는 왼발 및 오른발(즉, 손과 다른 발에 하나의 받침이 필요할 수 있다); 어느 한 쪽 손 또는 어느 한 쪽 발(즉, 임의의 손발에 하나의 받침이 충분하다); 또는 상기의 임의의 조합(예: 어느 한 손에 하나의 받침이 필요하지만, 각 발에는 하나의 받침이 필요하다).
손 또는 발 받침은 사용자가 손 및/또는 발을 적절히 배치하도록 안내하기 위해 융기부, 질감 차이, 함몰부 등을 추가로 포함할 수 있다.
손 또는 발 받침은 사용자에 의해 또는 소프트웨어 제어하에 변경된 배향(예: 안식각) 또는 구성(예: 폭, 길이, 두께, 손가락 또는 발가락 사이의 거리, 종횡비 등)을 가질 수 있다.
손 또는 발 받침은 머신 비전이 인간의 네일, 조직 및/또는 피부와 구별하기 쉬운 색상일 수 있다.
손 또는 발 받침은 머신 비전이 네일, 손가락, 발가락, 손, 및/또는 발 중 일부 또는 전부를 식별하고/하거나 네일, 손가락, 발가락, 손, 및/또는 발의 특성(예: 경계, 범위, 형상, 위치, 색상, 두께, 질감 등)을 추정하는 데 도움이 되는 기준 또는 기타 마크를 함유할 수 있다.
손 또는 발 받침을 제거하고 특정 사용자의 요구에 더 적합한 다른 손 또는 발 받침으로 교체할 수 있다.
손 또는 발 받침은 다른 사람의 손 및/또는 발을 더 편안하게 수용하기 위해 상이한 크기로 구성될 수 있다.
검출 시스템은 전자기(EM) 방사선(예: 가시광선, 적외선 또는 자외선)을 방출하는 하나 이상의 장치를 포함할 수 있다.
EM 방사선을 방출하는 장치는 전구, LED, 레이저, 프로젝터 등을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
EM 방사선을 방출하는 장치는 단지 일부의 예로서 구조화 또는 비구조화된 광, 일관된 또는 일관성 없는 광, 패턴화 또는 비패턴화된 광 등을 방출할 수 있다.
검출 시스템은 음향 에너지를 방출하는 하나 이상의 장치(예: 초음파 변환기, 스피커, 또는 다양한 주파수에서 사운드를 생성하는 다른 수단)를 포함할 수 있다.
검출 시스템은 하나 이상의 방출기를 포함할 수 있다.
검출 시스템의 방출기는 수동적으로 또는 소프트웨어 제어하에 재배치(예: 전방, 후방, 상, 하, 좌, 또는 우) 및/또는 재배향(예: 팬/틸트(pan/tilt))될 수 있다.
방출기의 일부 또는 전부는 본질적으로 또는 수동으로 또는 소프트웨어 제어 하에서 가변적인 상이한 방출 스펙트럼(예: 상이한 음향 또는 EM 스펙트럼, 다중 스펙트럼 등)을 가질 수 있다.
방출기는 수동적으로 또는 소프트웨어 제어하에 독립적으로 및/또는 임의의 조합으로 조명 및 제어될 수 있다(예: 더 밝아지거나 더 어두워지거나, 더 커지거나 더 조용해지거나, 더 길거나 더 짧은 기간 동안 활성화되거나 등).
방출기의 특성(예: 위치, 배향, 스펙트럼, 강도 등)이 지정되고 소프트웨어에서 이용 가능할 수 있다.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 입사 영역 또는 방출기 출력의 특성을 변경하기 위한 메커니즘(예: 렌즈, 거울, 마스크, 회절 격자, 프리즘, 무반향 발포체 등)을 포함할 수 있다.
임의의 메커니즘(예: 오클루전, 렌즈, 거울, 프리즘 등)의 여러 특성을 특성화하여 소프트웨어에 이용 가능할 수 있다.
검출 시스템은 카메라 또는 광다이오드와 같은 하나 이상의 EM 수신기를 추가로 포함할 수 있다.
검출 시스템은 하나 이상의 음향 수신기(예: 마이크로폰, 초음파 수신기 등)를 추가로 포함할 수 있다.
검출 시스템의 수신기는 수동으로 또는 소프트웨어 제어하에 재배치(예: 전방, 후방, 상, 하, 좌, 또는 우) 및/또는 재배향(예: 팬/틸트)될 수 있다.
검출 시스템의 수신기의 하나 이상의 특성(예: 조리개, 초점 거리, 렌즈 특성, 노광 시간, 게인, 음향 감도 등)은 수동으로 또는 소프트웨어 제어하에 변경될 수 있다.
검출 시스템의 수신기의 하나 이상의 특성(예: 위치, 배향, 조리개 초점 거리, 노광 시간, 게인 등)은 특성화되고 소프트웨어에 이용 가능할 수 있다.
검출 시스템은 다음 중 하나 이상을 추가로 포함할 수 있다: 적어도 하나의 프로세서; 및/또는 하나 이상의 프로세서가 센서(예: 카메라 또는 음향 수신기 등)로부터 정보를 획득하고 네일 또는 손가락 또는 발가락 특성(예: 경계, 형상, 법선 맵, 높이 맵, 두께, 색상, 알베도, 음향 반사율, 표면 질감 등)을 계산하도록 함으로써 네일 또는 손가락 또는 발가락 추정 프로토콜을 실행하기 위한 명령어를 저장하는 컴퓨터 판독 가능 메모리.
네일 또는 손가락 또는 발가락 추정 프로토콜은 다음 중 적어도 하나를 포함할 수 있다: 하나 이상의 이미징 주파수를 사용하여 사용자의 하나 이상의 네일 또는 손가락의 이미지를 획득하는 단계; 사용자의 하나 이상의 네일, 손가락 또는 발가락의 여러 이미지를 다양한 각도에서 획득하는 단계; 다양한 각도로부터 조명된 사용자의 손가락의 하나 이상의 네일 또는 발톱의 다수의 이미지를 획득하는 단계; 구조화된 광의 존재하에 사용자의 하나 이상의 네일, 손가락 또는 발가락의 이미지를 획득하는 단계; 및/또는 다양한 이미징(초점, 피사계 심도, 조리개, f-스톱, 노출 길이 등)을 사용하여 사용자의 하나 이상의 네일 또는 손가락 또는 발가락의 이미지를 획득하는 단계.
네일 또는 손가락 또는 발가락의 추정 프로토콜은 다음 중 적어도 하나를 포함할 수 있다: 하나 이상의 음향 주파수를 사용하여 사용자의 하나 이상의 네일 또는 손가락에 의해 생성되거나, 이로부터 반사되거나 이에 의해 굴절되는 음향 정보를 획득하는 단계; 및/또는 상이한 각도 및/또는 범위로부터 사용자의 하나 이상의 네일 또는 손가락 또는 발가락에 의해 생성되거나, 이로부터 반사되거나 이에 의해 굴절되는 음향 정보를 획득하는 단계.
추정 프로토콜은 손가락 또는 손톱 경계, 범위, 형상 및/또는 위치를 추정하기 위해 포토메트릭 스테레오 기술을 사용하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
추정 프로토콜은 손가락 또는 손톱 경계, 범위, 형상 및/또는 위치를 추정하기 위해 기하학적 스테레오 기술을 사용하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
추정 프로토콜은 복수의 이미지로부터 하나 이상의 네일의 3차원적 표현을 생성하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
추정 프로토콜은 에지 검출을 추가로 포함할 수 있다.
추정 프로토콜은 피부, 큐티클, 네일 주름 및/또는 네일 중 하나 이상을 구별하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
추정 프로토콜은 사용자의 하나 이상의 네일 또는 손가락 또는 발가락에 관한 3차원 정보를 추론하기 위해 이미지 내의 구조화된 광의 원래 투영 패턴에 대한 지식을 이용하여 하나 이상의 이미지에서 패턴이 어떻게 변경되거나 왜곡되지를 결정하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
이동성 메커니즘은 로봇 암을 포함할 수 있다.
이동성 메커니즘은 병렬 로봇(예: 델타 로봇, 스튜어트 플랫폼 등)을 포함할 수 있다.
이동성 메커니즘은 갠트리를 포함할 수 있다.
이동성 메커니즘은 복수의 이동성 메커니즘(예: 이동성 메커니즘의 임의의 조합)을 포함할 수 있다.
디바이스 선택 메커니즘은 선택된 디바이스로부터 장치로의 기계적 및 전기적 접속 또는 둘 모두의 방법을 포함할 수 있다.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 그들이 사용되지 않을 때 디바이스를 유지하기 위해 사용되는 인클로저 내의 하나 이상의 위치를 추가로 포함할 수 있다(예: "툴쉐드").
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 그들이 사용되지 않을 때 디바이스를 유지하는데 사용되는 카트리지 내의 하나 이상의 위치를 추가로 포함할 수 있다.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 사용자가 손 또는 발을 삽입하는 것이 적절할 때 장치의 작동 영역을 조명하기 위해 네일 또는 손가락 또는 발가락의 검출에 사용되는 방출기의 사용을 추가로 포함될 수 있다.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 사용자에게 상태 및/또는 피드백을 제공하기 위해 네일 또는 손가락 또는 발가락 검출에 사용되는 방출기의 사용을 추가로 포함할 수 있다(예: 매니큐어의 어느 동작이 현재 수행되는지 나타낸다).
에나멜 제거 시스템은 다음 중 하나 이상을 포함할 수 있다: 에나멜 제거제를 보유하기 위한 하나 이상의 저장소; 및/또는 에나멜 제거제를 흡수하기 위한 하나 이상의 어플리케이터; 및/또는 에나멜 제거제를 어플리케이터에 전달하기 위한 하나 이상의 유체 전달 시스템; 및/또는 어플리케이터를 네일 또는 손가락 또는 발가락과 접촉시키기 위한 하나 이상의 메커니즘.
저장소는 어플리케이터에 인접할 수 있지만, 유체 분리기(예: 막, 필름, 호일 등)에 의해 분리될 수 있어서, 유체 분리기가 천공될 때, 에나멜 제거제가 어플리케이터에 흡수될 수 있다.
유체 전달 장치는 펌프일 수 있다.
유체 전달 장치는 에나멜 제거제의 개방 저장소일 수 있고, 여기서 어플리케이터는 에나멜 제거제를 흡수하기 위해 침지된다.
어플리케이터 중 적어도 하나는 에나멜 제거제로 사전 침지될 수 있고, 아마도 저장소 및 유체 전달 시스템을 제거하거나 실질적으로 단순화할 수 있다.
어플리케이터는 다음 중 하나 이상을 달성하기 위해 선택된 하나 이상의 물질을 포함할 수 있다: 제거제(들)의 효과에 면역성이도록; 에나멜을 가장 효과적으로 제거하기 위해(예를 들어, 표면 질감, 이용 가능한 표면적 등을 통해); 유지되는 제거제의 양을 최대화하기 위해; 제거된 에나멜을 세정 표면으로부터 멀리 수분 흡수하도록; 제거된 에나멜의 재증착을 최소화하기 위해; 및/또는 매니큐어 공정의 다른 부분에서, 예를 들어, 네일 성형 또는 큐티클 관리로부터 발생하는 파편의 네일 또는 손가락 또는 발가락 세정에서 효과적이도록.
하나 이상의 어플리케이터는 다른 것과 다른 구성 또는 조성을 가질 수 있다(예: 하나의 브러시 어플리케이터 및 하나의 스폰지 어플리케이터).
하나 이상의 어플리케이터는 상이한 구성 또는 조성을 갖는 영역을 추가로 포함할 수 있다(예를 들어, 하나 이상의 패드를 하나 이상의 브러시와 결합한다).
하나 이상의 어플리케이터는 순응성일 수 있거나 순응성 영역을 포함할 수 있다.
어플리케이터는 다른 물체, 예를 들어, 네일 또는 손가락 또는 발가락과 접촉하면 수동적으로 변형될 수 있다.
어플리케이터는 구성을 변경하기 위해 능동적으로 제어될 수 있다.
어플리케이터는 패드, 스폰지, 천 등을 포함할 수 있다.
하나 이상의 어플리케이터는 네일의 주름 또는 네일 또는 손가락 또는 발가락의 다른 영역에 더욱 밀접하게 일치하는 하나 이상의 돌출부를 갖도록 형상화될 수 있다.
하나 이상의 어플리케이터는 네일 또는 손가락 또는 발가락과 접촉하는 아치형 또는 곡선 측면으로 형상화될 수 있다.
어플리케이터는 네일 또는 손가락 또는 발가락과의 친밀한 접촉을 보다 효과적으로 생성하기 위해 더 크거나 더 작은 강성 또는 밀도의 영역을 가질 수 있다.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 에나멜을 제거하는 능력을 향상시키는 구성으로 어플리케이터를 지지하는 강성, 반강성 또는 순응성 프레임을 추가로 포함할 수 있다.
하나 이상의 어플리케이터는 브러시, 강모(bristle), 가요성 갈래 또는 다른 부재, 및/또는 가요성 루프(예: 테리 천)를 포함할 수 있다.
강모 중 일부는 길이, 형상, 곡률, 두께, 조성, 배향 등이 다를 수 있다.
하나 이상의 어플리케이터는 천 또는 천과 유사한 재료(예: 직조 재료, 부직포 재료, 펠트, 마이크로섬유 등)를 포함할 수 있다.
어플리케이터는 에나멜을 제거하는 능력을 향상시키는 구성으로 직물을 지지하는 강성, 반강성 또는 순응성 프레임을 추가로 포함할 수 있다.
천 또는 천과 유사한 재료는 사용되지 않는 제거 영역을 지속적으로 제시하기 위해 사용된 대로 진행할 수 있다.
천 또는 천과 유사한 재료는 진행됨에 따라 조성 또는 구성이 다를 수 있다.
하나 이상의 어플리케이터는 다소 강성 부재(예: 목재 장부촉)를 둘러싸는 순응성 재료(예: 면)를 포함하는 면봉 등을 포함할 수 있다.
최소한의 사용자 입력 또는 제어(예: 소프트웨어 제어하)로 하나 이상의 네일 또는 손가락 또는 발가락으로부터 광택을 자동으로 제거하는 방법이 제공된다.
상기 방법은 다음 단계들 중 하나 이상을 추가로 포함할 수 있다: 침지 시간, 여기서 제거 장치는 네일 또는 손가락 또는 발가락과 다소 고정된 접촉으로 유지되고; 하나 이상의 스트로크, 여기서 제거 장치는 실질적으로 네일 또는 손가락 또는 발가락과 접촉하고; 및/또는 압력의 적용, 여기서 제거 디바이스는 제거 디바이스가 에나멜과 더 많이 접촉하도록 특정 압력으로 네일 또는 손가락 또는 발가락 위로 눌려진다.
하나 이상의 스트로크는 네일 또는 손가락 또는 발가락에 대해 대략 종방향일 수 있다.
하나 이상의 스트로크는 네일 또는 손가락 또는 발가락을 가로질러 대략 횡방향일 수 있다.
하나 이상의 스트로크는 이들 사이의 각도일 수 있다.
하나 이상의 스트로크는 추가로 또는 대신에 손 및 손가락 또는 발 및 발가락의 평면에 대해 상향 또는 하향으로 각질 수 있다.
하나 이상의 스트로크는 네일 또는 손가락 또는 발가락의 특정 영역에서 제거를 개선하도록 설계된 임의의 특징(예: 네일 주름으로부터 에나멜을 보다 효과적으로 제거하기 위한 돌출부)을 이용하도록 배향된 제거 디바이스로 수행될 수 있다.
상기 방법은 임의의 나머지 에나멜의 양 또는 위치를 추정하기 위한 추가 처리와 함께 검출 시스템의 사용을 포함할 수 있다.
상기 방법은 제거 시스템의 작동을 지시하기 위해 아마도 추가 처리와 조합하여 검출 시스템의 사용을 포함할 수 있다.
상기 방법은 사용자의 네일 또는 손가락 또는 발가락이 장치로부터 이동되었는지 또는 제거되었는지를 결정하기 위한 추가 처리와 함께 검출 시스템의 사용을 포함할 수 있다.
네일 성형 메커니즘은 다음 중 적어도 하나를 포함할 수 있다: 사용자의 하나 이상의 네일을 성형하기 위한 하나 이상의 클리퍼 또는 가위; 사용자의 하나 이상의 네일을 성형하기 위해 저항성 화학 층에 이어 부식제를 적용하기 위한 하나 이상의 메커니즘; 사용자의 하나 이상의 네일의 일부를 모래로 닦거나 버프로 제거하는 하나 이상의 연마 디바이스 및/또는 사용자의 하나 이상의 네일을 성형하기 위한 하나 이상의 레이저.
네일 성형 장치는 연마 재료(예: 디스크, 패드, 다각형 등)로 구성된 실질적으로 2차원 표면을 포함할 수 있으며, 여기서 하나의 표면은 주로 또는 완전히 사용자의 하나 이상의 네일을 성형하는 데 사용된다.
네일 성형 장치는 사용자의 하나 이상의 네일을 성형하기 위한 복수의 표면을 제공하는 연마 재료의 실질적으로 3차원 물체(예: 디스크, 드럼, 큐브, 원뿔, 모래 시계 형상 등)을 포함할 수 있다.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 하나 이상의 순응성 요소 또는 영역을 포함할 수 있다. 순응성은 연마 표면과 사용자의 하나 이상의 네일 사이에 더 큰 접촉을 허용하는 역할을 할 수 있고, 또한 사용자의 하나 이상의 네일에 대해 연마 표면을 이동시키는 데 필요한 토크를 제한하는 역할을 할 수 있다.
성형 요소는 하나 이상의 연마 영역을 추가로 포함할 수 있으며, 이는 상이한 특성(예: 거칠음, 경도, 연마 입자의 형상, 연마 입자의 예리함 또는 평활도 등)의 그릿을 특징으로 할 수 있다.
연마 장치의 특성은 다음과 같은 목적 중 하나 이상과 균형을 이루도록 선택될 수 있다: 제거 속도; 형상화된 네일 에지의 평활도; 사용자의 편안함; 및/또는 네일 손상 회피.
사용자의 하나 이상의 네일을 로봇으로 성형하는 방법은 다음 동작 중 하나 이상을 포함할 수 있다: 성형되는 네일의 초기 형상을 결정하는 단계; 네일의 목적하는 최종 형상을 결정하는 단계; 목적하는 최종 형상이 실현 가능한지(예: 목적하는 최종 형상이 초기 형상 외부에 놓여 있는 영역을 함유하지 않는지)를 확인하는 단계; 네일의 형상을 초기 형상으로부터 목적하는 최종 형상으로 변경하기 위한 하나 이상의 성형 장치의 경로를 계산하는 단계; 네일을 성형하기 시작하기 위해 사용자로부터 승인을 받는 단계; 하나 이상의 성형 장치를 성형될 네일과 작동적으로 접촉시키는 단계; 중간 성형 결과를 결정하고 그들을 목적하는 구성과 비교하는 단계; 및/또는 네일이 목적하는 형상을 달성할 때까지 필요한 이러한 단계를 계속 수행하는 단계.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 성형을 수행하기 위해 다음의 동작 중 하나 이상의 사용을 포함할 수 있다; 네일과 실질적으로 접촉하지 않는 복귀 스트로크와 함께 실질적으로 한 방향으로 스트로크; 가능하게는 네일과 접촉하지 않는 일부 스트로크와 함께 한 방향 이상으로 스트로크; 회전 운동; 및/또는 진동하는 회전 운동.
성형 도구의 다중 패스가 사용될 수 있으며, 모든 패스의 결합 효과는 목적하는 최종 형상을 생성하도록 작용한다.
성형 요소는 성형 방법의 다양한 지점에서 네일 또는 손가락 또는 발가락에 대해 다음 배향 중 적어도 하나로 유지될 수 있다: 네일에 수직; 네일 위 성형 요소의 상부 에지와 따라 또는 네일에서 더 멀리(즉, 손가락 또는 발가락 "쪽으로" 또는 "멀리") 네일에 수직에서 멀어지는 각도로; 손가락 또는 발가락의 방향에 수직; 손가락 또는 발가락에 대해 측면으로 각짐(즉, "옆으로" 각진); 및/또는 상기 배향의 임의의 조합.
큐티클 관리 메커니즘은 다음 중 적어도 하나를 포함할 수 있다: 클리퍼 또는 가위; 저항성 화학 층에 이어 부식제를 적용하여 큐티클 조직 또는 이의 일부를 제거하는 메커니즘; 샌딩 또는 버핑 장치; 및/또는 큐티클 또는 이의 일부를 절제하기 위한 레이저.
샌딩 또는 버핑 장치는 추가로 다음 중 하나 이상을 포함할 수 있다: 연마 재료를 포함하는 실질적으로 2차원 표면(예: 디스크, 패드, 다각형 등), 여기서 재료의 한 표면은 주로 또는 완전히 네일을 성형하는 데 사용되고; 및/또는 연마 재료를 포함하는 실질적으로 3차원 물체(예: 디스크, 드럼, 큐브, 원뿔, 모래 시계 형상 등), 여기서 복수의 표면은 큐티클 또는 이의 일부를 제거하는 데 사용될 수 있다.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 샌딩 또는 버핑 장치의 표면(들)에 순응성을 제공하는 하나 이상의 요소 또는 영역을 추가로 포함할 수 있다.
샌딩 또는 버핑 장치는 하나 이상의 연마 영역을 추가로 포함할 수 있으며, 이는 상이한 특성(예: 거칠음, 경도, 연마 입자의 형상, 연마 입자의 날카로움 또는 평활함 등)의 그릿을 특징으로 할 수 있다.
연마 재료의 특성은 다음 목적 중 하나 이상과 균형을 이루도록 선택된다: 샌딩 또는 버핑 장치의 작동에는 큐티클의 위치, 형상 또는 경계에 대한 지식이 필요하지 않고(즉, "개방 루프" 큐티클 제거); 큐티클 제거 속도; 큐티클 제거의 완전성; 사용자의 편안함; 및/또는 네일 손상 회피.
사용자의 하나 이상의 네일로부터 큐티클 또는 이의 일부를 로봇으로 제거하는 방법은 다음 동작 중 하나 이상을 사용할 수 있다: 관리되는 큐티클의 정도와 형상을 결정하는 단계; 큐티클 또는 이의 일부를 네일로부터 제거하기 위한 큐티클 관리 장치의 경로를 계산하는 단계; 큐티클 관리를 시작하기 위해 사용자로부터 승인을 받는 단계; 하나 이상의 큐티클 관리 디바이스를 제거될 큐티클과 작동적으로 접촉시키는 단계; 큐티클을 제거하기 위해 네일 또는 손가락 또는 발가락에 대해 하나 이상의 동작을 수행하는 단계; 필요에 따라 큐티클 제거 및 반복 또는 확장 동작의 유효성을 결정하는 단계; 및/또는 큐티클이 충분히 제거될 때까지 필요한 이러한 단계를 계속 수행하는 단계.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 큐티클 관리를 수행하기 위한 다음의 동작 중 하나 이상의 사용을 포함할 수 있다: 네일 및/또는 큐티클과 작동적으로 접촉하는 큐티클 관리 디바이스와 경로에 따른 스트로크; 회전 운동; 및/또는 진동 회전 운동.
큐티클 관리 도구의 여러 패스가 사용될 수 있으며, 이의 결합 효과는 큐티클을 충분히 제거하는 역할을 한다.
큐티클 관리 요소는 성형 공정의 다양한 지점에서 네일 또는 손가락 또는 발가락에 대해 다음 배향 중 적어도 하나로 유지될 수 있다: 네일에 수직; 및/또는 평행으로부터 수직으로의 방위각과 고도의 임의의 조합으로 네일 표면에 대한 각도로.
성형 또는 큐티클 관리(예: "클린업")에 이어서, 사용자의 하나 이상의 네일로부터 파편 및/또는 잔류물을 제거하는 방법이 제공될 수 있다.
성형 또는 큐티클 관리(예: "클린업")에 이어, 사용자의 하나 이상의 네일로부터 파편 및/또는 잔류물을 제거하는 방법은 클린업을 수행하기 위한 장치의 사용을 포함할 수 있다.
상기 방법은, 예를 들어, 에나멜 제거 동작 동안 이전에 사용된 제거 어플리케이터의 사용을 추가로 포함할 수 있다.
에나멜 도포 메커니즘은 다음을 포함할 수 있다: 에나멜을 저장하기 위한 적어도 하나의 저장소; 및/또는 에나멜을 분배하기 위한 적어도 하나의 분배 메커니즘; 및/또는 에나멜을 사용자의 하나 이상의 네일에 도포하기 위한 적어도 하나의 어플리케이터.
저장소는, 존재하는 경우, 잔류하는 에나멜의 용적을 나타내는 센서를 추가로 포함할 수 있다.
장치는 일회용 카트리지 등의 일부일 수 있다.
막힘, 동봉된 에나멜의 건조 또는 기타 고장 모드가 있는 모든 구성 요소가 일회용 카트리지에 포함될 수 있어서 임의이 고장은 카트리지를 교체함으로써 수정될 수 있다.
에나멜 분배 메커니즘은 다음 중 적어도 하나를 포함할 수 있다: 하나 이상의 펌프; 압축시 광택을 압출하는 하나 이상의 접을 수 있는 가요성 용기(예: 블래더); 및/또는 이동 가능한 슬라이더가 배치된 하나 이상의 동봉된 용적, 유체 또는 가스가 용적으로부터 배출되거나 그 안으로 흡입되도록 하는 슬라이더의 움직임(예: 주사기).
에나멜 분배 메커니즘은 동봉된 용적이 이동되어 유체 또는 기체가 배출되도록 하는 고정된 슬라이더를 포함할 수 있고, 이는 주사기, 바이알 또는 저장소를 채우고, 임의의 포획된 공기를 제거하고/하거나 피하기 위한 이점을 달성한다.
에나멜 어플리케이터는 다음 중 적어도 하나를 포함할 수 있다: 하나 이상의 노즐; 하나 이상의 브러시; 에나멜을 보유하고 분배하도록 의도된 흡수성 물질의 하나 이상의 용적(예: 패드, 면봉, 스폰지 등); 및/또는 액적을 의도된 목적지로 안내하는 메커니즘에 따라 에나멜의 액적을 분산시키기 위한 하나 이상의 메커니즘.
펌프는 제어된 용적의 유체 또는 가스를 분배 또는 흡입하는 포지티브 변위 설계; 및/또는 펌프를 통한 유체의 이동 속도를 나타내는 센서; 및/또는 펌프의 속도를 나타내는 센서(펌프를 통한 유체의 이동 속도를 추론하는 데 사용될 수 있음)를 추가로 포함할 수 있다..
주사기는 플런저의 위치를 나타내는 센서; 및/또는, 존재하는 경우, 저장소에 보유된 유체의 양을 나타내는 센서를 추가로 포함할 수 있다.
노즐은 노즐의 팁이 네일 또는 임의의 이전에 적용된 에나멜에 대한 최소한의 압력으로 네일과의 유체 접촉을 유지하기 위해 자유롭게 움직이도록 가요성 요소를 갖는 튜브를 추가로 포함할 수 있다.
노즐의 팁은 네일에 매끄러운 표면을 제공하도록 제작될 수 있다. 노즐의 팁은 나팔 모양이 될 수 있고 자체로 다시 구부러져 네일에 부드러운 곡면을 제공할 수 있다.
노즐의 팁은 네일에 매끄러운 표면을 제공하도록 구성된 노즐 오리피스를 둘러싸는 순응성 둥근 표면을 가질 수 있다. 순응성 둥근 표면은 이후에 도포되는 코팅에 의해 이전에 도포된 에나멜 코트의 교란을 최소화하도록 구성될 수 있다.
노즐은 기밀 밀봉을 제공하여 매니큐어가 일시 중지된 경우에 에나멜이 건조되는 것을 방지하는 준비된 영역 위 또는 영역 안에 배치될 수 있다.
노즐은 네일 또는 손가락 또는 발가락에 대해 다양한 각도로 배치될 수 있다(예: 네일에 수직, 네일에 대해 내측 또는 외측 각도로).
사용자의 하나 이상의 네일 또는 이의 일부에 매니큐어를 로봇으로 도포하는 방법은 다음 동작 중 하나 이상을 포함할 수 있다: 재료(예: 유체 또는 분말)를 분배하는 동안 컴퓨터 제어하에 하나 이상의 어플리케이터를 네일 표면 또는 위로 이동시키는 단계; 하나 이상의 저장소에서 하나 이상의 분배기를 통해 하나 이상의 어플리케이터로의 재료(예: 매니큐어 리무버, 매니큐어 베이스코트, 메니큐어 탑코트 및/또는 매니큐어 컬러 코트)의 유동을 제어하는 단계; 및/또는 비전 시스템을 사용하여 매니큐어의 적합한 적용 범위를 측정하고 확인하는 단계.
분배기는 다음 중 하나 이상을 최적화하기 위해 어플리케이터의 움직임과 함께 제어될 수 있다: 도포 속도; 도포의 균일성; 이전 코트를 손상시키지 않고 동일한 재료이든 다른 재료이든, 후속 코트를 도포하는 능력; 및/또는, 예를 들어, 사용자의 피부에 재료의 도포를 방지하거나, 네일 플레이트의 원위 말단에 방울방울 떨어지는 것을 방지하는 도포의 정밀도.
어플리케이터는 사용자의 하나 이상의 네일 표면 바로 위로, 그러나 그들과 접촉하지 않게 이동할 수 있어서 분배된 유체(예: 에나멜)만이 네일과 유체 접촉하도록 한다.
애플리케이터는 네일 표면과 접촉하여 이동할 수 있다.
어플리케이터는 에플리케이터와 네일 사이의 접촉력을 최소화하기 위해 네일에 대한 특정 각도 또는 각도의 범위로(예: 손가락 또는 발가락에 수직 또는 원위 45도에, 또는 손가락 또는 발가락에 원위 30도에) 유지될 수 있다.
제1 코트에 이어지는 코트는 제2 코트에 의한 제1 코트의 손상을 방지하기 위해 제1 코트가 충분히 건조되었음을 보장하기 위해 선택된 시간만큼 지연될 수 있다.
어플리케이터의 경로는 다음 요인 중 하나 이상의 균형을 이루도록 하기 위해 계획될 수 있다: 도포 속도; 도포의 균일성; 이전에 도포된 코트의 손상 없이 제2 및 후속 코트에 대한 능력; 및/또는 도포의 정밀도(예: 네일 주름, 네일의 원위 말단에 방울방울 떨어지는 것을 피하는 등).
로봇 매니큐어 또는 이의 일부 동안 로봇 도포에 최적화된 특성을 갖는 매니큐어가 제공될 수 있다. 이 맥락에서 매니큐어라는 문구는 매니큐어 내에 사용되는 다른 유사한 재료, 예를 들어, 베이스 코트 및/또는 탑 코트 재료에 동일하게 잘 적용된다. 재료는 다음 중 하나 또는 모두를 최적화하도록 설계될 수 있다: 도포 속도; 도포의 균일성; 도포의 정확성; 및/또는 이전 도포의 결과를 손상시키거나 저하시키지 않고, 이전 코트 후에 가능한 한 빨리 후속 코트를 분배하는 능력.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 적어도 하나의 에나멜 및 에나멜 제거제를 수용하기 위한 적어도 하나의 일회용 카트리지를 추가로 포함할 수 있다.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 매니큐어 장치에 의해 판독될 수 있는 식별 정보를 추가로 포함할 수 있다.
매니큐어의 하나 이상의 동작을 자동으로(예: 소프트웨어 제어하에) 제공하는 방법은 다음의 조작 중 하나, 일부 또는 전부를 포함할 수 있다: 사용자에 의한 개시; 네일 또는 손가락 또는 발가락 범위의 초기 식별; 네일 또는 손가락 또는 발가락에 존재하는 임의의 광택 제거; 특정 네일 또는 손가락 또는 발가락의 경계, 형상 및/또는 위치의 식별; 하나 이상의 네일 또는 이의 일부의 성형; 큐티클의 하나 이상의 영역의 관리; 성형 또는 큐티클 관리에 의해 남은 임의의 파편 제거; 매니큐어의 도포; 및/또는 매니큐어의 건조 가속 등.
사용자는 매니큐어 동안 언제든지 동작을 중지하거나 일시 중지할 수 있다.
장치는 사용자의 손이 장치로부터 제거되는 경우, 매니큐어 공정을 자동으로 중지하도록 구성될 수 있다.
장치는 사용자의 손 또는 이의 일부가 움직이는 경우, 매니큐어 공정을 자동으로 조정하도록 구성될 수 있다.
소모성 카트리지 등에 대한 기계 판독 가능 정보는 다음과 같은 작동 매개변수의 최적화를 제공할 수 있다: 베이스코트 및/또는 탑코트의 필수, 임의적 또는 금지된 도포; 베이스코트, 컬러 코트 및/또는 탑코트의 코트 수; 베이스코트, 컬러 코트 및/또는 탑코트의 최적 도포 속도; 베이스코트, 컬러 코트 및/또는 탑코트의 최적 유체 분배 속도; 도포 매개변수(예: 특정 도포 경로, 유속, 도포 속도 등)의 조정은 특정 유체 매개변수(예: 속도, 요변성, 안료 농도 등)에 응답하여 수행될 수 있고; 코트 사이에 필요한 건조 시간; 제품이 허용 가능한 사용 수명이 지난 경우 사용자에게 경고하였음을 보장하는 날짜 코딩; 및/또는 아마도 기계를 손상시키거나 사용자에게 해를 끼칠 수 있는 부적합 제품의 예방.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 머신 비전 구성 요소(MVC) 및/또는 머신 비전 처리를 포함할 수 있다.
모든 처리는 하나의 프로세서 또는 임의의 적합한 조합의 복수의 프로세서로 수행될 수 있다. 일부 구현예에서, 개별 전용 프로세서가 특정 작업을 위해 제공될 수 있다.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 하나 이상의 디지털 카메라, 카메라를 제어하기 위한 제1 프로세서, 및 카메라의 이미지로부터 정보를 추출하기 위한 제2 프로세서를 포함할 수 있다. 카메라는 제1 프로세서에 의해 제어되는 조명 및 기타 이미징 조건하에서 때때로 이미지와 메타데이터를 제2 프로세서로 전송한다. 제2 프로세서는 다른 시스템 구성 요소에 전달하기 위해 손가락, 발가락 및 네일과 같은 관심 물체의 3차원 위치 및 배향과 같은 이미지 정보를 추출한다. 위치 및 배향은 이미지의 다른 물체에 상대적이거나 "절대적"일 수 있고, 그들은 MVC의 고정 부분과 같은 이미지 독립적 물체에 상대적이라는 것을 의미한다. 제2 프로세서는 또한 피드백 메커니즘에서 제1 프로세서로 전달하기 위해 달성된 카메라 위치(들) 및 조명 조건과 같은 다른 정보를 추출할 수 있다.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 단일 카메라를 포함할 수 있다.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 이동 가능한 카메라를 포함할 수 있고, 그의 움직임은 제1 프로세서에 의해 제어된다.
단일 카메라는 제1 프로세서에 위치 판독치를 제공하는 로봇 암에 장착될 수 있다.
절대 물체 위치는 동적 입체 영상 기술을 사용하여 다수의 이미지로부터 추론될 수 있다.
고정 카메라와 거울을 배치하여 물체의 직접 및 반사된 이미지를 모두 관찰할 수 있다.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 복수의 카메라를 포함할 수 있다.
절대 물체 위치는 기하학적 입체 영상 기술을 사용하여 다수의 카메라로부터촬영된 이미지로부터 추론될 수 있다.
조명은 다수의 제어 가능한 광원을 포함할 수 있다.
복수의 광원은 각각 제1 프로세서에 의해 독립적으로 제어될 수 있다.
여러 개의 광원이 고정된 순서로 조명될 수 있다.
각각의 광원은 실질적으로 단일 방향으로부터의 조명을 제공할 수 있다(예: "점 광원").
각각의 광원은 여러 개의 공지된 방향으로부터의 조명을 제공할 수 있다(예: "분산 광원").
각각의 이미지는 공지된 방향으로부터의 광원에 의해 조명된 물체를 캡처할 수 있다.
각각의 이미지는 이러한 광원에 의해서만 조명된 물체를 캡처할 수 있다.
각각의 이미지는 환경적 광원(예: "배경") 및 공지된 방향으로부터의 광원 에 의해 조명된 물체를 캡처할 수 있다.
제1 프로세서는 카메라 또는 카메라들이 모든 조명 광원이 차단된 물체의 이미지(예: "어두운 이미지")를 제공하도록 할 수 있고, 이를 위해 다른 모든 이미지는 어두운 이미지를 뺀다.
상대적 물체 위치 및/또는 배향은 광도계 입체 영상(PMS)의 기술에 의해 이미지의 세트 및 그들의 공지된 조명 방향으로부터 계산될 수 있으며, 로컬 표면의 법선 벡터의 (x, y, z ) 구성 요소를 포함하는 "이미지" 및 구배가 동일한 법선 벡터로부터 계산된 함수인 로컬 높이의 "이미지"를 생성한다.
절대 물체 위치는 많은 이미지에서 확실히 검출 가능하고, 공지된 위치를 갖고, PMS가 관심 있는 모든 다른 물체에 대한 위치를 제공하는 MVC에 특정 물체(예: "기준" 또는 "교정" 물체)를 포함시킴으로써 추론될 수 있다.
소정의 카메라의 모든 이미지를 전처리하여 카메라 특이적 인공물, 예를 들어, "핫" 픽셀 및 "죽은" 또는 저감도 픽셀 및 조명 특이적 인공물, 예를 들어, 다른 것들에서 보다 일부 이미지 영역에서 보다 낮은 조명 또는 콘트라스트를 제거할 수 있다.
전처리는 메디안 필터링을 포함할 수 있다.
전처리는 임의의 측정된(예: "원시") 픽셀 값을 측정된 픽셀 값 및 픽셀 위치 모두에 따라 계산된 값으로 대체하는 것을 포함할 수 있다.
관심 있는 2차원 이미지 위치는 색상, 형광, 질감과 같은 국소적 특징을 검출함으로써 및/또는 그러한 국소적 특징의 국소적 변동을 검출함으로써 및/또는 형상 또는 다른 대규모 또는 전체 특징을 검출함으로써 결정될 수 있다.
특징은 이미지의 미리 정의된 픽셀 영역 내에서만 검출될 수 있다.
특징은 색상, 질감, 경계 곡률, 및/또는 구성 요소 크기와 같은 특징 값의 미리 정의된 범위 내에서만 검출될 수 있다.
물체의 특징 및/또는 물체의 이미지 위치는 오쓰(Otsu)의 기준과 같은 자동 임계치 기술 및/또는 검출된 특징에 적용되는 k-수단 클러스터링과 같은 자동 클러스터링 기술에 의해 검출될 수 있다.
물체의 동일성 또는 2차원 또는 3차원 위치는 일부 특징에 적용되는 일부 기술에 의해 잠정적으로 또는 대략적으로 검출될 수 있고, 이어서 근사 검출과 조합된 부가적인 특징에 적용되는 동일한 또는 다른 기술에 의해 정제될 수 있다.
물체의 대략적인 위치는 형태학적 작동 또는 순위 필터, 예를 들어, 침식 및 팽창(동등하게, 각각 최소 및 최대 필터)에 의해 정제될 수 있다.
물체의 잠정적인 검출은 최소 허용 가능한 영역, 구멍의 부재 또는 검출된 가장 큰 토폴로지 구성 요소만의 선택과 같은 미터법 또는 위상적 제약을 적용함으로써 강화 또는 확인될 수 있거나, 약화되거나 확인되지 않을 수 있다.
물체의 대략적인 위치는 적응성 윤곽선(예: "뱀")의 기술을 적용하여 정제될 수 있다.
물체의 2차원 위치는 물체의 위치 세트를 확장하는 것과 같이 약간 큰 크기의 영역 내에 함유될 수 있다.
더 큰 크기의 영역은 형태학적 확장에 의해 계산될 수 있다.
더 큰 크기의 영역은, 각 물체의 검출된 위치 세트의 철포(convex hull)로서 계산될 수 있다.
국소적 특징의 국소적 변동은 에지 검출 기술을 사용하여 계산될 수 있다.
에지 검출 기술은 계층적 에지 검출에 기초할 수 있다.
형광, 색상, PMS 표면 법선과 같은 여러 이미지로부터의 에지 검출은 단일 "에지 이미지"로 결합될 수 있다.
에지 이미지는 각 픽셀 위치에서 복수 이미지의 에지 검출의 제곱근의 평균의 제곱을 포함할 수 있다.
대략적인 2차원 물체 경계는 유역 처리 기술에 의해 결정될 수 있다.
유역 처리는 이미지 경계와 같은 하나 이상의 영역을 비물체로서, 미리 정의되거나 검출된 세트의 중심과 같은 하나 이상의 영역을 물체(들)로 자동으로 마킹한 후 발생할 수 있다.
유역 처리는 에지 이미지에 대해 수행될 수 있다.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 자동화 네일 케어를 위해 제공될 수 있다. 시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 다음 중 적어도 하나를 포함할 수 있다: 사용자의 하나 이상의 네일의 하나 이상의 이미지를 생성하기 위한 비전 시스템; 사용자의 하나 이상의 네일로부터 에나멜을 제거하는 에나멜 제거 시스템; 사용자의 하나 이상의 네일의 하나 이상의 큐티클을 관리하기 위한 큐티클 관리 시스템; 사용자의 하나 이상의 네일을 성형하는 네일 성형 시스템; 및/또는 사용자의 하나 이상의 네일에 에나멜을 도포하기 위한 에나멜 도포 시스템.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 요소, 메커니즘, 또는 로봇 플랫폼, 액츄에이터, 또는 비전 시스템, 에나멜 제거 시스템, 네일 성형 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 에나멜 도포 시스템 중 적어도 하나의 암 형성 부분을 추가로 포함할 수 있다.
비전 시스템은 이미지 획득을 위한 적어도 하나의 카메라를 포함할 수 있다.
비전 시스템은 추가로 다음을 포함할 수 있다: 적어도 하나의 프로세서; 및/또는 유발하기 위한 명령어를 저장하는 비일시적 컴퓨터 판독 가능 메모리; 및/또는 정의된 이미지 획득 프로토콜에 따라 하나 이상의 이미지를 획득하기 위한 적어도 하나의 프로세서.
정의된 이미지 획득 프로토콜은 다음 중 적어도 하나를 포함할 수 있다: 하나 이상의 이미징 주파수를 사용하여 사용자의 하나 이상의 네일을 이미징하는 단계; 다른 각도에서 손톱의 복수 이미지를 획득하는 단계; 구조화된 광의 존재하에 사용자의 하나 이상의 네일을 이미징하는 단계; 및/또는 포토메트릭 스테레오 기술을 사용하여 사용자의 하나 이상의 네일을 이미징하는 단계.
적어도 하나의 프로세서는 하나 이상의 이미지로부터 사용자의 하나 이상의 네일을 식별하기 위해 이미지 분석을 수행할 수 있다.
이미지 분석은 사용자의 하나 이상의 네일을 나타내는 포인트 클라우드를 생성할 수 있다.
이미지 분석은 복수의 이미지로부터 사용자의 하나 이상의 네일의 3차원 표현 또는 모델을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
이미지 분석은 에지 검출을 포함할 수 있다.
이미지 분석은 피부, 큐티클, 네일 주름 및/또는 네일 및/또는 네일의 영역 중 하나 이상을 구별할 수 있다.
이미지 분석은 사용자의 하나 이상의 네일, 피부, 네일 주름, 큐티클 및/또는 네일의 영역에 대한 3차원 정보를 추론하기 위해 하나 이상의 이미지에서 패턴이 어떻게 변형되거나 왜곡되는지를 결정하기 위한 이미지 내의 구조화된 광의 원래 투영 패턴의 분석을 포함할 수 있다.
비전 시스템은 구조화된 광을 제공하기 위한 광원을 추가로 포함할 수 있다.
광원은 프로젝터, 패턴화 시트 또는 마스크를 통해 광을 방출하고/하거나 광을 반사하는 하나 이상의 발광 다이오드, 또는 사용자의 하나 이상의 네일의 하나 이상의 표면을 교차하여 스위핑할 수 있는 레이저 또는 다른 집속 광원을 포함할 수 있다.
에나멜 제거 시스템은 다음 중 하나 이상을 포함할 수 있다: 에나멜 제거제를 흡수하는 어플리케이터; 및/또는 어플리케이터를 사용자의 하나 이상의 네일과 접촉시키기 위해 어플리케이터에 결합된 도구 부재.
에나멜 제거 시스템은 에나멜 제거제를 어플리케이터에 제공하는 유체 전달 장치를 추가로 포함할 수 있다.
네일 성형 시스템은 로봇적으로 배치된 네일 클리퍼, 사용자의 하나 이상의 네일을 에칭하기 위한 광화학적 에칭기, 절단 레이저, 워터젯 절단기, 및/또는 샌딩 장치 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
샌딩 장치는 수직 샌딩 드럼, 수평 샌딩 드럼, 또는 샌딩 패드 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
에나멜 도포 시스템은 다음 중 하나 이상을 포함할 수 있다: 에나멜 또는 다른 유사 유체, 예를 들어, 베이스코트, 탑코트, 건조제, 포토레지스트, 화학적 레지스트를 분배하기 위한 분배 시스템; 및/또는 사용자의 하나 이상의 네일에 유체를 도포하기 위한 어플리케이터.
분배 시스템은 펌프 및 유체 전달 시스템 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
어플리케이터는 확산 어플리케이터, 왕복 스프레더, 회전 스프레더, 수평 회전 스프레더, 수직 회전 스프레더, 브러시 및 노즐 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
시스템, 장치, 디바이스 및 방법은 에나멜 및 에나멜 제거제 중 적어도 하나를 수용하기 위한 적어도 하나의 일회용 카트리지를 추가로 포함할 수 있다.
자동화 네일 케어 방법은 다음 중 적어도 하나를 포함할 수 있다: 비전 시스템을 사용하여 사용자의 하나 이상의 네일의 하나 이상의 이미지를 생성하는 단계; 에나멜 제거 시스템을 사용하여 사용자의 하나 이상의 네일로부터 에나멜을 제거하는 단계; 네일 성형 시스템을 사용하여 사용자의 하나 이상의 네일을 성형하는 단계; 및/또는 에나멜 도포 시스템을 사용하여 에나멜을 사용자의 하나 이상의 네일에 도포하는 단계.
개시된 주제의 이들 및 다른 능력은 하기 도면, 상세한 설명 및 청구범위를 검토한 후에 더욱 완전하게 이해될 것이다.
이러한 특징 및 기타 특징은 다음과 같은 첨부된 도면과 함께 취해진 다음의 상세한 설명으로부터 더 쉽게 이해될 것이다:
도 1은 예시적인 구현예에 따른 네일 케어를 위한 제1 시스템의 개략도이다.
도 2는 예시적인 구현예에 따른 소모성 포드/카트리지 시스템 및 손 받침 시스템을 포함하는 네일 케어를 위한 제1 시스템의 제1 유형의 인클로저의 정면 투시도이다.
도 3은 예시적인 구현예에 따른 사용자 장치를 포함하는 네일 케어를 위한 제1 시스템의 제2 유형의 인클로저의 정면 투시도이다.
도 4는 예시적인 구현예에 따른 도 2의 제1 유형의 인클로저 또는 도 3의 제2 유형의 인클로저의 후면 투시도이다.
도 5는 예시적인 구현예에 따른 손 받침 시스템의 후면 투시도이다.
도 6a는 예시적인 구현예에 따른 도 2의 제1 유형의 인클로저 또는 도 3의 제2 유형의 인클로저의 정면도이다.
도 6b는 예시적인 구현예에 따른 도 2의 제1 유형의 인클로저 또는 도 3의 제2 유형의 인클로저의 우측 입면도이다.
도 6c는 예시적인 구현예에 따른 도 2의 제1 유형의 인클로저 또는 도 3의 제2 유형의 인클로저의 상부도 또는 평면도이다.
도 7a는 예시적인 구현예에 따른 네일 케어 시스템의 제1 프로토타입의 정면 단면도이다.
도 7b는 예시적인 구현예에 따른 네일 케어 시스템의 제1 프로토타입의 우측 단면도이다.
도 7c는 예시적인 구현예에 따른 네일 케어 시스템의 제1 프로토타입의 상부 또는 평면 단면도이다.
도 8은 예시적인 구현예에 따른 손 받침 시스템의 운동 범위에 중점을 둔 도 2의 제1 유형의 인클로저 또는 도 3의 제2 유형의 인클로저의 정면 투시도이다.
도 9는 예시적인 구현예에 따른 비전 시스템 및 손 받침 시스템의 정면/상부 또는 평면 투시도이다.
도 10은 예시적인 구현예에 따른 네일 케어를 위한 제1 컴퓨터 디바이스 또는 시스템의 흐름도이다.
도 11은 예시적인 구현예에 따른 이동성 메커니즘 시스템 및 손 받침 시스템의 정면/상부 또는 평면 투시도이다.
도 12는 예시적인 구현예에 따른 멀티-툴 시스템 및 이동성 메커니즘 시스템의 정면/상부 또는 평면 투시도이다.
도 13은 예시적인 구현예에 따른 멀티-툴 시스템 홀더를 위한 제1 홀더 및 제1 에나멜/광택 제거제 시스템의 투시도이다.
도 14는 예시적인 구현예에 따른 멀티-툴 시스템 홀더를 위한 제2 홀더 및 제2 에나멜/광택 제거제 시스템의 투시도이다.
도 15는 예시적인 구현예에 따른 도 13의 제1 에나멜/광택 제거제 시스템의 말단 투시도이다.
도 16은 예시적인 구현예에 따른 멀티-툴 시스템 홀더의 제1 홀더; 제2 에나멜/광택 제거제 시스템; 이동성 메커니즘 시스템의 말단; 및/또는 손 받침 시스템의 측면 투시도이다.
도 17은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거제 시스템을 이동시키기 위한 사용자의 손가락 끝 및 제1 방법의 다이어그램이다.
도 18은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거제 시스템을 이동시키기 위한 사용자의 손가락 끝 및 제2의 제1 방법의 다이아그램이다.
도 19는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거제 시스템을 이동시키기 위한 사용자의 손가락 끝 및 제3 방법의 다이아그램이다.
도 20은 사용자의 손가락 끝 및 사용자의 네일에 대한 에나멜/광택 제거제 시스템의 강모 배향의 측면도이다.
도 21은 예시적인 구현예에 따른 도 17의 제1 방법의 흐름도이다.
도 22는 예시적인 구현예에 따른 도 18의 제2 방법의 흐름도이다.
도 23은 예시적인 구현예에 따른 도 19의 제3 방법의 흐름도이다.
도 24는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거제 시스템의 제4 동작 방법의 흐름도이다.
도 25는 멀티-툴 시스템 홀더를 위한 제2 홀더; 제2 에나멜/광택 제거제 시스템; 이동성 메커니즘 시스템의 말단; 및/또는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거제 시스템의 운동 범위 및 사용자의 손의 손가락에 대한 에나멜/광택 제거제 시스템의 대략적인 배향에 중점을 둔 손 받침 시스템의 일부의 상부 투시도이다.
도 26은 멀티-툴 시스템 홀더를 위한 제2 홀더; 에나멜/광택 제거제 시스템; 이동성 메커니즘 시스템의 말단; 및/또는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거제 시스템과 사용자의 손의 왼쪽 엄지손가락의 왼쪽 엄지 손톱의 맞물림에 중점을 둔 손 받침 시스템의 말단 투시도이다.
도 27은 멀티-툴 시스템 홀더를 위한 제3 홀더; 제3 에나멜/광택 제거제 시스템; 및/또는 예시적인 구현예에 따른 제3 에나멜/광택 제거제 시스템의 강모의 각도에 중점을 둔 이동성 메커니즘 시스템의 말단의 측면 투시도이.
도 28은 멀티-툴 시스템 홀더의 제1 홀더; 제1 에나멜/광택 제거제 시스템; 예시적인 구현예에 따른 제1 에나멜/광택 제거제 시스템과 사용자의 손의 왼쪽 중지의 손톱의 맞물림에 중점을 둔 이동성 메커니즘 시스템의 말단의 측면 투시도이다.
도 29는 멀티-툴 시스템 홀더를 위한 제4 홀더; 제2 에나멜/광택 제거제 시스템; 예시적인 구현예에 따른 제3 에나멜/광택 제거제 시스템과 사용자의 손의 왼쪽 검지 손가락의 네일의 맞물림에 중점을 둔 이동성 메커니즘 시스템의 말단의 측면 투시도이다.
도 30은 멀티-툴 시스템 홀더를 위한 3조각 홀더; 3개의 에나멜/광택 제거제 시스템; 예시적인 구현예에 따른 3개의 에나멜/광택 제거제 시스템 중 제2 시스템과 사용자 손의 좌측 중지의 네일의 맞물림에 중점을 둔 이동성 메커니즘 시스템의 말단의 측면 투시도이다.
도 31은 멀티-툴 시스템 홀더의 제1 홀더; 제1 에나멜/광택 제거제 시스템; 및/또는 에나멜/광택 제거제 시스템용 제거제를 위한 저장소의 측면 단면도이다.
도 32는 예시적인 구현예에 따른 네일 성형 시스템과 사용자 손의 좌측 중지 네일의 맞물림에 중점을 둔 네일 성형 시스템의 상부 투시도이다.
도 33은 이동도 메커니즘 시스템의 말단; 및/또는 예시적인 구현예에 따른 네일 성형 시스템과 사용자 손의 좌측 중지 네일의 맞물림에 중점을 둔 네일 성형 시스템의 말단 투시도이다.
도 34a는 에나멜/광택 도포 시스템의 측면도 및 부분 단면도이다.
도 34b는 내부에 캡이 있는 에나멜/광택 도포 시스템의 변위 가능한 (전체) 바이알의 투시도이다.
도 34c는 변위 가능한 (전체) 바이알 및 캡을 갖는 에나멜/광택 도포 시스템의 측면도이다.
도 34d는 변위 가능한 (전체) 바이알 및 캡을 구비한 에나멜/광택 도포 시스템의 각진 측면도이다.
도 34e는 변위 가능한 (거의 빈) 바이알 및 캡을 갖는 에나멜/광택 도포 시스템의 부분적으로 각진 측면도이다.
도 35는 이동성 메커니즘 시스템의 말단; 및/또는 에나멜/광택 도포 시스템의 측면도이다.
도 36은 이동성 메커니즘 시스템의 말단; 및/또는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템과 사용자의 손의 왼쪽 중지의 네일의 맞물림에 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템의 측면 투시도이다.
도 37은 예시적인 구현예에 따른 네일 케어를 위한 제2 컴퓨터 디바이스 또는 시스템의 흐름도이다.
도 38a는 예시적인 구현예에 따른 네일 케어를 위한 제3 컴퓨터 디바이스 또는 시스템의 흐름도이다.
도 38b는 예시적인 구현예에 따른 머신 비전 방법의 흐름도이다.
도 39는 예시적인 구현예에 따른 제1 경로 계획 프로그램의 흐름도이다.
도 40은 예시적인 구현예에 따른 제2 경로 계획 프로그램의 흐름도이다.
도 41은 예시적인 구현예에 따른 제1 경로 계획 프로그램 또는 제2 경로 계획 프로그램에 의해 생성된 부스트로페돈 경로의 3차원 렌더링이다.
도 42는 예시적인 구현예에 따른 네일 형상 공식의 특징을 포함하는 손가락 끝 및 네일의 개략도이다.
도 43은 예시적인 구현예에 따른 네일 형상의 14개의 개략도를 포함한다.
도 44는 예시적인 구현예에 따른 네일 성형 경로 계획 프로그램의 흐름도이다.
도 45는 예시적인 구현예에 따른 네일 포인트 클라우드 방법을 이용한 사용자의 네일의 3차원 렌더링이다.
도 46은 예시적인 구현예에 따른 네일 포인트 클라우드 방법을 사용하는 사용자의 네일의 3차원 렌더링의 2차원 상부도이다.
도 47은 예시적인 구현예에 따른 경로 계획을 위한 표적 형상의 제3 라운드로 중첩된 네일 포인트 클라우드 방법을 사용하는 사용자의 네일의 3차원 렌더링의 2차원 상부도이다.
도 48은 예시적인 구현예에 따른 경로 계획을 위한 표적 형상의 제1 라운드, 제2 라운드 및 제3 라운드로 중첩된 네일 포인트 클라우드 방법을 사용하는 사용자의 네일의 3차원 렌더링의 2차원 상부도이다.
도 49a는 예시적인 구현예에 따른 이미지의 복수의 픽셀 각각에서 총 강도로 중첩된 사용자의 손가락 끝의 2차원 이미지이다.
도 49b는 사용자 U의 손가락 F의 팁에 상응하는 픽셀을 단리시키는데 사용되는 마스크의 묘사이다.
도 49c는 예시적인 구현예에 따른 이미지의 복수의 포인트 각각에서 법선 벡터로 중첩된 사용자의 손가락 끝의 2차원 이미지이다.
도 49d는 예시적인 구현예에 따른 이미지의 복수의 포인트 각각에서 구배 벡터로 중첩된 사용자의 손가락 끝의 2차원 이미지이다.
도 49e는 예시적인 구현예에 따른 사용자의 손가락 끝의 3차원 깊이 맵 이미지이다.
도 49f는 예시적인 구현예에 따른 사용자의 손가락 끝의 3차원 깊이 맵 이미지의 마스킹된 버전이다.
도 50은 예시적인 구현예에 따른 적어도 하나의 프로세서 및 적어도 하나의 프로세서에 의해 실행하기 위한 적어도 하나의 프로그램을 저장하는 메모리를 포함하는 컴퓨터 디바이스 또는 시스템의 개략도이다.
도 51a는 예시적인 구현예에 따른 가시광선 및 자외선으로 조명된 사용자의 손의 투시도이다.
도 51b는 예시적인 구현예에 따른 자외선으로만 조명된 사용자의 손의 투시도이다.
도 52는 예시적인 구현예에 따른 자외선으로 조사되고 노란색 필터로 필터링된 사용자의 손의 투시도이다.
도 53은 예시적인 구현예에 따른 사용자의 손가락 주위를 회전하는 비전 시스템의 캡처 장치의 개략도이다.
도 54a는 예시적인 구현예에 따른 손가락에 대해 우측에서 오른쪽에서 왼쪽으로 번역하는 비전 시스템의 이미지 캡처 장치의 제1 위치에 있는 바둑판 배경 상의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 54b는 예시적인 구현예에 따른 손가락에 대해 오른쪽에서 왼쪽으로 번역하는 비전 시스템의 이미지 캡처 장치의 제2 위치에 있는 바둑판 배경 상의 사용자의 손가락의 평면도 이미지의 일부이다.
도 54c는 제3 위치에 있는 부분이다.
도 54d는 제4 위치에 있는 부분이다.
도 54e는 제5 위치에 있는 부분이다.
도 54f는 제6 위치에 있는 부분이다.
도 54g는 제7 위치에 있는 부분이다.
도 54h는 제8 위치에 있는 부분이다.
도 54i는 제9 위치에 있는 부분이다.
도 54j는 제10 위치에 있는 부분이다.
도 54k는 예시적인 구현예에 따른 손가락에 대해 오른쪽으로부터 왼쪽으로 번역하는 비전 시스템의 이미지 캡처 장치의 제11 위치에 있는 바둑판 배경 상의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 55a는 예시적인 구현예에 따른 도 55d의 이미지에 대해 약 +45도 회전된 비전 시스템의 이미지 캡처 장치의 위치에 있는 사용자의 손가락의 투시도 이미지이다.
도 55b는 도 55d에 대해 약 +30도 회전된 위치이다.
도 55c는 도 55d에 대해 약 +15도 회전된 위치이다.
도 55d는 손가락 또는 손의 중심을 통해 대략 수평축과 대략 평행한 약 0도 위치이다.
도 55e는 도 55d에 대해 약 -15도 회전된 위치이다.
도 55f는 도 55d에 대해 약 -30도 회전된 위치이다.
도 55g는 도 55d에 대해 약 -45도 회전된 위치이다.
도 56a는 예시적인 구현예에 따른 시작 깊이 기준점에서 비전 시스템의 이미지 캡처 장치의 위치에서 바둑판 배경 상의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 56b는 시작 깊이 기준점보다 0.050in(0.127cm) 미만의 위치이다.
도 56c는 시작 깊이 기준점보다 0.100in(0.254cm) 미만의 위치이다.
도 56d는 시작 깊이 기준점보다 0.150in(0.381cm) 미만의 위치이다.
도 56e는 시작 깊이 기준점보다 0.200in(0.508cm) 미만의 위치이다.
도 56f는 시작 깊이 기준점보다 0.250in(0.635cm) 미만의 위치이다.
도 56g는 시작 깊이 기준점보다 0.300in(0.762cm) 미만의 위치이다.
도 56h는 시작 깊이 기준점보다 0.350in(0.889cm) 미만의 위치이다.
도 56i는 시작 깊이 기준점보다 0.400in(1.016cm) 미만의 위치이다.
도 57a는 예시적인 구현예에 따른 엄지를 통해 수직축 주위의 엄지의 직교 위치(즉, 0도, 도시되지 않음)에 대해 약 -30도 회전된 비전 시스템의 이미지 캡처 장치의 위치에 있는 사용자의 엄지의 평면도 이미지이다.
도 57b는 수직축에 대해 약 -15도 회전된 위치이다.
도 57c는 수직축에 대해 약 +15도 회전된 위치이다.
도 57d는 수직축에 대해 약 +30도 회전된 위치이다.
도 58은 예시적인 구현예에 따른 엄지의 운동 캡처로부터 생성된 사용자의 엄지의 포인트 클라우드 렌더링이다.
도 59는 예시적인 구현예에 따른 반사 배경에 대한 사용자의 손가락의 사시 이미지이다.
도 60은 예시적인 구현예에 따른 구조화된 광 기술의 개략도이다.
도 61은 예시적인 구현예에 따른 백색 발광 다이오드(LED)의 색 온도가 교대로 조명되는 동안 이미징된 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 62는 예시적인 구현예에 따른 백색 LED의 색 온도를 교대로 조명되는 동안 반사 배경에 대해 이미징된 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 63은 예시적인 구현예에 따른 줄무늬가 있는 백색 플라스틱 구성 요소로부터의 반사에 의해 조명되는 동안 이미징된 사용자의 손가락의 투시도 이미지이다.
도 64는 예시적인 구현예에 따른 천공된 금속 조각을 통해 빛나는 빛에 의해 조명되는 동안 이미징된 사용자의 손가락의 투시도 이미지이다.
도 65는 예시적인 구현예에 따른 천공된 금속 조각을 통해 빛나는 빛에 의해 조명되는 동안 이미징된 사용자의 손가락의 근접 투시도 이미지이다.
도 66a는 예시적인 구현예에 따른 제1 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 66b는 예시적인 구현예에 따른 제2 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 66c는 예시적인 구현예에 따른 제3 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 66d는 예시적인 구현예에 따른 제4 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 67a는 예시적인 구현예에 따른 제5 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 67b는 예시적인 구현예에 따른 제6 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 67c는 예시적인 구현예에 따른 제7 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 68a는 예시적인 구현예에 따른 제8 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 68b는 예시적인 구현예에 따른 제8 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락에 입사된 스캔 라인의 편향에 의한 대략적인 검출의 단일 프레임이다.
도 69는 예시적인 구현예에 따른 다양한 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락에 입사하는 스캔 라인에 의해 생성된 복수의 이미지에 대해 트레이스를 수행함으로써 네일 및 손가락의 측면 주름 사이의 트로프의 검출 결과를 포함한다.
도 70은 예시적인 구현예에 따른 사용자의 엄지 및 네일의 스캔 라인 데이터의 단일 프레임에 최적의 매칭을 형성하는 포물선 세트를 포함한다.
도 71은 예시적인 구현예에 따른 최적의 포물선으로 재해석된 모든 스캔 라인의 세트를 포함하는 사용자의 엄지 및 네일의 묘사이다.
도 72는 예시적인 구현예에 따른 엄지손가락의 평면도 이미지에 대해 최적의 포물선으로 재해석된 사용자의 엄지손가락 및 네일의 모든 스캔 라인 세트를 중첩시킨다.
도 73a는 예시적인 구현예에 따른 스윕 라인 변형에 의해 계산된 사용자의 손가락의 포인트 클라우드 렌더링이다.
도 73b는 예시적인 구현예에 따른 스윕 라인 변형에 의해 계산된 사용자의 손가락의 또 다른 포인트 클라우드 렌더링이다.
도 74a는 예시적인 구현예에 따른 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 74b는 예시적인 구현예에 따른 도 74a의 사용자의 손가락의 이미지에 기초하여 보간을 통해 충전되고 이미지 공간 깊이 맵으로 변환된 데이터를 사용하는 포인트 클라우드 렌더링이다.
도 75a는 예시적인 구현예에 따른 구조화된 광 기술을 사용하는 사용자의 부분적으로 페인팅된 손가락의 평면도 이미지이다.
도 75b는 예시적인 구현예에 따른 도 75a의 구조화된 광 기술을 사용하는 사용자의 부분 페인팅된 손가락의 이미지에 기초하여 보간을 통해 충전되고 이미지 공간 깊이 맵으로 변환된 데이터를 사용하는 포인트 클라우드 렌더링이다.
도 76a는 카메라를 갖는 사용자의 손가락과 제1 조명 조건하에서 정지 위치에 있는 손가락의 제1 평면 이미지이다.
도 76b는 카메라를 갖는 사용자의 손가락과 제2 조명 조건하에서 정지 위치에 있는 손가락의 제2 평면 이미지이다.
도 76c는 제3 조명 조건하에서 동일한 것의 제3 평면 이미지이다.
도 76d는 제4 조명 조건하에서 동일한 것의 제4 평면 이미지이다.
도 76e는 제5 조명 조건하에서 동일한 것의 제5 평면 이미지이다.
도 76f는 제6 조명 조건하에서 동일한 것의 제6 평면 이미지이다.
도 76g는 제7 조명 조건하에서 동일한 것의 제7 평면 이미지이다.
도 76h는 제8 조명 조건하에서 동일한 것의 제8 평면 이미지이다.
도 77a는 사용자의 손가락 주위를 회전하는 비전 시스템의 캡처 장치의 개략도이고, 여기서 고정 카메라는 예시적인 구현예에 따른 손가락을 통해 대략 축을 중심으로 회전된 복수의 광원에 의해 조명된 이미지를 촬영한다.
도 77b는 예시적인 구현예에 따른 캡처 장치의 렌즈를 위한 조리개에 관한 기판 상의 그리드에 배열된 복수의 광원을 포함하는 비전 시스템의 캡처 장치의 개략도이다.
도 78은 예시적인 구현예에 따른 사용자의 손가락 주위를 회전하는 도 77a의 비전 시스템의 캡처 장치로부터 캡처된 평면도 이미지를 사용하여 생성된 사용자의 손가락의 교정되지 않은 법선 맵이다.
도 79a는 예시적인 구현예에 따른 사용자의 손가락 주위를 회전하는 도 77a의 비전 시스템의 캡처 장치로부터 캡처된 평면도 이미지를 사용하여 생성된 사용자의 손가락의 교정된 법선 맵이다.
도 79b는 예시적인 구현예에 따른 인공 시험 손가락 주위를 회전하는 도 77a의 비전 시스템의 캡처 장치로부터 캡처된 평면도 이미지를 사용하여 생성된 인공 시험 손가락의 교정된 법선 맵이다.
도 80a는 예시적인 구현예에 따른 그리드에 배열된 복수의 광원을 포함하는 도 77b의 비전 시스템의 캡처 장치로부터 캡처된 평면도 이미지를 사용하여 생성된 사용자의 손가락의 교정된 법선 맵이다.
도 80b는 예시적인 구현예에 따른 그리드에 배열된 복수의 광원을 포함하는 도 77b의 비전 시스템의 캡처 장치로부터 캡처된 평면도 이미지를 사용하여 생성된 사용자의 또 다른 손가락의 교정된 법선 맵이다.
도 81은 예시적인 구현예에 따른 벡터 필드로서 표현된 법선의 평면 구성 요소로 표현되고 각 벡터에 관한 3차원 정보를 나타내기 위해 색상 코딩을 사용하는 사용자의 손가락 부분의 묘사이다.
도 82a는 예시적인 구현예에 따른 인공 시험 손가락의 평면도 이미지이다.
도 82b는 예시적인 구현예에 따른 전체적으로 중첩된 에지 검출(HED)을 사용하여 분석된 도 82a의 평면도 이미지이다.
도 82c는 예시적인 구현예에 따른 초기 영역 세분화를 사용하여 분석된 도 82a의 평면도 이미지이다.
도 83a는 예시적인 구현예에 따른 손가락의 평면도 이미지이다.
도 83b는 예시적인 구현예에 따른 HED를 사용하여 분석된 도 83a의 평면도 이미지이다.
도 83c는 예시적인 구현예에 따른 초기 영역 세분화를 사용하여 분석된 도 83a의 평면도 이미지이다.
도 84는 네일 및 손가락의 관심 섹션을 포함하는 손가락의 다이어그램, 및 예시적인 구현예에 따른 관심 섹션을 정확하게 검출하고 차별화하는 데 있어서 다양한 분석 방법의 효과의 비교이다.
도 85a는 손가락보다 짧은 길이를 갖는 네일의 평면도 이미지이고, 여기서 손가락 끝 경계는 예시적인 구현예에 따른 손톱 추정치로부터 완전히 추론된다.
도 85b는 손가락보다 긴 길이를 갖는 네일의 평면도 이미지이고, 여기서 손가락 끝 경계는 예시적인 구현예에 따른 손톱 추정치로부터 부분적으로 추론된다.
도 86a는 예시적인 구현예에 따른 백색광으로 조명된 손가락의 뒤의 이미지이다.
도 86b는 도 86a의 백색광으로 조명되고 예시적인 구현예에 따른 에지 검출로 분석된 손가락 뒤의 묘사이다.
도 86c는 도 86a의 자외선으로 조명되고 예시적인 구현예에 따른 에지 검출로 분석된 손가락 뒤의 묘사이다.
도 87a는 예시적인 구현예에 따른 백색광으로 조명된 손가락의 평면도 이미지이다.
도 87b는 도 87a의 백색광으로 조명되고 예시적인 구현예에 따른 에지 검출로 분석된 손가락의 검출이다.
도 88a는 예시적인 구현예에 따른 백색광으로 조명된 손가락의 사시 이미지이다.
도 88b는 예시적인 구현예에 따른 에지 검출에 의해 분석된 도 88a의 백색광으로 조명된 손가락의 묘사이다.
도 89는 사용자의 손가락 및 네일을 이미징하기 위한 이미지 캡처 리그의 개략도이고, 상기 리그는 예시적인 구현예에 따른 2개의 평면에 배향된 LED 스트립, 카메라 및 프로젝터를 포함한다.
도 90a는 사용자의 손 및 손가락을 이미징하기 위한 이미지 캡처 리그의 프로토타입의 후면 투시도이고, 상기 리그는 동일한 평면에 장착된 3개의 LED 패널, 평면을 통한 카메라, 및 예시적인 구현예에 따른 이미지 캡처 리그 내의 프로젝터를 포함한다.
도 90b는 사용자의 손과 손가락을 이미징하기 위한 이미지 캡처 리그의 우측면도이고(여기서, 인공 시험 손가락은 리그에 배치되어 있음), 상기 리그는 예시적인 구현예에 따른 동일한 평면을 향한 3개의 LED 패널, 카메라, 및 프로젝터를 포함한다.
도 91a는 이미지 캡처 프로세스의 약 120개의 이미지의 제1 평면도 이미지이고, 여기서 카메라는 예시적인 구현예에 따른 손가락의 베이스(예: 도 91a)로부터 손가락 끝(예: 도 91d)으로 스캐닝하는 수평 레이저 프로젝터 라인의 단일 수윕을 기록한다.
도 91b는 예시적인 구현예에 따른 이미지 캡처 프로세스의 약 120개의 이미지의 제2 평면도 이미지이다.
도 91c는 예시적인 구현예에 따른 이미지 캡처 프로세스의 약 120개의 이미지의 제3 평면도 이미지이다.
도 91d는 예시적인 구현예에 따른 이미지 캡처 프로세스의 약 120개의 이미지의 제4 평면도 이미지이다.
도 91e는 이미지 캡처 프로세스의 약 30개의 이미지의 제1 평면도 이미지이고, 여기서 카메라는 예시적인 구현예에 따른 약 30개의 상이한 백색 LED 각각에 대한 이미지를 기록한다.
도 91f는 예시적인 구현예에 따른 이미지 캡처 프로세스의 약 30개의 이미지의 제2 평면도 이미지이다.
도 91g는 예시적인 구현예에 따른 이미지 캡처 프로세스의 약 30개의 이미지의 제3 평면도 이미지이다.
도 91h는 예시적인 구현예에 따른 이미지 캡처 프로세스의 약 6개의 이미지의 평면도 이미지이고, 여기서 카메라는 약 6개의 상이한 자외선 LED 각각에 대한 이미지를 기록한다.
도 91i는 예시적인 구현예에 따른 이미지 캡처 프로세스의 약 3개의 이미지의 평면도 이미지이고, 여기서 카메라는 백색광 및 자외선 LED로 조명된 이미지를 기록한다.
도 92는 예시적인 구현예에 따른 네일 식별 방법의 데이터 흐름도이다.
도 93a는 예시적인 구현예에 따른 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제1 네일 추정치와 중접된 제1 네일의 제1 평면도 이미지이다.
도 93b는 예시적인 구현예에 따른 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제2 네일 추정치와 중첩된 제2 네일의 제2 평면도 이미지이다.
도 93c는 예시적인 구현예에 따른 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제3 네일 추정치와 중첩된 제3 네일의 제3 평면도 이미지이다.
도 93d는 예시적인 구현예에 따라 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제4 네일 추정치와 중첩된 제4 네일의 제4 평면도 이미지이다.
도 93e는 예시적인 구현예에 따른 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제5 네일 추정치와 중첩된 제5 네일의 제5 평면도 이미지이다.
도 93f는 예시적인 구현예에 따른 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제6 네일 추정치와 중첩된 제6 네일의 제6 평면도 이미지이다.
도 94a는 예시적인 구현예에 따른 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제7 네일 추정치(과대 평가)와 중첩된 제2 네일의 제7 평면도 이미지이다.
도 94b는 예시적인 구현예에 따른 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제8 네일 추정치(과소 평가)와 중첩된 제6 네일의 제8 평면도 이미지이다.
도 95a는 예시적인 구현예에 따라, 측면 네일 주름에서 2개의 가장 낮은 지점 사이의 가장 넓은 길이로서 정의되는 폭; 및 유리 네일 에지의 정점과 근위 네일 주름 사이의 가장 긴 길이로서 정의되는 길이의 손가락 네일 매개변수의 평면도이다.
도 95b는 예시적인 구현예에 따라, 제1 반경의 원에 의해 근사되는 횡방향 네일 곡률의 손가락 네일 매개변수의 단면도이다.
도 95c는 예시적인 구현예에 따라 제2 반경의 원에 의해 근사되는 종방향 네일 곡률의 손가락 네일 매개변수의 측면도이다.
도 95d는 예시적인 구현예에 따른 네일 플레이트, 유리 에지, 측면 네일 주름 및 근위 네일 주름의 손가락 네일 매개변수의 평면도이다.
도 96a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 투시도이다.
도 96b는 예시적인 구현예에 따른 다양한 기하학의 네일에 걸쳐 압력이 인가되도록 하는 스프링 및 굴곡부를 통한 순응성에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 투시도이다.
도 97은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입 구성 요소의 분해도이다.
도 98a는 예시적인 구현예에 따라, 초기 위치를 포함하는 에나멜 제거 도구 세정 궤적에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도이며, 여기서 측면 굴곡부의 근위 면은 측면 네일 주름의 근위 에지에 압력이 인가되도록 하는 에나멜 면적 곡선의 정점과 정렬된다.
도 98b는 예시적인 구현예에 따라, 에나멜/광택 제거 시스템이 네일에 압착된 후 네일로부터 수직으로 들어 올려지는 제1 세정 단계에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도이다.
도 98c는 예시적인 구현에에 따라, 에나멜/광택 제거 시스템이 네일에 압착된 후 네일로부터 각으로 들어 올려지고 멀어지는 제2 세정 단계에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도이다.
도 98d는 예시적인 구현예에 따라, 에나멜/광택 제거 시스템이 네일에 압착된 후 네일을 가로 질러 수평으로 닦아지는 제3 세정 단계에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도이다.
도 99a는 예시적인 구현예에 따라, 새끼손가락으로부터 에나멜/광택 제거 전의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도이다.
도 99b는 예시적인 구현예에 따라, 제1 세정 단계가 새끼손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 99c는 예시적인 구현예에 따라, 제2 세정 단계가 새끼손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 99d는 예시적인 구현예에 따라, 제3 세정 단계가 새끼손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 100a는 예시적인 구현예에 따라, 약지로부터 에나멜/광택 제거 전의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 100b는 예시적인 구현예에 따라, 제1 세정 단계가 약지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 100c는 예시적인 구현예에 따라, 제2 세정 단계가 약지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 100d는 예시적인 구현예에 따라, 제3 세정 단계가 약지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 101a는 예시적인 구현예에 따라, 중지로부터 에나멜/광택 제거 전의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 101b는 예시적인 구현예에 따라, 제1 세정 단계가 중지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 101c는 예시적인 구현예에 따라, 제2 세정 단계가 중지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 101d는 예시적인 구현예에 따라, 제3 세정 단계가 중지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 102a는 예시적인 구현예에 따라, 검지로부터 에나멜/광택 제거 전의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 102b는 예시적인 구현예에 따라, 제1 세정 단계가 검지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 102c는 예시적인 구현예에 따라, 제2 세정 단계가 검지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 102d는 예시적인 구현예에 따라, 제3 세정 단계가 검지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 103a는 예시적인 구현예에 따라, 엄지손가락으로부터 에나멜/광택 제거 전의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 103b는 예시적인 구현예에 따라, 제1 세정 단계가 엄지손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 103c는 예시적인 구현예에 따라, 제2 세정 단계가 엄지손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 103d는 예시적인 구현예에 따라, 제3 세정 단계가 엄지손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 104a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포하기 전의 새끼손가락의 평면도이다.
도 104b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포하기 전의 약지의 평면도이다.
도 104c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포하기 전의 중지의 평면도이다.
도 104d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포하기 전의 검지의 평면도이다.
도 104e는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포하기 전의 엄지손가락의 평면도이다.
도 105a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포한 후의 새끼손가락의 평면도이다.
도 105b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포한 후의 약지의 평면도이다.
도 105c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포한 후의 중지의 평면도이다.
도 105d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포한 후의 검지의 평면도이다.
도 105e는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포한 후의 엄지손가락의 평면도이다.
도 106a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 제거한 후의 새끼손가락의 평면도이다.
도 106b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 제거한 후의 약지의 평면도이다.
도 106c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 제거한 후의 중지의 평면도이다.
도 106d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 제거한 후의 검지의 평면도이다.
도 106e는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 제거한 후의 엄지손가락의 평면도이다.
도 107a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 제거 도구 설계 매개변수의 식별을 포함하는 에나멜/광택 제거 시스템의 정면도이다.
도 107b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 제거 도구 설계 매개변수의 식별을 포함하는 에나멜/광택 제거 시스템의 측면도이다.
도 108a는 예시적인 구현예에 따른 네일 성형 시스템의 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 네일 성형 방법의 퓨 차트 순위(Pugh Chart ranking)의 좌측면이다.
도 108b는 예시적인 구현예에 따른 네일 성형 시스템의 제6, 제7, 제8, 제9 및 제10 네일 성형 방법의 퓨 차트 순위의 우측면이다.
도 109는 예시적인 구현예에 따른 수직 샌딩 드럼 구성을 포함하는 네일 성형 시스템의 투시도이다.
도 110은 예시적인 구현예에 따른 수평 샌딩 드럼 구성을 포함하는 네일 성형 시스템의 투시도이다.
도 111은 예시적인 구현예에 따른 진동 샌딩 디스크 구성을 포함하는 네일 성형 시스템의 투시도이다.
도 112는 예시적인 구현예에 따른 이동성 메커니즘 시스템의 프로토타입에 장착되고 사용자의 확장된 중지와 맞물리는 진동 샌딩 디스크 구성을 포함하는 네일 성형 시스템의 프로토타입의 투시도이다.
도 113a는 예시적인 구현예에 따른 다수의 강모 제어 막대를 포함하는 에나멜/광택 도포 시스템의 개념도이다.
도 113b는 예시적인 구현예에 따른 다수의 방향성 노즐을 포함하는 에나멜/광택 도포 시스템의 개념도이다.
도 113c는 예시적인 구현예에 따른 다수의 튜브 어레이 브러시를 포함하는 에나멜/광택 도포 시스템의 개념도이다.
도 113d는 예시적인 구현예에 따른 다수의 교환 가능한 덕빌 어레이를 포함하는 에나멜/광택 도포 시스템의 개념도이다.
도 113e는 예시적인 구현예에 따른 2차원 그리드 브러시를 포함하는 에나멜/광택 도포 시스템의 개념도이다.
도 114a는 예시적인 구현예에 따른 제1, 제2, 제3, 제4, 제5 및 제6 에나멜/광택 도포 방법 및 에나멜/광택 도포 시스템의 을 평가하는 퓨 차트 순위의 좌측이다.
도 114B는 예시적인 구현예에 따른 제7, 제8, 제9, 제10, 제11, 제12, 제13 및 제14 에나멜/광택 도포 방법 및 에나멜/광택 도포 시스템의 퓨 차트 순위의 우측이다.
도 115는 공압 분배 시스템의 투시도이다.
도 116은 예시적인 구현예에 따른 네일 케어 시스템의 프로토타입의 투시도이다.
도 117은 예시적인 구현예에 따른 네일 케어 시스템의 프로토타입을 위한 이동성 메커니즘 시스템의 프로토타입의 참조 프레임의 개략도이다.
도 118a는 OPI에 의한 It Never Ends 병의 정면도이다.
도 118b는 OPI에 의한 Envy the Adventure 병의 정면도이다.
도 118c는 FingerPaints에 의한 탑 코트 병의 정면도이다.
도 118d는 컬러 테라피에 의한 Haute Springs 병의 정면도이다.
도 118e는 컬러 테라피에 의한 Red-y to Glow 병의 정면도이다.
도 118f는 wet n wild에 의한 Through the Grapevine 병의 정면도이다.
도 119a는 FingerPaints에 의한 반짝이는 광택제 병의 정면도이다.
도 119b는 FingerPaints에 의한 반짝이는 광택제 병의 정면도이다.
도 119c는 Sally Hanson에 의한 반짝이는 광택제 병의 정면도이다..
도 119d는 ORLY에 의한 반짝이는 광택제 병의 정면도이다.
도 119e는 Essie에 의한 Pool Side Service 병의 정면도이다.
도 119f는 Essie에 의한 All In One 병의 정면도이다.
도 119g는 Essie에 의한 Ballet Slippers 병의 정면도이다.
도 120a는 예시적인 구현예에 따른 이동 방향에 대한 에나멜/광택 도포 시스템의 확산 헤드의 시계방향 회전의 측면도이다.
도 120b는 예시적인 구현예에 따른 이동 방향을 갖는 에나멜/광택 도포 시스템의 확산 헤드의 반시계 방향 회전의 측면도이다.
도 121a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 수평으로 회전된 면봉의 투시도이다.
도 121b는 예시적인 구현예에 따른 제1 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템을 위해 수평으로 회전된 면봉을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 121c는 예시적인 구현예에 따른 제2 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템을 위해 수평으로 회전된 면봉을 이용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 121d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 수평으로 회전된 실리콘 아이라이너 브러시의 투시도이다.
도 121e는 예시적인 구현예에 따른 제1 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 수평으로 회전된 실리콘 아이라이너 브러시를 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 121f는 예시적인 구현예에 따른 제2 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 수평으로 회전된 실리콘 아이라이너 브러시를 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 122은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 회전 부착물의 투시도이다.
도 123은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 도 122의 회전 부착물에 대한 페인팅 결과의 투시도이다.
도 124a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 제1 필렛 감소 헤드의 투시도이다.
도 124b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 제2 필렛 감소 헤드의 투시도이다.
도 124c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제1 필렛 감소 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제2 필렛 감소 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124e는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 제1 원추형 팁 헤드의 투시도이다.
도 124f는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 제2 원추형 팁 헤드의 투시도이다.
도 124g는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 제1 원추형 팁 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124h는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 제2 원추형 팁 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124i는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 돔형 팁 헤드의 투시도이다.
도 124j는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 돔형 팁 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124k는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 제1 내부 공동 헤드의 투시도이다.
도 124l은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 제2 내부 공동 헤드의 투시도이다.
도 124m은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제1 내부 공동 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124n은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제2 내부 공동 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124o는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 실리콘 브러시의 투시도이다.
도 124p는 예시적인 구현예에 따른 제1 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템용 실리콘 브러시를 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124q는 예시적인 구현예에 따른 제2 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템용 실리콘 브러시를 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124r은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 미니어처 면봉의 투시도이다.
도 124s는 예시적인 구현예에 따른 제1 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 미니어처 면봉을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124t는 예시적인 구현예에 따른 제2 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 미니어처 면봉을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124u는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 미니어처 면봉의 투시도이다.
도 124v는 예시적인 구현예에 따른 제1 도포 패턴을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템용 미니어처 면봉을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124w는 예시적인 구현예에 따른 제2 도포 패턴을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 미니어처 면봉을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124x는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 제3 필렛 감소 헤드의 투시도이다.
도 124y는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제3 필렛 감소 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 125는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 외부 나선형 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 126a는 예시적인 구현예에 따른 도포 전의 에나멜/광택 도포 시스템용 필렛 감소 헤드의 투시도이다.
도 126b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜을 분배하는 에나멜/광택 도포 시스템용 필렛 감소 헤드이다.
도 126c는 예시적인 구현예에 따른 분배된 에나멜을 확산시키는 에나멜/광택 도포 시스템용 필렛 감소 헤드이다.
도 126d는 예시적인 구현예에 따른 분배되고 확산된 에나멜을 지속적으로 확산시키는 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 필렛 감소 헤드이다.
도 126e는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 도포가 완료된 후 에나멜/광택 도포 시스템용 필렛 감소 헤드이다.
도 127a는 예시적인 구현예에 따른 사용자의 손가락 대신에 중공 튜브에 입사하는 에나멜/광택 도포 시스템용 필렛 감소 헤드의 투시도이다.
도 127b는 예시적인 구현예에 따른 중공 튜브에 입사하는 에나멜/광택 도포 시스템용 필렛 감소 헤드의 측면도이다.
도 127c는 예시적인 구현예에 따른 고통스러운 중공 튜브의 원통형 표면 및 사용자의 손목 관절의 스위프 궤적의 Y-Z 플롯이다.
도 128a는 예시적인 구현예에 따른 도포 전 에나멜/광택 도포 시스템 및 중공 튜브용 필렛 감소 헤드의 상부 투시도이다.
도 128b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜을 분배하고 확산시키는 에나멜/광택 도포 시스템용 필렛 감소 헤드의 상부 투시도이다.
도 128c는 예시적인 구현예에 따른 분배되고 확산된 에나멜을 지속적으로 확산시키는 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 필렛 감소 헤드의 상부 투시도이다.
도 128d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 도포가 완료된 후의 에나멜/광택 도포 시스템용 필렛 감소 헤드의 상부 투시도이다.
도 129는 회전 헤드의 과도한 혼합에 의해 야기되는 바람직하지 않은 공기 포획으로 적용된 에나멜의 평면도이다.
도 130a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크가 장착된 회전 부착물의 투시도이다.
도 130b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크의 단면도이다.
도 130c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크가 장착된 회전 부착물의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 130d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 낮은 각도 회전 고무 원뿔이 장착된 회전 부착물의 투시도이다.
도 130e는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 낮은 각도 회전 고무 원뿔의 단면도이다.
도 130f는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 낮은 각도 회전 고무 원뿔이 장착된 회전 부착물의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 130g는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크가 장착된 회전 부착물의 투시도이다.
도 130h는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크의 측면도이다.
도 130i는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크가 장착된 회전 부착물의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 131은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 이동성 메커니즘 시스템의 프로토타입에 의해 유지되는 공압 구동 시린지 헤드의 프로토타입의 측면 투시도이다.
도 132는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 구속식 리드 스크류 피스톤 펌프의 투시도이다.
도 133은 예시적인 구현예에 따른 네일 케어 시스템의 스테퍼 모터의 제어 및 동작을 위한 시스템 아키텍처의 다이아그램이다.
도 134는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 일정한 직경의 튜브의 투시도이다.
도 135는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 테이퍼 튜브의 투시도이다.
도 136은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 기본 노즐 팁을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 137은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 기본 노즐 팁의 투시도이다.
도 138a는 예시적인 구현예에 따라, 노즐로부터의 에나멜 흐름의 바람직하지 않은 변경된 분포에 중점을 둔 사용자의 굴곡된 네일과 직교 입사하는 에나멜/광택 도포 시스템의 기본 노즐 팁의 단면도이다.
도 138b는 예시적인 구현예에 따라 노즐로부터의 에나멜 흐름의 개선된 분포에 중점을 둔 사용자의 굴곡된 네일에 통상적으로 입사하는 에나멜/광택 도포 시스템의 기본 노즐 팁의 단면도이다.
도 139a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 플레어 캐슬-팁 포인트의 상부 단면도이다.
도 139b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 플레어 캐슬-팁 포인트의 측면도이다.
도 140a는 예시적인 구현예에 따라 바람직하지 않은 표면 인공물에 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템용 플레어 캐슬-팁 포인트를 사용한 초기 페인팅 결과의 평면도이다.
도 140b는 예시적인 구현예에 따라 바람직하지 않은 표면 인공물에 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템용 플레어 캐슬-팁 포인트를 사용한 제2 페인팅 결과의 투시도이다.
도 141a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 2개의 내측 곡선 비트를 갖는 제1 아이싱 노즐의 투시도이다.
도 141b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 비교적 느슨한 배열로 4개의 내측 곡선 비트를 갖는 제2 아이싱 노즐의 투시도이다.
도 141c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 비교적 긴밀한 배열로 4개의 내측 곡선 비트를 갖는 제3 아이싱 노즐의 투시도이다.
도 142a는 예시적인 구현예에 따라 바람직하지 않은 블롭 형성에 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 필라멘트 노즐 및 필라멘트 노즐을 사용한 제1 페인팅 결과의 투시도이다.
도 142b는 예시적인 구현예에 따라 에나멜의 바람직하지 않은 일관성이 없는 페인팅에 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템용 필라멘트 노즐을 사용한 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 143a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 내부 필라멘트 노즐의 측면 투시도이다.
도 143b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 내부 필라멘트 노즐의 투시도이다.
도 144a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 내부 필라멘트 노즐로부터의 바람직하지 않은 불균일한 흐름의 제1 예의 측면 투시도이다.
도 144b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 내부 필라멘트 노즐로부터의 바람직하지 않은 불균일한 흐름의 제2 예의 측면 투시도이다.
도 144c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 내부 필라멘트 노즐로부터의 바람직하지 않은 불균일한 흐름의 제3 예의 측면 투시도이다.
도 145a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 외부 필라멘트 노즐의 측면 투시도이다.
도 145b는 예시적인 구현예에 따라 에나멜/광택 도포 시스템의 외부 필라멘트 노즐 및 그의 페인팅 결과의 투시도이다.
도 146a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 스프링 플런저 팁의 상부 투시도이다.
도 146b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 스프링 플런저 팁의 페인팅 결과의 상부 투시도이다.
도 147a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 원형 외부 나선형 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 원형 외부 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 주변 궤적 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 주위 궤적 경로 계획이 이어지는 원형 외부로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147e는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 원형 외부에 이은 주위 궤적, 이어서 궤적 후방 내부 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147f는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 원형 외부에 이은 주변 궤적에 이어, 궤적 후방 내부 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147g는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 원형 외부에 이은 나선형 내부 정사각형 (낮은 피치) 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147h는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 나선형 내부 정사각형 (낮은 피치) 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147i는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 원형 외부에 이은 나선형 내부 정사각형 (높은 피치) 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147j는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 나선형 내부 정사각형 (높은 피치) 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147k는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 원형 외부에 이어 정사각형 주위, 이어서 내부 시작 패턴 외부 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147l은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 정사각형 주위에 이어서, 내부 시작 패턴 외부 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147m은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 원형 외부에 이어 전후 선형 경로에 이어서, 주변 궤적 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147n은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 전후의 선형 경로에 이어 주변 궤적 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147o는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 원형 외부에 이어 90도 오프셋 전후 선형 경로에 이어 주위 궤적 (와플 패턴) 경로 계획의 X-Y 다이어그램이다.
도 147p는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 90도 오프셋 전후 선형 경로에 이어 주위 궤적 (와플 패턴) 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147q는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 점조각 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147r은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 점조각 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147s는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 지그재그 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147t는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 지그재그 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147u는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 중첩 정사각형 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147v는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 중첩 정사각형 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147w는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템에 대한 중첩된 D의 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이어그램이다.
도 147x는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 중첩된 D의 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147y는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 중첩된 C의 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147z는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 중첩된 C의 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147aa는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 주변 및 충전 (낮은 피치) 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147ab는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 주변 및 충전 (높은 피치) 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147ac는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 주변 및 충전 (높은 피치) 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 148은 에나멜/광택 도포 시스템의 노즐의 바람직하지 않은 이동 속도 프로파일의 개략도이고, 여기서 노즐은 경로 ABC를 따라 이동하고, 팁이 B로 감속된 후, C로 재가속되면, 노즐은 노즐이 점 B에 가까울수록 표면에 따라 더 느리게 토과하여 점 B 주위에 에나멜의 바람직하지 않은 고농도를 유발한다.
도 149a는 예시적인 예에 따라 표면(예: 시험을 위한 편평한 유리 표면) 상에 분배 노즐을 호버링하고 투명한 탑코트를 압출시킴으로써 비접촉법을 사용하는 탑 코트의 도포의 제1 결과의 평면도이다.
도 149b는 예시적인 구현예에 따라, 표면에 분배 노즐을 호버링하고 투명한 탑 코트를 압출시킴으로써 비접촉법을 사용한 탑 코트의 도포의 제2 결과의 평면도이다.
도 149c는 예시적인 구현예에 따라, 표면에 분배 노즐을 호버링하고 투명한 탑 코트를 압출시킴으로써 비접촉법을 사용한 탑 코트의 도포의 제3 결과의 평면도이다.
도 150a는 예시적인 구현예에 따라, 벌거벗은 에나멜을 사용하여 경화된 에나멜 페인팅된 정사각형에 탑 코트를 호버링함으로써 비접촉 노즐을 사용한 결과의 투시도이다.
도 150b는 예시적인 구현예에 따라, 탑 코트를 갖는 에나멜을 사용하여 경화된 에나멜 페인팅된 정사각형에 탑 코트를 호버링함으로써 비접촉 노즐을 사용한 결과의 투시도이다..
도 151a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 엘라스토머 튜브의 비교적 긴 도관을 갖는 팔로워의 프로토타입의 투시도이다.
도 151b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 교체 가능한 노즐을 갖는 캔틸레버 팔로워의 프로토타입의 측면도이다.
도 151c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 (컬러 코트 및 탑 코트를 분배하기 위한) 시차 노즐을 갖는 엘라스토머 캔틸레버 팔로워의 프로토타입의 측면도이다.
도 151d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 루트 섹션(순응성을 위해)에 비교적 짧은 엘라스토머 섹션을 갖는 강성 캔틸레버 팔로워의 프로토타입의 측면도이다.
도 152는 예시적인 구현예에 따른 도포 표면에 대해 팔로워 시스템 주체의 굴곡에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템의 팔로워 시스템 주체의 프로토타입의 측면도이다.
도 153은 예시적인 구현예에 따라 에나멜/광택 도포 시스템의 팔로워 시스템의 프로토타입의 측면도이며, 상기 팔로워 시스템은 에나멜 및 부착된 리드 스크류 구동 펌프 시스템을 구비한 탑 코트 저장소를 포함한다.
도 154는 예시적인 구현예에 따른 손/발 받침 시스템을 위해 사용자의 손가락을 안정화시키고 배향하기 위한 기계적 고정구의 프로토타입의 투시도이다.
도 155는 예시적인 구현예에 따른 손/발 받침 시스템을 위해 사용자의 손가락을 안정화하고 배향하기 위한 기계적 고정구의 프로토타입에 유지된 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 156a는 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략과 중첩된 사용자의 손가락의 평면도이다.
도 156b는 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략과 중첩된 다른 사용자의 손가락의 평면도이다.
도 157a는 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략에 기초하여 에나멜로 네일을 페인팅하는 제1 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 157b는 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략에 기초하여 네일을 에나멜로 페인팅하는 제2 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 157c는 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략에 기초하여 네일을 에나멜로 페인팅하는 제3 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 157d는 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략에 기초하여 탑 코트로 네일을 페인팅하는 제1 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 157e는 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략에 기초하여 네일을 탑 코트로 페인팅하는 제2 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 157f는 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략에 기초하여 네일을 탑 코트로 페인팅하는 제3 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 158은 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략에 기초하여 톱 코트로 네일을 페인팅하는 제3 단계 이후의 사용자의 손가락의 평면도이다.
도 159는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅한 후 인공 손가락 및 네일 (손/발 받침 시스템의 프로토타입 지그에 부착된 사용자의 손가락을 안정화 및 배향하기 위한 기계적 고정구의 프로토타입에 배치됨)의 투시도이다.
도 160a는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅한 후의 인공 손가락 및 네일의 투시도이다.
도 160b는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅한 후의 인공 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 160c는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅한 후의 인공 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 160d는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅한 후의 인공 손가락 및 네일의 측면도이다.
도 161a는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅하는 것을 테스트하기 위한 네일 지그의 투시도이다.
도 161b는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅하는 제1 단계 동안 네일 지그의 투시도이다.
도 161c는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅하는 제2 단계 동안 네일 지그의 투시도이다.
도 161d는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅하는 제3 단계 후 네일 지그의 투시도이다.
도 162a는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제1 인공 네일의 평면도이다.
도 162b는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제2 인공 네일의 평면도이다.
도 162c는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제3 인공 네일의 평면도이다.
도 162d는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제4 인공 네일의 평면도이다.
도 162e는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제5 인공 네일의 평면도이다.
도 162f는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제6 인공 네일의 평면도이다.
도 162g는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제7 인공 네일의 평면도이다.
도 162h는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제8 인공 네일의 평면도이다.
도 162i는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제9 인공 네일의 평면도이다.
도 163은 예시적인 구현예에 따른 멀티-툴 시스템에 통합되고 이동성 메커니즘 시스템의 말단에 의해 유지되는 소모성 카트리지/포드 시스템의 3개의 카트리지의 투시 분해도이다.
도 164는 예시적인 구현예에 따른 소모성 카트리지/포드 시스템의 3개의 카트리지의 투시 분해도이다.
도 165는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거 시스템을 위한 소모성 카트리지/포드 시스템의 에나멜 제거 카트리지의 투시 분해도이다.
도 166은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거 시스템용 소모성 카트리지/포드 시스템의 에나멜 제거 카트리지용 스프링 로딩 스캐폴드의 투시 분해도이다.
도 167은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거 시스템용 소모성 카트리지/포드 시스템의 에나멜 제거 카트리지용 에나멜 저장소의 부분 컷어웨이 측면도이다.
도 168은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거 시스템용 소모성 카트리지/포드 시스템의 에나멜 제거 카트리지용 에나멜 저장소와 맞물리는 램의 부분 컷어웨이 분해 측면도이다.
도 169는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 소모성 카트리지/포드 시스템용 모터 및 기어에 의해 구동되는 복수의 카트리지를 유지하기 위한 컬러 매거진의 투시도이다.
도 170은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 소모성 카트리지/포드 시스템용 램, 가요성 부재, 튜브 및 노즐과 맞물리는 저장소의 투시도이다.
도 171은 저장소가 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 소모성 카트리지/포드 시스템용 기어 램, 가요성 부재, 튜브 및 노즐과 맞물리도록 하는 기어 램의 투시도이다.
도 172는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 소모성 카트리지/포드 시스템을 위한 한 쌍의 카트리지를 보유하기 위한 어플리케이터 트레이의 투시도이다.
도 173a는 바늘이 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 막힌 노즐과 맞물리기 전의 제1 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
도 173b는 바늘이 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 막힌 노즐과 맞물린 후의 제1 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
도 174a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 에나멜 희석제의 저장소에 막힌 노즐을 삽입하기 전의 제2 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
도 174b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 에나멜 희석제의 저장소에 막힌 노즐을 삽입하기 후의 제2 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
도 175a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 노즐에 대해 개방된 위치에 스윙 도어 및 고무 패드를 갖는 제3 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
도 175b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 노즐에 대해 밀폐된 위치에 스윙 도어 및 고무 패드를 갖는 제3 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
도 176은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 도포 헤드, 에나멜/광택 제거 시스템의 제거 헤드, 및 네일 성형 시스템의 성형 헤드와의 선택적인 맞물림을 위해 갠트리 시스템에 장착된 램 및 램 구동 모터의 투시적 분해도이다.
도 177은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 복수의 도포 헤드 중 하나, 에나멜/광택 제거 시스템의 복수의 제거 헤드 중 하나 및 네일 성형 시스템의 복수의 성형 헤드 중 하나와 선택적으로 맞물림을 위한 갠트리 시스템에 장착된 램 및 램 드라이브 모터의 투시적 분해도이다.
도 178은 예시적인 구현예에 따른 도 117의 이동성 메커니즘 시스템의 프로토타입에 대한 제어 윈도우의 스크린샷이다.
도 179는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 나일론 브러시 팁의 투시도이다.
도 180a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 나일론 브러시 팁의 근접 투시도이다.
도 180b는 예시적인 구현예에 따라 단일 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 나일론 브러시 팁의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 180c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 나일론 브러시 팁의 근접 투시도이다.
도 180d는 예시적인 구현예에 따른 이중 코팅을 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 나일론 브러시 팁의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 181a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 투시도이다.
도 181b는 예시적인 구현예에 따른 가벼운 압력으로 단일 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 181c는 예시적인 구현예에 따른 가벼운 압력으로 단일 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 투시도이다.
도 181d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 투시도이다.
도 181e는 예시적인 구현예에 따른 가벼운 압력으로 이중 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 181f는 예시적인 구현예에 따른 가벼운 압력으로 이중 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 투시도이다.
도 181g는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 투시도이다.
도 181h는 예시적인 구현예에 따라 중압으로 단일 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 181i는 예시적인 구현예에 따라 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 투시도이다.
도 181j는 예시적인 구현예에 따라 중압으로 이중 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 181k는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 투시도이다.
도 181l은 예시적인 구현예에 따른 블롯팅 방법으로 에나멜을 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 182는 예시적인 구현예에 따른 도 117의 이동성 메커니즘 시스템의 프로토타입에 부착된 매니큐어 브러시의 투시도이다.
도 183a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 매니큐어 브러시의 측면도이다.
도 183b는 예시적인 구현예에 따른 이동성 메커니즘 시스템의 선형 로봇 운동을 이용하여 비교적 느린 속도로 에나멜을 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 매니큐어 브러시의 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 183c는 예시적인 구현예에 따른 이동성 메커니즘 시스템의 선형 로봇 운동을 이용하여 비교적 느린 속도로 에나멜을 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 매니큐어 브러시의 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 183d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 매니큐어 브러시의 측면도이다.
도 183e는 예시적인 구현예에 따른 이동성 메커니즘 시스템의 선형 로봇 운동을 이용하여 비교적 빠른 속도로 에나멜을 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 매니큐어 브러시의 제3 페인팅 결과의 평면도이다.
도 184a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 저력 확산 어플리케이터의 평면도이다.
도 184b는 예시적인 구현예에 따른 매니큐어를 확산시키는 에나멜/광택 도포 시스템의 저력 확산 어플리케이터의 브러시 강모의 측면도이다.
도 185a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 측면 투시도이다.
도 185b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 말단 투시도이다.
도 186a는 예시적인 구현예에 따른 와류 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186b는 예시적인 구현예에 따른 와류 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186c는 예시적인 구현예에 따른 비교적 더 단단한 와류 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제3 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186d는 예시적인 구현예에 따른 앞뒤 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제4 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186e는 예시적인 구현예에 따른 비교적 긴 스위핑 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제5 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186f는 예시적인 구현예에 따른 비교적 긴 스위핑 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제6 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186g는 예시적인 구현예에 따른 지그재그 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제7 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186h는 예시적인 구현예에 따른 지그재그 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제8 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186i는 예시적인 구현예에 따른 지그재그 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제9 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 비교적 부드럽고 매끄러운 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터의 투시도이다.
도 187b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 비교적 부드럽고 매끄러운 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 비교적 부드럽고 매끄러운 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 텍스처링된 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터의 투시도이다.
도 187e는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 텍스처링된 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187f는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 텍스처링된 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187g는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 마이크로브러시 팁의 투시도이다.
도 187h는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 마이크로브러시 팁을 구비한 중력 구동 말단 이펙터의 투시도이다.
도 187i는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 마이크로브러시 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187j는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 마이크로브러시 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187k는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 중력 구동 로드의 투시도이다.
도 187l은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 중력 구동 로드를 사용하는 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187m은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 중력 구동 웨지의 투시도이다.
도 187n은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 중력 구동 웨지를 사용하는 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187o는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 중력 구동 스퀴지를 구비한 중력 구동 말단 이펙터의 투시도이다.
도 187p는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 중력 구동 스퀴지를 구비한 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 페인팅 결과의 평면도이다.
도 188a는 예시적인 구현예에 따른 공기 확산 기술을 적용하기 전의 에나멜의 투시도이다.
도 188b는 예시적인 구현예에 따른 공기 확산 기술을 적용한 후의 에나멜의 투시도이다.
도 189a는 예시적인 구현예에 따른 평면에 적용된 정사각형 형상의 절단 및 페이스트 에나멜 섹션의 평면도이다.
도 189b는 예시적인 구현예에 따른 인공 손톱에 적용된 맞춤형 형상 절단 및 페이스트 에나멜 섹션의 평면도이다.
도 190a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 네일 아트 패드 프린터의 투시도이다.
도 190b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 네일 아트 패드 프린터를 사용하는 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 190c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 네일 아트 패드 프린터를 사용하는 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 190d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 연속 기포 발포체 패드의 투시도이다.
도 190e는 예시적인 구현예에 따른 평면 표면 상의 에나멜/광택 도포 시스템의 연속 기포 발포체 패드를 사용하는 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 190f는 예시적인 구현예에 따른 인공 네일 상의 에나멜/광택 도포 시스템의 연속 기포 발포체 패드를 사용하는 제2 페인팅 결과의 투시도이다.
도 191a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제1 만년필 스타일 팁의 투시도이다.
도 191b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제2 만년필 스타일 팁의 투시도이다.
도 192a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제1 펠트 팁의 투시도이다.
도 192b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제2 펠트 팁의 투시도이다.
도 193a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 핀 그리드 어플리케이터의 투시도이다.
도 193b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 핀 그리드 어플리케이터를 사용하는 페인팅 결과의 평면도이다.
도 194a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 진동 확산 전의 에나멜의 투시도이다.
도 194b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 진동 확산 동안의 에나멜의 투시도이다.
도 194c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 진동 확산 후의 에나멜의 투시도이다.
도 195a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 진동 확산 전의 가파르게 각진 표면 상의 에나멜의 투시도이다.
도 195b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 진동 확산 동안의 가파르게 각진 표면 상의 에나멜의 투시도이다.
도 195c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 진동 확산 후의 가파르게 각진 표면 상의 에나멜의 투시도이다.
도 196은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 진동 확산 시스템의 구성 요소의 분해 투시도이다.
도 197a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 기본 노즐 팁을 사용하는 페인팅 결과의 투시도이다.
도 197b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 진동 확산 시스템을 사용하는 페인팅 결과의 투시도이다.
도 198은 예시적인 구현예에 따른 사용자의 엄지손가락에 입사되는 큐티클 관리 시스템의 팁의 투시도이다.
도 199A는 예시적인 구현예에 따른 큐티클 관리 시스템에 의한 큐티클 관리를 포함하는 제1 시도 전 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199b는 예시적인 구현예에 따른 큐티클 관리 시스템에 의한 큐티클 관리 후 및 네일에 융기된 필링 베이스 코트를 도포한 후의 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199c는 예시적인 구현예에 따른 네일에 제1 코트를 도포한 후 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199d는 예시적인 구현예에 따른 네일에 제2 코트를 도포한 후 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199e는 예시적인 구현예에 따른 큐티클 관리 시스템에 의한 큐티클 관리를 포함하는 제2 시도 전 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199f는 큐티클 관리 시스템으로 네일을 버니싱함으로써 큐티클 관리 후 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199g는 예시적인 구현예에 따른 큐티클 관리 시스템에 의한 큐티클 관리 후 및 네일에 융기 필링 베이스 코트를 적용한 후의 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199h는 예시적인 구현예에 따라 네일에 제1 코트를 도포한 후 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199i는 예시적인 구현예에 따른 네일에 제2 코트를 도포한 후 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199j는 예시적인 구현예에 따라, 도 199e 및 도 199f의 묘사 사이의 중간 단계의 평면도이고, 여기서 큐티클 파편 및 잘못 배치된 버니싱 도구 경로가 명백하다.
도 200은 예시적인 구현예에 따른 사용자의 손의 왼쪽 검지의 손톱과 맞물려 있는 큐티클 및 근위 네일 주름에 대해 밀도록 구성된 큐티클 관리 도구에 중점을 둔 이동성 메커니즘 시스템 및 큐티클 관리 시스템의 말단의 측면 투시도이다.
도면은 반드시 축척대로는 아님이 주목된다. 도면은 본원에 개시된 주제의 전형적인 측면만을 묘사하기 위한 것이고, 따라서 개시내용의 범위를 제한하는 것으로 간주되어서는 안된다. 당업자는 본원에 구체적으로 기재되고 첨부 도면에 도시된 구조, 시스템, 디바이스, 및 방법은 비제한적인 예시적인 구현예이며, 범위는 청구범위에 의해서만 정의된다는 것을 이해할 것이다.
도 1은 예시적인 구현예에 따른 네일 케어를 위한 제1 시스템의 개략도이다.
도 2는 예시적인 구현예에 따른 소모성 포드/카트리지 시스템 및 손 받침 시스템을 포함하는 네일 케어를 위한 제1 시스템의 제1 유형의 인클로저의 정면 투시도이다.
도 3은 예시적인 구현예에 따른 사용자 장치를 포함하는 네일 케어를 위한 제1 시스템의 제2 유형의 인클로저의 정면 투시도이다.
도 4는 예시적인 구현예에 따른 도 2의 제1 유형의 인클로저 또는 도 3의 제2 유형의 인클로저의 후면 투시도이다.
도 5는 예시적인 구현예에 따른 손 받침 시스템의 후면 투시도이다.
도 6a는 예시적인 구현예에 따른 도 2의 제1 유형의 인클로저 또는 도 3의 제2 유형의 인클로저의 정면도이다.
도 6b는 예시적인 구현예에 따른 도 2의 제1 유형의 인클로저 또는 도 3의 제2 유형의 인클로저의 우측 입면도이다.
도 6c는 예시적인 구현예에 따른 도 2의 제1 유형의 인클로저 또는 도 3의 제2 유형의 인클로저의 상부도 또는 평면도이다.
도 7a는 예시적인 구현예에 따른 네일 케어 시스템의 제1 프로토타입의 정면 단면도이다.
도 7b는 예시적인 구현예에 따른 네일 케어 시스템의 제1 프로토타입의 우측 단면도이다.
도 7c는 예시적인 구현예에 따른 네일 케어 시스템의 제1 프로토타입의 상부 또는 평면 단면도이다.
도 8은 예시적인 구현예에 따른 손 받침 시스템의 운동 범위에 중점을 둔 도 2의 제1 유형의 인클로저 또는 도 3의 제2 유형의 인클로저의 정면 투시도이다.
도 9는 예시적인 구현예에 따른 비전 시스템 및 손 받침 시스템의 정면/상부 또는 평면 투시도이다.
도 10은 예시적인 구현예에 따른 네일 케어를 위한 제1 컴퓨터 디바이스 또는 시스템의 흐름도이다.
도 11은 예시적인 구현예에 따른 이동성 메커니즘 시스템 및 손 받침 시스템의 정면/상부 또는 평면 투시도이다.
도 12는 예시적인 구현예에 따른 멀티-툴 시스템 및 이동성 메커니즘 시스템의 정면/상부 또는 평면 투시도이다.
도 13은 예시적인 구현예에 따른 멀티-툴 시스템 홀더를 위한 제1 홀더 및 제1 에나멜/광택 제거제 시스템의 투시도이다.
도 14는 예시적인 구현예에 따른 멀티-툴 시스템 홀더를 위한 제2 홀더 및 제2 에나멜/광택 제거제 시스템의 투시도이다.
도 15는 예시적인 구현예에 따른 도 13의 제1 에나멜/광택 제거제 시스템의 말단 투시도이다.
도 16은 예시적인 구현예에 따른 멀티-툴 시스템 홀더의 제1 홀더; 제2 에나멜/광택 제거제 시스템; 이동성 메커니즘 시스템의 말단; 및/또는 손 받침 시스템의 측면 투시도이다.
도 17은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거제 시스템을 이동시키기 위한 사용자의 손가락 끝 및 제1 방법의 다이어그램이다.
도 18은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거제 시스템을 이동시키기 위한 사용자의 손가락 끝 및 제2의 제1 방법의 다이아그램이다.
도 19는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거제 시스템을 이동시키기 위한 사용자의 손가락 끝 및 제3 방법의 다이아그램이다.
도 20은 사용자의 손가락 끝 및 사용자의 네일에 대한 에나멜/광택 제거제 시스템의 강모 배향의 측면도이다.
도 21은 예시적인 구현예에 따른 도 17의 제1 방법의 흐름도이다.
도 22는 예시적인 구현예에 따른 도 18의 제2 방법의 흐름도이다.
도 23은 예시적인 구현예에 따른 도 19의 제3 방법의 흐름도이다.
도 24는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거제 시스템의 제4 동작 방법의 흐름도이다.
도 25는 멀티-툴 시스템 홀더를 위한 제2 홀더; 제2 에나멜/광택 제거제 시스템; 이동성 메커니즘 시스템의 말단; 및/또는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거제 시스템의 운동 범위 및 사용자의 손의 손가락에 대한 에나멜/광택 제거제 시스템의 대략적인 배향에 중점을 둔 손 받침 시스템의 일부의 상부 투시도이다.
도 26은 멀티-툴 시스템 홀더를 위한 제2 홀더; 에나멜/광택 제거제 시스템; 이동성 메커니즘 시스템의 말단; 및/또는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거제 시스템과 사용자의 손의 왼쪽 엄지손가락의 왼쪽 엄지 손톱의 맞물림에 중점을 둔 손 받침 시스템의 말단 투시도이다.
도 27은 멀티-툴 시스템 홀더를 위한 제3 홀더; 제3 에나멜/광택 제거제 시스템; 및/또는 예시적인 구현예에 따른 제3 에나멜/광택 제거제 시스템의 강모의 각도에 중점을 둔 이동성 메커니즘 시스템의 말단의 측면 투시도이.
도 28은 멀티-툴 시스템 홀더의 제1 홀더; 제1 에나멜/광택 제거제 시스템; 예시적인 구현예에 따른 제1 에나멜/광택 제거제 시스템과 사용자의 손의 왼쪽 중지의 손톱의 맞물림에 중점을 둔 이동성 메커니즘 시스템의 말단의 측면 투시도이다.
도 29는 멀티-툴 시스템 홀더를 위한 제4 홀더; 제2 에나멜/광택 제거제 시스템; 예시적인 구현예에 따른 제3 에나멜/광택 제거제 시스템과 사용자의 손의 왼쪽 검지 손가락의 네일의 맞물림에 중점을 둔 이동성 메커니즘 시스템의 말단의 측면 투시도이다.
도 30은 멀티-툴 시스템 홀더를 위한 3조각 홀더; 3개의 에나멜/광택 제거제 시스템; 예시적인 구현예에 따른 3개의 에나멜/광택 제거제 시스템 중 제2 시스템과 사용자 손의 좌측 중지의 네일의 맞물림에 중점을 둔 이동성 메커니즘 시스템의 말단의 측면 투시도이다.
도 31은 멀티-툴 시스템 홀더의 제1 홀더; 제1 에나멜/광택 제거제 시스템; 및/또는 에나멜/광택 제거제 시스템용 제거제를 위한 저장소의 측면 단면도이다.
도 32는 예시적인 구현예에 따른 네일 성형 시스템과 사용자 손의 좌측 중지 네일의 맞물림에 중점을 둔 네일 성형 시스템의 상부 투시도이다.
도 33은 이동도 메커니즘 시스템의 말단; 및/또는 예시적인 구현예에 따른 네일 성형 시스템과 사용자 손의 좌측 중지 네일의 맞물림에 중점을 둔 네일 성형 시스템의 말단 투시도이다.
도 34a는 에나멜/광택 도포 시스템의 측면도 및 부분 단면도이다.
도 34b는 내부에 캡이 있는 에나멜/광택 도포 시스템의 변위 가능한 (전체) 바이알의 투시도이다.
도 34c는 변위 가능한 (전체) 바이알 및 캡을 갖는 에나멜/광택 도포 시스템의 측면도이다.
도 34d는 변위 가능한 (전체) 바이알 및 캡을 구비한 에나멜/광택 도포 시스템의 각진 측면도이다.
도 34e는 변위 가능한 (거의 빈) 바이알 및 캡을 갖는 에나멜/광택 도포 시스템의 부분적으로 각진 측면도이다.
도 35는 이동성 메커니즘 시스템의 말단; 및/또는 에나멜/광택 도포 시스템의 측면도이다.
도 36은 이동성 메커니즘 시스템의 말단; 및/또는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템과 사용자의 손의 왼쪽 중지의 네일의 맞물림에 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템의 측면 투시도이다.
도 37은 예시적인 구현예에 따른 네일 케어를 위한 제2 컴퓨터 디바이스 또는 시스템의 흐름도이다.
도 38a는 예시적인 구현예에 따른 네일 케어를 위한 제3 컴퓨터 디바이스 또는 시스템의 흐름도이다.
도 38b는 예시적인 구현예에 따른 머신 비전 방법의 흐름도이다.
도 39는 예시적인 구현예에 따른 제1 경로 계획 프로그램의 흐름도이다.
도 40은 예시적인 구현예에 따른 제2 경로 계획 프로그램의 흐름도이다.
도 41은 예시적인 구현예에 따른 제1 경로 계획 프로그램 또는 제2 경로 계획 프로그램에 의해 생성된 부스트로페돈 경로의 3차원 렌더링이다.
도 42는 예시적인 구현예에 따른 네일 형상 공식의 특징을 포함하는 손가락 끝 및 네일의 개략도이다.
도 43은 예시적인 구현예에 따른 네일 형상의 14개의 개략도를 포함한다.
도 44는 예시적인 구현예에 따른 네일 성형 경로 계획 프로그램의 흐름도이다.
도 45는 예시적인 구현예에 따른 네일 포인트 클라우드 방법을 이용한 사용자의 네일의 3차원 렌더링이다.
도 46은 예시적인 구현예에 따른 네일 포인트 클라우드 방법을 사용하는 사용자의 네일의 3차원 렌더링의 2차원 상부도이다.
도 47은 예시적인 구현예에 따른 경로 계획을 위한 표적 형상의 제3 라운드로 중첩된 네일 포인트 클라우드 방법을 사용하는 사용자의 네일의 3차원 렌더링의 2차원 상부도이다.
도 48은 예시적인 구현예에 따른 경로 계획을 위한 표적 형상의 제1 라운드, 제2 라운드 및 제3 라운드로 중첩된 네일 포인트 클라우드 방법을 사용하는 사용자의 네일의 3차원 렌더링의 2차원 상부도이다.
도 49a는 예시적인 구현예에 따른 이미지의 복수의 픽셀 각각에서 총 강도로 중첩된 사용자의 손가락 끝의 2차원 이미지이다.
도 49b는 사용자 U의 손가락 F의 팁에 상응하는 픽셀을 단리시키는데 사용되는 마스크의 묘사이다.
도 49c는 예시적인 구현예에 따른 이미지의 복수의 포인트 각각에서 법선 벡터로 중첩된 사용자의 손가락 끝의 2차원 이미지이다.
도 49d는 예시적인 구현예에 따른 이미지의 복수의 포인트 각각에서 구배 벡터로 중첩된 사용자의 손가락 끝의 2차원 이미지이다.
도 49e는 예시적인 구현예에 따른 사용자의 손가락 끝의 3차원 깊이 맵 이미지이다.
도 49f는 예시적인 구현예에 따른 사용자의 손가락 끝의 3차원 깊이 맵 이미지의 마스킹된 버전이다.
도 50은 예시적인 구현예에 따른 적어도 하나의 프로세서 및 적어도 하나의 프로세서에 의해 실행하기 위한 적어도 하나의 프로그램을 저장하는 메모리를 포함하는 컴퓨터 디바이스 또는 시스템의 개략도이다.
도 51a는 예시적인 구현예에 따른 가시광선 및 자외선으로 조명된 사용자의 손의 투시도이다.
도 51b는 예시적인 구현예에 따른 자외선으로만 조명된 사용자의 손의 투시도이다.
도 52는 예시적인 구현예에 따른 자외선으로 조사되고 노란색 필터로 필터링된 사용자의 손의 투시도이다.
도 53은 예시적인 구현예에 따른 사용자의 손가락 주위를 회전하는 비전 시스템의 캡처 장치의 개략도이다.
도 54a는 예시적인 구현예에 따른 손가락에 대해 우측에서 오른쪽에서 왼쪽으로 번역하는 비전 시스템의 이미지 캡처 장치의 제1 위치에 있는 바둑판 배경 상의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 54b는 예시적인 구현예에 따른 손가락에 대해 오른쪽에서 왼쪽으로 번역하는 비전 시스템의 이미지 캡처 장치의 제2 위치에 있는 바둑판 배경 상의 사용자의 손가락의 평면도 이미지의 일부이다.
도 54c는 제3 위치에 있는 부분이다.
도 54d는 제4 위치에 있는 부분이다.
도 54e는 제5 위치에 있는 부분이다.
도 54f는 제6 위치에 있는 부분이다.
도 54g는 제7 위치에 있는 부분이다.
도 54h는 제8 위치에 있는 부분이다.
도 54i는 제9 위치에 있는 부분이다.
도 54j는 제10 위치에 있는 부분이다.
도 54k는 예시적인 구현예에 따른 손가락에 대해 오른쪽으로부터 왼쪽으로 번역하는 비전 시스템의 이미지 캡처 장치의 제11 위치에 있는 바둑판 배경 상의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 55a는 예시적인 구현예에 따른 도 55d의 이미지에 대해 약 +45도 회전된 비전 시스템의 이미지 캡처 장치의 위치에 있는 사용자의 손가락의 투시도 이미지이다.
도 55b는 도 55d에 대해 약 +30도 회전된 위치이다.
도 55c는 도 55d에 대해 약 +15도 회전된 위치이다.
도 55d는 손가락 또는 손의 중심을 통해 대략 수평축과 대략 평행한 약 0도 위치이다.
도 55e는 도 55d에 대해 약 -15도 회전된 위치이다.
도 55f는 도 55d에 대해 약 -30도 회전된 위치이다.
도 55g는 도 55d에 대해 약 -45도 회전된 위치이다.
도 56a는 예시적인 구현예에 따른 시작 깊이 기준점에서 비전 시스템의 이미지 캡처 장치의 위치에서 바둑판 배경 상의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 56b는 시작 깊이 기준점보다 0.050in(0.127cm) 미만의 위치이다.
도 56c는 시작 깊이 기준점보다 0.100in(0.254cm) 미만의 위치이다.
도 56d는 시작 깊이 기준점보다 0.150in(0.381cm) 미만의 위치이다.
도 56e는 시작 깊이 기준점보다 0.200in(0.508cm) 미만의 위치이다.
도 56f는 시작 깊이 기준점보다 0.250in(0.635cm) 미만의 위치이다.
도 56g는 시작 깊이 기준점보다 0.300in(0.762cm) 미만의 위치이다.
도 56h는 시작 깊이 기준점보다 0.350in(0.889cm) 미만의 위치이다.
도 56i는 시작 깊이 기준점보다 0.400in(1.016cm) 미만의 위치이다.
도 57a는 예시적인 구현예에 따른 엄지를 통해 수직축 주위의 엄지의 직교 위치(즉, 0도, 도시되지 않음)에 대해 약 -30도 회전된 비전 시스템의 이미지 캡처 장치의 위치에 있는 사용자의 엄지의 평면도 이미지이다.
도 57b는 수직축에 대해 약 -15도 회전된 위치이다.
도 57c는 수직축에 대해 약 +15도 회전된 위치이다.
도 57d는 수직축에 대해 약 +30도 회전된 위치이다.
도 58은 예시적인 구현예에 따른 엄지의 운동 캡처로부터 생성된 사용자의 엄지의 포인트 클라우드 렌더링이다.
도 59는 예시적인 구현예에 따른 반사 배경에 대한 사용자의 손가락의 사시 이미지이다.
도 60은 예시적인 구현예에 따른 구조화된 광 기술의 개략도이다.
도 61은 예시적인 구현예에 따른 백색 발광 다이오드(LED)의 색 온도가 교대로 조명되는 동안 이미징된 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 62는 예시적인 구현예에 따른 백색 LED의 색 온도를 교대로 조명되는 동안 반사 배경에 대해 이미징된 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 63은 예시적인 구현예에 따른 줄무늬가 있는 백색 플라스틱 구성 요소로부터의 반사에 의해 조명되는 동안 이미징된 사용자의 손가락의 투시도 이미지이다.
도 64는 예시적인 구현예에 따른 천공된 금속 조각을 통해 빛나는 빛에 의해 조명되는 동안 이미징된 사용자의 손가락의 투시도 이미지이다.
도 65는 예시적인 구현예에 따른 천공된 금속 조각을 통해 빛나는 빛에 의해 조명되는 동안 이미징된 사용자의 손가락의 근접 투시도 이미지이다.
도 66a는 예시적인 구현예에 따른 제1 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 66b는 예시적인 구현예에 따른 제2 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 66c는 예시적인 구현예에 따른 제3 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 66d는 예시적인 구현예에 따른 제4 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 67a는 예시적인 구현예에 따른 제5 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 67b는 예시적인 구현예에 따른 제6 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 67c는 예시적인 구현예에 따른 제7 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 68a는 예시적인 구현예에 따른 제8 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 68b는 예시적인 구현예에 따른 제8 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락에 입사된 스캔 라인의 편향에 의한 대략적인 검출의 단일 프레임이다.
도 69는 예시적인 구현예에 따른 다양한 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래의 사용자의 손가락에 입사하는 스캔 라인에 의해 생성된 복수의 이미지에 대해 트레이스를 수행함으로써 네일 및 손가락의 측면 주름 사이의 트로프의 검출 결과를 포함한다.
도 70은 예시적인 구현예에 따른 사용자의 엄지 및 네일의 스캔 라인 데이터의 단일 프레임에 최적의 매칭을 형성하는 포물선 세트를 포함한다.
도 71은 예시적인 구현예에 따른 최적의 포물선으로 재해석된 모든 스캔 라인의 세트를 포함하는 사용자의 엄지 및 네일의 묘사이다.
도 72는 예시적인 구현예에 따른 엄지손가락의 평면도 이미지에 대해 최적의 포물선으로 재해석된 사용자의 엄지손가락 및 네일의 모든 스캔 라인 세트를 중첩시킨다.
도 73a는 예시적인 구현예에 따른 스윕 라인 변형에 의해 계산된 사용자의 손가락의 포인트 클라우드 렌더링이다.
도 73b는 예시적인 구현예에 따른 스윕 라인 변형에 의해 계산된 사용자의 손가락의 또 다른 포인트 클라우드 렌더링이다.
도 74a는 예시적인 구현예에 따른 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 74b는 예시적인 구현예에 따른 도 74a의 사용자의 손가락의 이미지에 기초하여 보간을 통해 충전되고 이미지 공간 깊이 맵으로 변환된 데이터를 사용하는 포인트 클라우드 렌더링이다.
도 75a는 예시적인 구현예에 따른 구조화된 광 기술을 사용하는 사용자의 부분적으로 페인팅된 손가락의 평면도 이미지이다.
도 75b는 예시적인 구현예에 따른 도 75a의 구조화된 광 기술을 사용하는 사용자의 부분 페인팅된 손가락의 이미지에 기초하여 보간을 통해 충전되고 이미지 공간 깊이 맵으로 변환된 데이터를 사용하는 포인트 클라우드 렌더링이다.
도 76a는 카메라를 갖는 사용자의 손가락과 제1 조명 조건하에서 정지 위치에 있는 손가락의 제1 평면 이미지이다.
도 76b는 카메라를 갖는 사용자의 손가락과 제2 조명 조건하에서 정지 위치에 있는 손가락의 제2 평면 이미지이다.
도 76c는 제3 조명 조건하에서 동일한 것의 제3 평면 이미지이다.
도 76d는 제4 조명 조건하에서 동일한 것의 제4 평면 이미지이다.
도 76e는 제5 조명 조건하에서 동일한 것의 제5 평면 이미지이다.
도 76f는 제6 조명 조건하에서 동일한 것의 제6 평면 이미지이다.
도 76g는 제7 조명 조건하에서 동일한 것의 제7 평면 이미지이다.
도 76h는 제8 조명 조건하에서 동일한 것의 제8 평면 이미지이다.
도 77a는 사용자의 손가락 주위를 회전하는 비전 시스템의 캡처 장치의 개략도이고, 여기서 고정 카메라는 예시적인 구현예에 따른 손가락을 통해 대략 축을 중심으로 회전된 복수의 광원에 의해 조명된 이미지를 촬영한다.
도 77b는 예시적인 구현예에 따른 캡처 장치의 렌즈를 위한 조리개에 관한 기판 상의 그리드에 배열된 복수의 광원을 포함하는 비전 시스템의 캡처 장치의 개략도이다.
도 78은 예시적인 구현예에 따른 사용자의 손가락 주위를 회전하는 도 77a의 비전 시스템의 캡처 장치로부터 캡처된 평면도 이미지를 사용하여 생성된 사용자의 손가락의 교정되지 않은 법선 맵이다.
도 79a는 예시적인 구현예에 따른 사용자의 손가락 주위를 회전하는 도 77a의 비전 시스템의 캡처 장치로부터 캡처된 평면도 이미지를 사용하여 생성된 사용자의 손가락의 교정된 법선 맵이다.
도 79b는 예시적인 구현예에 따른 인공 시험 손가락 주위를 회전하는 도 77a의 비전 시스템의 캡처 장치로부터 캡처된 평면도 이미지를 사용하여 생성된 인공 시험 손가락의 교정된 법선 맵이다.
도 80a는 예시적인 구현예에 따른 그리드에 배열된 복수의 광원을 포함하는 도 77b의 비전 시스템의 캡처 장치로부터 캡처된 평면도 이미지를 사용하여 생성된 사용자의 손가락의 교정된 법선 맵이다.
도 80b는 예시적인 구현예에 따른 그리드에 배열된 복수의 광원을 포함하는 도 77b의 비전 시스템의 캡처 장치로부터 캡처된 평면도 이미지를 사용하여 생성된 사용자의 또 다른 손가락의 교정된 법선 맵이다.
도 81은 예시적인 구현예에 따른 벡터 필드로서 표현된 법선의 평면 구성 요소로 표현되고 각 벡터에 관한 3차원 정보를 나타내기 위해 색상 코딩을 사용하는 사용자의 손가락 부분의 묘사이다.
도 82a는 예시적인 구현예에 따른 인공 시험 손가락의 평면도 이미지이다.
도 82b는 예시적인 구현예에 따른 전체적으로 중첩된 에지 검출(HED)을 사용하여 분석된 도 82a의 평면도 이미지이다.
도 82c는 예시적인 구현예에 따른 초기 영역 세분화를 사용하여 분석된 도 82a의 평면도 이미지이다.
도 83a는 예시적인 구현예에 따른 손가락의 평면도 이미지이다.
도 83b는 예시적인 구현예에 따른 HED를 사용하여 분석된 도 83a의 평면도 이미지이다.
도 83c는 예시적인 구현예에 따른 초기 영역 세분화를 사용하여 분석된 도 83a의 평면도 이미지이다.
도 84는 네일 및 손가락의 관심 섹션을 포함하는 손가락의 다이어그램, 및 예시적인 구현예에 따른 관심 섹션을 정확하게 검출하고 차별화하는 데 있어서 다양한 분석 방법의 효과의 비교이다.
도 85a는 손가락보다 짧은 길이를 갖는 네일의 평면도 이미지이고, 여기서 손가락 끝 경계는 예시적인 구현예에 따른 손톱 추정치로부터 완전히 추론된다.
도 85b는 손가락보다 긴 길이를 갖는 네일의 평면도 이미지이고, 여기서 손가락 끝 경계는 예시적인 구현예에 따른 손톱 추정치로부터 부분적으로 추론된다.
도 86a는 예시적인 구현예에 따른 백색광으로 조명된 손가락의 뒤의 이미지이다.
도 86b는 도 86a의 백색광으로 조명되고 예시적인 구현예에 따른 에지 검출로 분석된 손가락 뒤의 묘사이다.
도 86c는 도 86a의 자외선으로 조명되고 예시적인 구현예에 따른 에지 검출로 분석된 손가락 뒤의 묘사이다.
도 87a는 예시적인 구현예에 따른 백색광으로 조명된 손가락의 평면도 이미지이다.
도 87b는 도 87a의 백색광으로 조명되고 예시적인 구현예에 따른 에지 검출로 분석된 손가락의 검출이다.
도 88a는 예시적인 구현예에 따른 백색광으로 조명된 손가락의 사시 이미지이다.
도 88b는 예시적인 구현예에 따른 에지 검출에 의해 분석된 도 88a의 백색광으로 조명된 손가락의 묘사이다.
도 89는 사용자의 손가락 및 네일을 이미징하기 위한 이미지 캡처 리그의 개략도이고, 상기 리그는 예시적인 구현예에 따른 2개의 평면에 배향된 LED 스트립, 카메라 및 프로젝터를 포함한다.
도 90a는 사용자의 손 및 손가락을 이미징하기 위한 이미지 캡처 리그의 프로토타입의 후면 투시도이고, 상기 리그는 동일한 평면에 장착된 3개의 LED 패널, 평면을 통한 카메라, 및 예시적인 구현예에 따른 이미지 캡처 리그 내의 프로젝터를 포함한다.
도 90b는 사용자의 손과 손가락을 이미징하기 위한 이미지 캡처 리그의 우측면도이고(여기서, 인공 시험 손가락은 리그에 배치되어 있음), 상기 리그는 예시적인 구현예에 따른 동일한 평면을 향한 3개의 LED 패널, 카메라, 및 프로젝터를 포함한다.
도 91a는 이미지 캡처 프로세스의 약 120개의 이미지의 제1 평면도 이미지이고, 여기서 카메라는 예시적인 구현예에 따른 손가락의 베이스(예: 도 91a)로부터 손가락 끝(예: 도 91d)으로 스캐닝하는 수평 레이저 프로젝터 라인의 단일 수윕을 기록한다.
도 91b는 예시적인 구현예에 따른 이미지 캡처 프로세스의 약 120개의 이미지의 제2 평면도 이미지이다.
도 91c는 예시적인 구현예에 따른 이미지 캡처 프로세스의 약 120개의 이미지의 제3 평면도 이미지이다.
도 91d는 예시적인 구현예에 따른 이미지 캡처 프로세스의 약 120개의 이미지의 제4 평면도 이미지이다.
도 91e는 이미지 캡처 프로세스의 약 30개의 이미지의 제1 평면도 이미지이고, 여기서 카메라는 예시적인 구현예에 따른 약 30개의 상이한 백색 LED 각각에 대한 이미지를 기록한다.
도 91f는 예시적인 구현예에 따른 이미지 캡처 프로세스의 약 30개의 이미지의 제2 평면도 이미지이다.
도 91g는 예시적인 구현예에 따른 이미지 캡처 프로세스의 약 30개의 이미지의 제3 평면도 이미지이다.
도 91h는 예시적인 구현예에 따른 이미지 캡처 프로세스의 약 6개의 이미지의 평면도 이미지이고, 여기서 카메라는 약 6개의 상이한 자외선 LED 각각에 대한 이미지를 기록한다.
도 91i는 예시적인 구현예에 따른 이미지 캡처 프로세스의 약 3개의 이미지의 평면도 이미지이고, 여기서 카메라는 백색광 및 자외선 LED로 조명된 이미지를 기록한다.
도 92는 예시적인 구현예에 따른 네일 식별 방법의 데이터 흐름도이다.
도 93a는 예시적인 구현예에 따른 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제1 네일 추정치와 중접된 제1 네일의 제1 평면도 이미지이다.
도 93b는 예시적인 구현예에 따른 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제2 네일 추정치와 중첩된 제2 네일의 제2 평면도 이미지이다.
도 93c는 예시적인 구현예에 따른 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제3 네일 추정치와 중첩된 제3 네일의 제3 평면도 이미지이다.
도 93d는 예시적인 구현예에 따라 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제4 네일 추정치와 중첩된 제4 네일의 제4 평면도 이미지이다.
도 93e는 예시적인 구현예에 따른 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제5 네일 추정치와 중첩된 제5 네일의 제5 평면도 이미지이다.
도 93f는 예시적인 구현예에 따른 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제6 네일 추정치와 중첩된 제6 네일의 제6 평면도 이미지이다.
도 94a는 예시적인 구현예에 따른 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제7 네일 추정치(과대 평가)와 중첩된 제2 네일의 제7 평면도 이미지이다.
도 94b는 예시적인 구현예에 따른 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제8 네일 추정치(과소 평가)와 중첩된 제6 네일의 제8 평면도 이미지이다.
도 95a는 예시적인 구현예에 따라, 측면 네일 주름에서 2개의 가장 낮은 지점 사이의 가장 넓은 길이로서 정의되는 폭; 및 유리 네일 에지의 정점과 근위 네일 주름 사이의 가장 긴 길이로서 정의되는 길이의 손가락 네일 매개변수의 평면도이다.
도 95b는 예시적인 구현예에 따라, 제1 반경의 원에 의해 근사되는 횡방향 네일 곡률의 손가락 네일 매개변수의 단면도이다.
도 95c는 예시적인 구현예에 따라 제2 반경의 원에 의해 근사되는 종방향 네일 곡률의 손가락 네일 매개변수의 측면도이다.
도 95d는 예시적인 구현예에 따른 네일 플레이트, 유리 에지, 측면 네일 주름 및 근위 네일 주름의 손가락 네일 매개변수의 평면도이다.
도 96a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 투시도이다.
도 96b는 예시적인 구현예에 따른 다양한 기하학의 네일에 걸쳐 압력이 인가되도록 하는 스프링 및 굴곡부를 통한 순응성에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 투시도이다.
도 97은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입 구성 요소의 분해도이다.
도 98a는 예시적인 구현예에 따라, 초기 위치를 포함하는 에나멜 제거 도구 세정 궤적에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도이며, 여기서 측면 굴곡부의 근위 면은 측면 네일 주름의 근위 에지에 압력이 인가되도록 하는 에나멜 면적 곡선의 정점과 정렬된다.
도 98b는 예시적인 구현예에 따라, 에나멜/광택 제거 시스템이 네일에 압착된 후 네일로부터 수직으로 들어 올려지는 제1 세정 단계에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도이다.
도 98c는 예시적인 구현에에 따라, 에나멜/광택 제거 시스템이 네일에 압착된 후 네일로부터 각으로 들어 올려지고 멀어지는 제2 세정 단계에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도이다.
도 98d는 예시적인 구현예에 따라, 에나멜/광택 제거 시스템이 네일에 압착된 후 네일을 가로 질러 수평으로 닦아지는 제3 세정 단계에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도이다.
도 99a는 예시적인 구현예에 따라, 새끼손가락으로부터 에나멜/광택 제거 전의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도이다.
도 99b는 예시적인 구현예에 따라, 제1 세정 단계가 새끼손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 99c는 예시적인 구현예에 따라, 제2 세정 단계가 새끼손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 99d는 예시적인 구현예에 따라, 제3 세정 단계가 새끼손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 100a는 예시적인 구현예에 따라, 약지로부터 에나멜/광택 제거 전의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 100b는 예시적인 구현예에 따라, 제1 세정 단계가 약지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 100c는 예시적인 구현예에 따라, 제2 세정 단계가 약지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 100d는 예시적인 구현예에 따라, 제3 세정 단계가 약지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 101a는 예시적인 구현예에 따라, 중지로부터 에나멜/광택 제거 전의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 101b는 예시적인 구현예에 따라, 제1 세정 단계가 중지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 101c는 예시적인 구현예에 따라, 제2 세정 단계가 중지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 101d는 예시적인 구현예에 따라, 제3 세정 단계가 중지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 102a는 예시적인 구현예에 따라, 검지로부터 에나멜/광택 제거 전의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 102b는 예시적인 구현예에 따라, 제1 세정 단계가 검지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 102c는 예시적인 구현예에 따라, 제2 세정 단계가 검지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 102d는 예시적인 구현예에 따라, 제3 세정 단계가 검지 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 103a는 예시적인 구현예에 따라, 엄지손가락으로부터 에나멜/광택 제거 전의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 103b는 예시적인 구현예에 따라, 제1 세정 단계가 엄지손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 103c는 예시적인 구현예에 따라, 제2 세정 단계가 엄지손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 103d는 예시적인 구현예에 따라, 제3 세정 단계가 엄지손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템에 의해 수행된 후의 에나멜/광택 제거 시스템의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 104a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포하기 전의 새끼손가락의 평면도이다.
도 104b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포하기 전의 약지의 평면도이다.
도 104c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포하기 전의 중지의 평면도이다.
도 104d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포하기 전의 검지의 평면도이다.
도 104e는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포하기 전의 엄지손가락의 평면도이다.
도 105a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포한 후의 새끼손가락의 평면도이다.
도 105b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포한 후의 약지의 평면도이다.
도 105c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포한 후의 중지의 평면도이다.
도 105d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포한 후의 검지의 평면도이다.
도 105e는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 도포한 후의 엄지손가락의 평면도이다.
도 106a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 제거한 후의 새끼손가락의 평면도이다.
도 106b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 제거한 후의 약지의 평면도이다.
도 106c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 제거한 후의 중지의 평면도이다.
도 106d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 제거한 후의 검지의 평면도이다.
도 106e는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 및 탑 코트를 제거한 후의 엄지손가락의 평면도이다.
도 107a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 제거 도구 설계 매개변수의 식별을 포함하는 에나멜/광택 제거 시스템의 정면도이다.
도 107b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 제거 도구 설계 매개변수의 식별을 포함하는 에나멜/광택 제거 시스템의 측면도이다.
도 108a는 예시적인 구현예에 따른 네일 성형 시스템의 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 네일 성형 방법의 퓨 차트 순위(Pugh Chart ranking)의 좌측면이다.
도 108b는 예시적인 구현예에 따른 네일 성형 시스템의 제6, 제7, 제8, 제9 및 제10 네일 성형 방법의 퓨 차트 순위의 우측면이다.
도 109는 예시적인 구현예에 따른 수직 샌딩 드럼 구성을 포함하는 네일 성형 시스템의 투시도이다.
도 110은 예시적인 구현예에 따른 수평 샌딩 드럼 구성을 포함하는 네일 성형 시스템의 투시도이다.
도 111은 예시적인 구현예에 따른 진동 샌딩 디스크 구성을 포함하는 네일 성형 시스템의 투시도이다.
도 112는 예시적인 구현예에 따른 이동성 메커니즘 시스템의 프로토타입에 장착되고 사용자의 확장된 중지와 맞물리는 진동 샌딩 디스크 구성을 포함하는 네일 성형 시스템의 프로토타입의 투시도이다.
도 113a는 예시적인 구현예에 따른 다수의 강모 제어 막대를 포함하는 에나멜/광택 도포 시스템의 개념도이다.
도 113b는 예시적인 구현예에 따른 다수의 방향성 노즐을 포함하는 에나멜/광택 도포 시스템의 개념도이다.
도 113c는 예시적인 구현예에 따른 다수의 튜브 어레이 브러시를 포함하는 에나멜/광택 도포 시스템의 개념도이다.
도 113d는 예시적인 구현예에 따른 다수의 교환 가능한 덕빌 어레이를 포함하는 에나멜/광택 도포 시스템의 개념도이다.
도 113e는 예시적인 구현예에 따른 2차원 그리드 브러시를 포함하는 에나멜/광택 도포 시스템의 개념도이다.
도 114a는 예시적인 구현예에 따른 제1, 제2, 제3, 제4, 제5 및 제6 에나멜/광택 도포 방법 및 에나멜/광택 도포 시스템의 을 평가하는 퓨 차트 순위의 좌측이다.
도 114B는 예시적인 구현예에 따른 제7, 제8, 제9, 제10, 제11, 제12, 제13 및 제14 에나멜/광택 도포 방법 및 에나멜/광택 도포 시스템의 퓨 차트 순위의 우측이다.
도 115는 공압 분배 시스템의 투시도이다.
도 116은 예시적인 구현예에 따른 네일 케어 시스템의 프로토타입의 투시도이다.
도 117은 예시적인 구현예에 따른 네일 케어 시스템의 프로토타입을 위한 이동성 메커니즘 시스템의 프로토타입의 참조 프레임의 개략도이다.
도 118a는 OPI에 의한 It Never Ends 병의 정면도이다.
도 118b는 OPI에 의한 Envy the Adventure 병의 정면도이다.
도 118c는 FingerPaints에 의한 탑 코트 병의 정면도이다.
도 118d는 컬러 테라피에 의한 Haute Springs 병의 정면도이다.
도 118e는 컬러 테라피에 의한 Red-y to Glow 병의 정면도이다.
도 118f는 wet n wild에 의한 Through the Grapevine 병의 정면도이다.
도 119a는 FingerPaints에 의한 반짝이는 광택제 병의 정면도이다.
도 119b는 FingerPaints에 의한 반짝이는 광택제 병의 정면도이다.
도 119c는 Sally Hanson에 의한 반짝이는 광택제 병의 정면도이다..
도 119d는 ORLY에 의한 반짝이는 광택제 병의 정면도이다.
도 119e는 Essie에 의한 Pool Side Service 병의 정면도이다.
도 119f는 Essie에 의한 All In One 병의 정면도이다.
도 119g는 Essie에 의한 Ballet Slippers 병의 정면도이다.
도 120a는 예시적인 구현예에 따른 이동 방향에 대한 에나멜/광택 도포 시스템의 확산 헤드의 시계방향 회전의 측면도이다.
도 120b는 예시적인 구현예에 따른 이동 방향을 갖는 에나멜/광택 도포 시스템의 확산 헤드의 반시계 방향 회전의 측면도이다.
도 121a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 수평으로 회전된 면봉의 투시도이다.
도 121b는 예시적인 구현예에 따른 제1 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템을 위해 수평으로 회전된 면봉을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 121c는 예시적인 구현예에 따른 제2 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템을 위해 수평으로 회전된 면봉을 이용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 121d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 수평으로 회전된 실리콘 아이라이너 브러시의 투시도이다.
도 121e는 예시적인 구현예에 따른 제1 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 수평으로 회전된 실리콘 아이라이너 브러시를 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 121f는 예시적인 구현예에 따른 제2 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 수평으로 회전된 실리콘 아이라이너 브러시를 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 122은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 회전 부착물의 투시도이다.
도 123은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 도 122의 회전 부착물에 대한 페인팅 결과의 투시도이다.
도 124a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 제1 필렛 감소 헤드의 투시도이다.
도 124b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 제2 필렛 감소 헤드의 투시도이다.
도 124c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제1 필렛 감소 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제2 필렛 감소 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124e는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 제1 원추형 팁 헤드의 투시도이다.
도 124f는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 제2 원추형 팁 헤드의 투시도이다.
도 124g는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 제1 원추형 팁 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124h는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 제2 원추형 팁 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124i는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 돔형 팁 헤드의 투시도이다.
도 124j는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 돔형 팁 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124k는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 제1 내부 공동 헤드의 투시도이다.
도 124l은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 제2 내부 공동 헤드의 투시도이다.
도 124m은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제1 내부 공동 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124n은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제2 내부 공동 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124o는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 실리콘 브러시의 투시도이다.
도 124p는 예시적인 구현예에 따른 제1 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템용 실리콘 브러시를 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124q는 예시적인 구현예에 따른 제2 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템용 실리콘 브러시를 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124r은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 미니어처 면봉의 투시도이다.
도 124s는 예시적인 구현예에 따른 제1 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 미니어처 면봉을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124t는 예시적인 구현예에 따른 제2 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 미니어처 면봉을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124u는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 미니어처 면봉의 투시도이다.
도 124v는 예시적인 구현예에 따른 제1 도포 패턴을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템용 미니어처 면봉을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124w는 예시적인 구현예에 따른 제2 도포 패턴을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 미니어처 면봉을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124x는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 제3 필렛 감소 헤드의 투시도이다.
도 124y는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제3 필렛 감소 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 125는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 외부 나선형 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 126a는 예시적인 구현예에 따른 도포 전의 에나멜/광택 도포 시스템용 필렛 감소 헤드의 투시도이다.
도 126b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜을 분배하는 에나멜/광택 도포 시스템용 필렛 감소 헤드이다.
도 126c는 예시적인 구현예에 따른 분배된 에나멜을 확산시키는 에나멜/광택 도포 시스템용 필렛 감소 헤드이다.
도 126d는 예시적인 구현예에 따른 분배되고 확산된 에나멜을 지속적으로 확산시키는 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 필렛 감소 헤드이다.
도 126e는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 도포가 완료된 후 에나멜/광택 도포 시스템용 필렛 감소 헤드이다.
도 127a는 예시적인 구현예에 따른 사용자의 손가락 대신에 중공 튜브에 입사하는 에나멜/광택 도포 시스템용 필렛 감소 헤드의 투시도이다.
도 127b는 예시적인 구현예에 따른 중공 튜브에 입사하는 에나멜/광택 도포 시스템용 필렛 감소 헤드의 측면도이다.
도 127c는 예시적인 구현예에 따른 고통스러운 중공 튜브의 원통형 표면 및 사용자의 손목 관절의 스위프 궤적의 Y-Z 플롯이다.
도 128a는 예시적인 구현예에 따른 도포 전 에나멜/광택 도포 시스템 및 중공 튜브용 필렛 감소 헤드의 상부 투시도이다.
도 128b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜을 분배하고 확산시키는 에나멜/광택 도포 시스템용 필렛 감소 헤드의 상부 투시도이다.
도 128c는 예시적인 구현예에 따른 분배되고 확산된 에나멜을 지속적으로 확산시키는 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 필렛 감소 헤드의 상부 투시도이다.
도 128d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜 도포가 완료된 후의 에나멜/광택 도포 시스템용 필렛 감소 헤드의 상부 투시도이다.
도 129는 회전 헤드의 과도한 혼합에 의해 야기되는 바람직하지 않은 공기 포획으로 적용된 에나멜의 평면도이다.
도 130a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크가 장착된 회전 부착물의 투시도이다.
도 130b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크의 단면도이다.
도 130c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크가 장착된 회전 부착물의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 130d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 낮은 각도 회전 고무 원뿔이 장착된 회전 부착물의 투시도이다.
도 130e는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 낮은 각도 회전 고무 원뿔의 단면도이다.
도 130f는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 낮은 각도 회전 고무 원뿔이 장착된 회전 부착물의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 130g는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크가 장착된 회전 부착물의 투시도이다.
도 130h는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크의 측면도이다.
도 130i는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크가 장착된 회전 부착물의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 131은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 이동성 메커니즘 시스템의 프로토타입에 의해 유지되는 공압 구동 시린지 헤드의 프로토타입의 측면 투시도이다.
도 132는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 구속식 리드 스크류 피스톤 펌프의 투시도이다.
도 133은 예시적인 구현예에 따른 네일 케어 시스템의 스테퍼 모터의 제어 및 동작을 위한 시스템 아키텍처의 다이아그램이다.
도 134는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 일정한 직경의 튜브의 투시도이다.
도 135는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 테이퍼 튜브의 투시도이다.
도 136은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 기본 노즐 팁을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 137은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 기본 노즐 팁의 투시도이다.
도 138a는 예시적인 구현예에 따라, 노즐로부터의 에나멜 흐름의 바람직하지 않은 변경된 분포에 중점을 둔 사용자의 굴곡된 네일과 직교 입사하는 에나멜/광택 도포 시스템의 기본 노즐 팁의 단면도이다.
도 138b는 예시적인 구현예에 따라 노즐로부터의 에나멜 흐름의 개선된 분포에 중점을 둔 사용자의 굴곡된 네일에 통상적으로 입사하는 에나멜/광택 도포 시스템의 기본 노즐 팁의 단면도이다.
도 139a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 플레어 캐슬-팁 포인트의 상부 단면도이다.
도 139b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 플레어 캐슬-팁 포인트의 측면도이다.
도 140a는 예시적인 구현예에 따라 바람직하지 않은 표면 인공물에 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템용 플레어 캐슬-팁 포인트를 사용한 초기 페인팅 결과의 평면도이다.
도 140b는 예시적인 구현예에 따라 바람직하지 않은 표면 인공물에 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템용 플레어 캐슬-팁 포인트를 사용한 제2 페인팅 결과의 투시도이다.
도 141a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 2개의 내측 곡선 비트를 갖는 제1 아이싱 노즐의 투시도이다.
도 141b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 비교적 느슨한 배열로 4개의 내측 곡선 비트를 갖는 제2 아이싱 노즐의 투시도이다.
도 141c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 비교적 긴밀한 배열로 4개의 내측 곡선 비트를 갖는 제3 아이싱 노즐의 투시도이다.
도 142a는 예시적인 구현예에 따라 바람직하지 않은 블롭 형성에 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 필라멘트 노즐 및 필라멘트 노즐을 사용한 제1 페인팅 결과의 투시도이다.
도 142b는 예시적인 구현예에 따라 에나멜의 바람직하지 않은 일관성이 없는 페인팅에 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템용 필라멘트 노즐을 사용한 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 143a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 내부 필라멘트 노즐의 측면 투시도이다.
도 143b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 내부 필라멘트 노즐의 투시도이다.
도 144a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 내부 필라멘트 노즐로부터의 바람직하지 않은 불균일한 흐름의 제1 예의 측면 투시도이다.
도 144b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 내부 필라멘트 노즐로부터의 바람직하지 않은 불균일한 흐름의 제2 예의 측면 투시도이다.
도 144c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 내부 필라멘트 노즐로부터의 바람직하지 않은 불균일한 흐름의 제3 예의 측면 투시도이다.
도 145a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 외부 필라멘트 노즐의 측면 투시도이다.
도 145b는 예시적인 구현예에 따라 에나멜/광택 도포 시스템의 외부 필라멘트 노즐 및 그의 페인팅 결과의 투시도이다.
도 146a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 스프링 플런저 팁의 상부 투시도이다.
도 146b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 스프링 플런저 팁의 페인팅 결과의 상부 투시도이다.
도 147a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 원형 외부 나선형 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 원형 외부 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 주변 궤적 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 주위 궤적 경로 계획이 이어지는 원형 외부로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147e는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 원형 외부에 이은 주위 궤적, 이어서 궤적 후방 내부 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147f는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 원형 외부에 이은 주변 궤적에 이어, 궤적 후방 내부 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147g는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 원형 외부에 이은 나선형 내부 정사각형 (낮은 피치) 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147h는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 나선형 내부 정사각형 (낮은 피치) 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147i는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 원형 외부에 이은 나선형 내부 정사각형 (높은 피치) 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147j는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 나선형 내부 정사각형 (높은 피치) 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147k는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 원형 외부에 이어 정사각형 주위, 이어서 내부 시작 패턴 외부 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147l은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 정사각형 주위에 이어서, 내부 시작 패턴 외부 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147m은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 원형 외부에 이어 전후 선형 경로에 이어서, 주변 궤적 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147n은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 전후의 선형 경로에 이어 주변 궤적 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147o는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 원형 외부에 이어 90도 오프셋 전후 선형 경로에 이어 주위 궤적 (와플 패턴) 경로 계획의 X-Y 다이어그램이다.
도 147p는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 90도 오프셋 전후 선형 경로에 이어 주위 궤적 (와플 패턴) 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147q는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 점조각 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147r은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 점조각 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147s는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 지그재그 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147t는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 지그재그 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147u는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 중첩 정사각형 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147v는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 중첩 정사각형 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147w는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템에 대한 중첩된 D의 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이어그램이다.
도 147x는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 중첩된 D의 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147y는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 중첩된 C의 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147z는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 중첩된 C의 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147aa는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 주변 및 충전 (낮은 피치) 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147ab는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 주변 및 충전 (높은 피치) 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147ac는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 주변 및 충전 (높은 피치) 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 148은 에나멜/광택 도포 시스템의 노즐의 바람직하지 않은 이동 속도 프로파일의 개략도이고, 여기서 노즐은 경로 ABC를 따라 이동하고, 팁이 B로 감속된 후, C로 재가속되면, 노즐은 노즐이 점 B에 가까울수록 표면에 따라 더 느리게 토과하여 점 B 주위에 에나멜의 바람직하지 않은 고농도를 유발한다.
도 149a는 예시적인 예에 따라 표면(예: 시험을 위한 편평한 유리 표면) 상에 분배 노즐을 호버링하고 투명한 탑코트를 압출시킴으로써 비접촉법을 사용하는 탑 코트의 도포의 제1 결과의 평면도이다.
도 149b는 예시적인 구현예에 따라, 표면에 분배 노즐을 호버링하고 투명한 탑 코트를 압출시킴으로써 비접촉법을 사용한 탑 코트의 도포의 제2 결과의 평면도이다.
도 149c는 예시적인 구현예에 따라, 표면에 분배 노즐을 호버링하고 투명한 탑 코트를 압출시킴으로써 비접촉법을 사용한 탑 코트의 도포의 제3 결과의 평면도이다.
도 150a는 예시적인 구현예에 따라, 벌거벗은 에나멜을 사용하여 경화된 에나멜 페인팅된 정사각형에 탑 코트를 호버링함으로써 비접촉 노즐을 사용한 결과의 투시도이다.
도 150b는 예시적인 구현예에 따라, 탑 코트를 갖는 에나멜을 사용하여 경화된 에나멜 페인팅된 정사각형에 탑 코트를 호버링함으로써 비접촉 노즐을 사용한 결과의 투시도이다..
도 151a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 엘라스토머 튜브의 비교적 긴 도관을 갖는 팔로워의 프로토타입의 투시도이다.
도 151b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 교체 가능한 노즐을 갖는 캔틸레버 팔로워의 프로토타입의 측면도이다.
도 151c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 (컬러 코트 및 탑 코트를 분배하기 위한) 시차 노즐을 갖는 엘라스토머 캔틸레버 팔로워의 프로토타입의 측면도이다.
도 151d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 루트 섹션(순응성을 위해)에 비교적 짧은 엘라스토머 섹션을 갖는 강성 캔틸레버 팔로워의 프로토타입의 측면도이다.
도 152는 예시적인 구현예에 따른 도포 표면에 대해 팔로워 시스템 주체의 굴곡에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템의 팔로워 시스템 주체의 프로토타입의 측면도이다.
도 153은 예시적인 구현예에 따라 에나멜/광택 도포 시스템의 팔로워 시스템의 프로토타입의 측면도이며, 상기 팔로워 시스템은 에나멜 및 부착된 리드 스크류 구동 펌프 시스템을 구비한 탑 코트 저장소를 포함한다.
도 154는 예시적인 구현예에 따른 손/발 받침 시스템을 위해 사용자의 손가락을 안정화시키고 배향하기 위한 기계적 고정구의 프로토타입의 투시도이다.
도 155는 예시적인 구현예에 따른 손/발 받침 시스템을 위해 사용자의 손가락을 안정화하고 배향하기 위한 기계적 고정구의 프로토타입에 유지된 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 156a는 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략과 중첩된 사용자의 손가락의 평면도이다.
도 156b는 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략과 중첩된 다른 사용자의 손가락의 평면도이다.
도 157a는 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략에 기초하여 에나멜로 네일을 페인팅하는 제1 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 157b는 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략에 기초하여 네일을 에나멜로 페인팅하는 제2 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 157c는 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략에 기초하여 네일을 에나멜로 페인팅하는 제3 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 157d는 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략에 기초하여 탑 코트로 네일을 페인팅하는 제1 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 157e는 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략에 기초하여 네일을 탑 코트로 페인팅하는 제2 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 157f는 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략에 기초하여 네일을 탑 코트로 페인팅하는 제3 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 158은 예시적인 구현예에 따른 경로 플롯팅 전략에 기초하여 톱 코트로 네일을 페인팅하는 제3 단계 이후의 사용자의 손가락의 평면도이다.
도 159는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅한 후 인공 손가락 및 네일 (손/발 받침 시스템의 프로토타입 지그에 부착된 사용자의 손가락을 안정화 및 배향하기 위한 기계적 고정구의 프로토타입에 배치됨)의 투시도이다.
도 160a는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅한 후의 인공 손가락 및 네일의 투시도이다.
도 160b는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅한 후의 인공 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 160c는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅한 후의 인공 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 160d는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅한 후의 인공 손가락 및 네일의 측면도이다.
도 161a는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅하는 것을 테스트하기 위한 네일 지그의 투시도이다.
도 161b는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅하는 제1 단계 동안 네일 지그의 투시도이다.
도 161c는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅하는 제2 단계 동안 네일 지그의 투시도이다.
도 161d는 예시적인 구현예에 따라 네일을 페인팅하는 제3 단계 후 네일 지그의 투시도이다.
도 162a는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제1 인공 네일의 평면도이다.
도 162b는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제2 인공 네일의 평면도이다.
도 162c는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제3 인공 네일의 평면도이다.
도 162d는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제4 인공 네일의 평면도이다.
도 162e는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제5 인공 네일의 평면도이다.
도 162f는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제6 인공 네일의 평면도이다.
도 162g는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제7 인공 네일의 평면도이다.
도 162h는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제8 인공 네일의 평면도이다.
도 162i는 예시적인 구현예에 따른 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제9 인공 네일의 평면도이다.
도 163은 예시적인 구현예에 따른 멀티-툴 시스템에 통합되고 이동성 메커니즘 시스템의 말단에 의해 유지되는 소모성 카트리지/포드 시스템의 3개의 카트리지의 투시 분해도이다.
도 164는 예시적인 구현예에 따른 소모성 카트리지/포드 시스템의 3개의 카트리지의 투시 분해도이다.
도 165는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거 시스템을 위한 소모성 카트리지/포드 시스템의 에나멜 제거 카트리지의 투시 분해도이다.
도 166은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거 시스템용 소모성 카트리지/포드 시스템의 에나멜 제거 카트리지용 스프링 로딩 스캐폴드의 투시 분해도이다.
도 167은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거 시스템용 소모성 카트리지/포드 시스템의 에나멜 제거 카트리지용 에나멜 저장소의 부분 컷어웨이 측면도이다.
도 168은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 제거 시스템용 소모성 카트리지/포드 시스템의 에나멜 제거 카트리지용 에나멜 저장소와 맞물리는 램의 부분 컷어웨이 분해 측면도이다.
도 169는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 소모성 카트리지/포드 시스템용 모터 및 기어에 의해 구동되는 복수의 카트리지를 유지하기 위한 컬러 매거진의 투시도이다.
도 170은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 소모성 카트리지/포드 시스템용 램, 가요성 부재, 튜브 및 노즐과 맞물리는 저장소의 투시도이다.
도 171은 저장소가 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 소모성 카트리지/포드 시스템용 기어 램, 가요성 부재, 튜브 및 노즐과 맞물리도록 하는 기어 램의 투시도이다.
도 172는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 소모성 카트리지/포드 시스템을 위한 한 쌍의 카트리지를 보유하기 위한 어플리케이터 트레이의 투시도이다.
도 173a는 바늘이 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 막힌 노즐과 맞물리기 전의 제1 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
도 173b는 바늘이 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 막힌 노즐과 맞물린 후의 제1 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
도 174a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 에나멜 희석제의 저장소에 막힌 노즐을 삽입하기 전의 제2 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
도 174b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템용 에나멜 희석제의 저장소에 막힌 노즐을 삽입하기 후의 제2 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
도 175a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 노즐에 대해 개방된 위치에 스윙 도어 및 고무 패드를 갖는 제3 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
도 175b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 노즐에 대해 밀폐된 위치에 스윙 도어 및 고무 패드를 갖는 제3 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
도 176은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 도포 헤드, 에나멜/광택 제거 시스템의 제거 헤드, 및 네일 성형 시스템의 성형 헤드와의 선택적인 맞물림을 위해 갠트리 시스템에 장착된 램 및 램 구동 모터의 투시적 분해도이다.
도 177은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 복수의 도포 헤드 중 하나, 에나멜/광택 제거 시스템의 복수의 제거 헤드 중 하나 및 네일 성형 시스템의 복수의 성형 헤드 중 하나와 선택적으로 맞물림을 위한 갠트리 시스템에 장착된 램 및 램 드라이브 모터의 투시적 분해도이다.
도 178은 예시적인 구현예에 따른 도 117의 이동성 메커니즘 시스템의 프로토타입에 대한 제어 윈도우의 스크린샷이다.
도 179는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 나일론 브러시 팁의 투시도이다.
도 180a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 나일론 브러시 팁의 근접 투시도이다.
도 180b는 예시적인 구현예에 따라 단일 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 나일론 브러시 팁의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 180c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 나일론 브러시 팁의 근접 투시도이다.
도 180d는 예시적인 구현예에 따른 이중 코팅을 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 나일론 브러시 팁의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 181a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 투시도이다.
도 181b는 예시적인 구현예에 따른 가벼운 압력으로 단일 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 181c는 예시적인 구현예에 따른 가벼운 압력으로 단일 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 투시도이다.
도 181d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 투시도이다.
도 181e는 예시적인 구현예에 따른 가벼운 압력으로 이중 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 181f는 예시적인 구현예에 따른 가벼운 압력으로 이중 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 투시도이다.
도 181g는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 투시도이다.
도 181h는 예시적인 구현예에 따라 중압으로 단일 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 181i는 예시적인 구현예에 따라 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 투시도이다.
도 181j는 예시적인 구현예에 따라 중압으로 이중 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 181k는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 투시도이다.
도 181l은 예시적인 구현예에 따른 블롯팅 방법으로 에나멜을 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 182는 예시적인 구현예에 따른 도 117의 이동성 메커니즘 시스템의 프로토타입에 부착된 매니큐어 브러시의 투시도이다.
도 183a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 매니큐어 브러시의 측면도이다.
도 183b는 예시적인 구현예에 따른 이동성 메커니즘 시스템의 선형 로봇 운동을 이용하여 비교적 느린 속도로 에나멜을 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 매니큐어 브러시의 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 183c는 예시적인 구현예에 따른 이동성 메커니즘 시스템의 선형 로봇 운동을 이용하여 비교적 느린 속도로 에나멜을 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 매니큐어 브러시의 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 183d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 매니큐어 브러시의 측면도이다.
도 183e는 예시적인 구현예에 따른 이동성 메커니즘 시스템의 선형 로봇 운동을 이용하여 비교적 빠른 속도로 에나멜을 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템의 매니큐어 브러시의 제3 페인팅 결과의 평면도이다.
도 184a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 저력 확산 어플리케이터의 평면도이다.
도 184b는 예시적인 구현예에 따른 매니큐어를 확산시키는 에나멜/광택 도포 시스템의 저력 확산 어플리케이터의 브러시 강모의 측면도이다.
도 185a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 측면 투시도이다.
도 185b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 말단 투시도이다.
도 186a는 예시적인 구현예에 따른 와류 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186b는 예시적인 구현예에 따른 와류 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186c는 예시적인 구현예에 따른 비교적 더 단단한 와류 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제3 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186d는 예시적인 구현예에 따른 앞뒤 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제4 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186e는 예시적인 구현예에 따른 비교적 긴 스위핑 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제5 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186f는 예시적인 구현예에 따른 비교적 긴 스위핑 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제6 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186g는 예시적인 구현예에 따른 지그재그 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제7 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186h는 예시적인 구현예에 따른 지그재그 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제8 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186i는 예시적인 구현예에 따른 지그재그 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제9 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 비교적 부드럽고 매끄러운 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터의 투시도이다.
도 187b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 비교적 부드럽고 매끄러운 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 비교적 부드럽고 매끄러운 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 텍스처링된 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터의 투시도이다.
도 187e는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 텍스처링된 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187f는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 텍스처링된 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187g는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 마이크로브러시 팁의 투시도이다.
도 187h는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 마이크로브러시 팁을 구비한 중력 구동 말단 이펙터의 투시도이다.
도 187i는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 마이크로브러시 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187j는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 마이크로브러시 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187k는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 중력 구동 로드의 투시도이다.
도 187l은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 중력 구동 로드를 사용하는 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187m은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 중력 구동 웨지의 투시도이다.
도 187n은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 중력 구동 웨지를 사용하는 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187o는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 중력 구동 스퀴지를 구비한 중력 구동 말단 이펙터의 투시도이다.
도 187p는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 중력 구동 스퀴지를 구비한 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 페인팅 결과의 평면도이다.
도 188a는 예시적인 구현예에 따른 공기 확산 기술을 적용하기 전의 에나멜의 투시도이다.
도 188b는 예시적인 구현예에 따른 공기 확산 기술을 적용한 후의 에나멜의 투시도이다.
도 189a는 예시적인 구현예에 따른 평면에 적용된 정사각형 형상의 절단 및 페이스트 에나멜 섹션의 평면도이다.
도 189b는 예시적인 구현예에 따른 인공 손톱에 적용된 맞춤형 형상 절단 및 페이스트 에나멜 섹션의 평면도이다.
도 190a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 네일 아트 패드 프린터의 투시도이다.
도 190b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 네일 아트 패드 프린터를 사용하는 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 190c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 네일 아트 패드 프린터를 사용하는 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 190d는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 연속 기포 발포체 패드의 투시도이다.
도 190e는 예시적인 구현예에 따른 평면 표면 상의 에나멜/광택 도포 시스템의 연속 기포 발포체 패드를 사용하는 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 190f는 예시적인 구현예에 따른 인공 네일 상의 에나멜/광택 도포 시스템의 연속 기포 발포체 패드를 사용하는 제2 페인팅 결과의 투시도이다.
도 191a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제1 만년필 스타일 팁의 투시도이다.
도 191b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제2 만년필 스타일 팁의 투시도이다.
도 192a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제1 펠트 팁의 투시도이다.
도 192b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 제2 펠트 팁의 투시도이다.
도 193a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 핀 그리드 어플리케이터의 투시도이다.
도 193b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 핀 그리드 어플리케이터를 사용하는 페인팅 결과의 평면도이다.
도 194a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 진동 확산 전의 에나멜의 투시도이다.
도 194b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 진동 확산 동안의 에나멜의 투시도이다.
도 194c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 진동 확산 후의 에나멜의 투시도이다.
도 195a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 진동 확산 전의 가파르게 각진 표면 상의 에나멜의 투시도이다.
도 195b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 진동 확산 동안의 가파르게 각진 표면 상의 에나멜의 투시도이다.
도 195c는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템을 위한 진동 확산 후의 가파르게 각진 표면 상의 에나멜의 투시도이다.
도 196은 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 진동 확산 시스템의 구성 요소의 분해 투시도이다.
도 197a는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 기본 노즐 팁을 사용하는 페인팅 결과의 투시도이다.
도 197b는 예시적인 구현예에 따른 에나멜/광택 도포 시스템의 진동 확산 시스템을 사용하는 페인팅 결과의 투시도이다.
도 198은 예시적인 구현예에 따른 사용자의 엄지손가락에 입사되는 큐티클 관리 시스템의 팁의 투시도이다.
도 199A는 예시적인 구현예에 따른 큐티클 관리 시스템에 의한 큐티클 관리를 포함하는 제1 시도 전 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199b는 예시적인 구현예에 따른 큐티클 관리 시스템에 의한 큐티클 관리 후 및 네일에 융기된 필링 베이스 코트를 도포한 후의 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199c는 예시적인 구현예에 따른 네일에 제1 코트를 도포한 후 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199d는 예시적인 구현예에 따른 네일에 제2 코트를 도포한 후 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199e는 예시적인 구현예에 따른 큐티클 관리 시스템에 의한 큐티클 관리를 포함하는 제2 시도 전 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199f는 큐티클 관리 시스템으로 네일을 버니싱함으로써 큐티클 관리 후 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199g는 예시적인 구현예에 따른 큐티클 관리 시스템에 의한 큐티클 관리 후 및 네일에 융기 필링 베이스 코트를 적용한 후의 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199h는 예시적인 구현예에 따라 네일에 제1 코트를 도포한 후 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199i는 예시적인 구현예에 따른 네일에 제2 코트를 도포한 후 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199j는 예시적인 구현예에 따라, 도 199e 및 도 199f의 묘사 사이의 중간 단계의 평면도이고, 여기서 큐티클 파편 및 잘못 배치된 버니싱 도구 경로가 명백하다.
도 200은 예시적인 구현예에 따른 사용자의 손의 왼쪽 검지의 손톱과 맞물려 있는 큐티클 및 근위 네일 주름에 대해 밀도록 구성된 큐티클 관리 도구에 중점을 둔 이동성 메커니즘 시스템 및 큐티클 관리 시스템의 말단의 측면 투시도이다.
도면은 반드시 축척대로는 아님이 주목된다. 도면은 본원에 개시된 주제의 전형적인 측면만을 묘사하기 위한 것이고, 따라서 개시내용의 범위를 제한하는 것으로 간주되어서는 안된다. 당업자는 본원에 구체적으로 기재되고 첨부 도면에 도시된 구조, 시스템, 디바이스, 및 방법은 비제한적인 예시적인 구현예이며, 범위는 청구범위에 의해서만 정의된다는 것을 이해할 것이다.
살롱 품질 매니큐어를 제공하는 시스템, 디바이스 및 방법이 기재된다. 시스템, 디바이스 및 방법은 완전 자동, 예를 들어, 사용자는 그들의 손을 디바이스 내로 삽입하여 완전한 살롱 품질 매니큐어를 수용할 수 있거나, 또는 반자동, 예를 들어, 사용자는 디바이스의 하나 이상의 기능을 제어할 수 있다. 시스템, 디바이스 및 방법은 사용자의 가정 또는 상업적 환경에서 사용하도록 구성될 수 있다.
"손가락", "엄지손가락" 및 "네일" 등과 같은 용어의 사용은 제한적인 것으로 해석되어서는 안 된다. 시스템, 디바이스 및 방법은 발가락 및 발톱; 손가락, 손톱, 발가락 및 발톱의 조합; 또는 비인간 부속물을 위해 구성될 수 있다.
일부 예시적인 구현예에서, 실질적인 처리는 인클로저 외부의 컴퓨터 및 시스템에서 일어날 수 있다. 예를 들어, 비전 처리는 인클로저 내의 프로세서에 대한 요구 사항을 제한하기 위해 클라우드 컴퓨팅 시스템에서 발생할 수 있다.
다른 예시적인 구현예에서, 모든 처리는 인클로저 내에서 수행될 수 있다. 예를 들어, 프로세서가 더 저렴하고 더 강력해짐에 따라 비전 처리는 국소적으로 수행될 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 네일 살롱에 방문하는 것보다 더 빠른 속도와 더 편리한 더 나은 품질 네일 서비스를 제공하는 소비자 중심 자동화 기구일 수 있다. 전문 살롱에서 제공되는 전형적인 서비스는 에나멜 제거, 큐티클 관리, 네일 성형, 에나멜 도포이다. 일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 클린업을 최소화하면서 사용자의 네일의 형상 및 색상에서 목적하는 유연성을 갖는 이러한 매니큐어 단계 모두(예: 사용자의 가정에서)를 수행하는 소형 기구이다. 사용자의 가치는, 예를 들어, 속도와 편의성이다. 소비자는 네일 케어 시스템(100)과 함께 에나멜과 같은 소모품을 사용할 수 있고, 이 소모품은 네일 케어 시스템(100)의 패키징(예: 하나 이상의 일회용 카트리지)과 같은 제형 및/또는 구조로 맞춤화될 수 있다.
일부 구현예에서, 자동화 네일 케어를 위한 장치 및 방법이 제공된다. 일부 구현예에서, 자동화 네일 케어를 위한 장치는 사용자의 하나 이상의 네일(예: 사용자의 손톱 및/또는 발톱 모두)의 하나 이상의 이미지를 생성하기 위한 비전 시스템, 사용자의 하나 이상의 네일에서 에나멜을 제거하는 에나멜 제거 시스템, 사용자의 하나 이상의 네일의 하나 이상의 큐티클을 관리하기 위한 큐티클 관리 시스템, 사용자의 하나 이상의 네일을 성형하기 위한 네일 성형 시스템, 및 사용자의 하나 이상의 네일에 에나멜을 도포하기 위한 에나멜 도포 시스템 중 적어도 하나(예: 모두)를 포함한다.
일부 구현예에서, 자동화 네일 케어를 위한 장치는 비전 시스템, 에나멜 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 네일 성형 시스템 및 에나멜 도포 시스템 중 적어도 하나의 일부를 형성하는 적어도 하나의 로봇 요소(예: 하나 이상의 로봇 암(들), 플랫폼(들) 및/또는 액추에이터(들))를 포함할 수 있다.
일부 구현예에서, 자동화 네일 케어를 위한 장치의 비전 시스템은 이미지 획득을 위한 적어도 하나의 카메라를 포함한다.
일부 구현예에서, 비전 시스템은 적어도 하나의 프로세서 및 정의된 이미지 획득 프로토콜에 따라 적어도 하나의 카메라를 사용하여 적어도 하나의 프로세서가 하나 이상의 이미지를 획득하도록 하기 위한 명령어를 저장하는 비일시적 컴퓨터 판독 가능 메모리를 포함한다. 일부 구현예에서, 정의된 이미지 획득 프로토콜은 하나 이상의 이미징 주파수를 사용하여 사용자의 하나 이상의 네일을 이미징하는 단계; 상이한 각도로부터 손톱의 복수의 이미지를 획득하는 단계; 구조화된 광의 존재하에 사용자의 하나 이상의 네일을 이미징하는 단계 및 포토메트릭 스테레오 기술을 사용하여 사용자의 하나 이상의 네일을 이미징하는 단계 중 적어도 하나를 포함한다.
일부 구현예에서, 비전 시스템의 적어도 하나의 프로세서는 하나 이상의 이미지로부터 사용자의 하나 이상의 네일을 식별하기 위해 이미지 분석을 수행한다. 일부 구현예에서, 이미지 분석은 사용자의 하나 이상의 네일을 나타내는 포인트 클라우드를 생성한다. 일부 구현예에서, 이미지 분석은 복수의 이미지로부터 사용자의 하나 이상의 메일의 3차원 표현을 생성하는 단계를 포함한다. 일부 구현예에서, 이미지 분석은 에지 검출을 포함한다. 일부 구현예에서, 이미지 분석은 피부, 큐티클, 네일 주름 및/또는 네일 중 하나 이상을 구별한다. 일부 구현예에서, 이미지 분석은 사용자의 하나 이상의 네일에 대한 3차원 정보를 추론하기 위해 이미지 내의 구조화된 광의 원래 투영 패턴의 지식을 이용하여 패턴이 하나 이상의 이미지에서 어떻게 변형되거나 왜곡되는지를 결정한다. 일부 구현예에서, 비전 시스템은 구조화된 광을 제공하기 위한 광원을 추가로 포함한다. 일부 구현예에서, 광원은 프로젝터, 패턴화 시트 또는 마스크를 통해 빛을 방출하는 하나 이상의 발광 다이오드, 또는 사용자의 하나 이상의 네일의 하나 이상의 표면을 스위핑하는 레이저를 포함한다. 일부 구현예에서, 광원으로부터의 광은 하나 이상의 표면에서 반사되어 빛을 추가로 구조화하거나 특정 형태의 반사를 생성할 수 있다.
일부 구현예에서, 자동화 네일 케어를 위한 장치의 에나멜 제거 시스템은 에나멜 제거제를 흡수하기 위한 어플리케이터, 및 어플리케이터를 사용자의 하나 이상의 네일과 접촉시키기 위한 어플리케이터에 결합된 도구 부재를 포함한다. 일부 구현예에서, 에나멜 제거 시스템은 에나멜 제거제를 어플리케이터에 제공하기 위한 유체 전달 디바이스를 추가로 포함한다.
일부 구현예에서, 자동화 네일 케어를 위한 장치의 네일 성형 시스템은 로봇적으로 배치된 네일 클립퍼, 사용자의 하나 이상의 네일을 에칭하기 위한 광화학 에칭기, 하나 이상의 레이저 절단 디바이스, 및 샌딩 디바이스 중 적어도 하나를 포함한다. 일부 구현예에서, 샌딩 디바이스는 수직 샌딩 드럼, 수평 샌딩 드럼 및 진동 샌딩 드럼 중 하나 이상을 포함한다.
일부 구현예에서, 자동화 네일 케어를 위한 장치의 에나멜 도포 시스템은 에나멜을 분배하기 위한 분배 시스템, 및 에나멜을 사용자의 하나 이상의 네일에 도포하기 위한 어플리케이터를 포함한다. 일부 구현예에서, 분배 시스템은 펌프 및 유체 전달 시스템 중 적어도 하나를 포함한다. 일부 구현예에서, 어플리케이터는 하나 이상의 확산 어플리케이터, 하나 이상의 회전 스프레더, 하나 이상의 수평 회전 스프레더, 하나 이상의 수직 회전 스프레더, 하나 이상의 브러시 및 하나 이상의 노즐 중 적어도 하나 이상을 포함한다. 일부 구현예에서, 노즐(들)은 일반적으로 네일 플레이트와 접촉하여 유지된다. 일부 구현예에서, 노즐(들)은 네일 플레이트로부터의 거리에서 작동한다(예: 0의 거리를 포함함, 즉 그것과 접촉됨). 일부 구현예에서, 노즐(들)은, 예를 들어, 에나멜을 확산시키는 것을 돕거나 노즐(들)의 보다 정확한 수평 또는 수직 배치를 가능하게 하기 위해 사용되는 하나 이상의 팔로워 디바이스와 함께 임의로 사용된다.
일부 구현예에서, 자동화 네일 케어용 장치는 에나멜, 에나멜 제거제 및 관련 구성 요소, 예를 들어, 흡수성 재료 및/또는, 예를 들어, 디스크, 휠, 드럼, 패드, 또는 다른 유용한 형상의 버핑, 연삭 또는 절제와 같은 에나멜 및 네일 성형제의 제거 또는 재배치를 위한 스크래퍼 및 픽 중 적어도 하나(예: 모두)를 수용하기 위한 적어도 하나의 카트리지(예: 일회용 카트리지)를 포함한다.
예시적인 구현예에 관한 추가적인 세부사항은 이하 및 본 문서 전체에 걸쳐 기재된다.
예시적인 구현예의 설명
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 로봇 매니큐어를 수행하기 위한 하나 이상의 시스템 또는 서브시스템을 포함할 수 있다. 이들 서브시스템은, 예를 들어, 비전 시스템, 에나멜 제거 시스템, 네일 성형 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 에나멜 도포 시스템 중 하나 이상(예: 2개, 3개, 4개, 모두)을 포함할 수 있다. 일부 구현예에 따른 이들 서브시스템에 대한 예가 아래에 제공된다.
도 1은 네일 케어를 위한 제1 시스템(100)의 개략도이다. 시스템(100)은 다음 중 하나 이상을 포함할 수 있다: 비전 시스템(200); 에나멜/광택 제거 시스템(300); 네일 성형 시스템(400); 큐티클 관리 시스템(500); 에나멜/광택 도포 시스템(600); 가속 건조 시스템(700); 손 마사지 시스템(800); 네일 식별/진단/상태 추정 시스템(900); 이동성 메커니즘 시스템(1000); 인클로저(1100); 손/발 받침 시스템(1200); 보조 팔뚝 지지 시스템(1300); 컴퓨터 소프트웨어 시스템(1400); 컴퓨터 하드웨어 시스템(1500); 소모성 카트리지/포드 시스템(1600); 클라우드 컴퓨팅 시스템(1700); 사용자 디바이스(1800); 및 멀티-툴 시스템(1900) 중 하나 이상을 포함하는 네일 케어 시스템(100). 시스템(100)은 방법(2100, 2200, 2300, 2400, 2650, 2700, 2800 및 3100) 및 아키텍처(2500 및 2600) 중 하나 이상을 단독으로 또는 제한 없이 임의의 적합한 조합으로 다른 방법과 조합하여 수행될 수 있다.
예시적인 구현예에서, 시스템(100)은 비전 시스템(200); 에나멜/광택 제거 시스템(300); 네일 성형 시스템(400); 큐티클 관리 시스템(500); 에나멜/광택 도포 시스템(600); 가속 건조 시스템(700); 손 마사지 시스템(800); 네일 식별/진단/상태 추정 시스템(900); 이동성 메커니즘 시스템(1000); 인클로저(1100); 손/발 받침 시스템(1200); 보조 팔뚝 지지 시스템(1300); 컴퓨터 소프트웨어 시스템(1400); 컴퓨터 하드웨어 시스템(1500); 카트리지/포드(예: 소모품) 시스템(1600); 클라우드 컴퓨팅 시스템(1700); 사용자 디바이스(1800); 및 멀티-툴 시스템(1900)(예: 시스템(300, 400, 500, 600, 700 등) 중 하나 이상과 함께 사용하기 위해); 프로토타입(2000); 방법(2100)(예: 시스템(300, 400, 500, 600, 700 등) 중 하나 이상과 함께 사용하기 위해); 방법(2200)(예: 시스템(300, 400, 500, 600, 700 등) 중 하나 이상과 함께 사용하기 위해); 방법(2300)(예: 시스템(300, 400, 500, 600, 700 등) 중 하나 이상과 함께 사용하기 위해); 방법(2400)(예: 시스템(300, 400, 500, 600, 700 등) 중 하나 이상과 함께 사용하기 위해); 아키텍처(2500); 비전 시스템 아키텍처(2600); 머신 비전 방법(2650); 경로 계획 방법(2700)(예: 시스템(300, 400, 500, 600, 700 등) 중 하나 이상과 함께 사용하기 위해); 방법(2800)(예: 시스템(300, 400, 500, 600, 700 등) 중 하나 이상과 함께 사용하기 위해); 방법(3100)(예: 시스템(300, 400, 500, 600, 700 등) 중 하나 이상과 함께 사용하기 위해) 중 하나 이상을 포함할 수 있고; 소모성 포드(1600)는 시스템(300, 400, 500, 600, 700 등) 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 손 마사지 시스템(800), 손 받침/발 받침 시스템(1200), 및 보조 팔뚝 지지(1300)는 통합된 또는 별도의 구성 요소일 수 있다.
시스템(100)은 백업 배터리(도시되지 않음)를 포함할 수 있다. 시스템(100) 및/또는 인클로저(1100)는 전력 코드(예: 전력 연결부(1150)와 맞물리도록 구성됨, 도 4)를 통해 전력이 공급될 수 있다.
이동성 시스템(1000)은 각각의 기계적 연결(495, 595, 895 및/또는 1695)을 통해 성형 시스템(400), 큐티클 시스템(500), 마사지 시스템(800), 제거 시스템(300), 도포 시스템(600) 및/또는 소모성 포드(1600) 각각에 대해 작동적이고 물리적으로 직접 연결 가능할 수 있다.
컴퓨터 소프트웨어 시스템(1400) 및 컴퓨터 하드웨어 시스템(1500)은 통신 디바이스(1510)(예: Wi-Fi) 및 송신기/수신기(1595)에 작동적으로 연결될 수 있다. 클라우드 컴퓨팅 시스템(1700)은 비전 처리 시스템(1710) 및 데이터 분석 시스템(1720)을 포함할 수 있다. 클라우드 컴퓨팅 시스템(17000)은 통신 디바이스(예: Wi-Fi) 및 송신기/수신기(1795)에 작동적으로 연결될 수 있다.
컴퓨터 소프트웨어 시스템(1400) 및/또는 컴퓨터 하드웨어 시스템(1500)은 제1 소프트웨어 제어 또는 감지 연결(295)을 통해 비전 시스템(200)에 작동적으로 연결될 수 있다. 컴퓨터 소프트웨어 시스템(1400) 및/또는 컴퓨터 하드웨어 시스템(1500)은 제2 소프트웨어 제어 또는 감지 연결(795)을 통해 건조 시스템(700)에작동적으로 연결될 수 있다. 컴퓨터 소프트웨어 시스템(1400) 및/또는 컴퓨터 하드웨어 시스템(1500)은 제3 소프트웨어 제어 또는 감지 연결(1095)을 통해 이동성 시스템(1000)에 작동적으로 연결될 수 있다.
사용자의 디바이스(1800)는 통신 디바이스(예: Wi-Fi) 및 송신기/수신기(1895)에 작동적으로 연결될 수 있다. 사용자의 디바이스(1800)는 사용자 인터페이스(1810)를 포함할 수 있다.
하기에서 더 상세히 기재되는 바와 같이, 팔뚝 지지체(1300)는 인클로저(1100)로부터 분리되고, 부착 가능하거나, 인클로저(1100)에 통합될 수 있다.
시스템, 디바이스 및 방법에 대한 모든 설명은 제한하려는 의도가 아니다. 각 시스템은 다른 시스템과 완전히 분리될 수 있거나, 공통적으로 구성 요소를 사용할 수 있거나 주로 다른 시스템용 구성 요소를 가질 수 있다. 예를 들어, 이동성 시스템(1000)은 도포 시스템(600)에만 요구되는 구성 요소를 가질 수 있다.
일부 예시적인 구현예는 이들 시스템 중 하나 이상이 결여될 수 있다. 예를 들어, 시스템(100)은 소위 "네이키드 매니큐어"(즉, 매니큐어 없음)를 제공하는 것만이 의도되는 경우 도포 시스템(600)이 결여될 수 있다.
다른 예시적인 구현예에서, 하나 이상의 시스템은 시스템이 사용자의 편안함을 위해 또는 치료 효과를 달성하기 위해 가열되거나 냉각될 수 있도록 온도 제어 될 수 있다.
일부 예시적인 구현예에서, 하나 이상의 시스템은 별개의 기계 또는 액세서리일 수 있다. 예를 들어, 가속 건조 시스템(700)은 별도의 팬일 수 있고/있거나, 네일 성형 시스템(400)은 별개의 기계로서 이용가능할 수 있다.
일부 예시적인 구현예에서, 추가 또는 대체 유체가 소모성 카트리지(1600)에 함유될 수 있다. 예를 들어, 큐티클 연화 유체, 마사지 유체, 물 등이 소모성 카트리지(1600)에 함유될 수 있다.
동작 방법은 시스템(100)을 전체로서 및/또는 시스템(100)의 각 구성 요소에 대한 방법과 조합하여 제공될 수 있다. 예를 들어, 시스템(100)은 다음 방법 중 하나 이상으로 동작될 수 있다: 활성화 방법; 손 받침 배치 방법; 거친 네일 식별 방법; 에나멜 제거 방법; 정확한 네일 식별 방법; 네일 성형 방법; 큐티클 관리 방법; 클린업 방법; 도포 방법; 건조 방법; 및/또는 사용자 상호작용 방법.
활성화 방법은 개시된 순서 또는 다른 적합한 순서로 아래에 기재되는 하나 이상의 동작을 포함할 수 있다. 예를 들어, 사용자는 조작을 개시하기 전의 다양한 시점에서 인클로저(1100)에 손을 놓을 수 있거나, 매니큐어의 개시 후에 포함 또는 제외하기 위해 다수의 동작을 선택할 수 있다. 활성화 방법은 다음 동작 중 하나 이상을 포함할 수 있다: 사용자는 소모성 카트리지(1600)를 인클로저(1100)의 지정된 수신기 내에 위치시키고; 사용자는 자신의 장치(1800) 및/또는 장치 상의 지시제/제어를 사용하여 사용자가 수행하여 임의의 선택적인 특성(예: 네일 형상)을 구체화하기를 원하는 단계(들)를 표시하고; 일부 구현예에서, 상태 및 제어 정보는 디바이스(예: 1800)가 장치를 동작시키기 위해 필요하지 않도록 인클로저(1100) 상에 제공될 수 있고; 사용자는 손 받침(1200) 상의 인클로저(1100) 내에 한 손을 놓고; 사용자는 매니큐어를 시작하고; 일부 구현예에서, 네일 식별 시스템(100)은 또한 사용자의 손의 지속적인 존재를 모니터링하고; 사용자의 손이 제거되거나 위치가 크게 변경되면, 진행 중인 임의의 공정이 중단되고 일시 중지될 수 있고; 동작이 중단되거나 일시 중지된 경우, 현재 사용 중인 임의의 도구는 적합한 홀더(예: 소모성 카트리지(1600))로 교체할 수 있고; 일부 구현예에서, 시스템(100) 구성 요소는 다음 단계에 대한 상태 정보 또는 단서를 사용자에게 제공하기 위해 사용되고(예를 들어, 네일 식별 시스템의 LED는 인클로저(1100) 내에 손을 놓아야 함을 사용자에게 시사하기 위해 조명될 수 있다); 및/또는 일부 구현예에서, 네일 식별 시스템의 빛은 색상 또는 강도를 변경하여 사용자에게 상태를 표시할 수 있다.
손 받침 배치 방법은 다음 중 하나 또는 둘 다를 포함할 수 있다: 일부 구현예에서, 시스템(100)은 사용자가 수행되는 동작(들)과 그들이 수행되는 손가락 또는 네일에 따라 손 받침(1200)을 적합한 위치로 이동시키도록 요청하는 수단을 가질 수 있고/있거나, 다른 구현예에서, 시스템(100)은 어떤 동작(들)이 수행되는지, 그리고 그들이 수행되는 손가락 또는 네일에 따라 손 받침(1200)을 적합한 위치로 자율적으로 이동시킬 수 있다.
거친 네일 식별 방법은 임의의 특정 순서로 아래에 열거된 하나 이상의 동작을 포함할 수 있다: 이동성 시스템(1000) 및 모든 다른 도구는, 필요할 경우, 이동하여(예: 300, 400, 500, 600, 700, 800 등)이 카메라(예: 비전 시스템(200))에 의한 사용자의 네일의 이미지 획득을 방해하지 않도록 할 수 있고; 비전 시스템(200)은 사용자의 손의 하나 또는 일련의 이미지를 캡처할 수 있고, 일부 또는 모든 이미지는 각각 상이한 광원 또는 광원들에 의해 조명되고; 그런 다음 포토메트릭 스테레오 기술을 사용하여 법선 맵(즉, 네일 플레이트의 각각의 작은 영역의 단위 법선 벡터의 맵)을 추정할 수 있고; 이 법선 맵의 통합은 네일 플레이트의 형상의 추정치를 제공할 수 있고; 비전 시스템(200)은 적어도 2개의 상이한 카메라를 본질적으로 동시에 사용하여 일련의 이미지를 캡처할 수 있고; 이러한 이미지는 기하학적 스테레오(즉, 쌍양 시력)에 사용할 수 있고; 이러한 이미지의 일부 또는 전부에 대해 추가 처리가 수행될 수 있고; 하나의 구현예에서, 전체적으로 중첩된 에지 검출을 사용하여 특정 이미지의 에지를 식별할 수 있고; 알고리즘의 조합을 사용하여 사용자의 네일의 일반적인 위치를 오차가 약 +/- 5mm(+/- 0.1969in) 이하인 그들의 위치를 대략적으로 식별하는 정도까지 결정할 수 있고; 에나멜 제거 단계(예: 에나멜/광택 제거 시스템(300)을 사용함)는 미세한 식별을 필요로 하지 않는 방식으로 수행될 수 있기 때문에, 이 단계에서는 미세한 식별이 필요하지 않을 수 있고; 매니큐어의 존재는 미세한 식별 노력을 혼란스럽게 할 수 있고(예를 들어, 사용자는 광택이 네일 주름에 존재하는 경우 시각적으로 네일 주름을 식별하는 것을 극도로 어렵게 하는 매니큐어의 밝은 음영을 착용할 수 있고/있거나 사용자가 인클로저 내부의 음영과 거의 일치하는 매니큐어 음영을 착용하고 있을 수 있다); 거친 네일 식별은 미세한 네일 식별과 유사한 방법을 포함할 수 있지만 요구 사항은 크게 감소되었다. 정확한 네일 식별에 사용된 방법은 거친 네일 식별을 위해 변형되거나 제거될 수 있다. 예를 들어, 에지 위치는 전형적으로 에나멜을 제거하는 데 필요하지 않으며 에지 검출은 매니큐어 또는 네일 아트로 인해 오류에 민감할 수 있기 때문에 에지 검출은 수행되지 않을 수 있다. 유사하게, 네일 플레이트의 형상을 설정할 필요가 없을 수도 있다.
에나멜 제거 방법은 임의의 특정 순서로 아래에 열거된 하나 이상의 동작을 포함할 수 있다: 이동성 시스템(1000)은 유지 영역으로부터 에나멜 제거 도구(300)를 선택하도록 구성될 수 있고; 에나멜 제거 도구를 선택하는 일부로서, 이동성 시스템(1000)은 제거 도구가 유지되는 소모성 카트리지(1600)의 구획을 개봉할 수 있고; 에나멜 제거 도구(300)는 도구의 경로의 정확한 시각적 제어를 필요로 하지 않고 네일의 넓은 평평한 영역 및 네일 에지 주위의 네일 주름 모두에서 매니큐어를 제거하는 방법에 따라 네일의 표면 및 주변 조직을 가로질러 이동할 수 있고; 에나멜 제거 방법은 다음 네일로 이동하기 전에 하나의 네일에서 완료되거나, 동작이 다음 작동이 임의의 네일에서 시작되기 전에 모든 네일에서 완료될 수 있거나 일부 동작이 일부 네일에서 일어날 수 있고, 다른 동작이 다른 네일에서 발생하거나 이들의 임의의 조합일 수 있고; 예를 들어, 제거 도구(300)을 제1 네일에 적용하여 제거제(예: 매니큐어 리무버)를 네일에 남길 수 있도록 하고; 이는 제2 네일에 수행하여 제거제가 제1 네일의 매니큐어에 작용하는 시간을 허용할 수 있고; 이어서 제거 도구(300)는 제거제가 제2 네일 매니큐어에 작용하도록 허용하면서, 제1 네일을 닦을 수 있고; 유사한 방법을 제2 네일에서 광택이 제거되는 동안 제3 네일에 적용될 수 있고, 등등; 이동성 시스템(1000)은 보유 영역 내의 에나멜 제거 도구(300)를 대체할 수 있고; 임의로, 에나멜 제거 도구(300)가 건조되는 것을 방지하기 위해, 유지 영역을 부분적으로 또는 완전히 재밀봉할 수 있고(예를 들어, 사용자가 매니큐어 공정을 일시 중지하는 경우에 유리하다); 및/또는 에나멜 제거 공정이 중단되거나 일시 중지된 경우, 에나멜 제거 시스템(300)은 소모성 카트리지(1600) 내에서 교체될 수 있다.
정확한 네일 식별 방법은 아래에 나열된 작업 중 하나 또는 둘 다를 임의의 특정 순서로 포함할 수 있다: 에나멜이 제거되면, 정확한 네일 식별이 수행될 수 있고/있거나; 다음을 포함하는 여러 기술 중 하나 이상이 정확한 네일 식별에 사용될 수 있다: 물체가 상이한 광원으로부터 나오는 조명으로 이미지화되는 포토메트릭 스테레오; 이미지의 변형의 분석은 표면에서 빛이 반사되는 방식의 변화로부터 표면의 특징(예: 높이)을 추정할 수 있도록 하고; 동일한 물체가 다른 위치에 있는 카메라에 의해 이미징되는 기하학적 스테레오; 이미지 불일치로 이미지 내의 특징의 상대적 위치를 계산할 수 있도록 하고; 이들 계산은 추가 정보(예: 네일의 3차원 위치)를 수집하는 데 사용될 수 있으며, 다른 방법으로 결정된 정보의 추가 검증을 제공하는 데 사용할 수 있고(예: 포토메트릭 스테레오로부터 개발된 네일 형상 추정을 검증하거나 개선하기 위해 네일 플레이트 특징의 3차원 위치를 사용함); 임의의 다양한 알고리즘 중 하나를 사용하는 에지 검출(예: 전체적으로 중첩된 에지 검출); 및 본원에 기재된 다른 방법.
네일 성형 방법은 아래에 열거된 동작들 중 하나 또는 둘 다를 임의의 특정 순서로 포함할 수 있다: 이 네일 성형 방법은 큐티클 관리 방법의 전 또는 후에(또는 큐티클 관리 방법 없이) 수행될 수 있고; 이동성 시스템(1000)은 네일 성형 도구(400)를 선택하고; 사용자의 네일의 이미지는 다양한 네일 형상 및 길이의 옵션과 함께 사용자의 장치(1800)에서 사용자에게 표시되고; 일부 구현예에서, 사용자의 네일에 현재 생성될 수 있는 네일의 형상 및 길이만이 표시되고(예를 들어, 추가의 네일 플레이트 범위를 필요로 하지 않는 형상 및 길이만); 다른 구현예에서, "불가능한" 네일 형상이 표시되어 사용자가 네일이 성장함에 따라 연속적인 매니큐어에 걸쳐 점차적으로 그들을 달성할 수 있도록 하고; 일부 구현예에서, 네일의 형상 및 길이를 선택하는 공정은 매니큐어의 다른 동작이 시작되기 전에 수행되고; 이동성 시스템(1000)은 재료가 네일 성형 도구(400)에 의해 제거될 때 사용자의 목적하는 네일 형상 및 길이를 생성하도록 설계된 경로를 사용하여 네일 성형 도구(400)를 네일 플레이트의 자유 에지를 따라 이동하고; 일부 구현예에서, 네일 성형 도구(400)의 다수의 경로가 사용되며, 각 경로는 소량의 재료만을 제거하고, 경로의 연속적인 동작은 궁극적으로 목적하는 네일 형상 및 길이를 달성하고; 시스템의 일부 구현예에서, 네일 플레이트의 자유 에지의 길이의 서브섹션은 개별적으로 사용자의 목적하는 네일의 형상 및 길이와 일치하고, 목적하는 네일의 형상 및 길이는 네일 플레이트의 자유 에지의 길이의 모든 서브섹션이 형상화될 때 달성되고; 일부 구현예에서, 이미지는 네일 성형 방법 동안 네일 식별 시스템의 카메라로부터 수득되고; 일부 구현예에서, 사용자의 손이 시스템(100)으로부터 제거될 때, 동작은 일시 중지되고; 일부 구현예에서, 사용자의 손이 위치를 변경하면, 네일 성형 경로는 손의 새로운 위치를 반영하도록 업데이트되어 사용자의 목적하는 네일 형상 및 길이를 계속 생성하고; 및/또는 네일 성형 방법이 완료되면, 이동성 시스템(1000)은 홀더 내의 네일 성형 요소(400)를 대체한다. 일부 구현예에서, 네일 성형 방법 동안 네일 식별 시스템의 카메라로부터 수득된 이미지를 사용하여 다음 중 하나 이상을 수행한다: 사용자의 손이 여전히 존재하는지 여부를 결정하는 단계; 및/또는 사용자의 손이 움직였는지 여부를 결정하는 단계; 및/또는 네일 성형 과정을 모니터링하는 단계; 및/또는 사용자의 디바이스(1800) 상에서 네일 성형 과정을 나타내는 단계; 및/또는 사용자의 목적하는 네일 형상 및 길이와 목적하는 형상 및 길이를 향한 현재 과정 사이의 차이를 추정하는 단계; 및/또는 네일 성형을 완료하는 데 필요한 남은 시간의 추정치를 제공하는 단계.
네일 성형 시스템(400)은 특정 작동 매개변수, 예를 들어, 분당 회전수(RPM), 네일에 대한 압력, 진동 주기, 진동의 각 변위를 포함하는 각 변위 등을 갖는 연마 요소로 구성될 수 있다. 네일 성형 시스템(400)은 경로 계획에 따라 구성될 수 있다. 비전 시스템(200)은 네일의 현재 형상을 지속적으로 모니터링하고 그를 목적하는 형상과 비교하여 도구의 계획된 경로를 업데이트하도록 구성될 수 있다.
일부 예시적인 구현예에서, 네일 성형 시스템(400)은 진동 디스크(440)(예: 도 32)를 포함할 수 있다. 진동 디스크(440)는 약 0.5in(약 1.27cm)의 직경을 가질 수 있다. 진동 디스크(440)는 각 방향으로 약 20도 전후로 진동할 수 있다. 진동 디스크(440)는 약 37Hz의 주파수로 진동할 수 있다. 진동 디스크(440)는 연마 재료를 포함할 수 있다. 연마재는 유리일 수 있다. 연마재의 거칠기는 약 180그릿일 수 있다. 일부 특정 예시적인 구현예에서, 연마재는 연마재가 사용자에게 불쾌감 또는 상해의 위험을 거의 또는 전혀 나타내지 않도록 선택될 수 있다. 예를 들어, 일부 구현예는 다수의 작고 비교적 매끄러운 미시적 융기를 함유하는 표면을 갖는 유리로 구성된 파일을 포함한다(다수의 또는 더 날카롭고, 더 각진 특징을 함유할 수 있는 사포와 대조적으로). 이러한 융기는 피부에 거의 또는 전혀 영향을 미치지 않고 네일 플레이트 재료(케라틴)를 효과적으로 제거할 수 있다.
큐티클 관리 방법은 아래에 열거된 하나 이상의 동작을 임의의 특정 순서로 포함할 수 있다: 이 단계는 임의로 네일 성형 전 또는 후에 수행될 수 있고; 이동성 시스템(1000)은 보유 영역으로부터 큐티클 관리 도구(500)를 선택할 수 있고; 이동성 시스템(1000)은 큐티클의 위치 및 범위의 정확한 식별을 필요로 하지 않고 큐티클을 최적으로 제거하기 위해 개발된 경로에 따라 큐티클 관리 도구(500)를 네일 표면 위 및 주위로 이동시킬 수 있고; 임의로 네일 식별 시스템을 큐티클 관리와 함께 사용할 수 있고; 및/또는 임의로 네일 식별 시스템의 카메라를 사용하여 사용자의 큐티클 이미지를 캡처할 수 있다. 네일 식별 시스템의 카메라에 의해 캡처된 이미지는 사용자의 손이 여전히 존재하는지 여부를 결정하는 데; 및/또는 사용자의 손이 움직였는지 여부를 결정하는 데; 및/또는 큐티클 관리의 과정을 모니터링하는 데; 및/또는 사용자의 디바이스(1800) 상에 큐티클 관리 과정을 나타내는 데; 및/또는 사용자의 큐티클 범위를 추정하는 데; 및/또는 큐티클을 가장 효과적이고 효율적으로 제거하기 위한 큐티클 관리 도구(500)의 경로를 계획하는 데; 및/또는 큐티클 관리 동작이 완료되었는지를 추정하는 데; 및/또는 큐티클 관리를 완료하는 데 필요한 시간의 추정치를 제공하는 데 사용될 수 있다.
클린업 방법은 아래에 열거된 하나 이상의 동작을 임의의 특정 순서로 포함할 수 있다: 에나멜 제거 시스템(300)은 다시 네일 성형 또는 큐티클 관리로 인한 임의의 분진 또는 파편을 제거하는 데 사용될 수 있고; 이동성 시스템(1000)은 소모성 카트리지(1600)로부터 적합한 도구를 선택할 수 있고; 이전에 사용된 스폰지/브러시가 사용되거나 다른 스폰지/브러시가 사용될 수 있고; 이동성 시스템(1000)은 클린업 도구, 예를 들어, 시스템(300)을 경로를 따라 네일의 표면 및 주변 조직 상에서 이동하여 분진 및 파편을 효과적으로 제거할 수 있고; 임의로, 비전 시스템(200)은 클린업을 위해 사용될 수 있고/있거나; 이동성 시스템(1000)은 소모성 카트리지(1600) 내의 클린업 도구(예: 300)를 대체할 수 있다.
도포 방법은 아래에 열거된 하나 이상의 동작을 임의의 특정 순서로 포함할 수 있다: 이동성 시스템(1000)은 도포 도구(600)를 선택할 수 있고; 도포 도구(600)의 선택의 일부로서, 매니큐어 및 임의의 보조 유체(예: 베이스 코트 또는 탑코트)를 함유하는 저장소 또는 저장소들이 개방되어 사용될 수 있도록 하고; 하나 이상의 프로세서는 도포 도구(600)의 분배 장치를 제어하여 정확한 양의 유체(예: 베이스 코트, 매니큐어, 또는 탑코트)를 도구(600)의 노즐에 전달할 수 있고; 노즐은 하나 이상의 완전한 커버리지, 네일 플레이트 주위 조직에 도포된 매니큐어가 없고/없거나 코트의 최대 균일성(예: 두께 균일성, 드립의 부족, 얇은 반점의 부족 등)을 보장하는 경로에 따라 네일 플레이트의 표면 위로 이동할 수 있고; 일부 구현예에서, 노즐은 초기에 네일 플레이트의 외부 경계를 기재한 다음 이동하여 영역의 벌크를 충전시킬 수 있고; 일부 구현예에서, 노즐은 부스트로페돈 경로(예: "콘로우")를 기재할 수 있고; 일부 구현예에서, 노즐은 나선형 경로를 기재할 수 있고; 일부 구현예에서, 나선은 네일 플레이트의 중심을 향해 시작되고, 그것이 넓어짐에 따라 형상을 점차적으로 변경하여 결국 네일 플레이트의 범위까지 확인할 수 있고; 다른 구현예에서, 나선형 경로는 네일 플레이트의 범위의 윤곽을 그리는 것으로 시작하고, 그의 종점을 향해 나선형으로 들어감에 따라 점차적으로 거의 원형에 가까워질 수 있고; 일부 구현예에서, 노즐의 원위 팁은 의도적으로 네일 플레이트와 접촉하여 유지될 수 있고; 일부 구현예에서, 노즐의 원위 팁은 네일 플레이트 위의 작은 거리(예: 약 0.5mm(약 0.01969in))를 유지하여 네일 플레이트와 유제 접촉만이 존재하도록 할 수 있고, 이는 후속 코트가 이전에 도포된 코트를 손상시키는 것을 방지하는 데 도움이 될 수 있고; 도포 방법이 완료되면, 이동성 시스템(1000)이 도포 도구(600)를 대체할 수 있고; 도포 방법이 중단되거나 일시 중지되면, 이동성 시스템(1000)은 소모성 카트리지(1600) 내의 도포 도구(600)를 대체할 수 있고/있거나; 일부 구현예에서, 상기 대체는 도포 시스템(600)(예: 노즐 팁)에 존재하는 임의의 유체가 경화되는 것을 방지하는 역할을 한다.
건조 방법은 하기에 열거된 하나 이상의 동작을 임의의 특정 순서로 포함할 수 있다: 건조 시스템(700)(예: 팬)을 작동시켜 사용자의 네일을 보다 신속하게 건조시킬 수 있고; 일부 구현예에서, 건조 시스템(700)은 시스템(100)에 통합되고, 그들이 인클로저(1100) 내에 있는 동안 사용자의 네일에서 작동될 수 있고; 다른 구현예에서, 사용자는 인클로저(1100)로부터 그들의 손을 떼어 내고 건조 시스템(700)이 작동하는 위치에서 인클로저(1100) 근처에 놓을 수 있고; 일부 구현예에서, 네일 식별 시스템의 카메라로부터의 이미지를 사용하여 사용자의 네일이 얼마나 건조되는지를 추정하고 인클로저(1100)로부터 손을 제거하는 것이 적합한 경우에 대한 지침을 제공할 수 있고/있거나; 다른 구현예에서, 건조 시스템(700)은 시스템(100)으로부터 완전히 분리될 수 있고, 사용자는 손을 적절히 놓은 다음 건조 시스템(700)을 활성화시킨다.
사용자 상호작용 방법은 아래에 나열된 하나 이상의 동작을 임의의 특정 순서로 포함할 수 있다: 머신 비전 방식(예: 2650); 일부 구현예에서, 네일 식별 시스템의 카메라는 매니큐어의 동작 또는 이들 동작 결과의 이미지를 제공하는데 사용될 수 있고; 일부 구현예에서, 증강된 현실 기술을 사용하여 사용자의 네일에 특정 색조 또는 유형의 매니큐어를 도포한 결과를 나타낼 수 있고; 일부 구현예에서, 사용자의 네일의 이미지를 사용하여 사용자가 수행하기를 원하는 것으로 표시한 동작의 확인 또는 검증을 제공할 수 있고; 일부 구현예에서, 사용자의 네일의 이미지, 및/또는 사용자의 이전에 사용된 매니큐어 음영에 관한 정보, 및/또는 현재 또는 임박한 패션 트렌드의 정보를 사용하여 미래의 매니큐어의 선택에 대한 추천을 사용자에게 제공할 수 있고; 일부 구현예에서, 사용자는 의류 또는 액세서리의 이미지를 제공하여 매니큐어 음영 또는 유형이 제안될 수 있고; 일부 구현예에서, 포토메트릭 스테레오에 사용되는 LED는 또한 사용자에게 상태를 제공하거나 사용자의 행동을 안내하기 위한 힌트를 제공할 수 있고(예를 들어, 포드(1600)가 인클로저(1100)에 삽입된 후, 포토메트릭 스테레오 LED는 사용자가 인클로저(1100) 내에 손을 놓아야 한다는 것을 나타내도록 조명될 수 있다); 매니큐어의 동작 동안, 상이한 색상의 LED가 조명되어 사용자에게 다양한 표시를 제공할 수 있고/있거나; 일부 구현예에서, 오프셋 중량 등을 구비한 소형 모터가 손 받침(1200) 내에 또는 근처에 포함될 수 있다. 이어서, 진동은 아마도 사용자 디바이스(1800) 상의 LED 및/또는 표시와 함께 사용되어 사용자에게 매니큐어 또는 그의 동작의 상태에 대한 표시를 제공할 수 있다.
시스템(100)과 관련된 다양한 일반적인 방법이 기재되었고, 본 개시내용은 네일 케어 시스템(100)에 제공될 수 있는 각 시스템의 상세한 설명으로 이동한다.
인클로저(1100)는 네일 케어 시스템(100)의 시스템(예: 200, 300, 400, 500, 600, 700, 800 등)을 함유하고 보호하도록 구성될 수 있다. 인클로저(1100)는 적어도 일부 상태 표시 및 사용자 제어를 추가로 포함할 수 있다. 인클로저(1100)는 네일 식별 시스템에 의해 사용되는 빛의 주파수에 대해 실질적으로 불투명할 수 있고, 사용자의 손, 손가락 및 네일의 이미징을 개선하기 위해 주변 광을 제한하고 제어하는 역할을 할 수 있다. 인클로저(1100)는 사용자가 장치(1800)(예: 전화 또는 태블릿)를 편리하게 배치하여 장치의 조작이 수행되는 동안 장치가 한 손으로 쉽게 보여질 수 있고 작동될 수 있도록 하는 특징을 추가로 포함할 수 있다. 사용자의 손 주위 인클로저(1100)의 영역은 인간의 피부 색조의 범위와 배경 사이의 식별을 개선하기 위해 착색될 수 있다. 인클로저(1100)는 전력 및/또는 데이터 연결부(예: USB(1160))를 추가로 포함할 수 있다. 전력 연결(1150)은 보조 디바이스(예: 사용자 디바이스(1800))에 전력을 공급하도록 의도될 수 있다. 전기 연결부(150)는 사용자 디바이스(1800)의 충전을 가능하게 할 수 있거나, 시스템(100)을 테스트 및/또는 디버그하기 위해 서비스 요원에 의해 사용될 수 있다. 전기 연결부(1150)는 외부 장치에 연결의 백업 수단을 제공할 수 있다.
도 2는 소모성 포드/카트리지 시스템(1600) 및 손/발 받침 시스템(1200)을 포함하는 네일 케어를 위한 제1 시스템(100)의 제1 유형의 인클로저(1100)의 정면 투시도이다. 인클로저(1100)는 통합 핸들(1110)을 갖는 시스템(100)을 들어 올리는 사람의 손가락을 수용하기 위한 오목한 포켓(1105)을 포함할 수 있다. 인클로저(1100)는 카트리지(1600)를 수용하기 위한 카트리지 수신기 슬롯(1120)을 포함할 수 있다. 인클로저(1100)는 푸시 버튼, 터치 스크린 또는 임의의 다른 적합한 제어 디바이스일 수 있는 온-디바이스 제어(1130)를 포함할 수 있다. 인클로저(1100)는 실질적으로 사용자의 손의 전부 또는 일부를 수용하도록 구성된 베이(1140)를 포함할 수 있다. 인클로저는 손 받침 시스템을 포함하도록 구성될 수 있다. 베이(1140)는 그 내부에 손 받침 시스템(1200)의 장착 및 이동을 가능하게 하기 위해 그 바닥면에 오목부(1145)를 가질 수 있다.
도 3은 사용자 디바이스(1800)를 포함하는 네일 케어용 제1 시스템(100)의 제2 유형의 인클로저(1100)의 정면 투시도이다. 이 예시적인 구현예에서, 사용자 디바이스(1800)는 제어 디바이스로서 사용될 수 있다. 사용자의 디바이스(1800)는 인클로저(1100)의 선반 상에 배치될 수 있다. 인클로저(1100)는 다른 제어 대신에 또는 다른 제어에 추가하여 사용자 제어 또는 상태 표시자(1130)를 포함할 수 있다. 인클로저(1100)는 본 개시물(1100)의 전면 패널 상에 디바이스 지지 특징(1140)을 포함할 수 있다.
도 4는 도 2의 제1 유형의 인클로저(1100) 또는 도 3의 제2 유형의 인클로저(1100)의 후면 투시도이다. 인클로저(1100)는 전력 연결부(1150) 및/또는 USB 연결부(1160)를 포함할 수 있다.
소모성 카트리지/포드 시스템(1600)(단순히 카트리지 또는 포드로 지칭될 수 있음)은 도 2 내지 4에 도시된 바와 같이 또는 본 개시내용의 임의의 다른 구현예를 참조하여 도시되거나 기재된 바와 같이 구성될 수 있다. 일부 구현예에서, 매니큐어에 필요한 특정 소모품(예: 에나멜, 베이스 코트, 탑 코트, 에나멜 제거제 등)은 삽입 가능한/제거 가능한 카트리지 또는 포드(1600) 내에 함유될 수 있다.
포드(1600)는 단일 사용용(예: 두 손 또는 두 발 중 하나의 완전한 매니큐어용)으로 설계될 수 있다. 이러한 설계의 이점은, 예를 들어, 임의의 특정 매니큐어에 특정 색상을 선택할 수 있는 사용자의 가요성 증가; 또는 유체 연결부의 임의의 경화 또는 막힘이 제거 가능한 카트리지(1600)로 제한되어 문제가 되는 카트리지를 교체함으로써 경화 또는 막힘이 쉽게 해결될 수 있도록 하기 때문에 증가된 신뢰성일 수 있다.
소모성 카트리지(1600)는 또한 비교적 많은 양(예: 약 500mL(약 30.51 입방인치))의 에나멜 제거제를 저장하거나 실질적인 용적(예: 약 500mL(약 30.51 입방인치))의 에나멜 제거 스폰지 등을 저장할 필요를 제거함으로써 네일 케어 시스템(100)의 크기 및 비용을 최소화하는 역할을 할 수 있다. 소모성 카트리지(1600)는 또한, 예를 들어, 가연성인 아세톤의 상당한 용적을 저장할 필요성을 제거함으로써 안전성을 향상시킬 수 있다. 소모성 카트리지(1600)는 또한 구독 모델을 허용하여 사용자가 과도한 저장 요건 없이 카트리지의 꾸준한 공급을 보장하도록 할 수 있다. 구독 모델을 통해 사용자는 구식이 되는 색상에 상당한 지출 없이 현재 패션 트렌드를 따라갈 수 있다.
하나의 구현예에서, 소모성 카트리지(1600)는 다음 중 하나 이상을 포함할 수 있다: 각각 유체(예: 베이스 코트, 탑코트, 에나멜, 에나멜 제거제)를 함유하는 하나 이상의 저장소; 저장소 내의 하나 이상의 유체; 각각 하나 이상의 저장소로부터 하나 이상의 유체를 분배하기 위해 네일 케어 시스템(100)의 이동성 시스템(1000)에 작동 가능하게 결합하도록 제공된 하나 이상의 분배기; 하나 이상의 유체를 사용자의 하나 이상의 네일에 분배하기 위한 하나 이상의 노즐; 하나 이상의 저장소(예: 아세톤을 함유하는 것)에 대한 유체 연결부를 가질 수 있는 에나멜 제거 도구(300)(예: 스폰지, 강모 등); 및/또는 저장소로부터 유체를 수송하는 데 필요한 다른 튜브.
예시적인 구현예에서, 경화될 수 있는 모든 유체(예: 베이스 코트, 탑코트, 에나멜)는 모든 관련 저장소, 분배기, 노즐 및 상호접속 튜브와 함께 소모성 카트리지/포드(1600) 내에 함유될 수 있다. 상기 언급된 바와 같이, 본 구현예의 이점은 임의의 바람직하지 않은 경화의 결과가 소모성 카트리지/포드(1600)로 제한되며, 그것을 교체함으로써 쉽게 해결될 수 있다는 것이다.
예시적인 구현예에서, 카트리지/포드(1600)는 그것을 필요로 하는 도구를 위한 이동성 시스템(1000)으로의 작동 가능한 연결부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 분배기(들)(예: 에나멜/광택 도포 시스템(600))는 이동성 시스템(1000)이 영구적인 연결 없이 분배기를 작동하게 하는 작동 가능한 연결을 특징으로 할 수 있다. 유사하게, 성형 도구(예: 네일 성형 시스템(400))는 이동성 시스템(1000)에 대한 작동 가능한 연결을 포함할 수 있어, 이동성 시스템(1000)은 성형 도구(400)가 소모성 카트리지/포드(1600) 내의 비교적 고가의 모터 등에 대한 영구적인 연결 또는 요건 없이 이동(예: 회전, 진동)하도록 할 수 있다. 유사한 규정이 큐티클 관리 도구(500) 또는 에나멜 제거 도구(300)에 적용될 수 있다.
일부 구현예에서, 이동성 시스템(1000) 사이의 작동 가능한 연결은 추가적인 동작의 자유도를 제공할 수 있다. 예를 들어, 에나멜 제거 도구(300)는 이동성 시스템(1000)에 의해 작동될 수 있는 추가의 회전축을 특징으로 할 수 있다.
손 받침 시스템(1200)은 네일 케어 장치의 동작이 수행되는 동안 사용자의 손이 쉬는 편안한 장소를 제공하도록 구성될 수 있다.
손 받침(1200)은 네일 케어 시스템(100)의 작동에 최적인 위치에 사용자의 손을 배치하도록 사용자를 안내하도록 구성될 수 있다. 또한, 손 받침(1200)은 사용자의 하나 이상의 손가락 또는 발가락의 정렬 및 위치를 배향하는 것을 도울 수 있어 매니큐어의 동작을 위해 잘 배치되도록 한다. 예를 들어, 손가락 사이의 일부 간격은 한 손가락에서 도구 작동을 위한 여백을 허용하고 근처의 인접한 손가락에 영향을 미치지 않도록 하는 데 유용하다. 손 받침(1200)은 또한 다른 네일에 대하여 엄지 손톱의 각도 회전을 최소화하기 위해 엄지손가락을 추가하여 위치시킬 수 있다.
손 받침(1200)은 광범위한 손 크기(예: 1차 백분위수 여성의 손 내지 99번째 백분위수 남성의 손)를 수용하도록 구성될 수 있다.
손 받침(1200)은 왼손 또는 오른손과 동등하게 기능적이도록 구성될 수 있다.
손 받침(1200)은 인간의 피부 색조의 범위와 배경 사이의 최상의 식별을 제공하기 위해 착색될 수 있다.
시스템(100)은 임의로 장치의 최적 동작을 위한 사용자의 편안함 및 손의 최상의 포즈를 보장하는 손목 받침 또는 팔뚝 받침(1300)(인클로저(1100)의 외부에 위치될 수 있음)을 추가로 포함할 수 있다. 손목 또는 팔뚝 손목 받침(1300)은 인클로저(1100)에 영구적으로 부착될 수 있고, 인클로저(1100)에 제거 가능하게 고정될 수 있거나 인클로저(1100)로부터 완전히 분리될 수 있다.
손 받침(1200)은 인클로저(1100)에 대해 고정된 위치 및 배향을 가질 수 있다.
일부 구현예에서, 손 받침(1200)은 인클로저(1100)에 이동 가능하게 부착될 수 있다. 손 받침(1200)의 이동 가능한 부착은 임의의 3개의 상호 수직 축(예: 도 8, 즉 X축(1202), Y축(1204), 및 Z축(1206))에서의 번역을 가능하게 할 수 있다. 손 받침(1200)의 이동 가능한 부착은 2개의 상호 수직 축 주위의 회전(예: 도 8, 방위각(1214) 및 앙각(1212) 주위의 회전)을 추가로 가능하게 할 수 있다. 도 8은 손/발 받침 시스템(1200)의 운동 범위에 중점을 둔 도 2의 제1 유형의 인클로저(1100) 또는 도 3의 제2 유형의 인클로저(1100)의 정면 투시도이다.
일부 구현예에서, 손 받침(1200)은 다양한 위치에 멈춤쇠 또는 정지를 갖도록 설계될 수 있다. 정지 또는 멈춤쇠는 손 받침(1200)의 다수의 별개의 위치(번역) 및/또는 배향(방위각 및 앙각)을 제공할 수 있다.
일부 구현예에서, 손 받침(1200)은 연속적으로 가변 위치(번역) 및/또는 배향(방위각 및 앙각)을 가질 수 있다.
다른 구현예에서, 손 받침(1200)은 장치가 손 받침(1200)의 위치(번역) 및/또는 배향(방위각 및 앙각)을 자율적으로 변경할 수 있게 하는 모터 및/또는 센서를 추가로 포함할 수 있다.
손 받침(1200)은 네일 식별 시스템에서 보이는 마킹 또는 다른 특징(예: 기준, 도 5 참조)을 포함할 수 있다. 기준은, 예를 들어, 기하학적 스테레오를 개선하거나, 비전 시스템(200)이 카메라의 위치 및 각도를 교정할 수 있도록 하거나, 비전 시스템(200)의 동작의 검증을 가능하게 할 수 있다.
도 5는 손/발 받침 시스템(1200)의 후방 투시도이다. 손 받침(1200)은 복수의 기준 마킹을 포함할 수 있다. 기준 마킹은 엄지손가락, 새끼손가락, 또는 손 받침(1200)의 측면들 중 하나에 대한 제1 기준 마킹(1210A); 중지 또는 손 받침(1200)의 중심에 대한 제2 기준 마킹(1210C); 다른 엄지손가락, 새끼손가락 또는 손 받침(1200)의 반대 측에 대한 제3 기준 마킹(1210E), 및 손 받침(1200)의 리딩 에지 및/또는 돌출성 융기 부근의 위치를 마킹하는 제4 기준 마킹(1210X)을 포함할 수 있다. 제2 기준 마킹(1210C)은 손 받침(1200)의 Y 방향에서 중심선(1221)을 중심으로 배향될 수 있다. 제1 기준 마킹(1210A), 제2 기준 마킹(1210C) 및 제3 기준 마킹(1210E)은 손 받침(1200)의 X 방향에서 중심선(1223)을 중심으로 배향될 수 있다. 제1 기준선(1223A) 및 제2 기준선(1223E)은 중심선(1221)에 평행할 수 있고, 사용자의 엄지손가락 또는 새끼손가락의 표적 위치에 상응할 수 있다. 손 받침(1200)의 표면에서 상대적으로 얕은 함몰부는 제1 기준선(1223A) 및 제2 기준선(1223E)에 또는 이에 근접하여 제공되어 새끼손가락, 엄지손가락, 및/또는 손 측면의 사용자의 배치를 안내하는 데 도움이 될 수 있고, 비전 시스템(200)에 대해 공지된 지점을 제공한다.
손 받침(1200)의 표면에는 복수의 손가락 함몰부가 제공될 수 있다. 예를 들어, 손 받침(1200)의 표면에는 검지/약지 함몰부(1220B), 중지 함몰부(1220C) 및 약지/검지 함몰부(1220D)가 있다. 검지/약지 함몰부(1220B), 중지 함몰부(1220C) 및 약지/검지 함몰부(1220D) 각각은 손 받침(1200)의 주위 표면에 입사하는 각각의 변곡점(1222B, 1222C, 1222D)을 가질 수 있다. 검지/약지 함몰부(1220B), 중지 함몰부(1220C) 및 약지/검지 함몰부(1220D) 각각은 각각의 변곡점(1222B, 1222C, 1222D)으로부터 각각의 비교적 깊은 웰(1224B, 1224C, 1224D)로 하강할 수 있다. 검지/약지 함몰부(1220B), 중지 함몰부(1220C) 및 약지/검지 함몰부(1220D) 각각에 대해 기준 중심선(1226)이 제공될 수 있다. 검지/약지 함몰부(1220B), 중지 함몰부(1220C) 및 약지/검지 함몰부(1220D) 각각은 각각의 비교적 깊은 웰(1224B, 1224C, 1224D)로부터 각각의 변곡점(1228B, 1228C, 1228D)으로 상승하여 함몰부의 형상을 완성할 수 있다.
일부 예시적인 구현예에서, 손 받침(1200)은 약 180mm(약 7.087in)(y-방향)의 길이, 약 140mm(약 5.512in)(x-방향)의 폭 및 약 35mm(약 1.378in)(z-방향)의 높이를 가질 수 있고, 이는 적어도 약 15분 동안 광범위한 성인의 손에 편안하게 맞도록 크기가 조정된다. 손 받침(1200)은 왼손 또는 오른손에 동등하게 적합할 수 있다. 손 받침(1200)은 왼손 또는 오른손에 동등하게 적합하도록 양측 대칭을 나타낼 수 있다.
도 6a는 도 2의 제1 유형의 인클로저(1100) 또는 도 3의 제2 유형의 인클로저(1100)의 정면 입면도이다. 인클로저(1100)의 예시적인 폭(1102)은 약 290mm(약 11.42in) 정도일 수 있다. 도 6b는 도 2의 제1 유형의 인클로저(1100) 또는 도 3의 제2 유형의 인클로저(1100)의 우측 입면도이다. 인클로저(1100)의 예시적인 높이(1104)는 약 220mm(약 8.661in) 정도일 수 있다. 도 6c는 도 2의 제1 유형의 인클로저(1100) 또는 도 3의 제2 유형의 인클로저(1100)의 상부도 또는 평면도이다. 인클로저(1100)의 예시적인 깊이(1106)는 약 320mm(약 12.6in) 정도일 수 있다. 이러한 치수는 단지 예시적이다. 인클로저(1100)는 필요에 따라 스케일 업, 스케일 다운, 또는 상이한 비율로 비례될 수 있다.
인클로저(1100)는, 예를 들어, 하나 이상의 비전 시스템(200); 에나멜/광택 제거 시스템(300); 네일 성형 시스템(400); 큐티클 관리 시스템(500); 에나멜/광택 도포 시스템(600); 가속 건조 시스템(700); 손 마사지 시스템(800); 네일 식별/진단/상태 추정 시스템(900); 이동성 메커니즘 시스템(1000); 손/발 받침 시스템(1200); 컴퓨터 소프트웨어 시스템(1400); 컴퓨터 하드웨어 시스템(1500); 소모성 카트리지/포드 시스템(1600); 사용자 디바이스(1800); 및 멀티-툴 시스템(1900)을 포함하는 네일 케어 시스템(100)의 모든 기능 시스템을 둘러싸도록 구성될 수 있다.
시스템(100)의 스케일업 제1 프로토타입(2000)이 제공된다. 도 7a는 네일 케어 시스템(100)의 제1 프로토타입(2000)의 정면 단면도이고; 도 7b는 네일 케어 시스템(100)의 제1 프로토타입(2000)의 우측 단면도이고; 도 7b는 네일 케어 시스템(100)의 제1 프로토타입(2000)의 상부 또는 평면 단면도이다. 프로토타입(2000)의 예시적인 폭(2002)은 약 850mm(약 33.46in)일 수 있고; 프로토타입(2000)의 예시적인 높이(2004)는 약 830mm(약 32.68in)일 수 있고; 프로토타입(2000)의 예시적인 깊이(2006)는 약 890mm(약 35.04in)일 수 있다. 이러한 치수는 단지 예시적이다. 프로토타입(2000)은 스케일 다운되도록 의도되지만, 필요에 따라 스케일 업되거나 상이한 비율로 비례될 수 있다.
프로토타입(2000)은, 예를 들어, 비전 시스템(200)(도 7a, 도 7b 및 도 7c에 도시된 바와 같은 카메라(210, 220, 230)를 포함함); 에나멜/광택 제거 시스템( 300); 네일 성형 시스템(400); 큐티클 관리 시스템(500); 에나멜/광택 도포 시스템(600); 가속 건조 시스템(700); 손 마사지 시스템(800); 네일 식별/진단/ 상태 추정 시스템(900); 이동성 메커니즘 시스템(1000)(도시된 바와 같음); 손/발 받침 시스템(1200)(도시된 바와 같음); 컴퓨터 소프트웨어 시스템(1400); 컴퓨터 하드웨어 시스템(1500); 소모성 카트리지/포드 시스템(1600); 및 멀티-툴 시스템(1900) 중 하나 이상을 포함하는 네일 케어 시스템(100)의 모든 기능 시스템을 포함할 수 있다.
네일 식별/진단/상태 추정 시스템(900)이 제공될 수 있다. 시스템(900)은 비전 시스템(200)을 포함할 수 있다. 도 9는 손 받침(1200)에 배치된 사용자(U)의 손(H)을 갖는 비전 시스템(200) 및 손/발 받침 시스템(1200)의 정면/상부 또는 평면 투시도이다. 비전 시스템(200)은 3개의 카메라(210, 220, 230) 및 사용자(U)의 각 손가락(F), 각 손톱(FN), 엄지손가락(T), 및 엄지손톱(TN)을 포함하는 사용자 손(H)을 조명하기 위한 3개의 상응하는 LED 조명 어레이(215, 225, 235)를 포함할 수 있다.
비전 시스템(200) 및 네일 식별 시스템(900)은 3개의 카메라(210, 220, 230)를 포함할 수 있다. 카메라(220) 중 하나는 카메라(220)가 네 개의 손가락 모두와 왼손 엄지 또는 오른손 엄지 중 적어도 일부를 이미징할 수 있도록 사용자의 중지 손톱 위 및 실질적으로 상부에 장착될 수 있다. 다른 2개의 카메라(210, 230)는 손(H)의 평면 위의 어느 한쪽에 장착될 수 있어 카메라(210, 230) 각각은 적어도 일부의 다른 손가락과 함께 왼손 엄지 또는 오른손 엄지 중 하나를 이미징할 수 있다.
비전 시스템(200) 및 식별 시스템(900)의 다른 구현예는 하나의 카메라를 포함할 수 있고, 하나 이상의 프로세서(시스템(1400)의 일부일 수 있음)의 제어하에 카메라가 결정된 위치로 이동하도록 허용하는 모터, 센서, 및 전자 장치를 추가로 포함할 수 있다.
비전 시스템(200) 및 식별 시스템(900)의 또 다른 구현예는 카메라 각각이 상이한 각도로부터 전체 손(H)을 이미징할 수 있도록 배향된 2개의 카메라를 포함할 수 있다.
비전 시스템(200) 및 식별 시스템(900)의 또 다른 구현예는 하나 이상의 카메라를 포함할 수 있으며, 하나 이상의 카메라의 시야를 벗어나는 손(H), 손가락( F/T), 또는 네일(FN/TN)의 영역의 이미징을 가능하게 하는 역할을 하는 하나 이상의 거울을 추가로 포함할 수 있다.
비전 시스템(200) 및 식별 시스템(900)의 일부 구현예에서, 하나 이상의 거울은 이동 가능하게 장착될 수 있고, 장치는 하나 이상의 거울이 하나 이상의 프로세서(예: 1400)의 제어하에 재배치 또는 재배향되도록 하는 전자 장치, 모터 및/또는 센서를 추가로 포함할 수 있다.
카메라의 특정 수와 위치에 관계없이, 각각은 카메라의 모든 특징(예: 조리개, 초점, 셔터 속도 등)을 구성할 수 있는 프로세서(예: 1400의 일부)에 의해 제어된다.
다수의 LED(예: 약 100개의 LED)가 인클로저(1100) 내에 장착될 수 있어 사용자의 손(H), 손가락(F/T), 및 네일(FN/TN)의 조명이 광범위한 각도로부터(예: 약 180도 범위를 통해) 제공될 수 있다.
각각의 LED는 하나 이상의 프로세서(예: 1400)에 의해 제어(즉, 소멸, 임의의 정도의 밝기로 조명되거나, 임의의 정도의 밝기를 갖는 임의의 패턴으로 펄스화)될 수 있다.
비전 시스템(200) 및 식별 시스템(900)의 또 다른 구현예는 도트 또는 라인 패턴을 사용자의 손, 손가락 및 네일에 투영하는 구조화된 발광기와 같은 다른 조명 광원을 포함할 수 있다(아래 참조). 촬영된 이미지에서 이러한 패턴의 왜곡을 분석하면 이미지의 형상 또는 위치 또는 두 가지 특징(예: 네일(FN/TN), 손가락(F/T))을 나타낼 수 있다(다시 아래 참조).
비전 시스템(200) 및 식별 시스템(900)의 또 다른 구현예는 상기 구현예에 부가하여 또는 그 대신에 네일(FN/T) 또는 손가락(F/T)의 위치를 결정하는 것을 돕는 거리 센서(예: 기하학적 거리 센서 또는 레이저 범위 측정기)를 추가로 포함할 수 있다.
비전 시스템(200) 및 식별 시스템(900)의 또 다른 구현예는 네일의 범위, 형상, 또는 위치를 식별하는 것을 돕기 위한 음향 센서(예: 초음파 변환기)를 포함할 수 있다.
도 10은 네일 케어 시스템(100)의 제1 컴퓨터 장치 또는 시스템(1400)의 흐름도이다. 시스템(1400)은 하나 이상의 카메라(210, 220, 230)에 작동 가능하게 연결될 수 있는 카메라 및 조명 제어기(1405)를 포함할 수 있다. 카메라 및 조명 제어기(1405)는 LED 어레이(215, 225, 235)일 수 있는 조명 디바이스(1425)에 작동 가능하게 연결될 수 있다. 카메라 및 조명 제어기(1405)는 조명 장치(1425)를 작동하고 이미지 또는 복수의 이미지를 이미지 세트(1430)로서 송신 및 수집될 수 있는 하나 이상의 카메라(210, 220, 230)로부터 캡처하도록 구성될 수 있다. 이미지 세트(1430)는 에지 및/또는 특징 검출 시스템(1435)으로 분석될 수 있다. 이미지 세트(1430)는 포토메트릭 스테레오 및/또는 표면 법선 계산 시스템(1440)으로 분석될 수 있다. 이미지 세트(1430)는 공간 결정 시스템(1445) 내의 기하학적 스테레오 및/또는 픽셀 위치로 분석될 수 있다. 포토메트릭 스테레오 및/또는 표면 법선 계산 시스템(1440)으로부터의 출력은 추가적인 분석을 위해 에지 및/또는 특징 검출 시스템(1435)에 입력될 수 있다. 에지 및/또는 특징 검출 시스템(1435)으로부터의 출력은 네일 마스크 시스템(1450)으로 입력될 수 있다. 포토메트릭 스테레오 및/또는 표면 법선 계산 시스템(1440), 공간 결정 시스템(1445) 중의 기하학적 스테레오 및/또는 픽셀 위치, 및 네일 마스크 시스템(1450) 중 하나 이상은 알고리즘(들) 시스템(1455)에 의해 네일 위치 결정으로 출력을 전송할 수 있다. 알고리즘(들) 시스템(1455)에 의한 네일 위치 결정으로부터의 출력은 경로 플래너 시스템(1470)으로 전송될 수 있다.
도구 정보/오프셋 시스템(1460), 사용자 동작 선택 시스템(1465)(사용자의 디바이스(1800)로부터의 입력을 수신할 수 있음), 및 인코더 및/또는 센서(1485) 중 하나 이상은 경로 플래너 시스템(1470)에 정보를 출력할 수 있다. 또한, 인코더 및/또는 센서(1485)는 정보를 운동 제어기(1480)로 출력할 수 있다.
경로 플래너 시스템(1470)은 운동 제어기(1480)에 명령어를 전송할 수 있다. 또한, 이미지 세트(1430)는 카메라(1475)에 의해 손 움직임을 검출하기 위한 시스템으로 전송될 수 있다. 카메라(1475)에 의한 손 움직임을 검출하기 위한 시스템은 운동 제어기(1480)에 명령어를 출력할 수 있다. 운동 제어기(1480)는 시스템(1400)의 일부 또는 이동성 시스템(1000)의 일부일 수 있는 이동성 시스템(1490)에 명령어을 전송하도록 구성될 수 있다.
도 11은 이동성 메커니즘 시스템(1000) 및 손/발 받침 시스템(1200)의 정면/상부 또는 평면 투시도이다. 이동성 시스템(1000)은 다중 자유도 갠트리를 포함할 수 있다. 갠트리는 3개의 상호 수직 선형 축(예: X(1015), Y(1025) 및 Z(1035))에 따른 자유도와 2개의 상호 수직 회전축(예: 방위각 축(1045) 및 앙각 축(1055)) 주위의 두 자유도를 가질 수 있다.
다른 구현예에서, 갠트리는 다소 자유도를 포함할 수 있다. 다른 구현예에서, 이동성 시스템(1000)은 델타 로봇 및/또는 스튜어트 플랫폼(도시되지 않음), 즉 플랫폼의 베이스플레이트 상의 세 위치에 쌍으로 부착되고, 상부 플레이트 상의 세 개의 장착 지점으로 교차하는 6개의 프리즘 액추에이터, 일반적으로 유압 잭 또는 전기 선형 액추에이터를 가질 수 있는 병렬 조작기의 일종을 포함할 수 있고, 여기서 모두 12개의 연결부가 범용 조인트를 통해 이루어질 수 있다.
이동성 시스템(1000)은 자유도를 따라 및 자유도 사이에서 정밀하게 조정된 운동을 달성하기 위해 스테퍼 모터를 추가로 포함할 수 있다. 스테퍼 모터는 정밀한 개방 루프 제어를 가능하게 할 수 있다. 다른 구현예에서, 이동성 시스템(1000)은 표준 DC 브러시 모터를 포함할 수 있다.
이동성 시스템(1000)은 자유도의 일부 또는 전부에 인코더를 포함할 수 있다. 인코더는 절대적이거나 상대적일 수 있다.
일부 구현예에서, 하나 이상의 센서가 사용자의 손가락, 발가락 또는 네일에 가해지는 힘을 측정하는데 사용될 수 있다. 예를 들어, 인라인 힘 센서는 갠트리 시스템과 도구(예: 제거 도구(300), 성형 도구(400), 큐티클 관리 도구(500) 및/또는 도포 도구(600))의 부착 지점 사이에 장착될 수 있다. 다음으로, 힘 센서는 인가된 힘의 양의 추정치를 제어 소프트웨어에 제공할 수 있다. 이 추정치는 제어를 개선하는 데 사용할 수 있다. 하나의 예시적인 구현예에서, 성형 도구(400)의 성형 작업 동안 힘 피드백을 사용하여 적용된 힘이 적합한 한계를 초과하여 증가하기 시작하는 경우 성형 도구(400)의 의도된 경로를 변경할 수 있다. 이러한 힘의 증가는 성형 도구(400)가 사용자의 손가락 또는 발가락을 움직일 위험에 처해 있다는 신호일 수 있고, 아마도 성형 정확도를 감소시킬 수 있다. 이 경우에, 성형 도구(400)는 적합한 양의 힘이 인가되도록 사용자의 네일로부터 멀리 이동될 수 있다. 또한, 예를 들어, 힘 감지를 사용하여, 큐티클 관리 도구(500)가 사용자의 네일 플레이트 또는 네일 플레이트 근처의 피부를 너무 강하게 누르지 않도록 할 수 있다.
예시적인 구현예에서, 이동성 시스템(1000)은 X 방향(1015)에서의 운동을 위해 구성된 제1 암(1010), Y 방향(1025)에서의 운동을 위해 구성된 한 쌍의 평행한 제2 암(1020 및 1022) 및 Z 방향(1035)에서의 운동을 위해 구성된 제3 암(1030)을 포함한다. 제1 암(1010)은 제3 암(1030)에 직교할 수 있는 제2 암(1020, 1022)에 직교할 수 있다. 제4 암(1040)은 제3 암(1030)으로부터 매달려 있을 수 있고, 방위 축(1045)을 중심으로 회전하도록 구성될 수 있다. 제5 암 또는 플레이트(1050)는 제4 암(1040)으로부터 매달려 있을 수 있고 앙각 축(1055)을 중심으로 회전하도록 구성될 수 있다.
도 12는 멀티-툴 또는 툴 교환 시스템(1900) 및 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 정면/상부 또는 평면 투시도이다. 도구 교환 시스템(1900)은 2개의 베이오넷 스타일 돌출부(1910)를 포함할 수 있다. 돌출부(1910)는 장치의 다양한 도구(예: 제거 도구(300), 성형 도구(400), 큐티클 관리 도구(500) 및/또는 도포 도구(600) 등)의 소켓과 일치할 수 있다. 또한, 돌출부(1910)는 이동성 측면 도구 교환 플레이트(1050)(도시된 바와 같음) 내의 상응하는 베이오넷 소켓(1052)과 일치할 수 있다. 도구 교환 시스템(1900)은 하나 이상의 유지 자석(1054)을 추가로 포함할 수 있다. 유지 자석(1054)은 플레이트(1050) 또는 도구(300, 400, 500, 600) 상의 매칭 소켓(1052) 내에 베이오넷 스타일 돌출부(1910)를 유지하는 역할을 할 수 있다. 자석(1054)은 도구의 중량 또는 힘을 직접적으로 지지하지 않는다는 점에서 코터 핀과 유사하게 기능할 수 있지만, 이동성 시스템 돌출부(1910)와 도구 소켓 사이의 맞물림을 보장하는 역할을 할 뿐이다.
도구 교환 시스템(1900)은 하나 이상의 전력 및/또는 데이터 연결부를 추가로 포함할 수 있다. 다른 구현예에서, 자석(1054) 대신에 가역적 래치가 사용될 수 있다. 다른 구현예에서, 베이오넷 스타일 돌출부(1910)는 대응하는 소켓(1052)에 가역적으로 래치되도록 설계될 수 있다. 또 다른 구현예에서, 콜렛은 샤프트와 함께 사용되어 도구를 이동성 시스템(1000)에 록킹할 수 있다.
도 13은 멀티-툴 시스템(1900) 및 제1 에나멜/광택 제거 시스템(300)을 위한 제1 홀더(1920)의 투시도이다. 에나멜 제거 시스템(300)은 하나 이상의 스폰지를 포함할 수 있다. 스폰지는 바닥/결합 표면(302), 제1 측면(304), 제2 측면(306) 및 제3 측면(308)을 가질 수 있다(예를 들어, 도 28 참조). 제2 측면(306)은 제4 측면(도시되지 않음)보다 길고 더 클 수 있다. 도 13에서 알 수 있듯이. 제1 측면(304)은 세정 강모(320)에 대해 비교적 더 짧게 인접하고, 제2 측면(306)에 비교적 더 길게 인접한다. 스폰지는 바닥/결합 표면(302) 상의 반원형 홈(303)(즉, 전형적으로 사용자의 손가락 또는 네일과 접촉하는 영역)을 포함할 수 있다. 일부 예시적인 구현예에서, 반원형 홈(303)은 제거제 시스템(300)의 성능을 향상시킨다.
강모(320)는 폴리에스테르로 제조될 수 있다. 강모(320)는 수분 흡수 능력을 가질 수 있다. 강모(320)는 아세톤 및/또는 제거된 매니큐어를 유지하도록 구성될 수 있다. 강모(320)는 약 15mm(약 0.5906in)의 길이를 가질 수 있다. 각각의 강모(320)의 직경은 약 0.20mm 내지 약 0.30mm 사이, 또는 약 203마이크론 내지 약 305마이크론 사이(약 0.008in 내지 약 0.012in 사이)일 수 있다.
스폰지의 바닥/결합 표면(302)은 각각 약 26mm(약 1in) 길이의 측면을 가질 수 있다. 스폰지의 총 면적은 약 676mm2(약 1in2)일 수 있다. 총 면적이 약 676mm2(약 1in2)인 바닥/결합 표면을 갖는 에나멜 제거 시스템(300)의 스폰지에 의해 가해지는 네일 상의 힘의 범위는 약 2.0N 내지 약 5.0N(약 0.45psi 내지 약 1.1psi)일 수 있다.
도 15는 사용자의 손가락 또는 네일 위에 눌러졌을 때 화살표 방향(314 및 316)으로 측방으로 스폰지의 일부가 확산되어 스폰지가 사용자의 손가락 또는 네일의 형상에 수동적으로 순응하는 경향이 있도록 하기 위해 구성된 스폰지의 반원형 홈(303)을 강조한 도 13의 제1 에나멜/광택 제거제 시스템(300)의 말단 투시도이다. 스폰지는 약 2.0mm 내지 약 8.0mm(약 0.079in 내지 약 0.31in)의 거리로 네일에 대해 압축될 수 있다.
도 14는 멀티-툴 시스템(1900)을 위한 제2 유형의 홀더(1930)와 그 바닥면에 홈 패턴(332)을 구비한 스폰지를 갖는 제2 유형의 에나멜/광택 제거제 시스템(330)의 투시도이다. 스폰지는 사용자의 네일 주위의 네일 주름의 형상(예: 측면 네일 주름 및 근위 네일 주름)에 보다 효과적으로 순응하도록 설계된 복수의 노치(333) 및/또는 돌출부를 추가로 포함할 수 있다. 노치(333) 또는 돌출부는 스폰지가 사용자의 손가락 또는 네일에 눌려질 때 네일 주름에 작용하도록 구성될 수 있다. 구체적으로, 도 14에 도시된 바와 같이, 7개의 홈(333) 및 8개의 돌출부가 스폰지의 바닥면에 형성될 수 있다. 6개의 홈은 각이 질 수 있다. 제7 홈은 스폰지의 중심선을 따라 정렬될 수 있으며, 이는 사용자의 손가락 또는 네일의 대략적인 중심선과 정렬되도록 구성된다. 이 예시적인 구현예에서, 돌출부는 아래에서 볼 때 두 모서리에 있는 비교적 큰 직각 삼각형, 스폰지의 중심선 주위의 비교적 작은 직각 삼각형, 중심선의 양측에 있는 한 쌍의 사다리꼴, 및 다른 두 모서리에 한 쌍의 5개의 측면 불규칙 형상을 포함하는 바닥면 상의 형상을 형성한다. 일부 예시적인 구현예에서, 시스템(330)의 스폰지의 바닥면의 구성은 제거제 시스템(330)의 성능을 향상시킨다.
도 16은 멀티-툴 시스템(1900)을 위한 제1 홀더(1930), 제2 에나멜/광택 제거제 시스템(330), 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 말단 및/또는 손/발 받침 시스템(1200)의 측면 투시도이다. 제2 에나멜/광택 제거 시스템(330)을 구비한 멀티-툴 시스템(1900)은 광택을 제거하기 위해 손가락 네일을 따라, 가로질러 또는 손가락으로 이동하고/하거나 네일 표면 주위를 회전하도록 구성될 수 있다. 구체적으로, 제2 에나멜/광택 제거제 시스템(330)을 구비한 멀티-툴 시스템(1900)은 X 방향(342)에서 좌우로 이동하고, Y 방향(344)에서 안팎으로 이동하고/하거나 Y축(344)을 중심으로 아치형 운동(346)으로 회전하도록 구성될 수 있다.
도 17은 사용자의 손가락 끝과 에나멜/광택 제거제 시스템(300)을 움직이는 제1 방법(2100)의 다이아그램이다. 제1 방법(2100)은 다음 단계들 중 하나 이상을 임의의 적합한 순서로 포함할 수 있다. 네일(2105)의 중심에서 (2101)을 시작한다(도 21의 단계 1). 이어서, 스폰지의 중심을 네일(2110)의 측면 주름으로 구동한다(단계 2). 단계(2110)는 대략적인 시야의 사용에 의해 보조될 수 있다. 단계(2110)는 도구(300)가 어느 쪽을 닦고 있는지에 따라 음의 Z-방향 운동 및 양/음의 X-방향 운동을 포함할 수 있다. 그런 다음, 네일 길이(약 10mm(약 0.3937in) 내지 29mm(1.142in))(2115)를 닦는다(단계 3). 그 후, 도구(300)를 들어 올려 중심/시작점(2120)으로 다시 구동한다(단계 4). 그런 다음, 다른 측면 주름(2125 및 2130)(단계(2110 및 2115)에 상응할 수 있음)에 대해 운동을 반복한다(단계 5 및 6). 마지막으로, 중앙(2135)으로 다시 복귀시키고(단계 7), 한 측면에 대해 단계(2110 및 2115)를 약 2 내지 5회 반복하고, 다른 측면에 대해 단계(2125 및 2130)을 약 2 내지 5회 반복한다. 다음으로, 방법(2100)은 (2199)를 종료할 수 있다.
도 18은 사용자의 손가락 끝과 에나멜/광택 제거제 시스템(300)을 움직이는 제2 방법(2200)의 다이아그램이다. 제2 방법(2200)은 다음 단계들 중 하나 이상을 임의의 적합한 순서로 포함할 수 있다. 네일의 중심(2205)의 중심에서 (2201)(도 22 참조)을 시작한다(단계 1). 그런 다음, (2210)을 약 5mm(약 0.1969in) 전방으로 구동한다(단계 2). 다음으로, 스폰지의 에지를 네일(2215)의 근위 주름으로 구성하기 위해 약 10mm(약 0.3937in) 후방으로 구동한다(단계 3). 그런 다음, 스폰지를 들어 올려 중앙으로 다시 구동하여 시작점(2220)에서 스폰지를 아래로 내려 놓는다(단계 4). 단계(2220)는 스폰지의 에지가 네일의 에지 또는 점착성 표면 등에 잡히는 것을 방지한다. 마지막으로, 단계(2210, 2215, 2220)는 (2225)를 약 2 내지 5회 반복한다(단계 5). 다음으로, 방법(2200)은 (2299)를 종료할 수 있다.
도 19는 사용자의 손가락 끝과 에나멜/광택 제거제 시스템(300)을 움직이는 제3 방법(2300)의 다이아그램이다. 제3 방법(2300)은 다음 단계들 중 하나 이상을 임의의 적합한 순서로 포함할 수 있다. 네일의 중심(2305)에서 (2301)(도 23 참조)을 시작한다(단계 1). 그런 다음, 양의 X 방향, 음의 Z 방향에서 대략적인 시야를 사용하고, 양의 Y 방향으로 증분(2310)당 약 2 내지 5mm(약 0.07874 내지 0.1969in) 증분하여 네일의 한 측면 주름으로 구동한다(단계 2). 그런 다음, 양의 Y 방향(2315)으로 증분하여 중앙으로 다시 구동한다(단계 3). 다음으로, 음의 X 방향, 음의 Z 방향 및 양의 Y 방향(2320)으로 네일의 반대 측면 주름으로 구동한다(단계 4). 그런 다음, 양의 Y 방향(2325)으로 증분하여 중앙으로 다시 구동한다(단계 5). 마지막으로, 네일의 전장이 시력 또는 Y 방향(2330)으로 평균 약 20mm(약 0.7874in)로 결정된 바와 같이 덮일 때까지 단계(2310, 2315, 2320 및 2325)를 반복한다. 다음으로, 방법(2300)은 (2399)를 종료할 수 있다.
도 20은 사용자의 손가락 끝 및 사용자의 네일에 대한 에나멜/광택 제거제 시스템(300)의 강모(320)의 배향의 측면도이다. 강모(320)는 수평 방향에 대해 약 10도 내지 30도의 각도(399)로 배향될 수 있다.
도 21은 도 17의 제1 방법(2100)의 흐름도이다.
도 22는 도 18의 제2 방법(2200)의 흐름도이다.
도 23은 도 19의 제3 방법(2300)의 흐름도이다.
도 24는 에나멜/광택 제거제 시스템(300)의 동작의 제4 방법(2400)의 흐름도이다. 제4 방법(2400)은 다음 단계들 중 하나 이상을 임의의 적합한 순서로 포함할 수 있다. 시스템(300)의 스폰지로 네일을 침지시킨다(2405). 시스템(300)의 강모(320)로 네일을 문지른다(2410). 단계(2410)는 제1, 제2 및 제3 방법(2100, 2200, 2300)을 참조하여 기재된 것들을 포함하는 임의의 적합한 패턴으로 수행될 수 있다. 단계(2410)는 지그재그 패턴으로 수행될 수 있다. 시스템(300)의 스폰지로 네일의 근위 주름으로 닦는다(2415). 닦는 동작으로 네일을 세정한다(2420). 단계(2420)는 측면 주름으로 시작하여 네일의 중앙 아래 또는 네일에 대해 임의의 적합한 방향으로 네일의 길이를 따라 닦음으로써 수행될 수 있다.
도 25는 에나멜/광택 제거제 시스템(300)의 운동 범위 및 사용자(U)의 손(H)의 손가락(F)에 대한 에나멜/광택 제거제 시스템(300)의 대략적인 배향에 중점을 둔 멀티-툴 시스템(1900)을 위한 제2 홀더(1930), 제2 에나멜/광택 제거제 시스템(330), 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 말단 및/또는 손/발 받침 시스템(1200)의 일부의 상부 투시도이다. 시스템(300)은 방향(342)에서 네일 표면에 대해 앞뒤로 또는 좌우로 이동할 수 있다. 시스템(300)은 방향(344)에서 네일 표면에 대해 안팎으로 또는 측방으로 이동할 수 있다.
도 26은 멀티-툴 시스템(1900)을 위한 제2 홀더(1930), 에나멜/광택 제거제 시스템(300), 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 말단 및/또는 에나멜/광택 제거제 시스템(300)과 사용자(U)의 손(H)의 왼쪽 엄지손가락(T)의 왼쪽 엄지 손톱(TN)의 맞물림에 중점을 둔 손/발 받침 시스템(1200)의 말단 투시도이다. 시스템(300) 및 홀더(1930)는 이동성 메커니즘 시스템(1000)에 의해 시스템(300)과 사용자의 엄지손가락(T)의 네일(TN)의 우세한 평면과 수직(직교) 접촉을 수행하기에 적합한 적합한 각도로 회전된다는 것을 유의해야 한다. 기준 마커(1210E)는 시스템(100)이 엄지손가락(T)의 위치를 식별하는 데 도움을 줄 수 있으며, 이는 이러한 유형의 맞물림에 특히 도움이 된다.
에나멜/광택 제거제 시스템(300)의 스폰지는 강모(예: 320)에 대한 지지를 제공하도록 추가로 형상화될 수 있거나, 최상의 제거 효과를 위해 강모를 배치하는역할을 할 수 있다.
에나멜/광택 제거제 시스템(300)의 스폰지는 시스템(100)에 의해 사용되는 매니큐어 제거제(예: 아세톤)의 효과에 실질적으로 면역되는 재료일 수 있다. 하나의 구현예에서, 스폰지는 멜라민 발포체로 구성된다.
에나멜/광택 제거제 시스템(300)의 스폰지는 연화된 매니큐어의 제거를 돕는 발포체 특성을 가질 수 있다. 예를 들어, 비교적 좁고 단단한 셀 벽을 갖는 연속 기포 발포체를 사용하여 약간 연마제 질감을 제공할 수 있다.
에나멜/광택 제거제 시스템(300)의 스폰지는 제거된 매니큐어를 효과적으로 흡수하고, 제거된 매니큐어가 사용자의 손가락 또는 네일에 재침착되는 것을 방지하도록 크기 및 형상화될 수 있다. 게다가, 에나멜/광택 제거제 시스템(300)의 스폰지는 흡수된 매니큐어를 스폰지의 표면으로부터 멀리 떨어져 스폰지의 내부를 향해 흡수하도록 선택된 재료일 수 있다.
에나멜/광택 제거제 시스템(300)은 하나 이상의 스폰지를 가질 수 있고, 이들은 완전히 별개이거나 결합될 수 있다.
에나멜/광택 제거제 시스템(300)의 다수의 스폰지가 결합되는 경우, 회전 자유도(예: 앙각) 중 하나를 중심으로 한 회전이 하나의 스폰지 또는 다른 스폰지를 사용하기에 적합한 위치로 가져오는 역할을 하도록 구성될 수 있다.
에나멜/광택 제거제 시스템(300)은 하나 이상의 브러시(예: 320)를 추가로 포함할 수 있다. 브러시는 사용자의 손가락의 장축에 평행하게 작동하도록 장착될 수 있거나 손가락을 횡단하여 또는 그 사이의 각도로 작동하도록 장착될 수 있다. 브러시는 임의의 강모 형상, 길이, 강성, 조성 및/또는 구성일 수 있다. 브러시는 단일 브러시 내에 다양한 강모 유형 또는 구성을 포함할 수 있다.
하나의 구현예에서, 에나멜/광택 제거제 시스템(300)의 단일 브러시는 사용자의 손가락에 대해 내측으로 사용자의 손가락 방향에 가로질러 장착된다(즉, 스폰지가 네일 플레이트의 바닥으로부터 네일 플레이트의 자유 에지로 이동될 때 스폰지의 "뒤").
다른 구현예에서, 에나멜/광택 제거제 시스템(300)의 2개의 브러시는 1차 브러시의 어느 한 측면에 장착될 수 있고, 사용자의 손가락의 방향과 평행하게 정렬될 수 있다.
도 27은 멀티-툴 시스템(1900)을 위한 제3 홀더(1950), 제3 에나멜/광택 제거제 시스템(350) 및/또는 에나멜/광택 제거제 시스템(350)의 제3 강모(360)의 각도에 중점을 둔 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 말단의 측면 투시도이다. 스폰지는 바닥/결합면(352), 제1 측면(354), 제2 측면(356) 등을 가질 수 있다. 제2 측면과 대향하는 측면은 강모(360)에 인접한 테이퍼링 섹션을 포함할 수 있다. 스폰지는 상기 홈(303)과 유사한 특징을 갖는 바닥/결합면(352) 상에 반원형 홈(353)을 포함할 수 있다. 홀더(1950)의 수직 방향에 대한 강모(360)의 각도(362)는 약 30도이다. 각도(362) 및 테이퍼링 스폰지는 강모(360)가 네일 및 스폰지와 더 밀접하게 접촉할 수 있게 한다.
도 28은 멀티-툴 시스템(1900)의 제1 홀더(1920), 제1 에나멜/광택 제거제 시스템(300) 및 제1 에나멜/광택 제거제 시스템(300)과 사용자의 손의 왼쪽 중지의 네일의 맞물림에 중점을 둔 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 말단의 측면 투시도이다. 약지의 네일(FN)과 새끼손가락(F)만이 도 28에 명확하게 도시되어 있지만, 스폰지의 반원형 홈(303)은 사용자의 왼쪽 중지 네일 위에 직접 근접하도록 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 움직임에 의해 정렬된다.
도 29는 멀티-툴 시스템(1900)의 제4 홀더(1990), 제2 에나멜/광택 제거제 시스템(330) 및 제3 에나멜/광택 제거제 시스템(350)과 사용자의 손(H)의 왼손 검지 네일의 맞물림에 중점을 둔 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 말단의 측면 투시도이다. 이동성 메커니즘 시스템(1000)은 Z축을 중심으로 회전하는 모터 및 기어박스(1032)를 포함할 수 있다. 이동성 메커니즘 시스템(1000)은 회전축의 위치를 결정하기 위한 센서(1034)를 포함할 수 있다. 이동성 메커니즘 시스템(1000)은 강성을 유지하면서 회전을 지지하기 위한 샤프트 및 베어링(1036)을 포함할 수 있다. 이동성 메커니즘 시스템(1000)은 XY 평면에서 축을 중심으로 회전하기 위한 모터 및 기어박스(1042)를 포함할 수 있다. 이동성 메커니즘 시스템(1000)은 회전축의 위치를 결정하기 위한 센서(1044)를 포함할 수 있다. 이동성 메커니즘 시스템(1000)은 정렬 특징, 래치 및 시스템(100)에 대한 전기적 접속을 포함하는 플레이트(1050)를 포함할 수 있다. 멀티-툴 시스템(1900)은 상응하는 정렬 특징, 래치, 및 제거 시스템에 부착된 전기적 접속을 함유할 수 있는 플레이트(1910)를 포함할 수 있다. 제4 홀더(1990)는 플레이트(1050)에 부착될 수 있는 플레이트(1910)에 부착될 수 있다. 이동성 메커니즘 시스템(1000)은 시스템(100) 내의 제어기(예: 1500)와 도구 헤드(예: 330)의 센서 및 모터 사이에 데이터 및 전력을 전송하도록 구성된 케이블(1060)을 포함할 수 있다. 케이블(1060)은 이동성 메커니즘 시스템(1000)이 시스템(1000)을 방해하지 않고 주어진 축을 중심으로 복수의 회전을 완료할 수 있도록 주어진 축 및/또는 슬립 링에 관한 다중 권선을 포함할 수 있다.
도 30은 3개의 에나멜/광택 제거제 시스템을 포함하는 멀티-툴 시스템(1900)의 3조각 홀더, 및 3개의 에나멜/광택 제거제 중 두 번째와 사용자의 손(H)의 왼쪽 중지의 네일의 맞물림에 중점을 둔 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 말단의 측면 투시도이다. 즉, 일부 구현예에서, 복수의 제거 도구(300, 300)이 제공될 수 있으며, 이는 동일하거나 상이한 구성들, 예를 들어, 시스템(300, 400, 500, 600 등) 중 하나 이상일 수 있다. 대체 도구는 도구 교환 메커니즘 또는 도구 교환 시스템(1900)에 의해 선택될 수 있거나 적합한 도구를 지탱하는 역할을 하는 회전 자유도(예: 앙각) 주위의 회전과 함께 하나의 도구로 결합될 수 있다.
상이한 에나멜 제거 도구(300)는 매니큐어의 상이한 지점에 사용하기 위해 상이한 제거 유체(예: 물)와 함께 공급될 수 있다. 에나멜 제거 시스템(300)은 소모성 카트리지(1600)의 일부로서 공급될 수 있다. 에나멜 제거 시스템(300)은 에나멜 제거 유체(예: 아세톤)로 이미 포화된 소모성 카트리지(1600) 내에 공급될 수 있다.
에나멜 제거 도구(300)는 장벽에 의해 에나멜 제거 도구(300)(예: 스폰지/브러시)로부터 분리된 제거제(예: 아세톤)의 별도의 저장소가 공급될 수 있다. 장벽은 도구가 선택될 때 뚫리도록 배치될 수 있고, 에나멜 제거 도구를 에나멜 제거제로 포화시킬 수 있다. 예를 들어, 도 31은 멀티-툴 시스템(1900)의 제1 홀더(1920), 제1 에나멜/광택 제거제 시스템(300), 및 에나멜/광택 제거제 시스템(300)의 제거제용 저장소(395)의 측면 단면도이다.
도 32는 네일 성형 시스템(400)과 사용자의 손(H)의 왼쪽 중지(F)의 네일(FN)의 맞물림에 중점을 둔 네일 성형 시스템(400)의 상부 투시도이다. 네일 성형 시스템(400)은 모터(410), 진동 및/또는 회전 출력 운동을 생성하기 위한 기어박스 또는 메커니즘(420), 순응성 부재(430), 및/또는 연마 요소(440)를 포함할 수 있다. 도 33은 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 말단, 및 네일 성형 시스템(400)과 사용자의 손(H)의 왼쪽 중지(F)의 네일(FN)의 맞물림에 중점을 둔 네일 성형 시스템(400)의 말단 투시도이다.
네일 성형 도구(400)는 하나 이상의 네일 성형 요소; 및/또는 하나 이상의 도구 선택 메커니즘; 및/또는 이동성 시스템(1000)으로부터 성형 요소로 기계적 동력을 전달하는 하나 이상의 수단을 포함할 수 있다. 네일 성형 요소는 연마 재료의 원형 디스크, 예를 들어, 연마 요소(440)를 포함할 수 있다. 네일 성형 요소는 연마 재료의 드럼 또는 다른 회전 대칭 형상(예: 모래 시계, 원뿔, 절단된 원뿔 등)을 포함할 수 있다. 네일 성형 요소는 연마 재료의 실질적으로 평면 요소(예: 에머리 보드)를 포함할 수 있다. 연마 재료는 기판(예: 에머리 보드)에 도포된 연마 그릿 또는 분말을 포함할 수 있다. 연마 재료는 전체 요소가 본질적으로 연마 재료(예: 숫돌)로 구성되도록 성형 및 부착(예: 소결 또는 접착)될 수 있다. 연마 재료는 일련의 융기(예: 유리 파일 또는 금속 파일)를 생성하기 위해 스코어링되거나, 에칭되거나 또는 달리 작업된 고체를 포함할 수 있다.
대신 또는 추가로, 도포 방법은 사용자에 대한 불편함 또는 손상의 위험을 감소시키거나 추가로 감소시키기 위해 선택될 수 있다. 예를 들어, 진동 회전 운동은 비교적 단단한 네일 플레이트 재료를 제거하는 데 효과적일 수 있지만, 유의한 다른 효과 없이 단순히 피부를 앞뒤로 움직일 수 있다.
일부 구현예에서, 본질적으로 안전하고 편안한 네일 플레이트 성형 요소 및/또는 방법의 사용은 덜 정교한 이미징 및 제어 방법이 효과의 손실 없이 사용될 수 있게 한다. 예를 들어, 본질적으로 안전한 성형 도구를 사용자의 하나 이상의 네일의 "모서리"- 즉, 네일 플레이트의 원위 에지가 측면 네일 주름과 만나는 곳-에 대해 압착될 수 있어서 피부가 자연스럽게 바깥쪽으로 이동하고, 네일 플레이트의 "모서리"는 목적하는 바와 같이 형상화될 수 있다. 이것은 손톱이 더 짧은 사용자에게 특히 적합할 수 있어서 손가락 끝에서 네일 플레이트의 원위 에지의 돌출이 최소화되고 최상의 외관을 위해 네일의 "모서리"를 둥글게 할 필요가 있다.
네일 성형 요소는 거의 모든 형상을 취할 수 있고; 디스크 또는 회전 대칭 형상은 회전(예: 회전) 또는 회전 진동에 유용하지만, 일반적으로 평면 또는 비교적 큰 반경 곡선은 왕복(예: 앞뒤) 운동에 적합할 수 있다.
일부 구현예에서, 순응성 재료는 네일 성형에 사용하도록 의도된 재료의 표면과 임의의 구조적 지지체(예: 원형 샌딩 디스크 뒤의 스폰지 패드) 사이에 위치될 수 있다. 순응성 재료는 성형 동작에서 성형 요소가 네일에 대해 압착될 때 필요한 토크를 제한하는 역할을 할 수 있거나 성형 요소가 네일에 적용되는 정밀도에 대한 요구 사항을 감소시키는 역할을 할 수 있다.
순응성을 제공하는 다른 수단도 가능하다. 예를 들어, 전체 성형 장치는 성형 요소와 이동성 시스템(1000) 사이에 순응성 부재(예: 430)를 가질 수 있다.
성형 요소는 이동성 시스템(1000)에 작동 가능하게 연결될 수 있어 이동성 시스템(1000) 상의 모터는 성형 요소를 작동시킨다(예: 회전 또는 진동한다). 연결은 성형 요소 또는 이동성 시스템(1000) 중 어느 하나 상의 샤프트 및 다른 메커니즘 상의 관련 소켓을 통해 이루어질 수 있다.
작동 가능한 연결은 회전 운동, 선형 왕복 운동(예: 앞뒤) 및/또는 회전 진동(예: 시계 방향/반시계 방향)을 생성할 수 있다.
일부 구현예에서, 기계적 수단은 모터의 회전 운동을 왕복 또는 진동 운동으로 전환시키는 데 사용될 수 있다.
다른 구현예에서, 모터 자체는 성형 요소의 왕복 또는 진동 운동을 생성하기 위해 방향을 급속히 변경하도록 제어될 수 있다.
작동 가능한 연결 메커니즘은 소모성 장치에 필요한 구성 요소를 제한함으로써 소모성 카트리지(1600)에 새로운 성형 디스크를 제공하는 비용을 최소화할 수 있다.
네일 성형 도구(400)는 소모성 카트리지(1600)에 포함될 수 있거나(예를 들어, 빈번한 교체가 필요한 경우) 또는 소모성 카트리지(1600)와 독립적으로 교체 가능할 수 있거나(예를 들어, 드물게 교체가 필요한 경우), 또는 시스템(100)의 영구적인 부분일 수 있다(예를 들어, 기계의 수명 내에 교체가 필요하지 않은 경우).
연마 요소(440)의 크기, 형상, 구성은 디스크, 드럼 등일 수 있다.
연마 요소(440)는 연마 요소(400)가 사용자에게 불편함 또는 손상의 위험을 거의 또는 전혀 나타내지 않도록 구성될 수 있다. 연마 요소(440)의 그릿은 네일을 세정하거나 형상화하기에 충분할 수 있지만, 사용자의 피부를 손상시키지 않는다.
큐티클 관리 시스템(500)의 상세한 내용은 아래를 포함하여 도 198 및 199a 내지 199j를 참조한다.
도 34a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 측면도 및 부분 단면도이다. 도포 시스템(600)은 플런저(610), 저장소(620), 중간 섹션(625), 노즐(650)에 순응성을 제공하는 가요성 결합 튜브(630), 순응성을 안내하는 지지 구조물(640), 및 에나멜과 같은 소모품을 위한 유체 경로(660)를 집합적으로 제공하는 노즐(650) 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
도 34b 내지 34e의 대안적인 에나멜/광택 도포 시스템(600)은 매니큐어, 즉 에나멜, 탑 코트 또는 베이스코트와 함께 사용하도록 구성되며, 이는 점성이고 잘못 취급하면 바람직하지 않게 공기를 포획할 수 있다. 구체적으로, 도 34b는 그 안에 캡(627)을 구비한 대안적인 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 변위 가능한 (완전한) 바이알(621)의 투시도이다. 도 34c는 변위 가능한 (완전한) 바이알(621) 및 캡(627)을 구비한 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 측면도이다. 도 34d는 변위 가능한 (완전한) 바이알(621) 및 캡(627)을 구비한 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 각진 측면도이다. 도 34e는 변위 가능한 (거의 비어 있는) 바이알(621) 및 캡(627)을 구비한 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 부분적으로 각진 측면도이다.
대안적인 에나멜/광택 도포 시스템(600)은 유리하게는 바이알(621) 내의 광택 또는 에나멜 위에 공기를 제공한다. 대안적인 에나멜/광택 도포 시스템(600)은 바이알(621)의 내경 내에서 이동하도록 구성된 캡(627)으로 분배될 유체로 충전된 하나 이상의 플라스틱 또는 유리 바이알(621) 및 캡(627)이 바이알(621) 내로 변위됨에 따라 유체가 바이알(621)로부터 배출되는 캡(627) 내의 개구부를 포함하여 에나멜, 탑 코트, 또는 베이스코트에 적합한 펌프를 포함할 수 있다. 바이알(621) 및 캡(627)은 캡(627)을 고정하고 캐리어(641) 내의 유체 채널 또는 튜빙(630)에 출력을 부착하는 캐리어(641)에 설치될 수 있다. 캐리어(641)/바이알(621) 어셈블리는 바이알(621)을 캡(627)을 향하여 변위시키도록 구성된 머신(예: 이동성 시스템(1000) 등)에 설치되어 유체가 어셈블리의 튜빙(630) 내로, 그리고 노즐(650) 밖으로 배출되도록 할 수 있다.
도포 도구(600)는 매니큐어와 접촉하는 도구(600)의 모든 부분이 소모성 카트리지(1600)에 공급되는 도구(600)의 일부에 함유되며, 한 번만 사용되도록 구성될 수 있다. 이것은 매니큐어의 임의의 막힘 또는 경화가 시스템(100) 전체에 대한 임의의 손상 대신 소모성 카트리지(1600)를 교체할 필요만을 초래한다는 것을 보장한다.
임의의 전자 장치(펌프를 구동하는 모터, 또는 유체 수준을 결정하는 센서 등)는 시스템(100) 내에 함유될 수 있고, 이동성 시스템(1000)이 도구(600)를 선택할 때 도포 도구(600)의 일회용 섹션에 작동 가능하게 연결될 수 있다. 예를 들어, 펌프 모터는 펌프가 일회용 부분(1600)에 있는 동안 모터가 시스템(100)의 일부가 되도록 펌프에 대한 기계적 인터페이스를 가질 수 있다. 유사하게, 임의의 유체 수준 센서는 도포 도구(600) 내의 유체와 직접 접촉하지 않도록 구성될 수 있지만, 도구(600)가 선택될 때 작동 가능한 접촉을 확립할 수 있다. 도포 도구(600)의 하나의 구현예는 도포 도구(600)가 선택될 때 일회용 저장소(620)의 벽에 대해 배치된 정전 용량형 센서의 금속 접촉부를 갖는 정전 용량형 센서를 포함한다.
일부 구현예에서, 정전 용량형 센서는 노즐(650)과 사용자의 손가락 또는 네일 사이의 근접성 또는 접촉을 결정하는데 사용될 수 있다. 일부 구현예에서, 노즐(650)은 전도성일 수 있고, 정전 용량형 센서의 일부를 형성할 수 있다.
일부 구현예에서, 기하학적 거리 센서 또는 초음파 범위 센서와 같은 다른 센서가 제공되어 노즐(650)과 사용자의 손가락 또는 네일 사이의 근접성 또는 접촉을 결정할 수 있다.
하나의 구현예에서, 도포 도구(600)는 실린더(예: 주사기) 내의 좁은 개구부로부터 유체를 배출하기 위해 이동하는 플런저(610)를 구비한 저장소(620)로서 중공 실린더를 포함할 수 있다. 구현예에서, 소모성 카트리지(1600) 내의 펌프 어셈블리는 연관된 샤프트가 없는 캡티브 플런저 디스크를 가질 수 있다. 샤프트는 이동성 시스템(1000)의 일부일 수 있고, 도포 도구(600)의 선택이 소모성 카트리지(1600)의 캡티브 플런저에 대한 샤프트에 부착될 수 있도록 구성된다.
주사기의 일부 구현예에서, 플런저(610)는 아래로 밀고 위로 당길 수 있어서 유체가 배출되거나 인출될 수 있도록 한다. 이러한 제어는 가능한 가장 균일한 도포를 보장하기 위해 사용되는 경로와 협력하여 도포 비율의 정확한 조정을 허용할 수 있다. 소모성 카트리지(1600) 내의 캡티브 플런저 및 이동성 시스템(1000) 상의 샤프트를 구비한 구현예에서, 샤프트가 플런저를 밀고 당길 수 있도록 잠금 상호접속부가 제공될 수 있다. 잠금 상호접속부는 1/4 회전 잠금을 포함할 수 있다.
도 35는 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 말단 및/또는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 측면도이다.
도 36은 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 말단 및/또는 에나멜/광택 도포 시스템(600)과 사용자의 손(H)의 왼쪽 중지(F)의 네일(FN)의 맞물림에 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 측면 투시도이다.
다른 구현예에서, 에나멜/광택 도포 시스템(600)은 개구부를 갖는 가요성 블래더를 포함할 수 있어서 블래더가 강성 표면 사이에서 눌리거나 압착될 때, 유체가 개구부로부터 배출되도록 한다.
노즐(650)은 순응성일 수 있어서 노즐(650)은 네일 플레이트의 표면에 대해 매우 작은 힘으로 받쳐진다. 노즐은 수동적으로 손톱의 윤곽을 따르기 때문에, 이 순응성은 네일의 매우 정확한 형상 추정의 필요성을 감소시킨다. 대부분의 순응성은 네일 표면에 수직이지만(즉, "상하"), 노즐(650)이 에포니키움과 접촉하게 되면, 그 위로 올라가기 보다는 편향되는 경향이 있도록 약간의 좌우 순응성이 있을 것이다.
하나의 구현예에서, 노즐(650)의 순응성은 강성 튜브 사이 또는 강성 튜브와 펌프의 출력 사이에 가요성 결합 튜브(630)를 사용함으로써 달성될 수 있다. 튜브의 원위 말단은 노즐을 네일 플레이트에 본질적으로 수직으로 배향시키기 위해 90도 굽힘을 가질 수 있다. 가요성 결합 튜브(630)는 구부러져 노즐(650)의 원위 말단이 네일의 윤곽을 따르도록 하는 역할을 한다.
다른 구현예에서, 노즐(650)의 순응성은 더 넓은 튜브의 내부에 더 좁은 튜브를 가짐으로써 달성될 수 있다. 스프링 또는 중량(아마도 내부 튜브의 중량만 포함)은 내부 튜브가 외부 튜브 내에서 위아래로 미끄러져 네일 플레이트의 윤곽을 따르도록 작용할 수 있다.
다른 구현예에서, 노즐(650)의 순응성은 노즐(650)이 손톱 위의 정확한 거리(예: 약 100마이크론(약 3937마이크로인치))를 유지하도록 매니큐어 도포에 이어지는 경로를 변형하기 위해 매우 정밀한 네일 형상 추정치가 사용된다.
도 37은 네일 케어를 위한 제2 컴퓨터 장치 또는 시스템(2500)의 흐름도이다. 컴퓨터 소프트웨어 시스템(1400)의 일부일 수 있는 시스템(2500)은 경로 플래너 시스템(1470)과 공통된 하나 이상의 특징을 가질 수 있는 경로 플래너 적용(2510)을 포함할 수 있다. 경로 플래너 적용(2510)은 사용자 인터페이스(2520)네일 형상 모델 시스템(2530), 동작 구성 시스템(2540), 손 모델 시스템(2550), 운동학적 모델 시스템(256) 및 경로 플래너 시스템(2570)을 포함할 수 있다.
경로 플래너 적용(2510)은 비전 시스템(200)에 출력을 전송할 수 있고/있거나 비전 시스템(200)으로부터 입력을 수신할 수 있다. 비전 시스템(200)은 포토메트릭 스테레오 시스템(240) 및/또는 기하학적 스테레오 시스템(250)을 포함할 수 있다. 경로 플래너 적용(2510)은 사용자(U)로부터 입력을 수신할 수 있다. 경로 플래너 적용(2510)은 마이크로제어기(1500)로 정보를 출력할 수 있다. 마이크로제어기(1500)는 모터 제어기(1520) 및/또는 LED 제어기(1530)를 포함할 수 있다. 마이크로제어기(1500)는 인클로저(1100)에 작동 가능하게 연결될 수 있거나, 마이크로제어기(1500)는 인클로저(1100) 및 그 안에 함유된 다양한 시스템에 통합될 수 있다. 인클로저(1100)에 함유된 다양한 구성 요소는 본원에 기재된 바와 같이 사용자(U)와 맞물린다.
사용자 인터페이스 시스템(2520)은 구성 절차 시스템(2522) 및/또는 시작 절차 시스템(2524)을 포함할 수 있다. 시작 절차 시스템(2524)은 동작 구성 시스템(2540) 및/또는 경로 플래너 시스템(2470)에 명령어을 전송하도록 구성될 수 있다.
네일 형상 모델 시스템(2530)은 원형 모델(2532), 타원형 모델(2534), 정사각형 모델(2536), 및 임의의 다른 네일 모델을 포함할 수 있다. 네일 형상 모델 시스템(2530)은 동작 구성 시스템(2540)의 성형 시스템(2546)에 정보를 전송하도록 구성될 수 있다.
동작 구성 시스템(2540)은 도포 시스템(2542), 제거 시스템(2544) 및 성형 시스템(2546)을 포함할 수 있다. 동작 구성 시스템(2540)은 정보를 경로 플래너 시스템(2570)에 전송하도록 구성될 수 있다.
손 모델 시스템(2550)은 3D 메시 시스템(2552), 3D 포인트 클라우드 시스템, 및/또는 좌/우 시스템(2556)을 포함할 수 있다. 손 모델 시스템(2550)은 정보를 경로 플래너 시스템(2570)에 전송하도록 구성될 수 있다.
운동학적 모델 시스템(256)은 이동성 시스템(1000)의 갠트리와 함께 사용하도록 구성된 갠트리 시스템(2562)을 포함할 수 있다. 운동학적 모델 시스템은 도포 도구 시스템(2664), 제거 도구 시스템(2566) 및/또는 성형 도구 시스템(2568)을 포함할 수 있다. 운동학적 모델 시스템(256)은 경로 플래너 시스템(2570)에 정보를 전송하도록 구성될 수 있다.
경로 플래너 시스템(2570)은 절차 시퀀서(2571), 도포 알고리즘(2572), 제거 알고리즘(2574), 성형 알고리즘(2576), 및/또는 운동 플래너(2578)를 포함할 수 있다. 경로 플래너 시스템(2570)은 UI 시스템(2520)(특히, 시작 절차 시스템(2524)), 동작 구성 시스템(2540), 손 모델 시스템(2550), 및/또는 운동학적 모델 시스템(256)으로부터 정보를 수신하도록 구성될 수 있다. 경로 플래너 시스템(2570)은 비전 시스템(200) 및/또는 마이크로제어기(1500)에 정보를 출력하도록 구성될 수 있다.
도 38a는 네일 케어를 위한 제3 컴퓨터 디바이스 또는 시스템(2600)의 시스템 다이어그램 및 흐름도이다. 컴퓨터 소프트웨어 시스템(1400)의 일부일 수 있는 시스템(2600)은 경로 플래너 시스템(1470)과 공통되는 하나 이상의 특징을 가질 수 있는 경로 플래너 적용(2510)을 포함할 수 있다. 시스템(2600)은 내부에 수용된 다양한 구성 요소, 예를 들어, (제한되지 않음) 카메라(210, 220, 230), LED(215, 225, 235), 센서(1044), 모터 드라이버(1041), 및/또는 모터(1042)를 포함하는 시스템(100)의 인클로저(1100)를 포함할 수 있다. 비전 시스템(200), 경로 플래너 적용(2510)(1470) 및 UI 시스템(2520)을 포함하는 호스트 컴퓨터가 제공될 수 있다. 마이크로제어기(1500)는 시스템(100)의 인클로저(1100) 및 호스트 컴퓨터와 작동 가능하게 연결될 수 있다.
마이크로제어기(1500)는 카메라(210, 220, 230), LED(215, 225, 235), 센서(1044) 및/또는 모터 드라이버(1041)에 명령어를 전송하도록 구성될 수 있다. 마이크로제어기(1500)는 정보(상태 업데이트, 센서 판독 등을 포함)를 경로 플래너 적용(2510)(1470)으로 전송하고/하거나 경로 플래너 적용(2510)(1470)으로부터 정보(운동 명령, 조명 제어 명령, 센서 판독 명령 등을 포함)를 수신하도록 구성될 수 있다.
경로 플래너 적용(2510)(1470)은 카메라(210, 220, 230)에 요청을 전송하고/하거나 카메라(210, 220, 230)로부터 이미지를 수신하도록 구성될 수 있다. 경로 플래너 적용(2510)(1470)은 비전 시스템(200)으로 처리하기 위한 이미지를 전송하고/하거나 비전 시스템(200)으로부터 검출된 네일 포즈 및 형상을 수신하도록 구성될 수 있다. 경로 플래너 적용(2510)(1470)은 진행 업데이트, 에러 프롬프트 등을 UI 시스템(2520)에 전송하고/하거나 사용자(U)에 의해 선택된 UI 시스템(2520)으로부터 절차 및 설정을 수신하도록 구성될 수 있다.
일부 예시적인 구현예에서, 경로 플래너 적용(2510)은 특정 타입의 입력 및 프로세싱을 포함할 수 있다. 예를 들어, 경로 플래너 적용(2510)의 입력은 다음 중 하나 이상을 포함할 수 있다: 포인트 클라우드 또는 임의의 3D 메시 형식 중 하나의 형태로 손가락 위치, 배향 및 3D 형상; 사용자가 선택한 모든 손가락의 서브세트; 도포, 제거, 성형 및/또는 이들의 조합을 포함하는 사용자가 선택한 동작 유형(들); 도포 시스템(600)의 동작(예: 펌프 속도, 팁 속도, 광택 두께 등), 제거 시스템(300)의 동작(예: 침지 시간, 반복 횟수, 스탠드오프 높이(네일 표면 오프) 등), 성형 시스템(400)의 동작(예: 목적하는 네일 길이, 네일 형상(예: 타원형, 원형, 정사각형, 반올림 반경 등과 같은 각 형상에 대한 특정 매개변수 포함 등) 및/또는 성형 도구 속도)을 포함하는 동작의 위한 매개변수; 및/또는 갠트리 매개변수(예: 도구 오프셋, 모터 및 기계적 매개변수(예: 마이크로스테핑, 기어 비율, 최소/최대 RPM 등, 및/또는 교정 정보)).
경로 플래너 적용(2510)에 의해 수행되는 프로세싱은 다음 중 하나 이상을 포함할 수 있다: 비전 시스템(200)으로부터의 손톱 표현의 경로 플래너 적용(2510) 내부에 사용된 내부 데이터 형식, 예를 들어, 구조화된 3D 포인트 클라우드로의 변환을 포함하는 비전 결과 프로세싱(예: 비전 시스템(200)으로부터); 비전 결과의 필터링, 평활화 또는 기타 유형의 클린업; 갠트리(1000)와 비전 시스템(200) 사이의 교정; 갠트리(1000), 손 받침(1200) 또는 갠트리(1000) 자체의 바닥에 부착된 교정 패턴을 사용하여, 비전 시스템(200)이 검출 결과를 갠트리(1000) 좌표계에 보고하는 데 사용하는 좌표계를 보고 정렬하도록 비전 시스템(200)을 구성; 기계적 시스템 및 도구의 모델링; 경로 플래너 적용(2510)은 갠트리 시스템(1000)의 기하학 및 운동학 및 하나 이상의 도구(예: 300, 400, 500, 600)의 기하학 및 물리학을 기재하는 매개변수를 포함하는 운동학적 모델(2560)을 포함할 수 있고; 예를 들어, 제거 도구(300)의 변형 가능한 모델링; 예를 들어, 상이한 접촉점에서 상이한 성형 속도를 갖는 회전 디스크로서의 성형 도구(400)의 모델링; 프라이밍 동안 광택 유량, 유량 대 도구 배향 등을 포함하는 도포 도구(600)의 모델링; 및/또는 본원에서, 특히 이하에서 상세히 기재되는 다양한 도포 중 하나 이상.
네일 위치 및 범위를 위한 머신 비전 처리 단계
도 38b는 예시적인 구현예에 따른 머신 비전 방법(2650)의 흐름도이다. 비전 시스템(200)은 컴퓨터 소프트웨어 시스템(1400) 및/또는 컴퓨터 하드웨어 시스템(1500) 및/또는 클라우드 컴퓨팅 시스템(1700) 및/또는 경로 플래너 적용(2510)(147) 및/또는 호스트 컴퓨터 등의 일부일 수 있는 머신 비전 방법(2650)을 포함할 수 있다. 머신 비전 프로세싱이라고도 공지된 머신 비전 방법(2650)은 특정 입력(2654)을 수득함으로써 (2651)을 개시할 수 있다(도 38b의 단계 1). 특정 입력은 다음 중 하나 이상을 포함할 수 있다: 획득된 이미지와 부수적 정보; 손가락의 거의 앞/위("상부" 카메라 이미지)와 손의 왼쪽 및 우측 측면("왼쪽", "오른쪽" 카메라 이미지)에 세 개의 고정된 RGB 카메라(예: 210, 220, 230) 각각에서 획득된 바와 같이 광범위하게 조명되는 손가락의 "기본" 이미지; 측면 카메라 이미지는 사용자의 엄지손가락의 명확하고 유용한 이미지를 캡처하는 데 사용될 수 있고; 모든 상부 카메라 이미지는 표준화된 방향으로 손가락으로 배향될 수 있고(통상적으로 표시되는 경우, 여기서 "위"로 지칭됨); 고정 위치의 국소화된 광원(단일 LED)에 의해 조명된 동일한 카메라의 이미지의 "스택"; 임의로, 주변 조명에 의해서만 조명되는 동일한 카메라의 이미지; 원점 위치와 3개의 직교 좌표축: "x, y, z"의 방향 모두로 구성된 좌표의 정의된 참조 프레임(RF)(디바이스의 머신-비전(MV) 구성 요소는 RF를 참조하여 로봇 구성 요소에 위치 및 배향을 통신할 수 있다); RF에서 카메라의 3-D 위치(일부 구현예에서, 카메라 및 손 받침(1200)은 고정되고, 모든 이미지는 서로 등록되고; 특정 특징이 이미지 중 하나의 픽셀에 존재하는 경우, 손이 움직이지 않았다고 가정하면, 특징은 다른 모든 픽셀에 존재한다); 이미지 스택에 사용되는 임의의 LED의 경우, RF 내의 LED의 3-D 위치; RF에서 손 받침(1200) 상의 특정 지점의 3-D 위치; 및/또는 손 받침(1200) 상의 예상된 손가락 위치의 특성화: 예를 들어, 공지된 손 받침(1200) 배치에 기초하여 각 카메라 이미지 내 각각의 손가락에 대한 대략적인 행 및 열 범위.
이미지는 전처리될 수 있고(2657)(단계 2), 전처리는 3x3 메디안 필터로 수행될 수 있다. 또한, 달리 명시되지 않는 한, 모든 기본 이미지는 휘도가 국부적으로 히스토그램 균등화될 수 있다(색조 및 채도를 유지하면서). 전처리는 최대로켜지거나 완전히 꺼진 깨진 픽셀을 완화할 수 있다. 각 픽셀을 각 픽셀의 가장 가까운 인접 픽셀과 평균화함으로써, 이상값이 음소거될 수 있다.
네일 범위 및 높이 프로파일(예: 높이 대 수평 위치)이 결정될 수 있다(2660)(단계 3). 네일 범위 및 높이 프로파일은 일반적으로 각 손가락에 개별적으로 적용되는 일련의 단계로 결정될 수 있다. 예를 들어, 상부 카메라 이미지와 관련하여, 단계는 임의의 적합한 순서로 다음 중 하나 이상일 수 있다: 대략적인 손가락 및 네일 배치를 결정하고(2663)(단계 4); 특정 "에지 맵"을 결정하고(2666)(단계 5); 상기 4개의 에지 맵을 단일 "평균" 맵에 결합하고(2669)(단계 6); 픽셀 위치를 결정하고(2672)(단계 7); 유역 처리를 수행하고(2675)(단계 8); 및/또는 최종 네일 범위 마스크를 정의한다(2678)(단계 9).
구체적으로, 대략적인 손가락 및 네일 배치 결정 단계(2663)는 이진 "마스크" NB, 즉 네일 및 손가락 및 손 받침(1200) 근처 부분을 함유하는 것으로 보이는 픽셀을 식별하는 이진 맵에 의해 정의될 수 있고; 이 설명에서 "함유하는 것으로 나타난다"란 픽셀이 적합한 색상을 가지며 적합한 크기와 질감 영역으로 구성되며, 특정의 다른 특징을 가진 픽셀 근처에서 발견되고 등등을 의미하고; 보다 상세하게는, 이 처리는 다음과 같이 진행될 수 있다: 히스토그램 균등화 없이 기본 이미지를 기반으로 두 손가락 마스크 결정: 손가락의 일부를 함유하는 것으로 보이는 픽셀을 식별하는 이진 마스크 FB와 개별 픽셀이 손가락의 일부를 함유하는 것처럼 보이는 정도(범위 0-1 포함)를 식별하는 퍼지 로직 마스크 FZ; 또한, 네일 또는 원위 지골(손가락의 마지막 세그먼트)의 축과 이진 마스크의 중심, 네일의 중간 또는 적어도 손가락 원위 지골의 근사치를 계산한다.
배경의 몇 픽셀(손 받침(1200))을 새로운 마스크 BB로 포함하도록 마스크 FB를 확장하는 단계: 현재 이 단계는 11 픽셀, 약 ½mm(약 0.01969in)로 확장한다. (선형 및 형태학적인 모든 필터링 작업은 달리 명시되지 않는 한 원형 이웃을 사용한다.)
위의 중심을 기반으로 한 몇 가지 간단한 기하학적 이진 마스크를 계산한다: 중심의 왼쪽, 오른쪽, 위, 아래, 왼쪽 위, 오른쪽 위, 왼쪽 하단 및 오른쪽 하단의 절반 공간. 이들 및 이들의 조합은 근위 네일 주름 및 자유 말단과 같은 네일의 특정 측면에 대한 처리에 초점을 맞추는 데 유용하다.
있는 경우, 네일의 자유 말단에 대한 퍼지 마스크 EZ를 결정한다.
네일 (의 임의의 부분)의 존재에 대한 퍼지 마스크 NZ를 결정한다. 이를 위한 알고리즘은 퍼지 논리 또는 연산과 동등한 각 픽셀에서 큰 쪽을 사용하여 FZ와 EZ를 5 픽셀(약 ¼mm(약 0.009843in)) 확장하는 단계; 동일한 5 픽셀씩 침식시키는 단계; 결과의 "함몰부", 즉 낮은 픽셀 값의 플러드-필(flood-fill)을 수행하는 단계로 구성된다. 마지막 작업은 이진 마스크의 모든 구멍을 채우는 것과 유사한 회색 값임을 유의한다.
NZ를 새로운 마스크로 이진화한다. 이 단계는 오쓰(Otsu) 알고리즘의 임계값, 즉 회색 값의 임계값 미만과 임계 값 초과 분포의 분산을 균등화하는 임계값을 사용한다. 이 새로운 마스크는 "온" 픽셀의 최대 연결 영역을 결정하기 위해 처리되고; 다른 모든 픽셀은 "오프"되어 대략적인 네일 영역과 손 받침(1200)의 인접 픽셀의 이진 마스크 NB를 생성한다. NB는 나중에 모든 처리, 특히 네일 경계 처리를 알리는 데 사용된다.
특정 "에지 맵" 결정 단계(2666), 즉 영역들 사이, 특히 네일/손가락 및 네일/손 받침(1200)의 전이를 반영하는 이미지는 다양한 기준에 따라 수행될 수 있다. 이러한 기준은 색상(RGB 픽셀 값), 표면 법선 방향 및 알베도(표면 반사율)이다. 단계는 다음과 같다:
FB와 BB 모두에서 마스킹된 기본 이미지의 각 컬러 채널에 대해, 구배, 즉 x 및 y 픽셀 방향 모두에서 증가(+) 및 감소(-) 픽셀 값 모두에 대해 이진 마스크 GB 를 형성한다: 총 12개의 이러한 마스크. 경계를 따라 증가하는 값과 감소하는 값의 픽셀은 특징적인 거리(각 네일 주름 전체에 대해 약 2mm(0.07874in))로 분리되어 있기 때문에 x 또는 y 마스크의 각 +/- 쌍을 이 거리의 절반으로 오프셋하고 양수 값에서 음수 값을 뺀다: 따라서, 높은 값은 두 기호의 높은 구배 영역을 적절하게 오프셋하였음을 나타낸다. 그런 다음, 색상 채널과 차원 x와 y에 걸쳐 평균하여(평균 제곱근의 의미로) 에지 맵을 생성한다.
기본 이미지의 각 색상 채널에 대해, 각 픽셀에서 (형태학적 구배에 의한 것과 같이) "에지니스" 측정값을 형성한다.
단일 LED 이미지의 스택의 경우, R+G+B 픽셀 값을 회색으로 변환하고 포토메트릭 스테레오 기술을 사용하여 각 픽셀의 표면 법선 벡터와 알베도를 결정한다. 그런 다음, 법선 벡터의 유사한 "에지니스" 측정값과 알베도에 대한 다른 측정값을 결정한다.
상기 4개의 에지 맵을 단일 "평균" 맵에 결합하는 단계(2669)는 각각의 제곱근의 평균의 제곱을 형성함으로써 수행될 수 있다. 이들을 BB와 NB의 연합으로 마스킹한다, 즉 NB 또는 BB 내의 픽셀을 제외한 임의의 "에지" 정보를 억제한다. 마지막으로, 이 맵, EA를 히스토그램 균등화한다.
픽셀 위치 결정 단계(2672)는 네일 영역 내에 있을 것이 확실한 픽셀 위치 C를 결정함으로써 수행될 수 있다.
유역 처리 수행 단계(2675)는 EA에서 유역 처리를 수행하고, C 및 전체 이미지의 외부 경계를 각각의 유역의 "바닥"으로 표시하는 단계를 포함할 수 있다. 네일 경계의 대부분이 EA에서 잘 식별되면, 이는 네일 픽셀(C에 연결된 단일 영역)과 외부(외부 경계에 연결된 영역) 사이에 완전한- 변형될 수 있지만 - 경계를 형성한다. 그런 다음, 외부 경계에 연결된 영역의 임의의 픽셀을 제외하고 BB로 마스킹한다. 또한, 임의의 나머지 작은 연결 영역(< 35 픽셀, 예를 들어, 직경이 약 1/3mm(0.01312in)인 원)도 제외한다. 마지막으로, 최대 잔류 영역을 유지하고, 7 픽셀(약 1/3mm(0.01312in))로 개방(침식/확장)하여 이진 유역 기반 맵 WB를 생성한다.
최종 네일 범위 마스크 정의 단계(2678)는 WB를 15 픽셀(약 2/3mm(0.02625 in))로 개방하여 최종 네일 범위 마스크 XB를 정의하는 단계 및 조정된 기본 이미지를 알고리즘의 참조 이미지로 사용하여 활성-윤곽 (또는 "뱀") 알고리즘의 Chan-Vese 버전으로 결과를 처리하는 단계를 포함할 수 있다.
머신 비전 방법(2650)은 각 손가락의 네일 영역의 높이 맵 및 네일 또는 지골 축의 출력, 또는 단계(2654 내지 2678 포함)로부터 유래된 임의의 다른 적합한 출력으로 (2699)를 종료할 수 있다.
도 39는 제1 경로 계획 프로그램(2700)의 흐름도이다. 제1 경로 계획 프로그램(2700)은 전체 손 도포 경로 계획을 제공할 수 있다. 제1 경로 계획 프로그램(2700)은 다음 단계들 중 하나 이상을 임의의 적합한 순서로 포함할 수 있다: 개시하고(2705); 이어서, 이미지를 캡처하고 네일 포즈 및 형상을 검출하기 위해 비전 시스템(200)을 호출하고(2710); 이어서, 비전 캡처가 성공했는지 여부를 질의하고(2715); 비전 캡처가 성공적이지 않은 경우, 사용자에게 실패에 대해 경고하고 재캡처를 확인하도록 하고(2720); 비전 캡처가 성공적이었다면, 검출된 네일 포즈와 형상을 네일 포즈 및 형상의 목록과 비교하고(2725); 이어서, 도포 도구(600)에 대한 펌프 프라이밍 경로를 생성하고(2730); 그런 다음 i = 0의 네일 인덱스로부터 개시하고(2735); 이어서, 도포 도구(600)를 도구 창고(또는 현재 위치)로부터 네일 i의 큐티클의 중심으로 이동시키는 경로를 생성하고(2740); 이어서, 네일 i의 도포 도구(600)에 대한 매니큐어 도포 경로를 생성하고(2745); 이어서, 마지막 네일이 페인팅되었는지를 질의하고(2745); 이어서, 마지막 네일이 페인팅되지 않았으면, 도포 도구(600)를 들어 올리는 경로를 생성하고, 다음 네일 위의 위치로 이동한 후, 다음 네일 i= i+1의 큐티클의 중심으로 드롭 다운하고(2755)(및 단계(2745)로 반환한다); 마지막 네일이 페인팅된 경우, 도포 펌프의 탈프라이밍을 위한 경로를 생성하고(2760); 이어서 실행을 위한 모든 경로를 출력하고(2765); 중지한다(2795).
도 40은 제2 경로 계획 프로그램(2800)의 흐름도이다. 제2 경로 계획 프로그램(2800)은 단일 네일 도포 경로 계획을 제공할 수 있다. 제2 경로 계획 프로그램(2800)은 다음 단계들 중 하나 이상을 임의의 적합한 순서로 포함할 수 있다: 개시하고(2805); 이어서, 이미지를 캡처하고 네일 포즈 및 형상을 검출하기 위해 비전 시스템(200)을 호출하고(2810); 그런 다음, 그리드 패턴으로 각 네일 표면 내의 포인트 매트릭스(예: 포인트 클라우드)를 샘플링하고; 그런 다음, 네일 형상이 충분히 대칭적인지 질의하고(2820); 네일 형상이 충분히 대칭적이지 않으면, 원래의 네일의 3D 표면 상의 위치를 유지하면서 네일의 포인트 클라우드를 형상화하고(2825), 단계(2830)로 진행하고; 네일 형상이 충분히 대칭적인 경우, 경로 계획을 위한 네일 포인트 클라우드를 생성하고(2830); 이어서, 빈 완전 경로(도포 도구 팁이 추적해야 하는 놈 벡터가 있는 3D 포인트 목록을 함유할 수 있음)를 초기화하고(2835); 이어서, 포인트 클라우드의 에지 상의 포인트를 수집하여 경계 페인팅 경로를 생성하고(2840); 이어서, 필터(메디안 필터, 이동 평균 또는 기타 맞춤 설계된 필터 등)를 적용하여 경계 경로를 부드럽게 하고(2845); 그런 다음, 경계 경로를 도포 도구 팁의 너비의 분획으로 안쪽으로 축소시켜 큐티클과 측면 주름이 범람하는 것을 피하고(2850); 그런 다음, 생성된 경계 경로를 완전 경로에 추가하고(2855); 이어서, 경계 경로 내의 포인트를 S자형 패턴, 나선형 패턴 또는 다른 패턴으로 완전히 덮어서 네일 도포 영역 경로를 생성하고(2860); 이어서, 생성된 영역 경로를 완전_경로에 추가하고(2865); 그런 다음, 역운동학을 사용하여 완전 경로를 일련의 갠트리 구성과 모터 단계 명령으로 변환하고(2870); 그런 다음, 각 모터의 가속 및 감속 기간 동안 가속 및 감속을 제한하여 x, y, z, 쎄타 및 파이 모터 명령에 부드러운 속도 프로파일을 할당하고(2875); 이어서, 사용된 광택의 유형과 경로의 도구 팁 속도에 따라 전체 경로 동안 펌프 모터 속도 프로파일을 할당하고, 경로를 마무리하기 전에 펌프를 X초 정지시켜 경로의 말단에서 부패를 회피하고(2880); 이어서, 단일 네일 도포 경로 및 모터 명령을 생성하고(2885); 중지한다(2895).
본 명세서의 다른 부분은 도포 동작을 위한 경로의 변형에 대한 세부사항을 기재한다. 경로 플래너 적용(2510)은 역운동학을 사용하여 선택된 도포 경로를 달성하는 데 필요한 모터 위치를 계산하고, 경련을 감소시키면서 경로를 추적하는 모터 속도를 계산할 수 있다.
경로 플래너 적용(2510)은 균일한 연마 표면을 달성하기 위해 경로의 기하학에 기초하여 펌프 모터 속도를 변경함으로써 유량을 조정하도록 구성될 수 있다. 경로 플래너 적용(2510)은 중력에 의해 하향으로 유동하는 광택제를 보상하기 위해 유량을 조절할 수 있다. 경로 플래너 적용(2510)은 광택제의 과도한 증착을 피하기 위해 경로 코너에서의 유량을 조절할 수 있다. 경로 플래너 적용(2510)은 주사기를 프라이밍하도록 특별히 설계된 유량 프로파일을 사용할 수 있다. 경로 플래너 적용(2510)은 특별히 설계된 유량 프로파일을 사용하여 경로의 섹션이 종료되기 전에 펌프를 감속 및 정지하여 더 나은 마무리를 달성할 수 있다.
경로 플래너 적용(2510)은 보다 정교한 외관을 위해 매끄러운 경계 경로를 생성하도록 구성될 수 있다. 경로 플래너 적용(2510)은 주변 조직 상에 페인팅을 피하기 위해 네일의 에지로부터 내부로 이동하는 시프팅 경계 경로를 생성할 수 있다. 경로 플래너 적용(2510)은 네일 형상의 모서리를 둥글게 하거나 경계 경로 (및 실제로 영역 경로)의 형상을 불규칙하게 형성화된 네일에 대한 심미적 목적을 위해 더 대칭적이고/이거나 보기 좋게 변경할 수 있다. 경로 플래너 적용(2510)은 사용자가 매니큐어 도포의 형상을 조정하기 위한 UI 상의 옵션을 제공할 수 있다.
경로 플래너 적용(2510)은 보다 깨끗한 도포를 달성하기 위해 각각의 "콘로우"의 말단에서 도구 팁을 들어 올리도록 구성될 수 있다. 이를 위해, 도 41은, 예를 들어, 제1 경로 계획 프로그램(2700) 또는 제2 경로 계획 프로그램(2800)에 의해 생성된 부스트로페돈 경로의 3차원 렌더링이다. 경로 플래너 적용(2510)은 간섭을 피하기 위해 특별히 설계된 갠트리(1000) 구성으로 각 손가락 네일에 접근하도록 구성될 수 있다.
부스트로페돈 경로는 윤곽선으로 시작한 다음, 행별로 충전시킬 수 있다. 도 41에 도시된 도포 도구(600)를 네일로부터 들어올리고, 그것을 점진적 방식으로 네일의 상이한 위치에 다시 배치함에 상응한다. 도 41은 2개의 각도, 즉, 예를 들어, x(mm), y(mm), z(mm), 쎄타(도) 및 파이(도)를 갖는 세 축 프레임워크에 대해 플롯팅된다.
제거 시스템(300)은 다양한 제거 적용을 포함할 수 있다. 제거 적용은 상이한 거동에 초점을 맞춘 각 네일에 대한 여러 단계의 제거를 포함할 수 있다. 여러 단계에는 다음 네 단계가 포함될 수 있다: 단계 1: 스트레이트 스폰지로 뒤에서 앞으로 닦아 네일 상단을 세정하고, 여기서 아세톤/매니큐어 리무버가 매니큐어에 침지되도록 스폰지가 네일에 고정되는 시간은 제1 통과 후 감소하여 매니큐어를 효과적으로 침지시키면서 매니큐어 제거 속도를 최대화하고; 단계 2: 스폰지로 네일의 중앙에서 뒤쪽으로 닦아 뒤쪽 에지의 광택을 세정한다. 단계 3: 스폰지 대신 브러시 사용으로 전환하고, 여기서 브러시는 네일의 너비를 가로질러 지그재그 동작을 취하여 네일을 깨끗하게 문지르기 위해 뒤에서 앞쪽으로 진행하고; 및/또는 단계 4: 스폰지 사용으로 다시 전환하고 스폰지로 네일의 앞쪽 모서리를 닦는다.
제거 경로는 임의의 네일 위치, 배향 또는 크기에 대해 자동적으로 조정될 수 있다. 경로 계획은 5개 이외의 수의 네일에서 매니큐어를 제거하도록 하고, 사용자가 네일의 서브세트를 선택하도록 하거나 상이한 수의 손톱을 가진 사람들(손가락 누락, 다지증 등)을 포함할 수 있도록 하는 모듈 방식으로 작성될 수 있다. 경로 플래너는 스폰지 또는 브러시의 에지 또는 모서리를 사용하여 광택을 더 잘 제거하기 위해 사용자의 네일 주름에 들어갈 수 있다. 제거를 위한 스폰지는 대부분의 사용자의 네일의 곡률과 일치하도록 구성된 스폰지 상에 곡면을 가질 수 있다. 경로 플래너는 제거 경로가 스폰지 또는 브러시의 깨끗한 표면의 사용을 최대화하고 사용자의 피부 또는 네일에 제거된 광택의 침착을 피하도록 제거 경로를 계획할 수 있다. 경로 플래너는 제거 시스템(400)을 카메라의 방식 밖으로 이동시키고, 검출 결과를 기다린 다음, 검출된 나머지 광택을 제거하는 데 초점을 맞추도록 경로를 조정함으로써 비전 시스템(200)으로부터 시각적 피드백을 획득할 수 있다.
성형 시스템(400)은 다양한 성형 용도를 포함할 수 있다. 도 42는 네일 형상 공식에 따른 네일의 특징을 포함하는 손가락 끝 및 네일의 모델(2900)의 개략도이다. 목적하는 네일 형상은 네일 형상 공식 Y = f(x)* w + y0에 따라 지정될 수 있으며, 여기서 f(x)는 [-0.5,0.5] 범위 내에서 정의되고 f(0)=0을 만족하는 연속 함수이고; w는 네일의 너비이고; y0는 성형 후 목적하는 네일의 길이이다. 개략도는 매트릭스(예: 네일 루트)(2905), 근위 주름(2910), 큐티클(예: 에포니키움)(2915), 루눌라(2920), 측면 주름(2925), 네일 플레이트(2930), 스마일 라인(2935), 자유 에지(2940), 폭(w)(2945), x축에 따른 거리(2950) 및 y축에 따른 거리(2955)를 포함하는 손가락 및 네일의 모델(2900)을 포함한다. x축(2950) 및 y축(2955)은 큐티클(2915)이 손가락에 가장 근접하고/하거나 손가락 및/또는 네일의 중심선과 정렬되는 지점에서 교차할 수 있다.
f(x)의 상이한 정의는 네일 형상(3000) 각각, 또는, 예를 들어, 네일 형상의 14개 개략도를 포함하는 도 43에 도시된 바와 같은 임의의 다른 형상에 대해 구현될 수 있다. 네일 형상(3000)은 타원형(3005), 스틸레토(3010), 아몬드(3015), 립스틱(3020), 원형(3025), 뾰족함(3030), 컷아웃(3035), 정사각형 둥근 모서리(3040), 에지(3045), 스쿼발(3050), 발레리나 또는 관(3055). 그네(3065), 스틸레토 정사각형(3070) 등을 포함할 수 있다.
경로 플래너 적용(2510)은 사용자가 지정된 목적하는 네일 형상을 수용하고, 그 형상을 분석하여 그 형상이 현재의 네일 형상에 기초하여 달성할 수 있고, 자유 마진 정보를 함유하는 네일 검출을 감안하여 사용자의 네일 플레이트를 손상시키지 않음을 보장하도록 구성될 수 있다.
도 44는 네일 성형 경로 계획 프로그램(3100)의 흐름도이다. 네일 성형 경로 계획 프로그램(3100)은 다음 단계들 중 하나 이상을 임의의 적합한 순서로 포함할 수 있다: 개시하고(3105); 그런 다음 이미지를 캡처하고 네일 포즈 및 형상을 검출하기 위해 비전 시스템(200)을 호출하고(3110); 그런 다음, 비전 캡처가 성공했는지 여부를 질의하고(3115); 비전 캡처가 성공적이지 않은 경우, 사용자에게 실패에 대해 경고하고 재캡처를 확인하도록 하고(3120); 비전 캡처가 성공적인 경우, 검출된 네일 포즈와 형상을 네일 포즈 및 형상의 목록과 비교하고(3125); 그런 다음, UI를 통해 목적하는 네일 형상 및 길이를 특정하도록 사용자에게 요청하고(3130); 그런 다음, 네일의 목적하는 형상 및 길이를 결정하고(3135); 그런 다음, 3D 네일 형상을 네일의 2D 상부도에 투영하고, 목적하는 형상을 이미지에 중첩하여 제거될 네일의 영역을 결정하고(3140); 그런 다음, 제거할 네일이 델타 길이 mm 이상인지 질의하고(3145); 제거할 네일이 델타 길이 mm 이하인 경우, 성형이 완료되었는지 여부를 질의하고(3150); 제거할 네일이 델타 길이 mm 이상인 경우, 네일의 최장 지점으로부터 델타 길이 mm를 제거하는 경로를 생성하고 실행하고(3155); 네일 성형이 완료된 경우, 중지하고(3195); 네일 성형이 완료되지 않은 경우, 최종 표적 형상의 에지에 직접 따르는 경로를 생성하고 실행하고(3160); 단계(3155 또는 3160) 완료 후, 다시 네일 포즈 및 형상을 검출하기 위해 비전 시스템(200)을 호출하고(3165); 그런 다음, 비전 캡처가 성공적이었는지 여부를 질의하고(3170); 비전 캡처가 성공적인 경우, 단계(3140)으로 복귀하고; 비전 캡처가 성공적이지 않으면, 비전 캡처가 N(예: 3)번 이상 재시도되었는지 여부를 질의하고(3175); 비전 캡처가 3회 이상 재시도되지 않으면, 단계(3165)로 복귀하고; 비전 캡처가 3회 이상 재시도된 경우, 성형 실패를 보고하고 절차를 중단하고(3180); 그런 다음, 중지한다(3195).
도 45는 네일 포인트 클라우드 방법을 사용한 사용자(U)의 네일(FN)의 3차원 렌더링이다.
도 46은 네일 포인트 클라우드 방법을 사용한 사용자(U)의 네일(FN)의 3차원 렌더링의 2차원 상부도이다.
도 47은 경로 계획을 위한 표적 형상의 제3 라운드로 중첩된 네일 포인트 클라우드 방법을 사용한 사용자(U)의 네일(FN)의 3차원 렌더링의 2차원 상부도이다.
도 48은 경로 계획을 위한 표적 형상의 제1 라운드, 제2 라운드 및 제3 라운드로 중첩된 네일 포인트 클라우드 방법을 사용한 사용자(U)의 네일(FN)의 3차원 렌더링의 2차원 상부도이다. 도 48에서, 복수 라운드의 성형이 수행되고, 여기서 각 라운드는 작은 고정량의 네일을 벗긴다. 비전 시스템(200)으로부터의 비전 피드백은 성형 라운드 사이에서 취해질 수 있다.
경로 플래너 적용(2510)은 표적 네일 형상을 현재 네일 형상과 비교하고, 일련의 통과로 여분의 재료를 제거하는 것을 계획할 수 있고, 각 통과는 네일 경계 상의 가장 먼 접촉점에 수직인 방향으로부터 네일에 접근하거나 접촉점에 접하는 방향으로부터 네일에 접근하여 소량의 재료를 제거한다. 접촉점은 어느 영역이 각각의 통과에서 형성화되어야 하는지를 조사함으로써 결정될 수 있다.
경로 플래너 적용(2510)은 제거하기로 계획된 재료의 양에 기초하여 성형 도구(400)의 회전 속도를 변경하거나 네일 에지의 보다 세련된 마무리를 위해 성형의 마지막 몇 통과에서 성형 도구(400)를 늦출 수 있다.
경로 플래너 적용(2510)은 사용자 네일의 성형 속도를 제어하는 대안적인 방법으로서 성형 도구(400) 상의 접촉점을 변경할 수 있다.
경로 플래너 적용(2510)은 상이한 성형 방향을 달성하기 위해 성형 도구 상의 접촉점을 변경할 수 있다.
경로 플래너 적용(2510)은 모든 통과 후 또는 몇몇 통과마다 현재 네일 형상에 대한 시각적 피드백을 획득하고, 관찰된 성형 결과에 기초하여 재계획하거나 성형이 완료되었는지를 결정할 수 있다.
도 49a는 이미지의 복수의 픽셀 각각에서 총 강도로 중첩된 사용자(U)의 손가락(F) 팁의 2차원 이미지이다.
도 49b는 사용자(U)의 손가락(F)의 팁에 상응하는 픽셀을 분리하는데 사용되는 마스크의 묘사이다.
도 49c는 이미지의 복수의 점 각각에서 법선 벡터로 중첩된 사용자(U)의 손가락(F) 팁의 2차원 이미지이다.
도 49d는 이미지의 복수의 점 각각에서 구배 벡터로 중첩된 사용자(U)의 손가락(F) 팁의 2차원 이미지이다.
도 49e는 사용자(U)의 손가락(F) 팁의 3차원 깊이 맵 이미지이다.
도 49f는 사용자(U)의 손가락(F) 팁의 3차원 깊이 맵 이미지의 마스킹된 버전이다.
도 50은 적어도 하나의 프로세서 및 적어도 하나의 프로세서에 의해 실행하기 위한 적어도 하나의 프로그램을 저장하는 메모리를 포함하는 컴퓨터 디바이스 또는 시스템(예: 1400, 1500, 1700, 2100, 2200, 2300, 2400, 2500, 2600, 2700, 2800, 2900, 3000, 3100 및/또는 3200)의 개략도이다. 구체적으로, 도 50은 적어도 하나의 프로세서(3130) 및 적어도 하나의 프로세서(3130)에 의해 실행하기 위한 적어도 하나의 프로그램(3150)을 저장하는 메모리(3140)를 포함하는 컴퓨터 디바이스 또는 시스템(3100)을 도시한다. 일부 구현예에서, 디바이스 또는 컴퓨터 시스템(3100)은 디바이스 또는 컴퓨터 시스템(3100)의 적어도 하나의 프로세서(3130)에 의해 실행하기 위한 적어도 하나의 프로그램(3150)을 저장하는 비일시적 컴퓨터 판독 가능 저장 매체(3160)를 추가로 포함할 수 있다. 일부 구현예에서, 디바이스 또는 컴퓨터 시스템(3100)은 적어도 하나의 입력 디바이스(3110)를 추가로 포함할 수 있고; 이는 다음 중 어느 하나와 정보를 전송 또는 수신하도록 구성될 수 있다: 외부 장치(도시되지 않음), 적어도 하나의 프로세서(3130), 메모리(3140), 비일시적 컴퓨터 판독 가능 저장 매체(3160), 및 적어도 하나의 출력 디바이스(3170). 적어도 하나의 입력 디바이스(3110)는, 예를 들어, 안테나(3120), 송수신기(도시되지 않음) 등과 같은 무선 통신을 위한 수단을 통해 외부 디바이스와 정보를 무선으로 전송하거나 수신하도록 구성될 수 있다. 일부 구현예에서, 디바이스 또는 컴퓨터 시스템(3100)은 적어도 하나의 출력 디바이스(3170)를 추가로 포함할 수 있으며, 이는 다음으로 구성된 그룹 중 어느 하나와 정보를 전송 또는 수신하도록 구성될 수 있다: 외부 디바이스(도시되지 않음), 적어도 하나의 입력 디바이스(3110), 적어도 하나의 프로세서(3130), 메모리(3140), 및 비일시적 컴퓨터 판독 가능 저장 매체(3160). 적어도 하나의 출력 디바이스(3170)는 안테나(3180), 송수신기(도시되지 않음) 등과 같은 무선 통신을 위한 수단을 통해 외부 디바이스와 정보를 무선으로 송신 또는 수신하도록 구성될 수 있다.
적어도 하나의 프로그램(3150)은 예시적인 프로세스(2300)의 하나 이상의 단계를 포함하는 하나 이상의 명령어를 포함할 수 있다. 적어도 하나의 프로그램(3150)의 명령어는 본원의 프로세스에 포함되지 않은 복수의 단계, 본원의 프로세스의 하나 이상의 단계의 중복 및/또는 본원의 프로세스의 하나 이상의 단계의 제거를 포함할 수 있다. 프로세스는 적어도 하나의 프로그램(3150)에 의해 실행될 수 있다. 입력 디바이스(3110)는 시스템(100)의 임의의 입력 디바이스, 또는 시스템(100)의 임의의 다른 적합한 구성 요소일 수 있다. 출력 디바이스는 시스템(100)의 임의의 출력 디바이스 또는 시스템(100)의 임의의 다른 적합한 구성 요소일 수 있다. 제어기는 컴퓨터 디바이스 또는 시스템(3100)의 일부이거나 이들로부터 분리될 수 있다.
상기 식별된 모듈 또는 프로그램 각각은 상기 기재된 기능을 수행하기 위한 명령어 세트에 상응한다. 이들 모듈 및 프로그램(즉, 명령어 세트)은 별도의 소프트웨어 프로그램, 절차 또는 모듈로서 구현될 필요가 없으므로, 이들 모듈의 다양한 서브세트가 다양한 구현예에서 조합되거나 그렇지 않으면 재배열될 수 있다. 일부 구현예에서, 메모리는 상기 식별된 모듈 및 데이터 구조의 서브세트를 저장할 수 있다. 또한, 메모리는 상기 기재되지 않은 추가의 모듈 및 데이터 구조를 저장할 수 있다.
본 개시내용의 예시된 측면은 또한 통신 네트워크를 통해 연결된 원격 처리 디바이스에 의해 특정 임무가 수행되는 분산 컴퓨팅 환경에서 실시될 수 있다. 분산 컴퓨팅 환경에서, 프로그램 모듈은 로컬 및 원격 메모리 저장 디바이스 둘 다에 위치될 수 있다.
게다가, 본원에 기재된 다양한 구성 요소는 주제 혁신(들)의 구현예를 구현하기 위해 적합한 값의 구성 요소 및 회로 소자를 포함할 수 있는 전기 회로(들)를 포함할 수 있음이 이해되어야 한다. 또한, 다양한 구성 요소 중 다수가 적어도 하나의 집적 회로(IC) 칩 상에서 구현될 수 있음이 이해될 수 있다. 예를 들어, 하나의 구현예에서, 구성 요소 세트는 단일 IC 칩으로 구현될 수 있다. 다른 구현예에서, 각각의 구성 요소 중 적어도 하나는 별개의 IC 칩 상에 제조되거나 구현된다.
상기 기재된 것은 구현예의 예를 포함한다. 물론, 청구된 주제를 기재하기 위한 목적으로 구성 요소 또는 방법론의 모든 가능한 조합을 기재하는 것은 불가능하지만, 주제 혁신의 많은 추가 조합 및 순열이 가능하다는 것을 이해해야 한다. 따라서, 청구된 주제는 첨부된 청구범위의 정신 및 범위 내에 속하는 그러한 모든 변경, 수정 및 변형을 포함하고자 한다. 게다가, 요약에 기재된 것들을 포함하는, 본 개시내용의 예시된 구현예의 상기 설명은 포괄적이거나 개시된 구현예를 개시된 정확한 형태로 제한하도록 의도되지 않는다. 특정 구현예 및 실시예는 예시 목적으로 본원에 기재되지만, 관련 기술 분야의 당업자가 인식할 수 있는 바와 같이, 이러한 구현예 및 실시예의 범위 내에서 고려되는 다양한 수정이 가능하다.
특히, 상기 기재된 구성 요소, 디바이스, 회로, 시스템 등에 의해 수행되는 다양한 기능과 관련하여, 이러한 구성 요소를 기재하는 데 사용되는 용어는 달리 명시하지 않는 한, 개시된 구조와 구조적으로 등가는 아니지만, 기재된 구성 요소의 지정된 기능을 수행하는 임의의 구성 요소(예: 기능적 등가물)에 상응하는 것으로 의도되고, 이는 청구된 주제의 예시적 측면이 예시된 본원에서 기능을 수행한다. 이와 관련하여, 혁신은 또한 청구된 주제의 다양한 방법의 행위 및/또는 이벤트를 수행하기 위한 컴퓨터 실행가능 명령어를 갖는 시스템 및 컴퓨터 판독 가능 저장 매체를 포함하는 것으로 또한 인식될 것이다.
상기 언급된 시스템/회로/모듈은 여러 구성 요소/블록 간의 상호작용에 대해 기재되어 있다. 이러한 시스템/회로 및 구성 요소/블록은 전술한 다양한 순열 및 조합에 따라 이들 구성 요소 또는 지정된 서브구성 요소, 지정된 구성 요소 또는 서브구성 요소 중 일부 및/또는 추가 구성 요소를 포함할 수 있음을 이해할 수 있다. 서브구성 요소는, 부모 구성 요소(계층적)에 포함되기 보다는 다른 구성 요소에 통신 가능하게 결합된 구성 요소로서 구현될 수도 있다. 추가로, 적어도 하나의 구성 요소는 응집 기능성을 제공하는 단일 구성 요소에 결합될 수 있거나, 다수의 별개의 서브구성 요소로 분할될 수 있고, 관리 층과 같은 임의의 적어도 하나의 중간 층은 통합 기능성을 제공하기 위해 이러한 서브-구성 요소에 통신 가능하게 결합하도록 제공될 수 있음에 유의해야 한다. 본원에 기재된 임의의 구성 요소는 또한 본원에 구체적으로 기재되지 않았지만 당업자에게 공지된 적어도 하나의 다른 구성 요소와 상호작용할 수 있다.
본 출원에 사용된 바와 같이, 용어 "구성 요소", "모듈", "시스템" 등은 일반적으로 컴퓨터 관련 엔티티, 두 하드웨어 중 하나(예: 회로), 하드웨어와 소프트웨어의 조합, 소프트웨어, 또는 적어도 하나의 특정 기능성을 갖는 작동 기계와 관련된 엔티티를 지칭하는 것으로 의도된다. 예를 들어, 구성 요소는 프로세서(예: 디지털 신호 프로세서)에서 실행되는 프로세스, 프로세서, 물체, 실행 파일, 실행 트레드, 프로그램 및/또는 컴퓨터일 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 예를 들어, 제어기에서 실행 중인 적용 및 제어기 모두 구성 요소일 수 있다. 적어도 하나의 구성 요소가 프로세스 및/또는 실행 트레드에 존재할 수 있고 구성 요소가 하나의 컴퓨터에 국한되거나 둘 이상의 컴퓨터에 분산될 수 있다. 또한, "디바이스"는 특별히 설계된 하드웨어의 형태; 하드웨어가 특정 기능을 수행할 수 있게 하는 소프트웨어의 실행에 의해 전문화된 일반화된 하드웨어; 컴퓨터 판독 가능 매체에 저장된 소프트웨어; 또는 이의 조합의 형태로 제공될 수 있다.
컴퓨팅 디바이스는 전형적으로 컴퓨터 판독 가능 저장 매체 및/또는 통신 매체를 포함할 수 있는 다양한 매체를 포함하며, 여기서 이들 2개의 용어는 본원에서 다음과 같이 서로 상이하게 사용된다. 컴퓨터 판독 가능 저장 매체는 컴퓨터에 의해 액세스될 수 있는 임의의 이용 가능한 저장 매체일 수 있으며, 전형적으로 비일시적 특성이며, 휘발성 및 비휘발성 매체, 이동식 및 비이동식 매체 모두 포함할 수 있다. 예로서, 제한 없이, 컴퓨터 판독 가능 저장 매체는 컴퓨터 판독 가능 명령어, 프로그램 모듈, 구조화된 데이터, 또는 비구조화된 데이터와 같은 정보를 저장하기 위한 임의의 방법 또는 기술과 관련하여 구현될 수 있다. 컴퓨터 판독 가능 저장 매체는 RAM, ROM, EEPROM, 플래시 메모리 또는 다른 메모리 기술, CD-ROM, 디지털 다용도 디스크(DVD) 또는 다른 광 디스크 저장 장치, 자기 카세트, 자기 테이프, 자기 디스크 저장 장치 또는 기타 자기 저장 장치 또는 목적하는 정보를 저장하는 데 사용될 수 있는 다른 유형 및/또는 비일시적 매체를 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 컴퓨터 판독 가능 저장 매체는 매체에 의해 저장된 정보에 관한 다양한 동작을 위해, 적어도 하나의 로컬 또는 원격 컴퓨팅 디바이스에 의해, 예를 들어, 액세스 요청, 질의, 또는 다른 데이터 검색 프로토콜을 통해 액세스될 수 있다.
한편, 통신 매체는 전형적으로 컴퓨터 판독 가능 명령어, 데이터 구조, 프로그램 모듈, 또는 변조된 데이터 신호, 예를 들어, 반송파 또는 다른 전송 메커니즘과 같은 일시적일 수 있는 데이터 신호에서 다른 구조화 또는 비구조화된 데이터를 구현하고, 임의의 정보 전달 또는 전송 매체를 포함한다. 용어 "변조된 데이터 신호"는 적어도 하나의 신호에 정보를 인코딩하는 방식으로 그의 특성 중 적어도 하나가 설정되거나 변경된 신호를 지칭한다. 예로서, 제한 없이, 통신 매체는 유선 네트워크 또는 직접 유선 연결과 같은 유선 매체, 및 음향, RF, 적외선 및 다른 무선 매체와 같은 무선 매체를 포함한다.
상기 기재된 예시적인 시스템을 고려하여, 기재된 주제에 따라 구현될 수 있는 방법론은 다양한 도면의 흐름도를 참조하여 더 잘 이해될 것이다. 설명의 단순화를 위해, 방법론은 일련의 행위로 묘사되고 기재된다. 그러나, 본 개시내용에 따른 행위는 다양한 순서로 및/또는 동시에, 본원에 제시되거나 기재되지 않은 다른 행위와 함께 발생할 수 있다. 또한, 개시된 주제에 따라 방법론을 구현하기 위해 예시된 모든 행위가 필요한 것은 아니다. 또한, 당업자는 방법론이 상태 다이어그램 또는 이벤트를 통해 일련의 상호 관련된 상태로서 대안적으로 표현될 수 있음을 이해하고 인식할 것이다. 또한, 본 명세서에 개시된 방법론은 이러한 방법론을 컴퓨팅 디바이스로의 전송 및 전달을 용이하게 하기 위해 제조 물품에 저장될 수 있음을 이해해야 한다. 본원에서 사용된 바와 같이, 제조 물품이라는 용어는 임의의 컴퓨터 판독 가능 장치 또는 저장 매체로부터 액세스 가능한 컴퓨터 프로그램을 포함하는 것으로 의도된다.
비전 시스템
개요
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 하나 이상의 이미징 기술을 사용하여 손톱을 자율적으로 식별하기 위한 시스템(예: 비전 시스템)을 포함한다. 일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 이미지 획득을 위한 카메라를 포함한다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 다음 기술들 중 하나 이상을 사용하여 손톱을 식별한다:
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 하나 이상의 이미징 주파수(들) 및 상응하는 광 스펙트럼을 사용하여 손톱을 식별한다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 움직임으로부터 손톱의 구조를 결정함으로써, 예를 들어, 상이한 각도로부터 손톱의 복수의 이미지(예: 복수의 고정 카메라 또는 하나 이상의 이동식 카메라)를 촬영하여 포인트 클라우드를 계산함으로써 손톱을 식별한다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 구조화된 광을 사용하여, 예를 들어, 특정 패턴의 빛을 손가락에 투사하고, 하나 이상의 이미지를 사용하여 단일 각도로부터 이미징하여 깊이 정보를 생성함으로써 손톱을 식별한다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 포토메트릭 스테레오 기술을 사용하여, 예를 들어, 광원의 위치를 변경하면서 단일 카메라 각도로부터 다수의 이미지를 촬영하여 표면 법선의 맵을 계산함으로써 손톱을 식별한다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 에지 검출을 사용하여, 예를 들어, 단일 이미지로부터 이미지 내의 가시성 에지를 계산함으로써 손톱을 식별한다.
일부 구현예에 따른 이들 기술들에 대한 추가적인 세부사항은 아래에 제공된다.
주파수
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 자외선 광 및/또는 상이한 스펙트럼의 광(예: 적외선)을 사용하여 손톱을 이미지화한다. 예를 들어, 일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 일부 구현예에서 손톱과 손가락 사이의 콘트라스트를 증가시키는 것으로 밝혀진 자외선을 사용한다. 일부 구현예는 피부, 큐티클, 네일 주름 및/또는 네일을 구별하기 위해 빛의 하나 이상의 스펙트럼의 적합한 조명을 이용할 수 있다.
도 51a는 가시광선 및 자외선으로 조명된 사용자의 손의 투시도이다.
일부 구현예에서, 자외선과 가시광의 조합이 손톱을 손가락의 다른 부분(예: 피부)과 더 구별되도록 하는 것으로 밝혀졌다. 일부 구현예에서, 카메라 센서의 노출 레벨은 포화를 피하기 위해 제어된다.
도 51b는 자외선으로만 조명된 사용자 손의 투시도이다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)(및 상응하는 방법)은, 예를 들어, 제1 코트가 도포된 후에 우수한 베이스라인 이미지를 허용하기 위해 자외선 하에서 형광을 띠는 염료의 첨가를 이용한다. 이것은 네일을 더 잘 구별하기 위해 수행될 수 있다. 예를 들어, 도 51b는 자외선 염색된 클리어 코트로 페인팅된 중지를 갖는 손을 도시한다. 배경은 의도적으로 빛과 함께 평면을 벗어난 반사 표면이기 때문에 주로 형광을 띠는 빛이 카메라로 돌아간다. 대안적으로 또는 추가로, 하나 이상의 이미징 필터가 사용될 수 있다.
도 52는 자외선으로 조명되고 노란색 필터로 여과된 사용자의 손의 투시도이다.
운동으로부터의 구조
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 다수의 사진으로부터 물체의 3D 표현을 생성하기 위한 운동 기술로부터의 구조를 사용한다. 예를 들어, 정적인 물체(손톱을 포함한 손가락)의 여러 사진을 상이한 각도에서 촬영하고, 서브시스템의 알고리즘은 사진 간의 대응점을 찾아 2D 이미지 특징의 3D 위치를 결정하려고 시도하여 물체의 3D 포인트 클라우드를 초래한다. 일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 카메라(또는 복수의 카메라)를 사용자의 손가락에 대해 상이한 위치 및 각도로 이동시키는 캡처 장치 또는 리그를 포함할 수 있다.
도 53은 사용자의 손가락(F)을 중심으로 회전하는 비전 시스템(200)의 캡처 장치의 개략도이다.
도 54a는 손가락에 대해 우측에서 좌측으로 번역하는 비전 시스템(200)의 이미지 캡처 장치의 제1 위치에 있는 바둑판 배경 상의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 54b는 손가락에 대해 우측에서 좌측으로 번역하는 비전 시스템(200)의 이미지 캡처 장치의 제2 위치에 있는 바둑판 배경 상의 사용자의 손가락의 평면도 이미지의 일부이다.
도 54c는 제3 위치에 있는 부분이다.
도 54d는 제4 위치에 있는 부분이다.
도 54e는 제5 위치에 있는 부분이다.
도 54f는 제6 위치에 있는 부분이다.
도 54g는 제7 위치에 있는 부분이다.
도 54h는 제8 위치에 있는 부분이다.
도 54i는 제9 위치에 있는 부분이다.
도 54j는 제10 위치에 있는 부분이다.
도 54k는 손가락에 대해 우측에서 좌측으로 번역하는 비전 시스템(200)의 이미지 캡처 장치의 제11 위치에 있는 바둑판 배경 상의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
구조화된 움직임을 달성하는 대안적인 방법은 동일한 대상체의 이미지를 동일한 거리에서 상이한 각도로 촬영하는 것이다. 이는 또한 수집된 2차원 데이터의 3차원 해석을 가능하게 한다.
도 55a는 도 55d의 이미지에 대해 약 +45도 회전된 비전 시스템(200)의 이미지 캡처 장치의 위치에 있는 사용자의 손가락의 투시도 이미지이다.
도 55b는 도 55d에 대하여 약 +30도 회전된 위치이다.
도 55c는 도 55d에 대하여 약 +15도 회전된 위치이다.
도 55d는 손가락 또는 손의 중심을 통해 거의 수평축과 거의 평행한 약 0도에서의 위치이다.
도 55e는 도 55d에 대해 약 -15도 회전된 위치이다.
도 55f는 도 55d에 대해 약 -30도 회전된 위치이다.
도 55g는 도 55d에 대해 약 -45도 회전된 위치이다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 피사계 심도가 얕은 렌즈 및 조리개를 사용하여 다수의 상이한 초점 심도로 이미지를 캡처함으로써 구조화된 움직임을 달성한다. 초점이 맞춰진 기능은 카메라로부터 공지된 거리이다. 이는 카메라 또는 초점면이 공지된 증분으로 이동할 때 토폴로지를 구축하도록 한다. 이 토폴로지는 대상체의 3차원적 이해를 생성하기 위해 해석될 수 있다.
도 56a는 시작 깊이 기준점에서 비전 시스템(200)의 이미지 캡처 장치의 위치에서 바둑판 배경 상의 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 56b는 위치가 시작 깊이 기준점보다 약 0.050in(0.127cm) 미만으로 이동된 평면도이다.
도 56c는 위치가 시작 깊이 기준점보다 약 0.100in(0.254cm) 미만으로 이동된 평면도이다.
도 56d는 위치가 시작 깊이 기준점보다 약 0.150in(0.381cm) 미만으로 이동된 평면도이다.
도 56e는 위치가 시작 깊이 기준점보다 약 0.200in(0.508cm) 미만으로 이동된 평면도이다.
도 56f는 위치가 시작 깊이 기준점보다 약 0.250in(0.635cm) 미만으로 이동된 평면도이다.
도 56g는 위치가 시작 깊이 기준점보다 약 0.300in(0.762cm) 미만으로 이동된 평면도이다.
도 56h는 위치가 시작 깊이 기준점보다 약 0.350in(0.889cm) 미만으로 이동된 평면도이다.
도 56i는 위치가 시작 깊이 기준점보다 약 0.400in(1.016cm) 미만으로 이동된 평면도이다.
도 57a는 엄지손가락을 통한 수직 축에 대해 엄지손가락의 직교 위치(즉, 0도, 도시되지 않음)에 대해 약 -30도 회전된 비전 시스템(200)의 이미지 캡처 장치의 위치에서 사용자의 엄지손가락의 평면도 이미지이다.
도 57b는 수직축에 대해 약 -15도 회전된 위치이다.
도 57c는 수직축에 대해 약 +15도 회전된 위치이다.
도 57d는 수직축에 대해 약 +30도 회전된 위치이다.
도 58은 엄지손가락의 움직임 캡처로부터 생성된 사용자의 엄지손가락의 포인트 클라우드 렌더링이다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 대상체 이미지 및 동일한 이미지에서의 반사를 캡처함으로써 추가 카메라 또는 액추에이터를 필요로 하지 않고 다수의 이미지 "위치"를 생성한다.
도 59는 반사 배경에 대한 사용자의 손가락의 투시도 이미지이다.
구조화된 광
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 공지된 패턴의 빛을 장면 또는 물체(네일을 포함하는 손가락)에 투영하여 생성되는 상응하는 사진으로부터 깊이 정보를 복구한다. 이 서브시스템의 알고리즘은 원래 투영된 패턴의 지식을 활용하고 패턴이 패턴을 반영하는 표면에 대한 3D 정보를 추론하기 위해 장면에 의해 어떻게 변경되거나 왜곡되는지를 결정할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 구조화된 광을 이용하여 장면으로부터 깊이 정보를 재구성한다. 예를 들어, 2차원("2D") 패턴이 투영되고, 단일 이미지 캡처되고, 깊이 맵을 재구성하는데 사용될 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 단일 얇은 라인 또는 복수의 얇은 라인을 투영할 수 있다. 각 라인은 카메라에 대해 특정 각도로 투영될 수 있고, 높이의 변화로 라인의 형상을 변형시키도록 한다. 이 방법은 네일의 에지에서 발생하는 작은 상대적 변화를 식별할 수 있고, 이는 대략적인 전역 깊이 맵을 수득하는 대신 이 라인의 편형으로 나타날 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 손가락을 가로질러 스위핑되는 단일 얇은 라인(또는 복수의 라인)을 투영한다. 장치는 손가락을 가로질러 레이저 라인 모듈을 물리적으로 번역할 수 있다(도 60). 다른 구현예에서, 장치는 임의의 요소를 물리적으로 움직일 필요 없이 적합한 이동 이미지를 투영함으로써 라인을 번역하게 하는 소형 컴퓨터 프로젝터를 사용할 수 있다. 선택된 프로젝터는 초점의 복잡성을 줄이기 위해 레이저 기반 기술을 사용할 수 있다.
도 60은 구조화된 광 기술의 개략도이다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 프로젝터를 사용하여 구조화된 광을 형성할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 하나 이상의 발광 다이오드(LED)를 사용하여 구조화된 광을 형성할 수 있다. 예를 들어, 물리적 기하학은 제품의 성형된 또는 다이 절단된 구성 요소를 사용하여 달성될 수 있다.
도 61은 백색 발광 다이오드(LED)의 색 온도를 교호하여 조명되는 동안 이미징된 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다. LED는 손톱에 색 온도를 교호하는 밝은 반점을 생성하면서 손가락이 확산된 빛에 의해 점등되는 것처럼 보이게 한다.
도 62는 백색 LED의 색 온도를 교호하여 조명되는 동안 반사 배경에 대해 이미징된 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다. LED는 반사 배경에 예측 가능한 패턴을 생성하면서 손가락과 손톱이 확산 빛에 의해 점등되는 것처럼 보이게 한다.
도 63은 줄무늬의 백색 플라스틱 구성 요소로부터의 반사에 의해 조명되는 동안 이미징된 사용자의 손가락의 투시도 이미지이다. 흰색 섹션은 네일에 뚜렷한 반사를 생성하지만 손가락에는 그렇지 않다.
도 64는 천공된 금속 조각을 통해 빛나는 빛에 의해 조명되는 동안 이미징된 사용자의 손가락의 투시도 이미지이다. 밝은 반점은 네일에 명확하게 가시성이지만, 손가락의 나머지 부분에는 그렇지 않다.
도 65는 천공된 금속 조각을 통해 빛나는 빛에 의해 조명되는 동안 이미징된 사용자의 손가락의 확대 투시도 이미지이다. 손톱과 주변 피부에 의해 반사된 밝은 반점의 확대도는 산만하게 점등되는 것처럼 보인다.
도 66a는 제1 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래에 있는 사용자의 손가락의 평면도이다.
도 66b는 제2 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래에 있는 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 66c는 제3 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래에 있는 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 66d는 제4 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래에 있는 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 67a는 제5 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래에 있는 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 67b는 제6 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래에 있는 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 67c는 제7 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래에 있는 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
네일 트러프 검출
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 네일이 끝나고 측면 네일 주름이 시작되는 네일 에지 상의 트러프(trough)를 검출할 수 있다. 전형적으로 피부를 만나는 네일의 측면을 따라 밸리(valley)가 있으며, 이는 검출될 수 있는 레이저 스캔 라인에 상응하는 편향을 일으킨다.
도 68a는 제8 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래에 있는 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 68b는 제8 위치에 있는 레이저 라인 프로젝터 아래에 있는 사용자의 손가락에 입사되는 스캔 라인의 편향에 의한 대략적인 검출의 단일 프레임이다.
위의 스크린 캡처는 스캔 라인이 네일을 가로질러 스위핑할 때 처리되는 단일 프레임을 보여준다. 왼쪽은 네일에 투영된 라인의 원시 카메라 이미지를 보여준다. 오른쪽에서, 처리된 이미지는 변형된 레이저 라인(예: 첫 번째 색상 코딩 라인)의 중심을 추적하고, 제1 및 제2 유도체(예: 제2 및 제3 색상 코딩 라인)를 플롯팅한다. 제2 유도체의 최대값(색상 코딩 하이라이트)은 측면 네일 주름에서 네일과 피부 사이의 경계인 "트러프"의 가능한 위치를 나타낸다. 그런 다음, 이들은 원시 이미지 캡처(왼쪽)에 짧은 제4 색상 코딩 라인으로 제자리에 그려져 계산된 트러프 위치를 원래 이미지와 비교할 수 있도록 한다.
도 69는 다양한 위치에서 레이저 라인 프로젝터 아래에 있는 사용자의 손가락에 입사되는 스캔 라인에 의해 생성된 복수의 이미지에 대한 추적을 수행함으로써 손톱과 손가락의 측면 주름 사이 트러프의 검출 결과를 포함한다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 라인이 손가락 끝을 가로질러 스위핑할 때 각각의 이미지로부터 트로프 검출을 기록한다. 상기 이미지는 스캔 라인이 네일 아래로 이동할 때 네일 에지 밸리의 경로를 따라 추적하기 위해 함께 스티칭된 여러 이미지의 결과를 보여준다(빨간색 선은 네일 트러프의 추정 경로를 추적한다).
포물선 맵
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 원시 라인의 위치로부터 노이즈를 제거하기 위한 필터로서 작용하는 일련의 하나 이상의 최적 포물선으로서 손가락을 가로지르는 스캔 라인의 곡선을 나타낸다. 이 프로세스는 원시 스캔 라인을 제공된 오차 범위 내에서 근사하는 데 사용될 수 있는 포물선의 최소 수를 찾으려고 시도한다. 네일 형상은 종종 포물선에 의해 잘 근사화되므로, 이러한 경우, 작은 노이즈 인공물을 제거하면서 원시 데이터를 면밀히 추적하는 몇 개의 포물선으로 원시 라인을 표현함으로써 좋은 근사치를 찾을 수 있다.
도 70은 사용자의 엄지손가락 및 네일의 스캔 라인 데이터의 단일 프레임에 대한 최적의 매치를 형성하는 포물선 세트를 포함한다.
도 71은 최적의 포물선으로 재해석된 모든 스캔 라인의 세트를 포함하는 사용자의 엄지손가락과 네일의 묘사이다.
도 72는 엄지손가락의 평면도 이미지에 대한 최적 포물선으로 재해석된 사용자의 엄지손가락과 네일의 모든 스캔 라인 세트를 중첩시킨다.
이미지의 네일 부분은 단면에서 단일 포물선으로 상당히 잘 나타날 수 있으므로, 최적의 포물선 사이의 경계는 네일과 피부 사이의 경계를 식별하는 역할을 할 수 있다(상기 도면 참조).
깊이 맵
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 손가락에 의해 야기되는 스캔 라인의 편향을 사용하여 그 지점에서 엄지손가락의 높이를 계산할 수 있다. 이것은 각 스캔 라인의 길이를 따라 그룹화된 포인트를 갖는 포인트 클라우드를 제공한다.
도 73a는 스윕 라인 변형에 의해 계산된 사용자의 손가락의 포인트 클라우드 렌더링이다.
도 73b는 스윕 라인 변형에 의해 계산된 사용자의 손가락의 또 다른 포인트 클라우드 렌더링이다.
스캔 라인 사이의 누락된 영역은 보간을 통해 채워질 수 있으며, 이어서 데이터를 표준 "깊이 맵" 포맷으로 변환될 수 있고, 이는 직접 비교 및/또는 표준 이미지와 함께 사용하기 위해 이미지 좌표의 표현을 허용한다.
도 74a는 사용자의 손가락의 평면도 이미지이다.
도 74b는 보간을 통해 채워지고 도 74a의 사용자의 손가락의 이미지를 기반으로 하여 이미지 공간 깊이 맵으로 변환된 데이터를 이용한 포인트 클라이드 렌더링이다.
일부 구현예에서, 이러한 구조화된 광 전략을 사용하는 경우, 카메라 이미지는 밝은 스캔 라인의 위치 및 형상을 검출하기 위해서만 사용된다. 따라서, 색상 변화에 대해 더 견고할 수 있다. 아래의 부분적으로 페인팅된 네일의 샘플에서, 구조화된 광의 깊이 맵은 페인트의 영향을 거의 받지 않는다.
도 75a는 구조화된 광 기술을 사용하는 사용자의 부분적으로 페인팅된 손가락의 평면도 이미지이다.
도 75b는 보간을 통해 채워지고 도 75a의 구조화된 광 기술을 사용하여 사용자의 부분적으로 페인팅된 손가락의 이미지에 기초하여 이미지 공간 심도 맵으로 변환된 데이터를 이용한 포인트 클라우드 렌더링이다.
포토메트릭 스테레오
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 포토메트릭 기술을 사용하여 카메라 또는 물체를 움직이지 않고 대신 조명을 변경함으로써 물체의 표면 각도를 추정한다. 표면에 대해 계산된 데이터는 표면 "법선 맵"으로 표시되고, 이는 이미지의 각 픽셀에 대해 추정된 표면에 수직인 3차원("3D") 벡터를 포함한다.
도 76a는 제1 조명 조건하에서 카메라를 갖는 사용자의 손가락과 정지 위치에 있는 손가락의 제1 평면 이미지이다.
도 76b는 제2 조명 조건하에서 카메라를 가진 사용자의 손가락과 정지 위치에 있는 손가락의 제2 평면 이미지이다.
도 76c는 제3 조명 조건하에서 동일한 것의 제3 평면 이미지이다.
도 76d는 제4 조명 조건하에서 동일한 것의 제4 평면 이미지이다.
도 76e는 제5 조명 조건하에서 동일한 것의 제5 평면 이미지이다.
도 76f는 제6 조명 조건하에서 동일한 것의 제6 평면 이미지이다.
도 76g는 제7 조명 조건하에서 동일한 것의 제7 평면 이미지이다.
도 76h는 제8 조명 조건하에서 동일한 것의 제8 평면 이미지이다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 광원을 손가락 위의 호 모양으로 이동시켜 연속적으로 변하는 조명으로 목적하는 만큼의 사진을 가능하게 하는 시스템 또는 리그를 포함한다. 이러한 시스템의 일례는 도 77a에서 아래의 좌측 캡처 리그로서 도시되어 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 개별적으로 온/오프될 수 있는 손가락 위의 평면에 장착된 별개의 광원 세트를 사용하는 시스템 또는 리그를 포함한다. 이 리그는 유한 조명 각도 세트를 제공하지만, 조명 각도는 상기 기재된 제1 리그(손가락을 따라, 그리고 손가락 주위)와 비교하여 제2 차원에서 다르다. 이러한 시스템의 일례는 도 77b에서 우측 캡처 리그로서 도시되어 있다.
도 77a는 사용자의 손가락 주위를 회전하는 비전 시스템(200)의 캡처 장치의 개략도이고, 여기서 정지 카메라는 손가락을 통해 대략 축을 중심으로 회전하는 복수의 광원에 의해 조명된 이미지를 촬영한다.
도 77b는 캡처 장치의 렌즈를 위한 조리개 주위의 기판 상의 그리드에 배치된 복수의 광원을 포함하는 비전 시스템(200)의 캡처 장치의 개략도이다.
도 78은 사용자의 손가락 중심으로 회전하는 도 77a의 비전 시스템(200)의 캡처 장치로부터 캡처된 평면도 이미지를 사용하여 생성된 사용자의 손가락의 보정되지 않은 법선 맵이다.
상기 법선 맵은 보정되지 않은 방식으로 리그 1에서 캡처된 이미지로부터 생성되었다. 이미지의 색상 코딩 채널은 그 위치에서 수직인 표면의 X, Y 및 Z 벡터를 나타낸다. 일부 구현예에 따른 보정되지 않은 방식에서, 각 사진의 광원의 정확한 위치를 알 필요는 없고; 알고리즘은 빛을 국소화하고, 법선 맵을 동시에 생성하려고 시도한다. 이는 가요성 조명 설정을 허용하지만, 좌표계는 임의적이다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 특정 좌표계를 사용하고 각 사진에 대한 빛 위치를 추적하는 보정된 전략으로 전환함으로써 정확도를 향상시킨다.
도 79a는 사용자의 손가락 주위를 회전하는 도 77a의 비전 시스템(200)의 캡처 장치로부터 캡처된 평면도 이미지를 사용하여 생성된 사용자의 손가락의 보정된 법선 맵이다.
도 79b는 인공 시험 손가락 주위를 회전하는 도 77a의 비전 시스템(200)의 캡처 장치로부터 캡처된 평면도 이미지를 사용하여 생성된 인공 시험 손가락의 보정된 법선 맵이다.
상기 보정된 법선 맵에서, 좌표계가 이제 네일과 정렬되고, 더 강한 색상 코딩된 구성 요소는 네일과 손가락의 오른쪽 측면과 왼쪽 네일 주름의 안쪽 에지에서 볼 수 있는 보다 오른쪽을 향한 법선을 나타낸다.
도 80a는 그리드에 배치된 복수의 광원을 포함하는 도 77b의 비전 시스템(200)의 캡처 장치로부터 캡처된 평면도 이미지를 사용하여 생성된 사용자의 손가락의 보정된 법선 맵이다.
도 80b는 그리드에 배치된 복수의 광원을 포함하는 도 77b의 비전 시스템(200)의 캡처 장치로부터 캡처된 평면도 이미지를 사용하여 생성된 사용자의 또 다른 손가락의 보정된 법선 맵이다.
상기 리그 2의 보정된 법선 맵은 빛의 변동의 추가 치수로부터 혜택을 받는다. 법선 맵은 이제 손가락의 끝에서 근위 네일 주름에 따라 볼 수 있는 더 상향 지시된 법선을 나타내는 더 강한 색상 코딩 구성 요소로서 표현되는 손가락의 길이(위, 이 이미지에서)를 따라 치수의 변동을 포함한다.
도 81은 벡터 필드로서 표현된 법선의 평면 구성 요소로 표현되고, 각 벡터에 대한 3차원 정보를 표현하기 위해 색상 코딩을 사용하는 사용자의 손가락의 일부의 묘사이다.
일부 구현예에서, 법선 맵의 일반적인 압축 표현은 각 법선 벡터를 색상으로 저장함으로써 수행되며, 여기서 색상 구성 요소는 벡터의 3개의 공간적 치수를 정의한다. 상기 이미지는 이러한 색상이 실제 벡터에 어떻게 매핑되는지를 보여주고, 이 경우 법선 벡터의 평면 구성 요소는 색상 코딩 라인 세그먼트로 시각화된다. 그들은 네일의 중심에서 똑바로 위쪽을 향하고 (그 표면은 카메라에 수직이다), 네일이 아래쪽으로 구부러지기 시작하면 네일의 좌우 에지를 향해 측면을 점점 가리킨다.
에지 검출
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 에지 검출을 사용하고, 표준 2D 이미지에서 동작하고, 색상 또는 밝기 특성의 변화에 기초하여 이미지에 불연속성이 있는 영역을 강조 표시한다. 일부 구현예에서의 에지 검출은 원시 픽셀 값과 관련되고, 이미지의 불연속성을 나타내는 "에지"를 선택할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 HED(전체 중첩된 에지 검출) 에지 검출기를 사용한다. 이 검출기는 여러 스케일로 이미지를 검사하도록 설계되었으며, 이미지의 소규모 및 대규모 특성을 활용하여 이러한 여러 스케일에 걸쳐 존재하는 에지를 찾는다. 일부 구현예에서, 그것은 인간 주석자들에 의해 생성된 에지의 예를 사용하여 훈련되며, 따라서 그림자 또는 다른 인공물을 찾기보다는 이미지에서 실제로 물체를 분리하는 에지를 식별하는 경향이 있다.
이하 도 82 및 83은 일부 구현예에 따른 HED 에지 검출기의 결과 및 도시된 에지만에 기초한 분할 영역에서의 초기 통과를 나타낸다. 이 특정 예에서 검출기는 여분의 에지를 선택하고 네일 경계의 일부를 놓치지만, 대부분의 네일 경계는 오른쪽 이미지의 영역 사이의 경계로 나타난다.
일부 구현예에서, 단일 이미지가 일부 경우에 불완전한 에지 세트를 생성할 수 있기 때문에, 복수의 이미지에 걸쳐 광원을 변화시키고 생성되는 에지를 결합함으로써, 네일 케어 시스템(100)은 더 완전한 에지 세트를 생성할 수 있다.
도 82a는 인공 시험 손가락의 평면도 이미지이다.
도 82b는 전체 중첩된 에지 검출(HED)을 사용하여 분석된 도 82a의 평면도 이미지이다.
도 82c는 초기 영역 세분화를 사용하여 분석된 도 82a의 평면도의 이미지이다.
도 83a는 손가락의 평면도 이미지이다.
도 83b는 HED를 사용하여 분석된 도 83a의 평면도 이미지이다.
도 83c는 초기 영역 세분화를 사용하여 분석된 도 83a의 평면도의 이미지이다.
기술 적용 가능성
일부 구현예에서, 네일의 경계는 물체의 세분화 및/또는 다른 기술을 통해 몇몇 상이한 영역으로 분할될 수 있다. 예를 들어, 이하 도 84는 일부 구현예에 따라, 여기에 기재된 기술이 네일 경계 주위의 관심 있는 상이한 영역에 걸쳐 어떻게 수행되는지를 보여준다. 예를 들어, 일부 구현예에서, HED 에지 검출은 우수한 결과를 제공한다. 하기 평가는 예시적인 것이며, 다른 구현예에서, 구조화된 광 및/또는 포토메트릭 스테레오 기술은, 예를 들어, HED 에지 검출보다 더 잘 수행할 수 있다.
도 84는 네일 및 손가락의 관심 섹션을 포함하는 손가락의 다이어그램 및 관심 섹션을 정확하게 검출하고 구별하는 데 있어 다양한 분석 방법의 효능의 비교이다.
일부 구현예에서, 네일의 자유 에지(다이아그램의 상부)는 2개의 상이한 구성으로 나타날 수 있다. 네일이 충분히 길면, 자유 에지는 손가락의 살을 지나 확장된다: 이미지는 자유 에지에서 이미지 배경으로 직접 전환된다. 네일이 더 짧으면, 손가락 살은 자유 에지를 약간 지나서 확장될 수 있다: 이미지는 자유 에지에서 손가락 살로, 이어서 배경으로 전환된다. 두 조건 모두 동일한 이미지에서 발생할 수 있다: 여기서 좌측이 더 긴 조건(자유 에지로부터 배경(카메라의 관점으로부터)으로의 직접 전환)을 갖고, 우측이 더 짧은 조건(살은 자유 에지를 지나(카메라의 관점으로부터) 가시적임)을 갖는다. 자유 에지를 따라 네일 경계는 그 경우 데이터를 제공하는 모든 기술을 사용하여 더 긴 조건에서 결정하기가 더 쉬울 수 있다. 더 짧은 조건에서 경계는 또한 모든 기술에 의해 검출될 수 있지만 오류율이 더 크다.
자유 에지로부터 안쪽으로, 전형적으로 네일 베드가 끝나고, 네일 플레이트가 계속되는 가시성 분할 라인이 있으며, 이제 베드(예: 네일의 원위 에지와 네일 본체 사이의 중첩된 라인)는 함유하지 않는다. 여기서 표면 기하학 변화는 없고(네일 플레이트는 위로부터 매끄러움), 색상 변화만 있기 때문에, 일부 구현예에 따라 이 전환을 가장 많이 선택하는 기술은 색상 기반 에지 검출이다.
측면 네일 주름(색상 코딩됨)의 네일 에지는 전형적으로 기하학적 특징(약간의 밸리)과 색상 변화를 모두 포함하기 때문에, 세 가지 기술 모두 이러한 예에서 여기에 데이터를 제공한다. 일부 구현예에서, HED 에지 검출기는 전형적으로 이들 에지를 발견한다. 일부 구현예에서, 스캔 라인 구조화된 광 전략은 이들 밸리를 강조하도록 설계되며, 전형적으로 여기서 또한 우수한 데이터를 제공하는 반면, 포토메트릭 스테레오는 여기에 다소 유용하지만, 그것이 경계를 결정하도록 하기에 각도 변화가 항상 충분하지는 않다.
다이어그램 하단에서는 근위 네일 주름 및 큐티클이 가장 도전적이다. 이 영역의 네일 사이에, 특히 큐티클의 존재/크기와 에포니키움의 폭 및 정의에 큰 변동이 있다. 지속적으로 매니큐어를 칠한 네일은 큐티클이 적고 에포니키움이 협소한 경향이 있지만, 다른 네일은 상당히 불규칙한 큐티클과 크고 보다 점진적인 에포니키움 영역을 가질 수 있다. 이 영역의 기하학이 변할 수 있기 때문에, 일부 구현예에서, 일부 네일은 이 네일 경계에서 상당한 기하학적 에지를 갖지만, 다른 네일은 이 특징이 결여되기 때문에, 구조화된 광 기술은 몇 가지 정보를 제공하지만, 이 영역에서 가장 일관된 기술은 HED 에지 검출기이다. 여기에서 볼 수 있는 부정확성은 여기서 일부 에지(큐티클, 에포니키움, 근위 네일 주름)의 잘못된 에지를 따라 발생할 수 있다.
큐티클(제2 내부 곡선)은 매우 미묘하여 네일에 매우 얇은 반투명 층으로 나타날 수 있다. 큐티클 경계를 구체적으로 검출하기 위해, 일부 구현예에서, HED 에지 검출기 기술만이 큐티클을 부분적으로 선택하지만, 다른 구현예도 가능하다.
손가락 끝 살의 식별
일부 구현예에서, 손톱을 정확하고 편안하게 형상화하기 위해, 네일 케어 시스템(100)은 네일 자체의 경계뿐만 아니라 주변 손가락 끝 살의 범위를 결정한다. 이러한 목적을 위해, 네일 케어 시스템(100)은 손가락 끝 살을 식별하기 위해 하나 이상의 기술을 사용할 수 있다. 예를 들어, 일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 살의 식별 문제에 상기 기재된 유형의 손톱 식별 알고리즘(또는 이의 변형)을 적용할 수 있다.
네일 성형에 대한 섹션에서 논의된 바와 같이, 일부 구현예에 따른 성형 도구는 진동 샌딩 디스크이다. 샌딩 디스크의 볼록 형상 및 작용 방식은 다른 구현예에서 사용될 수 있는 다른 도구(예: 절단 도구)와 비교하여 컴퓨터 비전 시스템의 요건을 크게 감소시킬 수 있다. 어쨌든, 일부 구현예에서, 샌딩 디스크를 제어하고 특정 손가락 끝에서 달성 가능한 네일 형상의 범위를 이해하기 위해 손가락 끝 살 기하학의 일부를 추정할 필요가 있을 수 있다. 다음 두 윤곽 중 하나 또는 둘 다가 식별될 수 있다: (a) 샌딩 디스크가 살과 접촉하기 전에 얼마나 가까이 접근할 수 있는지를 정의하는 손가락 끝의 외부 경계 및 (b) 가능한 한 최단 손톱 형상을 정의하는 퀵(quick)의 윤곽선.
손가락 끝 경계의 추정
일부 구현예에서, 상기 기재된 손톱 식별 알고리즘은 손가락 끝의 경계에 대한 일부 정보를 제공한다. 이하 도 85에서 알 수 있는 바와 같이, 네일이 손가락보다 짧으면, 손톱 경계 추정치에서 손가락 끝의 경계를 직접 추론할 수 있다. 이미지의 네일이 아닌 배경이 아닌 영역은 모두 손가락 끝 살로 간주될 수 있으며, 손가락 끝의 경계는 단순히 이 영역의 외부 윤곽선이다. 그러나, 네일이 손가락보다 긴 경우, 손가락 끝의 경계는 부분적으로만 추론될 수 있다. 이 경우에, 하나의 옵션은 곡선 피팅을 통해 가시성 부분에서 손가락 끝 경계의 비가시성 부분을 추정하는 것이다. 이러한 추정은 어느 정도의 불확실성과 함께 오지만, 일부 구현예에서는 충분한 정확도를 제공할 수 있다.
도 85a는 손가락의 길이보다 짧은 길이의 네일의 평면도 이미지이며, 여기서 손가락 끝의 경계는 네일의 추정치로부터 완전히 추론된다.
도 85b는 손가락의 길이보다 긴 네일의 평면도 이미지이며, 여기서 손가락 끝의 경계는 손가락의 네일의 추정치로부터 부분적으로 추론된다.
일부 구현예에 따른 또 다른 옵션은, 긴 네일의 경우, 추가 이미지가 손가락의 바닥 또는 측면으로부터 캡처된다는 것이다. 도 86a, 86b 및 86c는 긴 네일을 갖고 아래에서 이미징되고 상기 기재된 손톱 식별 파이프라인을 통해 처리된 손가락을 보여준다. 에지 검출 단계는 백색 조명과 UV 조명 모두에서 손가락 끝 프로파일을 강력하게 식별한다. 이러한 결과는 네일 경계 추정 알고리즘이 일부 구현예에서 용이하게 적용되어 바닥도 또는 측면도 이미지로부터 손가락 끝 살 경계를 추정할 수 있다는 평가를 지지한다.
도 86a는 백색광으로 조명된 손가락 뒤의 이미지이다.
도 86b는 도 86a의 백색광으로 조명되고 에지 검출로 분석된 손가락 뒤의 묘사이다.
도 86c는 자외선으로 조명되고 에지 검출로 분석된 도 86a의 손가락 뒤의 묘사이다.
퀵의 윤곽선의 추정
일부 구현예에서, 네일 성형을 위해, 네일 케어 시스템(100)은 가능한 한 최단 손톱 형상을 정의하는 퀵의 윤곽선을 추정할 수 있다. 이 문제에 대한 본 손톱 식별 알고리즘의 적용 가능성을 검토하기 위해, 네일 처리 파이프라인의 중간 결과 중 일부를 조사했다. 데이터 세트의 일부 네일의 경우, 중간 에지 검출 결과는 빠른 윤곽선을 따라 강한 활성화를 나타낸다. 도 87 및 88은 퀵의 윤곽선의 거의 완전한 검출과 함께 데이터 세트로부터의 2개의 보다 유망한 결과를 보여준다.
도 87a는 백색광으로 조명된 손가락의 평면도 이미지이다.
도 87b는 도 87a의 백색광으로 조명되고 에지 검출로 분석된 손가락의 묘사이다.
도 88a는 백색광으로 조명된 손가락의 투시 이미지이다.
도 88b는 도 88a의 백색광으로 조명되고 에지 검출로 분석된 손가락의 묘사이다.
일부 구현예에서, 네일 식별 알고리즘에 의해 사용되는 HED 방법은 네일의 빠른 또는 다른 부분에 대한 특별한 지식을 갖지 않는다. 실제로, 일부 구현예에서, HED가 네일 영역의 완전한 추정을 방해할 수 있기 때문에, HED가 퀵을 따라 너무 강하게 활성화되는 경우, 네일 식별에 문제가 발생할 수 있다. 일부 구현예에서, 퀵을 따라 훨씬 더 일관된 결과를 제공할 수 있는 맞춤형 훈련된 HED 네트워크가 사용된다.
일부 구현예에서, 맞춤형 에지 검출기는, 예를 들어, 퀵을 위해 적용될 수 있도록 네일 경계 추정 결과를 개선하도록 훈련된다.
프로토타입 평가; 손톱 식별
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 손톱을 주변 살로부터 구별하기 위한 하나 이상의 빌딩 블록 기술을 이용할 수 있다. 일부 구현예에 따른 이들 기술은 (a) 손가락 끝 이미지의 더 크고 표준화된 데이터 세트를 캡처하고, (b) 데이터 세트 및 식별된 빌딩 블록 기술을 사용하여 손가락 끝 이미지로부터 네일 경계를 추정하기 위한 완전한 말단-대-말단 알고리즘을 프로토타입화하여 평가했다.
캡처 리그
도 89는 사용자의 손가락 및 네일을 이미징하기 위한 이미지 캡처 리그의 개략도이고, 상기 리그는 2개의 평면에 배향된 LED 스트립, 카메라 및 프로젝터를 포함한다.
손톱 이미지의 캡처를 가속화하고 표준화하기 위해, 특수 이미징 리그가 설계되었다. 캡처 리그에 대한 개념적 개략도가 도 89에 도시되어 있다. 이미지는 손 위에 장착되며, 고정된 25mm(0.9843in) 렌즈가 장착되어 있는 Prosilica 1.2 메가픽셀 컬러 카메라로 캡처된다. 손 위 및 뒤에 장착된 PicoPro 레이저 프로젝터는 구조화된 광을 손가락에 투영한다. 개별적으로 어드레싱 가능한 3색 LED 스트립으로 조명 환경을 동적으로 제어할 수 있다.
도 90a는 사용자의 손 및 손가락을 이미징하기 위한 이미지 캡처 리그의 프로토타입의 후면 투시도이고, 상기 리그는 동일한 평면에 장착된 3개의 LED 패널, 평면을 통한 카메라, 및 이미지 캡처 리그 내의 프로젝터를 포함한다.
도 90b는 사용자의 손과 손가락을 이미징하기 위한 이미지 캡처 리그의 우측입면도이고(여기서, 인공 시험 손가락이 리그에 배치되어 있음), 상기 리그는 동일한 평면에 배향된 세 개의 LED 패널, 카메라 및 프로젝터를 포함한다.
조립된 캡처 리그는 도 90a 및 90b에 도시되어 있다. 매우 미세한 구조의 투영을 가능하게 하기 위해 레이저 프로젝터를 손에 가깝게 배치한다. 개별적으로 어드레싱 가능한 LED의 세 개의 개별 세트가 리그 내부에 장착된다: 3색 LED의 16x16 패널, 3색 LED의 8x32 패널 및 자외선 LED의 선형 스트립.
데이터 획득 동안, 대상체는 한 번에 한 손가락을 캡처 리그 중앙에 있는 플랫폼에 놓는다. 각 손가락에 대해, 캡처 프로세스는 일부 구현예에 따라 다음과 같이 진행한다:
첫째, 카메라는 손가락 기저부에서 손가락 끝까지 아래로 스캐닝하면서 수평 프로젝터 라인의 단일 스윕을 기록한다. 라인 스윕에는 20초가 소요되며 스윕 동안 약 120개의 이미지가 캡처된다.
이어서, 30개의 개별 백색 LED 시퀀스가 조명되고, LED당 하나의 이미지가 캡처된다.
이어서, 6개의 자외선 LED 시퀀스에서 이미지가 캡처된다.
마지막으로, 세 개의 이미지가 다중 LED 조명으로 캡처된다(2개는 백색광으로, 1개는 자외선으로).
완전한 캡처 프로세스는 손가락 당 약 60초가 걸리고, 약 160개의 이미지를 초래한다.
도 91은 단일 캡처 세션의 결과를 나타낸다. 구체적으로, 도 91a는 이미지 캡처 프로세스의 약 120개의 이미지의 제1 평면도 이미지이고, 여기서 카메라는 손가락의 기저부(예: 도 91a)로부터 손가락 끝(예: 도 91d)을 향해 아래로부터 스캐닝하면서 수평 레이저 프로젝터 라인의 단일 스윕을 기록한다.
도 91b는 이미지 캡처 프로세스의 약 120개의 이미지의 제2 평면도 이미지이다.
도 91c는 이미지 캡처 프로세스의 약 120개의 이미지의 제3 평면도 이미지이다.
도 91d는 이미지 캡처 프로세스의 약 120개의 이미지의 제4 평면도 이미지이다.
도 91e는 이미지 캡처 프로세스의 약 30개의 이미지의 제1 평면도 이미지이고, 여기서 카메라는 약 30개의 상이한 백색 LED 각각에 대한 이미지를 기록한다.
도 91f는 이미지 캡처 프로세스의 약 30개의 이미지의 제2 평면도 이미지이다.
도 91g는 이미지 캡처 프로세스의 약 30개의 이미지의 제3 평면도 이미지이다.
도 91h는 이미지 캡처 프로세스의 약 6개의 이미지의 평면도 이미지이고, 여기서 카메라는 약 6개의 상이한 자외선 LED 각각에 대한 이미지를 기록한다.
도 91i는 이미지 캡처 프로세스의 약 3개의 이미지의 평면도 이미지이고, 여기서 카메라는 백색광 및 자외선 LED로 조명된 이미지를 기록한다.
네일 식별 방법
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 손가락 끝 이미지로부터 손톱 경계를 추정한다. 과적합 위험을 완화하기 위해, 일부 구현예에서, 장치는 인터리브 접근법을 사용하고, 여기서 초기 데이터는 알고리즘을 설계 및 조정하는 데 사용된 반면, 나중 데이터는 검증 및 평가에 사용되었다.
도 92는 네일 식별 방법의 데이터 흐름도이다. 구체적으로, 도 92는 일부 구현예에 따른 네일 식별 방법의 높은 높은 레벨 데이터 흐름을 도시한다. 먼저, 30개의 단일 LED 이미지를 사용하여 보정된 포토메트릭 스테레오를 통해 손가락 끝의 법선 맵을 계산한다. 이어서, 법선 맵에서 에지 검출를 수행한다. 에지 검출은 또한 3개의 추가 이미지에서 수행된다: 손가락 끝의 3개의 다중-LED 이미지(2개는 백색광으로, 1개는 자외선으로). 이는 손가락 끝에 대한 네 개의 별개의 에지 검출 이미지를 초래한다. 이어서, 이러한 4개의 에지 검출 결과는 특수한 평균화 기능을 통해 단일 에지 검출 이미지로 결합된다(아래 추가 세부 사항 참조). 이어서, 평균화된 에지 이미지에 대해 유역 세분화를 수행하여 손톱에 상응하는 이미지 영역의 추정치를 생성한다. 마지막으로, 윤곽 평활화가 추정된 네일 영역에 적용되어 네일 경계의 최종 추정치를 생성한다.
에지 검출
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 두 단계로 구성된 에지 검출 절차를 사용한다: 이미지의 정규화에 이어, HED(전체 중첩된 에지 검출) 방법의 적용. 이미지 정규화를 위해, 메디안 필터와 적응형 히스토그램 균등화를 적용하여 센서 노이즈를 줄이고 에지 검출기에 대한 다양한 입력에 걸친 조명 레벨의 차이를 조정한다.
에지 평균
일부 구현예에서, 다수의 에지 검출 결과를 단일 이미지로 결합하기 위해, 다음의 함수가 사용된다:
이 특수 평균화 함수는 입력에 걸쳐 허용되는 불일치의 양을 조정할 수 있기 때문에 유용하다: 매개변수 γ가 증가하면, 일치 영역은 더 강하게 강조되는 반면, 불일치 영역은 더 강하게 비강조된다. 일부 구현예에서, γ = 2.0의 값이 사용된다.
윤곽 평활화
일부 구현예에서, 추정된 네일 영역을 평활화하기 위해, 네일 케어 시스템(100)은 먼저 세분화된 이미지에 형태학적 침식 및 확장을 적용한다. 그런 다음, 추정된 네일 영역의 경계 윤곽이 계산된다. 그런 다음, 활성 윤곽 방법을 적용하여 손가락 끝의 참조 이미지(현재 다중-LED-1 이미지)에 대해 향상된 적합성을 위해 계산된 경계를 조정한다. 일부 구현예에서, 이는 특히 손톱의 자유 에지를 따라 추정된 경계의 평활도 및 정확도를 개선하는 경향이 있다.
결과; 손톱 식별
일부 구현예에 따른 손톱 식별을 평가하기 위해, 12명의 참가자의 파일럿 연구가 수행되었다. 손가락 끝의 이미지는 앞서 기재된 데이터 캡처 리그를 사용하여 수집하였고, 상기 기재된 프로토타입 네일 경계 추정 알고리즘을 통해 처리되었다. 결과는 긍정적이었다.
데이터 수집 및 대상체 풀
데이터는 12명의 대상체로부터 수집되었으며, 모두 페인팅되지 않은 네일을 갖는다. 대상체 중 7명은 여성이고 5명은 남성이었다. 다양한 피부색과 민족에 걸친 대상체를 모으기 위한 노력이 이루어졌다. 대상체 풀에는 흑인, 백인, 라틴계, 히스패닉계 및 아시아계 민족 배경을 갖는 사람들이 포함되었다. 데이터는 대상체당 8개의 손가락에서 캡처되었으며, 데이터 세트에는 총 96개의 손가락이 캡처되었다. 이 예에서 엄지손가락은 캡처되지 않았다.
네일 식별 결과
캡처된 손가락 끝의 이미지는 프로토타입 방법을 사용하여 처리되어 96개의 개별 손톱 영역의 추정치(데이터 세트에서 각 손가락에 대해 하나씩)를 생성했다. 페인팅된 손톱을 갖는 13번째 대상체의 데이터도 또한 참고용으로 결과에 포함된다.
도 93은 데이터 세트의 몇 가지 대표적인 결과를 보여준다. 각 손가락에 대해, 손가락 끝의 참조 이미지(다중-LED-1 이미지)는 추정된 손톱 영역에 상응하는 반투명 흰색 중첩으로 표시된다. 구체적으로, 도 93a는 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제1 네일 추정치와 중첩된 제1 네일의 제1 평면도 이미지이다.
도 93b는 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제2 네일 추정치와 중첩된 제2 네일의 제2 평면도 이미지이다.
도 93c는 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제3 네일 추정치와 중첩된 제3 네일의 제3 평면도 이미지이다.
도 93d는 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제4 네일 추정치와 중첩된 제4 네일의 제4 평면도 이미지이다.
도 93e는 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제5 네일 추정치와 중첩된 제5 네일의 제5 평면도 이미지이다.
도 93f는 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제6 네일 추정치와 중첩된 제6 네일의 제6 평면도 이미지이다.
전반적으로, 결과는 매우 유망하다. 일반적으로, 알고리즘은 다양한 네일 형상, 크기 및 특성에 걸쳐 손톱 경계를 추적하는 좋은 작업을 수행한다. 알고리즘은 또한 다양한 피부 톤에서 잘 수행되는 것으로 보인다.
도 94에 예시된 바와 같이, 실패의 경우를 피하기 위해 다양한 구현예에 따라 주의를 기울이고, 그리고 많은 부분이 과소 또는 과대 평가 영역을 포함한다.
도 94a는 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제7 네일 추정치(과대 평가)와 중첩된 제2 네일의 제7 평면도 이미지이다.
도 94b는 네일 식별 컴퓨터 프로그램에 의해 생성된 제8 네일 추정치(과소평가)와 중첩된 제6 네일의 제8 평면도 이미지이다.
엄지손가락
일부 구현예에 따라 상기 기재된 현재 알고리즘은 엄지손가락 이미지로 잘 일반화될 것으로 여겨진다. 일부 구현예에서, 현재 알고리즘은 카메라 및 LED 조명이 표적 네일의 표면에 대략적으로 평행하게 배치되는 것을 필요로 한다. 일부 구현예에서, 한 손에 다섯 손가락 모두를 이미징하면 대상체가 엄지손가락과 다른 손가락의 이미징 사이에 손을 재배치할 것을 요구할 것이고, 그렇지 않으면, 나머지 손가락은 다수의 카메라(또는 단일 이동식 카메라)가 장착된 캡처 리그를 필요로 한다.
캡처 속도
일부 구현예에서, 캡처 프로세스는 LED 플래시를 카메라 셔터와 긴밀하게 동기화함으로써 감소될 수 있다. 대안적으로 또는 추가로, 포토메트릭 스테레오 계산에 사용되는 단일 LED 이미지의 수는 생성되는 법선 맵의 정확도를 실질적으로 감소시키지 않고 감소될 수 있다.
손가락 움직임
대상체가 캡처 프로세스 전반에 걸쳐 손가락을 안정적으로 유지하는 것이 어려울 수 있다. 손가락 움직임은 프레임 간 일관성에 의존하는 법선 맵 및 에지 검출 평균과 같은 집계 계산에서 흐릿한 입력 이미지 및 흐릿함을 포함하여 네일 추정 알고리즘에 다양한 문제를 일으킬 수 있다. 이러한 문제는 추정되는 네일 경계에 상당한 부정확성을 유발할 수 있다. 카메라 노출 시간과 전체 캡처 시간을 단축하면 이러한 문제를 완화하는 데 도움이 된다. 대안적으로 또는 추가로, 일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 기계적 솔루션(예: 각 손가락에 대한 지지 크래들) 및/또는 알고리즘 솔루션(예: 이미지간 정렬 기술)을 사용할 수 있다. 손가락 움직임은 네일 식별뿐만 아니라 이미징, 에나멜 도포, 에나멜 제거 및/또는 네일 성형 중 및/또는 이들 단계 중 어느 하나 사이에 제한될 수 있다.
큐티클 이미징
일부 구현예에서, 근위 네일 주름을 따른 네일 경계 추정 결과는 이 영역에서 맞춤형 훈련된 에지 검출기(아래에 논의됨)를 사용함으로써 개선된다. 큐티클 조직의 가장 얇은 층은 사진에 거의 투명하게 보일 수 있음이 주시된다: 인간이 데이터 세트의 손가락 끝 이미지에서 큐티클의 내부 윤곽을 추적하는 것조차 어려울 수 있다. 따라서, 추정된 네일의 영역으로부터 큐티클 조직을 완전히 배제하는 것은 불가능할 수 있다.
계산 복잡성/시간 비용
프로토타입 알고리즘 처리 시간은, 예를 들어, 알고리즘 내의 많은 단계를 크기 순으로 가속할 수 있어야 하는 일부 구현예에 따른 GPU의 사용을 통함을 포함하여 실질적으로 감소될 수 있다. 스크립팅-레벨 언어의 사용을 감소시키는 것과 같은 추가의 최적화는 일부 구현예에 따라 처리 시간을 추가로 감소시킬 수 있다.
다음 단계 - 손톱 식별; 맞춤형 에지 검출기 훈련
일부 구현예에 따른 네일 경계 추정의 정확도를 개선하기 위해, 네일 케어 시스템(100)은 맞춤형 에지 검출기를 사용할 수 있다. 에지 검출은 일반적인 대상체 사진의 데이터 세트에 대해 훈련된 신경망과 함께 HED 방법을 사용할 수 있는 본 프로토타입 알고리즘의 중요한 단계일 수 있다. 일부 구현예에서, 맞춤형 훈련된 HED 또는 HED 유사 네트워크를 사용하여 실질적으로 결과를 개선할 수 있다. 일부 구현예에서, 에지 검출기로부터 개선된 정확도를 얻는 것은 알고리즘으로부터 영역 세분화 단계를 크게 단순화하거나 심지어 제거할 수 있고, 정확도에 대한 추가적인 이점이 있다.
맞춤형 에지 검출기의 훈련에는 네트워크 설계, 데이터 수집 및 데이터 주석이 포함될 수 있다. 일부 구현예에서, 예를 들어, 500 내지 1000개의 손가락 끝(50 내지 100명의 대상체)의 주석이 달린 데이터 세트를 사용하여 일반적인 HED 네트워크를 충분히 능가하는 결과와 함께 사용될 수 있다.
캡처 시간 요구 사항 감소
일부 구현예에서, 손가락 끝 이미징의 캡처 시간 요건의 감소 및 최적화는, 예를 들어, LED 플래시를 카메라 셔터와 동기화함으로써 달성될 수 있다. 대안적으로 또는 추가로, 조명 레벨 대 노출 시간을 변경하면 총 노출 시간 요건이 잠재적으로 감소될 수 있다. 대안적으로 또는 추가로, 추가적인 절감은 포토메트릭 스테레오를 통해 고품질 법선 맵을 생성할 수 있는 단일 LED 이미지의 감소된 서브세트를 발견함으로써 수득될 수 있다.
계산 시간 단축
일부 구현예에서, 생산 용도에 적합한 이미지 처리 시간은, 예를 들어, GPU상에서 실행되도록 가능한 한 많은 알고리즘을 이식함으로써 및/또는 처리 스택에 걸쳐 보다 고도로 최적화된 구현으로 전환함으로써 달성될 수 있다.
에나멜의 제거; 도입
일부 구현예에 따른 매니큐어의 중요한 부분은 네일로부터 에나멜을 제거하는 네일 케어 시스템(100)을 포함한다. 일부 구현예에 따른 2개의 에나멜 제거 방법이 있다. 두 방법 모두 아세톤(또는 다른 적합한 제거제)을 사용하여 에나멜을 용해시킨 후 압력을 인가하여 용해된 에나멜을 제거함을 포함한다. 첫 번째 방법에서, 아세톤 침지된 면 패드용 오목부를 함유하는 손가락 클립이 손가락 끝을 둘러싼다. 에나멜이 면 패드에 용해되기에 충분한 시간(더 두꺼운 에나멜 층은 더 많은 시간을 필요로 할 수 있음)을 허용함으로써 에나멜은 네일에서 제거된다. 클립은 또한 아세톤의 증발 속도를 감소시켜 제거에 필요한 아세톤의 양을 감소시킨다. 첫 번째 방법과 달리, 두 번째 방법은 바로 아세톤 침지된 면 패드를 사용하여 에나멜을 제거한다. 첫 번째 방법과 유사하게 에나멜이 면 패드에 용해되는 데 시간이 필요하다. 면 패드의 조작은 네일에 압력을 인가하여 용해된 에나멜을 네일에서 닦아낸다.
아세톤이 상기 논의되었지만, 다른 적합한 제거제(들) 또는 화학물질(들)이 다른 구현예에서 사용될 수 있다. 예를 들어, 일부 구현예에서, 현재 이용 가능한 대안적인 제거제를 사용함으로써 더 적은 냄새 또는 감소된 바람직하지 않은 공기중 화학물질 또는 미립자를 추구하기 위해 감소된 제거 효능을 수용하는 것이 유익할 수 있다.
면이 상기 논의되었지만, 다른 구현예에서, 다양한 다른 재료가 제거 화학물질의 저장소를 보유하기 위해 사용될 수 있다. 예를 들어, 이러한 재료(들)는 면 패드와 같이 본질적으로 흡수성일 수 있거나, 인공 샤모어 유사 재료와 같은 거칠거나 미세한 구조로 인해 흡수성일 수 있다. 블래더, 주사기, 파이프 또는 파이프의 어레이, 또는 제거 화학물질을 포획 및 분배할 수 있는 임의의 구조 또는 재료를 포함하는 제거 화학물질의 저장소를 보유하기 위한 다른 기술도 가능하다.
일부 구현예에 따른 제거 공정은 면 패드를 조작하여 네일-피부 접합부에서 에나멜을 제거하는 기계적 공정이다. 이 접합부는 또한 측면 네일 주름으로 공지되어 있다. 측면 네일 주름은 절반이 네일이고 나머지 절반이 피부인 밸리이다. 잘 도포된 에나멜에서, 에나멜은 벨리의 네일 절반만 덮을 것으로 예상된다. 이 밸리의 에나멜이 아세톤과 접촉하면 에나멜이 용해되기 시작하고 용해된 에나멜이 밸리의 피부쪽으로 흘러 들어간다. 이는 밸리의 피부 절반을 압착되어 압력과 전단력이 용해된 에나멜을 이 접합부에서 닦아 낼 수 있도록 면 패드의 조작을 필요로 한다.
일부 구현예에서, 다양한 기하학의 네일에 수동적으로 적응하기 위해 스프링과 굴곡부의 사용을 통한 순응성을 사용하는 에나멜 제거 도구가 제공되어 네일에 압력을 인가하기 위해 매니큐어 로봇에 의해 필요한 조작을 최소화한다.
깨끗한 손톱(새끼손가락 내지 엄지손가락)의 시각적 평가는 에나멜의 벌크가 네일에서 제거되었음을 보여주었다. 일부 경우에, 측면 네일 주름에서 에나멜의 희미한 흔적이 일부 네일에 존재한다.
일부 구현예에서, 순응성의 전략적 사용은 에나멜 제거 도구가 다양한 기하학의 네일에 수동적으로 압력을 인가하도록 하여 에나멜의 벌크가 제거될 수 있도록 한다.
결과
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 한 손의 모든 손가락에 대한 에나멜의 단일 코트의 기준선 클린을 두 단계로 분할한다. 첫 번째 단계에서, 완전히 침지된 일반 면 패드(약 5ml(약 0.3051 입방인치)의 아세톤이 흡수됨)를 사용하여 다섯 손가락 모두에서 에나멜의 벌크를 제거한다. 예를 들어, 평균적으로, 침지된 면 패드는 약 10초 내지 20초의 체류 시간 동안 네일에 가압될 수 있다. 이 시간은 아세톤이 에나멜의 최상층을 용해시켜 네일과 접촉하는 에나멜에 접근할 수 있도록 하는 데 중요할 수 있다. 각 손가락에 체류 후, 에나멜 제거 도구는 근위 네일 주름으로부터 네일의 자유 에지를 향해 닦는 네일 플레이트에 압력이 인가되는 방식으로 조작된다. 새로운 손가락을 세정할 때, 면 패드는 에나멜이 제거되지 않은 영역으로 재배향된다. 에나멜의 벌크가 네일 플레이트에서 제거되면, 두 번째 단계는 부분적으로 침지된 면 패드(예: 약 3ml(약 0.1831 입방인치))를 사용하여 측면 네일 주름으로부터 잔류 에나멜을 세정한다. 에나멜 제거 도구의 굴곡은 핀치 너비가 다양하여 세정 도구가 근위 네일 주름으로부터 네일의 자유 에지로 이동할 때 측면 네일 주름에 압력을 인가하는 면 패드에 핀치와 같은 그립을 형성한다. 이 압력은 측면 네일 주름을 압축하여 피부에 가까운 네일을 아세톤에 노출시킨다.
일부 구현예에서, 매니큐어 공정을 완전히 자동화하기 위해, 에나멜 제거 도구가 제공된다. 상기 도구는 네일 플레이트에서 에나멜을 완전히 제거할 수 있으며, 간단한 경로 계획 전략을 사용하여 로봇 비용을 최소화할 수 있다. 에나멜 제거 도구의 설계와는 별도로, 에나멜 제거 공정의 주요 구성 요소는 필요한 아세톤의 양, 에나멜 제거 재료, 제거 재료의 양, 에나멜 감지의 정확성 및 정밀도, 세정 궤적의 복잡성 및 에나멜을 제거하는 데 필요한 시간을 포함할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 레이저 절단 프로필렌과 목재 층을 접합함으로써 형성된 에나멜 제거 도구를 포함한다. 이들 재료는 아세톤에 대한 불활성 때문에 사용될 수 있다. 새끼손가락에서 엄지손가락까지 크기가 다양한 네일의 네일 플레이트에 압력을 인가하기 위해 굴곡 및 스프링이 사용될 수 있다. 이 순응성은 도구가 다양한 기하학의 네일에 수동적으로 적응하도록 할 수 있어 에나멜 제거 말단-이펙터의 수를 줄이고 에나멜 제거에 필요한 세정 궤적을 단순화할 수 있다. 예를 들어, 약 8ml(약 0.4882 입방인치)의 아세톤과 6.5in(16.51cm) × 1in(2.54cm)의 탄성 마이크로 섬유 천을 사용하여 한 손의 다섯 네일로부터 에나멜의 이중층 코트를 제거할 수 있다.
에나멜 제거 도구
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 네일이 네 영역: 네일 플레이트, 자유 에지, 근위 네일 주름, 및 측면 네일 주름으로 광범위하게 구성되는 것으로 간주할 수 있다(도 1b). 다양한 폭(w) 및 횡방향 곡률(r1)을 갖는 네일의 측면 주름에 압력을 인가하기 위해, 내부를 향한 둥근 팁을 갖는 횡방향 굴곡은 폴리프로필렌 시트로부터 레이저 절단될 수 있다(도 2b). 스프링 로딩된 근위 스크래퍼는 도구가 네일에 압착되고 근위 네일 접힘에서 자유 에지로 이동될 때 사용하여 근위 네일 접힘, 네일 플레이트 및 자유 에지에 압력을 인가할 수 있다(도 2b).
도 95a는 측면 네일 주름에서 두 개의 최저 지점 사이의 가장 넓은 길이로서 정의된 폭, 및/또는 자유 네일 에지의 정점과 근위 네일 주름 사이의 최장 길이로서 정의된 길이의 손톱 매개변수의 평면도이다.
도 95b는 제1 반경의 원에 의해 근사되는 횡방향 네일 곡률의 손톱 매개변수의 단면도이다.
도 95c는 제2 반경의 원에 의해 근사되는 종방향 네일 곡률의 손톱 매개변수의 측면도이다.
도 95d는 네일 플레이트, 자유 에지, 측면 네일 주름, 및 근위 네일 주름의 손톱 매개변수의 평면도이다.
도 1. 손톱 매개변수. (A) 폭(W)은 측면 네일 주름에서 두 개의 최저 지점 사이의 가장 넓은 길이로 정의된다. 길이(L)은 자유 네일 에지의 정점과 근위 네일 주름 사이의 최장 길이로 정의된다. 횡방향 네일 곡률은 반경(r1)의 원으로 근사된다. 종방향 네일 곡률은 반경(r2)의 원으로 근사된다. (B) 네일 플레이트는 4개의 영역으로 나뉜다. 영역 1은 네일 플레이트이고, 영역 2는 자유 에지이고, 영역 3은 측면 네일 주름이고, 영역 4는 근위 네일 주름이다.
도 96a는 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 투시도이다.
도 96b는 다양한 기하학의 네일에 압력이 인가되도록 하는 스프링 및 굴곡을 통한 순응성에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 투시도이다.
도 2a 및 96b. 에나멜 제거 도구 프로토타입. (A) 실험 테스트 설정. (B) 스프링 및 굴곡을 통한 순응성은 다양한 기하학의 네일에 압력이 인가되도록 한다. 스프링 로딩 근위 스크래퍼는 네일 플레이트의 벌크로부터 에나멜을 제거한다. 측면 굴곡은 네일 아치 위로 퍼져 측면 네일 주름의 네일 영역에 접근한다.
일부 구현예에서, 측면 굴곡의 스택은 면 패드가 전달된 아세톤의 저장소로서 기능하도록 배치되는 오목부를 갖도록 설계될 수 있다(도 97). 근위 스크래퍼 및 측면 굴곡 주위의 랩핑은 탄성 마이크로 섬유 천의 스트립일 수 있다(도 97). 면 패드 저장소가 없으면, 아세톤은 마이크로 섬유 천을 통해 너무 빨리 침투하여 빠른 증발을 초래할 수 있다. 마이크로 섬유 천의 탄력성은 또한 네일 플레이트에 하향 힘이 인가될 때 측면 굴곡이 떨어져 확산되도록 할 수 있기 때문에 또 다른 중요한 요인일 수 있다. 일부 구현예에서, 아세톤은 주사기에 의해 면 패드 저장소에 전달된다. 아세톤을 측면 네일 주름에 더 효율적으로 분배하기 위해, 유동 스플리터가 전달 튜브의 말단에 부착될 수 있다.
일부 구현예에 따른 에나멜 제거 공정의 또 다른 중요한 측면은 손가락이 놓여있는 표면일 수 있다(도 2a). 완전히 편평한 단단한 표면은 도구에 의해 압력이 인가될 때 측면 네일 주름의 변형을 줄일 수 있다. 융기된 에지를 포함하거나 이로 구성될 수 있는 손가락 가이드는 압력이 가해질 때 불편함을 최소화하기 위해 크기가 조정될 수 있지만, 에나멜 제거를 위한 측면 네일 주름의 충분한 변형을 가능하게 하기에 충분히 좁고 크다.
일부 구현예에서, 손가락 가이드는 전체 손을 포함하거나 또는 손의 하나 이상의 섹션과만 상호작용하도록 크기가 조정될 수 있다.
일부 구현예에서, 손가락 가이드는 네일 케어 장치의 작동 전, 동안 또는 후 1회 이상 위치 및/또는 포즈를 변경할 수 있다.
일부 구현예에서, 손가락 가이드 장치는 가능하게는 사용자 손(들)의 포즈 또는 위치가 네일 케어 장치의 동작 전, 동안 또는 후 1회 이상 변경되도록 하기 위해, 다수의 섹션으로 연결될 수 있다.
일부 구현예에서, 손가락 가이드 또는 그의 섹션 중 하나 이상은, 예를 들어, 가요성 재료, 조인트, 슬라이딩 섹션, 엘라스토머 재료, 열탄성 재료, 또는 가이드에 대한 일시적 또는 영구적 변화를 가능하게 하는 다른 방법을 포함함으로써 수동적으로 변경 가능할 수 있다.
일부 구현예에서, 손가락 가이드는 하나 이상의 알고리즘의 제어하에 네일 케어 장치에 의해 능동적으로 변경 가능할 수 있다. 일부 구현예에서, 손가락 가이드의 능동적 변경은 모터(예: DC 브러시, DC 브러시리스, AC, 스테퍼 등등)에 의해 달성된다. 다른 구현예에서, 다른 형상 변화 재료가 사용될 수 있다(예: 메모리 금속, 강자성 유체, 공압 작동식 블래더 또는 형상, 유압 액추에이터 등등).
일부 구현예에서, 손가락 가이드는 하나 이상의 센서, 예를 들어, 절대 또는 상대 엔코더, 압력 센서, 온도 센서, 힘 또는 토크 센서, 정전 용량형 센서 등등을 포함할 수 있다. 이러한 센서는, 예를 들어, 사용자가 손의 위치 또는 포즈를 변경하려고 시도하는지 여부를 결정하거나, 사용자의 손(들)의 실제 위치 또는 포즈를 결정하거나, 사용자의 편안함을 향상시키거나, 사용자의 손(들)이 손가락 가이드와 올바르게 위치되어 맞물린다는 것을 보장하거나, 사용자가 손 또는 손들을 철회하였다는 표시를 제공하기 위해 사용될 수 있다.
일부 구현예에서, 손가락 가이드의 위치 또는 포즈를 변경하는 능력은 상기 기재된 바와 같은 장치에 의해 수행되든 상기 기재된 바와 같은 사용자에 의해 수행되든, 예를 들어, 임의의(예: 모두 또는 없음) 다음을 실행하는데 사용될 수 있다: 사용자의 편안함 증가.
사용자의 하나 이상의 손가락 또는 손 또는 그의 일부와 네일 케어 장치의 적합한 맞물림을 보장한다.
예를 들어, 네일 케어 장치 또는 임의의 이의 기능의 작동을 개선하기 위해 사용자의 하나 이상의 손가락 또는 손 또는 이의 일부의 위치 또는 포즈를 변경한다.
사용자에게 피드백을 제공한다.
사용자가 장치에 입력을 제공하도록 한다
사용자의 경험을 개선한다(예를 들어, 장치에/장치로부터 손 또는 손들의 삽입 또는 철회를 단순화함으로써).
도 97은 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입 구성 요소의 분해도이다.
로봇 에나멜 제거 설명
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 한 손의 다섯 손가락 손톱 모두에 에나멜의 두 코트를 도포할 수 있다. 제1 코트는, 예를 들어, 흑색(예: 시험 케이스로서 잔류 에나멜의 시각적 검출을 가능하게 하기 위해) 또는 임의의 다른 색상일 수 있다. 제2 코트는 매트 또는 다른 탑 코트일 수 있다. 일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 에나멜 제거 공정을 3단계로 분할할 수 있다. 모든 단계는 측면 굴곡의 근위 표면을 근위 네일 주름의 정점과 정렬하는 것으로 시작할 수 있다(도 98a). 이는 세정 공정 동안 측면 네일 주름의 근위 말단에 압력이 인가된다는 것을 보장할 수 있다.
제1 세정 단계에서, 1ml(0.06102 입방인치)의 아세톤(예)을 세정될 첫 번째 손가락을 위한 면 패드에 주입할 수 있다(모든 후속 세정 단계에서, 0.5ml(0.03051입방인치)의 아세톤(예)이 주입될 수 있다. 측면 굴곡이 측면 네일 주름과 맞물릴 때까지 도구는 수직으로 낮출 수 있다(도 98). 20초 후, 예를 들어, 도구는 수직으로 올릴 수 있다. 다음에, 마이크로 섬유 천을 회전시켜 다음 손가락이 제1 세정 단계를 거치도록 할 수 있다. 이는 다섯 손가락 모두에 대해 반복될 수 있다. 일부 구현예에서, 수직 경로 뒤에 있는 이유는 제거된 에나멜이 더러워진 마이크로 섬유 천에 밀고 있는 튀어 나온 근위 스크래퍼로 인해 손가락 끝에 재침착되는 것을 방지하기 위한 것이다.
제2 세정 공정은 도구가 취하는 경로를 제외하고 제1 세정 공정과 유사할 수 있다. 수직 움직임 대신에, 경로는 수직 함몰에 이어 각진 리프트 오프일 수 있다(도 98c). 이 경로는 손가락 끝을 깨끗하게 유지하면서 네일 플레이트에서 에나멜의 벌크를 제거하기 위해 취해질 수 있다. 에나멜 제거 공정의 이 단계에서, 대부분의 경우, 에나멜의 전부는 아니더라도 대부분이 네일 플레이트에서 제거될 수 있다.
제3 세정 단계는 또한 그의 세정 경로를 제외하고 제1 세정 단계와 유사할 수 있다. 도구는 수직으로 압착될 수 있고, 체류 시간 후에 수평 와이프가 명령될 수 있다(도 98d). 제3 세정 궤적은 측면 네일 주름 및 네일의 자유 에지에서 임의의 잔류 에나멜을 표적화하도록 구현될 수 있다. 이 단계는 측면 네일 주름에 완고한 잔류 에나멜이 있는 임의의 손가락에 대해 반복될 수 있다. 일부 구현예에 따른 각 단계 후의 세정 결과는 도 99a 내지 103d에 포괄적으로 도시되어 있다.
에나멜 도포 전의 네일과 에나멜 도포에 이어 제거 후 네일을 비교하면, 네일 플레이트와 모든 네일의 자유 에지로부터 에나멜이 제거되었다. 세 번째 세정 단계 종료시, 일부 예에서 잔류 에나멜은 새끼손가락, 검지 및 엄지손가락에서 나타났다. 이 잔류 에나멜은 면봉을 통해 아세톤을 표적화하고 공격적 도포 후 몇몇 예에서 다소 잔류되었다.
도 98a는 측면 굴곡의 근위 면이 에나멜 영역 곡선의 정점과 정렬되는 초기 위치를 포함하는 에나멜 제거 도구 세정 궤적에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도로서, 이는 압력이 측면 네일 주름의 근위 에지에 인가됨을 보장한다.
도 98b는 에나멜/광택 제거 시스템(300)이 네일에 압착된 다음, 네일로부터 수직으로 들어 올려지는 제1 세정 단계에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도이다.
도 98c는 에나멜/광택 제거 시스템(300)이 네일에 압착된 다음, 네일로부터 각으로 들어 올려지고 떨어져 나가는 제2 세정 단계에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도이다.
도 98d는 에나멜/광택 제거 시스템(300)이 네일에 압착된 다음, 네일을 가로 질러 수평으로 닦아지는 제3 세정 단계에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도이다.
도 3-103. 에나멜 제거 세정 진행 예. 제1 및 제2 세정은 손가락 당 1회 수행할 수 있다. 제3 세정은 측면 네일 주름에 완고한 잔류 에나멜을 가질 수 있는 손가락에 여러 번 발생할 수 있다. 제3 세정 헤더 아래에 표시되는 이미지는 각 손가락의 최종 세정 동작이다(손가락 끝의 검은 침착물은 마이크로 섬유 천을 회전 할 때 얼룩으로 인한 것이다).
도 99a는 새끼손가락으로부터 에나멜/광택을 제거하기 전의 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 99b는 새끼손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템(300)에 의해 제1 세정 단계가 수행된 후 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 99c는 새끼손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템(300)에 의해 제2 세정 단계가 수행된 후 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 99d는 새끼손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템(300)에 의해 제3 세정 단계가 수행된 후 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 100a는 약지로부터 에나멜/광택을 제거하기 전의 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 100b는 약지 상의 에나멜/광택 제거 시스템(300)에 의해 제1 세정 단계가 수행된 후 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 100c는 약지 상의 에나멜/광택 제거 시스템(300)에 의해 제2 세정 단계가 수행된 후 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 100d는 약지 상의 에나멜/광택 제거 시스템(300)에 의해 제3 세정 단계가 수행된 후 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 101a는 중지로부터 에나멜/광택을 제거하기 전의 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 101b는 중지 상의 에나멜/광택 제거 시스템(300)에 의해 제1 세정 단계가 수행된 후 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 101c는 중지 상의 에나멜/광택 제거 시스템(300)에 의해 제2 세정 단계가 수행된 후 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 101d는 중지 상의 에나멜/광택 제거 시스템(300)에 의해 제3 세정 단계가 수행된 후 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 102a는 검지로부터 에나멜/광택을 제거하기 전의 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 102b는 검지 상의 에나멜/광택 제거 시스템(300)에 의해 제1 세정 단계가 수행된 후 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 102c는 검지 상의 에나멜/광택 제거 시스템(300)에 의해 제2 세정 단계가 수행된 후 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 102d는 검지 상의 에나멜/광택 제거 시스템(300)에 의해 제3 세정 단계가 수행된 후 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 103a는 엄지손가락으로부터 에나멜/광택을 제거하기 전의 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 103b는 엄지손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템(300)에 의해 제1 세정 단계가 수행된 후 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 103c는 엄지손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템(300)에 의해 제2 세정 단계가 수행된 후 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 103d는 엄지손가락 상의 에나멜/광택 제거 시스템(300)에 의해 제3 세정 단계가 수행된 후 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 프로토타입의 측면도 이미지이다.
도 104-106. 대상체의 왼손으로부터 에나멜 제거 결과. (A) 에나멜(에시 리코리스)과 탑 코트(샐리 한센 빅 매트 탑 코트) 도포 전. (B) 에나멜과 탑 코트 도포 후. (C) 로봇에 의한 에나멜과 탑 코트 제거 후. 엄지 손톱 자유 에지하의 에나멜 흔적은 엄지손가락 끝에 페인팅된 부주의하게 도포된 에나멜이 아세톤 침지된 면봉에 의해 제거되었을 때 용해된 에나멜의 누출로 인한 것이다.
도 104a는 에나멜과 탑 코트를 도포하기 전의 새끼손가락의 평면도이다.
도 104b는 에나멜과 탑 코트를 도포하기 전의 약지의 평면도이다.
도 104c는 에나멜과 탑 코트를 도포하기 전의 중지의 평면도이다.
도 104d는 에나멜과 탑 코트를 도포하기 전의 검지의 평면도이다.
도 104e는 에나멜과 탑 코트를 도포하기 전의 엄지손가락의 평면도이다.
도 105a는 에나멜과 탑 코트를 도포한 후의 새끼손가락의 평면도이다.
도 105b는 에나멜과 탑 코트를 도포한 후의 약지의 평면도이다.
도 105c는 에나멜과 탑 코트를 도포한 후의 중지의 평면도이다.
도 105d는 에나멜과 탑 코트를 도포한 후의 검지의 평면도이다.
도 105e는 에나멜과 탑 코트를 도포한 후의 엄지손가락의 평면도이다.
도 106a는 에나멜과 탑 코트를 제거한 후 새끼손가락의 평면도이다.
도 106b는 에나멜과 탑 코트를 제거한 후 약지의 평면도이다.
도 106c는 에나멜과 탑 코트를 제거한 후 중지의 평면도이다.
도 106d는 에나멜과 탑 코트를 제거한 후 검지의 평면도이다.
도 106e는 에나멜과 탑 코트를 제거한 후 엄지손가락의 평면도이다.
논의; 설계 매개변수
일부 구현예에서, 굴곡 분리(fs)는 새끼손가락의 폭(wlf)으로부터 수평 굴곡 오프셋(fo)을 감산함으로써 결정된다. 근위 스크래퍼의 곡선은 엄지손가락의 횡방향 곡률(r1t)에 의해 결정될 수 있다. 측면 굴곡 팁은 팁이 측면 네일 주름 위로 미끄러지는 것을 방지하기 위해 β에 의해 안쪽으로 각질 수 있다. 측면 굴곡의 굽힘 강성은 굴곡의 단면 기하학(ft 및 fw) 및 굴곡의 길이(fl)에 의해 결정될 수 있다. 측면 굴곡은 Po에 의해 수직으로 오프셋되어 근위 스크래퍼 앞의 네일 플레이트와 맞물려 근위 네일 접힘에 스프링 로딩된 스크래퍼에 의해 인가되는 힘을 줄일 수 있다.
도 107. 예시적인 에나멜 제거 도구 설계 매개변수. 측면 굴곡은 굴곡 폭(fw), 굴곡 길이(fl), 굴곡 두께(ft), 굴곡 분리(fs) 및 굴곡 오프셋(fo)에 의해 매개변수화된다. fs와 fo를 합하면 새끼손가락의 폭(wlf)을 제공한다. 굴곡 팁은 수직에서 멀어지는 각도 β이다. 엄지손가락의 길이(Lt)에 의해 결정되는 굴곡의 수. 근위 스크래퍼는 엄지 손톱 횡방향 네일 곡률(r1t) 및 근위 오프셋(Po)에 의해 매개변수화된다. 근위 스크래퍼 스프링에는 압축되지 않은 자연 길이(Psnl), 강성(Psk) 및 사전 부하 오프셋(Pso)이 있다.
도 107a는 에나멜 제거 도구 설계 매개변수의 식별을 포함하는 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 정면도이다.
도 107b는 에나멜 제거 도구 설계 매개변수의 식별을 포함하는 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 측면도이다.
측면 네일 주름의 표적화 세정
일부 구현예에서, 비-아세톤 겔-유사 에나멜 제거제(매니큐어 리무버 겔, Honeybee Gardens)를 측면 네일 주름에 침착시켜 잔류 에나멜을 제거할 수 있다. 이 선택의 근거는 에나멜 도포를 위해 개발된 기술을 이용하여 측면 네일 주름에 젤 유사 에나멜 제거제를 침착시키는 것이었다.
섹션 [1250]에서 언급된 바와 같이, 아세톤 침지된 면봉을 사용하여 나머지 네일 주름을 긁어 낼 수 있다. 여러 번 긁힌 후에도 일부 예에서는 에나멜의 희미한 흔적이 여전히 남아있을 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 완고한 잔류 에나멜을 제거하기 위해 측면 네일 주름에 적용되는 하나 이상의 버핑 도구를 사용할 수 있다. 측면 네일 주름에서 잔류 에나멜을 제거하는 것은, 예를 들어, 새로 도포된 에나멜의 색상이 측면 네일 주름에서의 잔류 에나멜과 명확하게 대조되는 경우에 중요할 수 있다. 다른 경우에, 잔류 에나멜은, 예를 들어, 어두운 색상이 밝은 색상 위에 도포되거나, 잔류 에나멜이 너무 희미하여 정상적인 일상 상호작용 중에 검출될 수 없을 경우에는 임의의 어려움 또는 문제를 나타내지 않을 수 있다.
감지 요건
일부 구현예에서, 에나멜 제거 도구를 배치하기 위해, 네일 케어 시스템(100)의 매니큐어 로봇은 에나멜 영역의 기하학을 검출하고 근위 에나멜 곡선의 정점에 측면 굴곡의 근위면을 배치할 수 있다.
일부 구현예에서, 에나멜 제거 도구는 현재 도포된 에나멜의 위치 또는 범위(또는 심지어 완전한 결여)에 관계없이 배치될 수 있다.
에나멜의 제거는 각 손가락의 높이 변화에 맞게 조정되는 사전 프로그래밍된 하향 수직 궤적을 통합할 수 있다. 이것은 측면 네일 주름에 적합한 압력 인가를 보장하기 위해 수행될 수 있다. 일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 네일 상의 에나멜 제거 도구를 낮추는 것을 언제 중단할지를 결정하기 위한 자동화된 절차를 포함한다. 예를 들어, 근위 스크래퍼에서의 힘 감지, 근위 스크래퍼에서의 제한 스위치, 및/또는 측면 굴곡의 근원에서의 변형 감지와 같은 방법을 일부 구현예에 따라 네일을 낮추기 위한 제거 도구를 자동화하는 데 사용될 수 있다.
큐티클 관리; 도입
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 큐티클 관리 시스템(500)을 포함할 수 있다.
예를 들어, 큐티클 관리는 네일에 에나멜의 시각적 외관을 향상시키는 데 필요하거나 바람직할 수 있고/있으며, 큐티클 관리는 네부 플레이트로부터 근본적인 큐티클 분리로 인한 에나멜의 박리 위험을 감소시킴으로써 매니큐어 또는 페디큐어의 수명을 연장할 수 있다. 단지 큐티클 관리가 살롱 매니큐어 또는 페디큐어의 일부로 일상적이고 표준적으로 제공되기 때문에, 사용자는 특정 강력한 이점이 없는 경우에도 큐티클 관리가 완전한 네일 케어의 필수적인 부분이라고 간주할 수 있다.
예시적인 구현예
일부 구현예에서, 큐티클을 제거할 수 있는 회전 연마 도구가 제공될 수 있다. 일부 구현예에서, 이 도구의 조성, 구성 및 작동(예: 그것이 제조되는 재료 및/또는 도구의 형상, 및/또는 도구가 제어 및 사용되는 방식)은 큐티클 조직(전형적으로 네일 플레이트와는 조성이 다름)에 효과적으로 작용하고, 따라서 네일 플레이트에 대한 영향을 최소화하거나 전혀 영향을 주지 않으면서 큐티클을 효과적으로 제거하도록 설계될 수 있다.
일부 구현예에서, 하이브리드 버니시/마모 도구 비트가 제공될 수 있다(예: 도 198). 하나의 구현예에서, 회전하는 매끄러운 금속 막대를 통해 큐티클에 인가된 압력은 마찰이 큐티클을 네일 플레이트로부터 당기는 버니싱 공정을 통해 큐티클 제거를 유발할 수 있다. 힘 센서는 네일 플레이트의 압축 응력을 모니터링하여 공정 동안 사용자의 편안함을 보장하고/하거나 여분의 큐티클을 가장 효과적이고 완전히 제거할 수 있다. 또한, 금속 막대의 측면 상의 연마 입자의 밴드를 사용하여 에포니키움의 측면에 남아 있는 큐티클을 제거할 수 있다.
도 198은 사용자의 엄지손가락에 입사하는 큐티클 관리 시스템(500)의 팁의 투시도이다.
일부 구현예에서, 버니싱은 도포된 에나멜의 외관에 영향을 주지 않고 큐티클을 제거할 수 있다.
도 199a는 큐티클 관리 시스템(500)을 이용한 큐티클 관리를 포함하는 제1 시도 이전 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199b는 큐티클 관리 시스템(500)을 이용한 큐티클 관리 후 및 네일에 융기 충전 베이스 코트를 도포한 후 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199c는 네일에 제1 코트를 도포한 후 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199d는 네일에 제2 코트를 도포한 후 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199e는 큐티클 관리 시스템(500)을 이용한 큐티클 관리를 포함하는 제2 시도 전 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199f는 큐티클 관리 시스템(500)으로 네일을 버니싱하여 큐티클 관리 후 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199g는 큐티클 관리 시스템(500)을 이용하여 큐티클을 관리 후 및 네일에 융기 충전 베이스 코트를 도포한 후 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199h는 네일에 첫 번째 코트를 도포한 후 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 199i는 네일에 제2 코트를 도포한 후 사용자의 손가락 및 네일의 평면도이고/이거나,
도 199j는 도 199e 및 도 199f의 묘사 사이의 중간 단계의 평면도이고, 여기서 큐티클 파편 및 잘못 배치된 버니싱 도구 경로는 예시적인 구현예에 따라 명백하다.
일부 구현예에서, 큐티클 관리 팁은 버니싱을 위한 단단하고 매끄러운 표면을 포함하도록 설계될 수 있는 반면, 팁의 측면은 에포니키움의 측면에 남아있는 지속성 큐티클을 위한 연마 그릿으로 코팅된다. 완전한 큐티클 관리 시스템(500)은, 예를 들어, 네일 플레이트 보호를 위한 힘 센서 및 큐티클 버니싱 제거를 위한 적합한 크기의 회전 액추에이터를 포함할 수 있다. 일부 구현예에서, 로봇 도구 경로의 최적화는 또한 큐티클이 존재하는 영역에서 랜덤화된 변형의 사용을 통해 추가적인 줄무늬 완화를 제공할 수 있다.
큐티클 관리 시스템(500)은 버니싱 도구를 포함할 수 있다. 버니싱 도구는 버니싱 도구의 버니싱 말단 주위에 연마 재료를 포함할 수 있다. 버니싱 말단은 큐티클 재료를 네일에서 부드럽게 버니싱할 수 있고, 막대의 연마 둘레는 임의의 부착된 큐티클을 네일 주름으로부터 멀리 부드럽게 문지른다. 온화한 연마제를 포함하는 버핑/스크러빙 도구는 네일 플레이트를 영향을 받지 않고 남겨두면서 보다 부드러운 큐티클을 효과적으로 제거하도록 구성될 수 있다. 큐티클 연화제는 상기 도구 중 하나와 함께 임의로 적용될 수 있다.
도 200은 예시적인 구현예에 따른 사용자의 손(H)의 왼쪽 검지(F)의 손톱(FN)과 맞물리는 큐티클 및 근위 네일 주름에 대해 밀도록 구성된 큐티클 관리 도구에 중점을 둔 이동성 메커니즘 시스템(1000) 및 큐티클 관리 시스템(400)(500)의 말단의 측면 투시도이다.
일부 예시적인 구현예에서, 큐티클 관리 시스템(500)은, 예를 들어, 도 200에 도시된 바와 같이, 큐티클을 누르는 장치를 포함할 수 있고, 이는 순응성, 반강성 또는 강성일 수 있고, 형상이 직선일 수 있으며, 둥글거나 모따기될 수 있고, 등이다. 일부 예시적인 구현예에서, 네일 성형 시스템(400)은 큐티클 관리 시스템(500)의 하나 이상의 요소를 포함하거나, 그 반대일 수 있다. 대안적인 구현예에서, 분배기 시스템(600)의 노즐(650)의 팁(예: 도 34a 및 34d)은 네일에 매끄러운 표면을 제공하도록 구성된 노즐 오리피스를 둘러싸는 순응성 둥근 표면을 가질 수 있고, 이는 큐티클 관리 시스템(500)의 일부를 형성할 수 있다. 큐티클 관리 시스템(500)의 임의의 구현에서, 순응성 둥근 표면은 후속적으로 도포되는 코트에 의한 이전에 도포된 에나멜 코트의 교란을 최소화하도록 구성될 수 있다.
큐티클 관리 시스템(500)(예: 도 200)은 일부 예시적인 구현예에서 하나 이상의 네일의 곡률과 일치하도록 구성될 수 있다. 큐티클 관리 시스템(500)은 큐티클 및 근위 네일 주름에 대해 밀기 위한 매끄러운 에지를 제공할 수 있다. 하나의 예시적인 구현예에서, 푸싱 도구는 네일로부터 멀리 떨어진 위치에서 네일 위로 이동하고, 네일의 근위 주름을 향해 이동하고, 큐티클을 다시 민다. 일부 구현예에서, 네일과 접촉하는 큐티클 푸싱 도구의 부분과 네일 케어 장치의 나머지 사이에 불만 부재 또는 요소가 존재하여 근위 네일 주름에 대해 가해질 수 있는 힘의 양을 제한할 수 있다.
큐티클 관리 디바이스(500)(예: 도 200)는 힘 제한 디바이스(예: 도시된 바와 같은 스프링, 또는 굴곡, 고무, 발포체 등을 포함하는 임의의 바이어스된 부재)를 포함할 수 있다. 힘 제한 디바이스는 로봇이 소정의 또는 조정 가능한 제한된 힘으로 큐티클을 누를 수 있도록 구성될 수 있다.
이들 구현예 각각은 존재하는 큐티클의 위치 및 범위의 정확한 식별을 필요로 하지 않고 큐티클 조직을 효과적으로 제거한다. 이들 구현예 각각은 네일 플레이트 자체에 최소한의 영향을 미친다.
일부 구현예는 사용자의 손가락 또는 네일과 접촉하는 큐티클 제거 도구의 부분과 네일 케어 장치의 나머지 사이에 순응성 부재 또는 요소를 추가로 포함할 수 있다.
큐티클 관리 도구(500)는 임의로 소모성 카트리지(1600)에 제공되거나, 시스템(100)의 수명 동안 지속되도록, 따라서 교체 가능한 것으로 간주되지 않도록 설계될 수 있거나, 소모성 카트리지(1600)와 독립적으로 때때로 교환될 수 있다.
화학 약품
상기 기재된 구현예 및/또는 다른 구현예는 화학 제제의 사용에 의해 보충되거나 대체될 수 있다. 예를 들어, 일부 구현예에서, 큐티클 연화제(예: 로션, 크림, 페이스트, 왁스, 액체, 분말 등)는 언급된 구현예 중 하나 이상을 사용하기 전에 적용될 수 있다. 이 제제는 큐티클 제거 구현예의 동작을 강화하도록 설계될 수 있다. 다른 구현예에서, 화학 제제(예: 로션, 크림, 페이스트, 왁스, 액체, 분말 등)가 기계적 또는 다른 방법을 사용하는 대신에 적용되어 큐티클이 용해되거나, 외관, 크기 또는 두께를 무시할 수 있도록 할 수 있다.
유사하게, 일부 구현예에서, 제형(예: 로션, 크림, 왁스, 페이스트, 오일, 분말 등)이 또한 큐티클 제거 후에 적용되거나 대신 적용될 수 있다. 이 물질은, 예를 들어, 네일 플레이트 주위의 조직 또는 큐티클이 제거된 영역을 진정시키기 위해 적용될 수 있다. 또는, 예를 들어, 네일 플레이트 또는 이의 일부, 또는 네일 플레이트 주위의 조직의 외관을 개선하기 위해 적용될 수 있다.
마사지/스트로킹/진동: 도입
일부 구현예에서, 하나 이상의 서브시스템을 사용하여, 예를 들어, 마사지, 스트로킹 및/또는 진동 작용을 사용자의 손(들) 또는 발의 하나 이상의 부분(예: 한 부분, 둘 이상의 분리되거나 연결된 부분, 또는 모두)에 전달할 수 있다. 이는, 예를 들어, 사용자에게 더욱 편안한 경험을 생성하고/하거나 근육 긴장을 개선하고/하거나 운동 범위를 개선하고/하거나 경미한 아픔 및 통증을 완화시키기 위해 수행될 수 있다.
예시적인 구현예; 마사지 구조물의 위치
일부 구현예에서, 이러한 마사지/스트로킹/진동 작용을 달성하기 위해, 하나 이상의 메커니즘을 손 또는 발에 대해 위, 아래, 앞 또는 옆으로 (또는 수직 및/또는 수평 위치의 임의의 조합으로) 배치될 수 있다. 일부 구현예에서, 이들 메커니즘은 또한 사용자의 한쪽 또는 양쪽 손 또는 발에 관하여 다양한 방식으로 배향될 수 있다. 예를 들어, 메커니즘은 손 또는 발 위에 다소 수직으로 및/또는 손 또는 발 아래에 다소 수직으로, 또는 다소 수평으로 옆으로(원위/근위 또는 중간/옆으로 또는 이들의 일부 조합으로) 배향될 수 있다. 이들 설명은 단지 예시적인 것이며, 임의의 마사지/스트로킹/진동 요소는 사용자의 손 또는 발에 대한 임의의 관계로, 사용자의 손 또는 발에 대한 임의의 배향으로 배치될 수 있음을 명확하게 알 수 있을 것이다.
마사지 구조물의 조성
일부 구현예에서, 이러한 마사지/스트로킹/진동 구조물은 다양한 재료로 구성될 수 있다. 예를 들어, 특정 구조물은 하나 이상의 순응성 재료(예: 엘라스토머 및/또는 스프링 또는 스프링 유사 메커니즘을 포함하는 강성 재료)를 포함할 수 있고/있거나 강성 재료(예: 플라스틱, 목재, 금속, 유리 등)를 포함할 수 있다. 일부 구현예에서, 예를 들어, 특정 구조를 구축하는데 사용되는 재료(들)는, 예를 들어, 열 전도도 또는 이의 부족, 또는 강성, 순응성, 또는 이들의 조합과 같은 특정 재료 특성으로 인해 선택될 수 있다. 일부 구현예에서, 이러한 마사지/스트로킹/진동 구조물은, 예를 들어, 관절 또는 작동이 없는 하나의 재료만으로 구성되더라도 간단할 수 있다. 다른 구현예에서, 이러한 구조물은 매우 복잡할 수 있고, 예를 들어, 비선형 엘라스토머 반응, 및/또는 관절, 및/또는 작동, 및/또는 열 제어(예: 펠티에 효과 장치 또는 기타 가열 및/또는 냉각 기술을 사용하는 가열 및/또는 냉각)를 특징으로 할 수 있다. 일부 구현예에서, 마사지/스트로킹/진동 구조의 다양한 특성은 제어 또는 하나 이상의 알고리즘 하에서 제어 가능하거나 변경 가능할 수 있다. 예를 들어, 구조는 경시적으로 순응성을 변경하기 위해 압축 공기 블래더를 포함할 수 있다. 다른 구현예에서, 구조는 온도에 반응하여 그의 형태를 변경할 수 있다(예: 메모리 재료를 사용하거나, 하나 이상의 모터 또는 다른 액추에이터를 사용함으로써). 또 다른 구현예에서, 다양한 조건(예: 온도 및/또는 습도 및/또는 대기압 등)에 기초하여 그들의 특성을 변경하는(예: 다소 순응성이 됨) 재료가 사용될 수 있다.
마사지/스트로크/진동 조작
일부 구현예에서, 예를 들어, 하나 이상의 구조는 일련의 또는 프로그램된 및/또는 랜덤 움직임으로 사용자의 살을 스트로킹하거나 압착시킬 수 있다. 일부 구현예에서, 예를 들어, 이들 구조 또는 다른 구조는 또한 사용자의 살에 근접하거나 접촉하는 동안 여러 번 또는 개별적으로 진동할 수 있거나 마사지 및/또는 스트로킹 및/또는 압착 대신 여러 번 또는 개별적으로 진동할 수 있다.
일부 구현예에서, 이러한 구조는 하나 이상의 가능한 시간-변화 주파수 및/또는 진폭(예: 어느 하나가 임의로 경시적으로 변경될 수 있는 단일 주파수 및 진폭, 또는 하나 이상이 경시적으로 변할 수 있는 중첩된 주파수와 하나 이상이 경시적으로 변할 수 있는 진폭의 조합)에서 진동할 수 있다. 일부 구현예에서, 이러한 구조는 사용자의 손(들) 또는 발의 다양한 지점에서 및/또는 공정의 다양한 시점에서 동일하거나 상이한 진동 전략을 수행할 수 있다.
마사지 제어
일부 구현예에서, 이러한 마사지/스트로킹/진동 구조물의 거동은 임의로, 사용자에 의해, 또는 장치, 사용자의 디바이스(예: 전화, 태블릿, 또는 컴퓨터) 및/또는 다른 컴퓨터(예: 클라우드 기반 컴퓨터 또는 컴퓨터들) 상에서 실행되는 하나 이상의 알고리즘에 의해 제어되거나 변경될 수 있다.
마사지 중 다른 서브시스템의 사용
일부 구현예에서, 장치의 다른 서브시스템은 이러한 마사지 또는 진동 구조물의 동작을 제어 또는 변경하기 위해 사용될 수 있다. 예를 들어, 일부 구현예에서, 비전 시스템은 이러한 목적으로 사용될 수 있다. 다른 구현예에서, 사용자의 하나 이상의 손가락, 사용자의 손 또는 발의 일부 또는 전체 손 또는 발 근처의 온도를 변화시키는 건조 서브시스템이 마사지 및/또는 진통 효과를 개선하는 데 사용될 수 있다.
급속 건조; 도입
일부 구현예에서, 장치는 또한, 예를 들어, 에나멜 또는 다른 액체가 도포 후 경화되거나 건조되는 속도를 향상시키기 위한 다른 서브시스템을 포함할 수 있다. 이는 여러 가지 방법으로, 예를 들어, 팬 또는 다른 디바이스를 사용하여 보다 신속하게 경화되거나 건조될 재료에 기류를 제공하거나, 보다 신속하게 경화되거나 건조될 재료의 적어도 근처의 환경을 가열 또는 냉각하거나, 경화되거나 건조될 재료 주위의 대기압을 낮추거나, 경화, 건조 또는 증발 시간을 단축시키는 경향이 있는 증기 또는 가스를 도입함으로써 달성될 수 있다.
예시적인 구현예
일부 구현예에서, 장치는 임의로 속도 제어 및/또는 방향 제어로 기류를 생성하기 위한 팬 또는 다른 디바이스를 포함할 수 있다. 이 팬은 기류가 지시되도록 하는 메커니즘(예: 팬의 배향 또는 위치를 변경하는 방법)과 함께 사용되어 보다 신속하게 경화되거나 건조될 재료(들)에 기류를 생성할 수 있다.. 일부 구현예에서, 이러한 증가된 기류는 경화되거나 건조되는 재료의 대기압을 감소시켜 용매 또는 다른 성분의 증발을 촉진한다. 다른 구현예에서, 기류는 증발된 용매 또는 다른 성분의 농도가 낮은 일정한 공기 스트림을 제공하여 이들 성분의 증발 속도를 증가시킨다.
일부 구현예에서, 가열 또는 냉각 요소를 사용하여 유동 중 공기의 온도를 변경하여 매니큐어 또는 페디큐어 공정의 하나 이상의 부분 동안 사용되는 액체를 보다 신속하게 경화 또는 건조시킬 수 있다. 일부 구현예에서, 예를 들어, 공기를 가열하면 그의 상대 습도를 낮춰 공기가 더 많은 양의 용매 또는 다른 성분을 보유할 수 있게 한다.
일부 구현예에서, 유동하는 공기의 온도는 이러한 온도 제어가 경화 또는 건조 시간의 개선에 실질적으로 기여하지 않는 경우에도, 더 큰 사용자의 편안함을 위해 제어될 수 있다.
다른 구현예에서, 광 또는 다른 전자기 방사선이 경화 또는 건조 시간을 가속화하는데 사용될 수 있다. 예를 들어, 열은 상승된 온도에서 더 빨리 건조되거나 경화되는 재료에 대해 적외선 광원을 사용하여 적용될 수 있다. 다른 구현예에서, 자외선은 UV 경화된 재료와 조합하여 사용될 수 있다. 일부 구현예에서, 사용자가 과도한 양의 광 또는 방사선에 노출되지 않음을 보장하기 위해 다양한 차폐 방법이 사용될 수 있다. 다른 구현예에서, UV 광원은 사용자가 과도한 방사선을 경험하지 않도록 보장하기 위해 적합한 경우에만 빛나도록 엄격하게 집중되고 제어된다. 다른 구현예에서, UV 또는 다른 전자기 방사선의 파장, 강도 및/또는 지속 기간은 사용자가 과도한 노출을 경험하지 않도록 보장하도록 제어될 수 있다.
일부 구현예에서, 이러한 전자기 방사선 광원은 경화 또는 건조 효과를 보다 정확하게 표적화하기 위해 네일 케어 시스템(100) 내의 하나 이상의 다른 시스템에 의해, 또는 사용자의 지시하에 제어되는 그들의 위치 또는 배향을 가질 수 있다. 일부 구현예에서, 방출되는 방사선의 강도는 네일 케어 시스템(100) 내의 하나 이상의 다른 시스템에 의해 또는 사용자의 지시하에 제어되어 그들의 경화 또는 건조 효과를 보다 정확하게 표적화할 수 있다.
냄새 제어; 도입
일부 구현예에서, 장치는 냄새(예를 들어, 아세톤 또는 에나멜 냄새와 같은 매니큐어 제거액의 냄새, 또는 실제로 장치의 임의의 구성 요소에 의해 생성되거나 악화되는 임의의 냄새)를 관리하는 시스템을 포함할 수 있다. 일부 구현예에서, 이러한 냄새 제어 또는 감소는, 예를 들어, 냄새 성분(예: 활성탄, 또는 제올라이트)을 흡수 및 격리하기 위한 일부 물질을 사용함으로써 달성될 수 있다.
예시적인 구현예
일부 구현예에서, 기류 시스템(임의로 급속 건조에 사용되는 것과 동일한 것)은 임의의 증기 또는 냄새를 분배하는 데 사용되어 사용 동안 기계 근처에 집중되지 않도록 할 수 있다.
일부 구현예에서, 기류는 냄새를 유발하는 성분을 포획(예를 들어, 활성탄 또는 제올라이트와 같은 적절하게 선택된 기판 상의 분자 포획에 의해) 또는 제거하는(예를 들어, 화학적으로 변경함으로써) 하나 이상의 재료를 통해 지시될 수 있다. 일부 구현예에서, 촉매제는 불쾌한 증기를 덜 불쾌한 증기로 변경하거나 증기를 불활성 또는 무해하게 만들기 위해 사용될 수 있다.
일부 구현예에서, 냄새를 감소시키거나 제거하기 위해 증기를 가열 또는 냉각시킬 수 있다. 예를 들어, 불쾌한 증기를 함유하는 공기는 불쾌한 증기가 분해되거나 무해한 무취 성분(예: 물, 이산화탄소 등)에 결합하는 지점까지 가열될 수 있다. 다른 구현예에서, 불쾌한 증기를 함유하는 공기를 가열 또는 냉각하면 불쾌한 증기의 분포 또는 농도를 변경하거나(예: 그들을 전형적인 인간의 서 있는 높이 이상으로 상승시킴으로써), 인간의 후각 시스템과의 반응성을 변경한다(예: 냉각에 의해).
일부 구현예에서, 불쾌한 냄새를 제거 또는 감소시키기 위해, 상기 기술 중 하나 이상(예: 하나, 둘, 또는 모두)은 조합하여 또는 변형으로 사용될 수 있다.
일부 구현예에서, 이러한 냄새 제어 기술은 불쾌한 폐기물을 감소시키거나 제거하기 위해 적합한 변형과 함께 적용될 수 있다. 예를 들어, 일부 구현예에서, 폐기물 광택 제거제는 하나 이상의 재료를 통해 통과하여 무해하거나 덜 유해한 생성물로 전환시킬 수 있다. 다른 구현예에서, 폐기물 광택 제거제는 증발을 방지 또는 지연시키는 형태로 포획 및 격리될 수 있다. 매니큐어 리무버는 위의 예로만 사용되며, 일부 구현예에서 다른 폐기물(예: 네일 성형 잔류물, 큐티클 잔류물, 마사지 오일, 로션 등)은 유사한 처리를 받을 수 있다.
파편 관리; 도입
다른 구현예에서, 장치는 매니큐어 또는 페디큐어 공정으로부터 다른 파편 또는 재료(예: 네일 파일링, 클리핑, 또는, 예를 들어, 분쇄 또는 파일링으로부터의 분진, 큐티클 폐기물, 이전 적용으로부터 잔류물(예: 광택, 래커, 겔, 아크릴, 딥 등))를 관리(예: 포획, 완화, 격리, 또는 제거)하기 위한 서브시스템을 포함할 수 있다.
예시적인 구현예
일부 구현예에서, 기류 시스템(예: 상기 기재된 것과 유사함)은 분진을 포획하는 하나 이상의 필터를 통해 미립자(예: 네일 성형으로부터의 분진, 큐티클 잔류물, 잔류성 죽은 피부 세포, 비듬 등)를 지시하는 데 사용된다. 일부 구현예에서, 이들 필터(들)는 일회용일 수 있다. 다른 구현예에서, 이들 필터는 세정 가능하고 재사용 가능할 수 있다. 다른 구현예에서, 필터는 기계의 수명 동안에 그들을 세정하거나 교체할 필요가 없을 정도로 충분한 용량을 갖는다.
일부 구현예에서, 정전기를 사용하여 미립자(예: 네일 성형, 큐티클 관리, 또는 다른 매니큐어 또는 페디큐어 조작으로부터의 분진, 잔류하는 죽은 피부 세포, 비듬 등)를 지시하거나 포획할 수 있다. 일부 구현예에서, 전하는 사용자의 손 또는 손들 또는 발/발들에 인가되는 반면, 적합한 반대 전하는 미립자 포획 장치에 인가된다. 일부 구현예에서, 이들 전하 중 하나 또는 둘 모두(사용자의 손 또는 손들 또는 발/발들 및 입자 포획 장치 상)는, 예를 들어, 네일 케어 시스템(100), 사용자의 하나 이상의 디바이스 및/또는 클라우드 내에서 작동하는 하나 이상의 알고리즘에 의해 제어될 수 있다. 일부 구현예에서, 전하(들)는 미립자의 포획을 개선하기 위해 경시적으로 변한다. 일부 구현예에서, 전하(들)는 포획된 미립자를 쉽게 처분할 수 있도록 변경된다.
결론
따라서, 매니큐어 또는 페디큐어 관리 로봇 플랫폼의 다음 서브시스템 중 하나 이상(예: 모두)을 포함하는 네일 케어 시스템(100) 및 상응하는 방법이 제공됨을 알 수 있다: 비전 시스템, 에나멜 제거, 네일 성형 및, 예를 들어, 급속 건조, 마사지, 냄새 제어 및/또는 파편 관리 중 하나 이상과 같은 소위 2차 기능과 함께 에나멜 도포.
네일 성형; 관찰 및 이해; 로봇 플랫폼 연구 및 선택
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 로봇 매니큐어를 입증하는 각 영역에 대한 로봇 플랫폼을 포함한다. 예를 들어, 일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 Mecademic MECA(500) 암을 포함할 수 있다. 이것은 부록 A: 로봇 플랫폼 조사 및 선택에 완전히 포함되어 있다.
예시적인 개념
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 로봇적으로 배치된 네일 클리퍼, 손톱의 광화학적 에칭 및/또는 하나 이상의 추가 특징을 포함할 수 있고, 이의 예는 이하 기재된다.
예시적인 개념 평가
일부 구현예에 따른 네일 케어 시스템(100)의 개념은 다수의 예시적인 기준에 대한 그들의 성능에 기초하여 평가되었다. 이들은 이하 나열된다:
도 108a는 네일 성형 시스템(400)의 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 네일 성형 방법의 순위를 매기는 퓨 차트의 좌측이다.
도 108b는 네일 성형 시스템(400)의 제6, 제7, 제8, 제9 및 제10 네일 성형 방법의 순위를 매기는 퓨 차트의 우측이다.
예시적인 비제한적 기준에 따른 최고 성능 개념은 안전한 조작과 같은 속성에 대해 스크리닝되었다. 절단 공정을 포함하지 않는 개념은 시스템 안전을 상당히 개선시켰기 때문에 우선 순위가 매겨졌다. 사용자의 입력을 필요로 하지 않는 개념도 우선 순위가 매겨졌다. 이것은 주로 증분 제거 개념(예: 샌딩, 파일링, 및 연마)의 목록을 초래했지만, 모든 예가 다양한 구현예에서 사용될 수 있음이 이해된다.
예시적인 프로토타입 평가
일부 구현예에 따른 3개의 네일 성형 기술이 하기 기재된다. 본원에 기재된 교시에 따른 네일 케어 시스템(100)에 사용하기 위한 이들 3가지 기술은 다음과 같다:
수직 샌딩 드럼 - 샌딩 드럼은 네일의 상단에서 하단으로 회전한다.
수평 샌딩 드럼 - 샌딩 드럼은 네일을 따라 회전한다.
진동 샌딩 패드 - 샌딩 패드는 네일에서 재료를 제거하기 위해 왕복 운동한다. 일부 구현예에서, 진동은 또한 드럼(예: 원뿔, 또는 실제로 임의의 다른 형상의 연마 도구)을 사용하여 구현될 수 있음에 유의해야 한다. 다양한 구현예에서, 네일에 적용되는 임의의 디바이스(예: 드럼, 원뿔, 디스크, 가변성 또는 불균일한 그릿 밀도, 조성 또는 거칠기 등을 갖는 메커니즘) 및 임의의 적용 방법(예: 회전, 진동, 왕복 운동 등)이 함께 사용될 수 있다.
일부 구현예에서, 수직 및 수평 샌딩 드럼은, 예를 들어, 드레멜(Dremel) 도구에 대한 변경을 행함으로써 생성될 수 있다.
일부 구현예에서, 진동 샌딩 패드는 이용 가능한 진동 핸드헬드 사용자 제품으로부터 유사한 기술로 시작하거나, 또는 이에 기초한 일부 구현예에 따른 로봇 네일 케어 시스템(100) 내에서의 사용에 적응될 수 있다. 예시적인 비제한적 진동 기술은 전문이 본원에 참고로 인용되는 미국 특허 제7,188,628호에 기재되어 있다.
일부 구현예에서, 수직 샌딩의 구현은 회전 도구에 부착된 맞춤형 가드로 구성된다. 이를 통해 가변 속도 제어를 사용하여 개념을 신속하게 테스트할 수 있다.
도 109는 수직 샌딩 드럼 구성을 포함하는 네일 성형 시스템(400)의 투시도이다.
수평 샌딩 드럼 구현은 또한 회전 도구에 부착된 맞춤형 가드로 구성될 수 있다. 이를 통해 가변 속도 제어를 사용하여 개념을 신속하게 테스트할 수 있다.
도 110은 수평 샌딩 드럼 구성을 포함하는 네일 성형 시스템(400)의 투시도이다.
일부 구현예에서, 진동 샌딩 디스크가 사용될 수 있다. 이용 가능한 핸드헬드 제품(이하 묘사됨)에 구현된 것과 유사한 진동 기술이 일부 구현예에 따른 네일 케어 시스템(100)에서의 자동화 또는 로봇 사용에 적응될 수 있다.
도 111은 진동 샌딩 디스크 구성을 포함하는 네일 성형 시스템(400)의 투시도이다.
진동 샌딩 디스크는 적합한 네일 마무리를 생성할 수 있다. 진동 디스크와 손가락 사이의 상호작용은 때때로 손가락의 진동을 초래할 수 있다. 진동하는 손가락은 네일의 예기치 않은 부분의 성형을 일으킬 수 있다. 볼록한 네일 상의 이러한 부분은 다른 시간에 제거될 부분일 수 있어서 적당한 손가락 움직임의 경우에도 결과를 예측 가능하게 유지한다. 성형의 출력은 일관된 것처럼 보였다. 일부 구현예에서, 샌딩 디스크의 교호 방향은 손톱의 상부 또는 하부에서 제거된 네일의 흔적을 남기지 않고 더 깨끗한 마무리의 원인일 수 있다.
본원에 기재된 네일 케어 시스템(100)의 일부 구현예에서, 진동 샌딩 디스크는 상기 묘사된 예보다 더 큰 모터 및/또는 로봇 말단 이펙터로서 장착하기 위한 자급식 배터리(또는 다른 전원)가 제공될 수 있다. 이는 다음 중 하나에 의해 달성될 수 있다: 인간 상호작용을 최소화하고, 특정 기하학이 반복되도록 하고, 결과가 일관적임을 보장한다.
자급식 네일 성형 말단 이펙터는 합리적으로 잘 작동하는 것으로 관찰되었다. 일부 구현예에서, 로봇 암과 손가락 사이의 낮은 순응성은 성형 말단 이펙터에서 모터의 실속을 초래할 수 있다. 따라서, 일부 구현예에 따른 암과 샌딩 패드 사이의 소량의 순응성(예: 스프링)은 네일과 이펙터가 예상보다 더 간섭하는 경우에 성형이 진행되도록 할 수 있다.
본원의 교시에 따른 네일 케어 시스템(100)의 일부 구현예에서, 엘라스토머의 더 큰 섹션이 더 거친 샌딩 패드 사이에 도입되어 네일 성형이 빠르고 쉽게 막히지 않고 일어날 수 있도록 한다. 이 솔루션은 의도된 영향을 미쳤으며, 변경된 로봇 경로와 함께 테스트되었다. 일부 구현예에서, 도구의 각도는 그 영역에서 손가락에 더 가까워지기 위해 측면 네일 주름의 성형 동안 기울어질 수 있다.
테스트; 시스템 개요
진동 샌딩 디스크 말단 이펙터는 일부 구현예에 따라 설계되었다. 시스템에 대한 일부 적응은 성인 네일을 로봇으로 성형하기 위해 이루어졌다. 토크 상수가 약간 높은 모터가 시스템에 설계되었으며, 입력 전압은 두 배가 되었으며 하우징은 플랜지가, 예를 들어, Meca500 및 기타 로봇 암에 장착될 수 있도록 설계되었다.
도 112는 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 프로토타입에 장착되고 사용자의 확장된 중지와 맞물린 진동 샌딩 디스크 구성을 포함하는 네일 성형 시스템(400)의 프로토타입의 투시도이다.
일부 구현예에 따른 로봇 암의 자유도의 특정 배열 때문에, 네일의 성형은 수직 배향에서 손가락으로 가장 잘 작동할 수 있다. 테스트에서, 로봇은 손가락의 위치에 대한 지정이 있는 광학 브레드보드에 장착되었지만, 다른 배열도 가능하다. 자급식 배터리가 있는 이펙터를 켠 다음, 로봇 암은 네일 형성의 궤적을 구동한다. 로봇 암은 매우 정확하고 매우 일관적일 수 있지만, 일부 구현예에서는 매우 순응성이 아니다. 때때로, 손가락이 예상했던 위치에 없을 때, 더 높은 수직력은 모터를 움직이지 않도록 한다. 일부 구현예에 따른 이에 대한 솔루션은 네일 또는 손가락 위치에서의 불일치로 인해 모터가 압도되는 것을 방지하기 위해 추가의 순응성(예: 더 두껍고 탄력 있는 엘라스토머 발포체)을 삽입하는 것이다. 이 변형은 모터가 일관된 속도로 작동하도록 하고 로봇이 손가락의 궤적을 따라갈 때 네일 제거 속도를 보다 일관되게 만드는 데 잘 작동했다.
방법
궤적은 인간의 손톱에서 취한 측정치에서 개발되었다. 이러한 측정치는 네일 플레이트 모델로 변환된 다음, 로봇 도구 개발자 키트를 사용하여 궤적으로 변환되었다.
이 궤적은 이더넷 연결을 통해 Meca500 암에 공급되었지만, 다른 로봇 암(들) 및 구성이 가능하다. 본 특정 구현예에 따른 연결은 개발자 키트와 개발자 키트에 의해 출력된 파이썬 스크립트 모두에서 실행되었다.
상당한 양의 테스트 후, 궤적는 인간의 네일을 형상화하는 데 사용되었다. 몇 번의 통과로 매끄럽고 의도적으로 형상화된 네일이 초래되었다.
에나멜 도포
예시적인 구현
에나멜 도포를 위한 다양한 구현은 다양한 구현예에 따라 가능하다. 이들 구현은 다음 중 하나 이상을 포함할 수 있다:
조정 가능한 어플리케이터 헤드
통합 흐름 헤드
내부/외부 마스킹 시스템
원격 증착 및 분사 방법
전달 기술
큐티클 및/또는 조직 검출기 시스템
도포 후 화학적 변화
원격 확산 방법
표면 장력 확산 기술
용적 및 두께 제어 기술
경로 방법
접촉 어플리케이터
도 113a는 다수의 강모 제어 로드를 포함하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 개념도이다.
도 113b는 다수의 방향성 노즐을 포함하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 개념도이다.
도 113c는 다수의 튜브 어레이 브러시를 포함하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 개념도이다.
도 113d는 다수의 상호교환 가능한 덕 빌 어레이를 포함하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 개념도이다.
도 113e는 2차원 그리드 브러시를 포함하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 개념도이다.
예시적인 구현의 평가
적합한 구현의 평가는 예시적인 개념이 비제한적인 기준이지만 세트에 대해 순위가 매겨지는 퓨 매트릭스의 개발을 포함할 수 있다. 14개의 적용 개념이 본원에 기재된 바와 같은 네일 케어 시스템(100)의 다양한 구현예에 따라 존재하고 매트릭스에 배치되고, 하기 기준에 대해 가중된다:
에지 평활도
표면 마무리
시스템 복잡성
시스템 신뢰성
유지 수준 요구 사항
비용(재사용 가능)
비용(일회용)
도포 속도
아래에 포함된 퓨 매트릭스의 출력은 이러한 접근법에 대한 비제한적인 정보를 제공한다.
도 114a는 제1, 제2, 제3, 제4, 제5 및 제6 에나멜/연마 도포 방법 및 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 순위를 매기는 퓨 차트의 좌측이다.
도 114b는 제7, 제8, 제9, 제10, 제11, 제12, 제13 및 제14 에나멜/광택 도포 방법 및 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 순위를 매기는 퓨 차트의 우측이다.
일부 구현예에서, 본원의 교시에 따른 네일 케어 시스템(100)은 세트 어플리케이터를 반복적이고 정확한 방식으로 이동할 수 있는 시스템을 포함한다.
플랫폼 선택
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은, 예를 들어, Mecademic MECA(500) 암과 같은 로봇 플랫폼을 포함한다.
로봇 암 이외에, 일부 구현예에 따른 네일 케어 시스템(100)은 에나멜을 도포 장치에 계량하기 위한 서브시스템을 포함할 수 있다. 예를 들어, 일부 구현예에서, 공압식 분배 시스템이 사용될 수 있다. 예를 들어, 일부 구현예에서, Fisnar DC(100) 제어기 또는 유사한 기능성 제어기는 컴퓨터/전자 제어 가능하고/하거나 진공 지원을 가질 수 있기 때문에 선택될 수 있다. 일부 구현예에서, 매니큐어 전달의 구현을 개선하는 추가 옵션 및 액세서리가 또한 제공될 수 있다.
도 115는 공압식 분배 시스템의 투시도이다.
테스트; 시스템 개요
이하의 다이아그램은 예시적인 서브시스템 식별을 포함하는 일부 구현예에 따른 네일 케어 시스템(100)을 도시한다. 소형화, 보호 하우징 내로의 캡슐화, 및 다른 설계 변경이 구현예의 범위 내에 있는 것으로 이해될 것이다.
도 116은 네일 케어 시스템의 프로토타입의 투시도이다. 도 108: 테스트 시스템과 구성 요소 식별. (A) 분배 제어기 시스템. (B) Meca500 로봇 암. (C) 유체 저장소 및 분배 메커니즘. (D) 유체 매니폴드 및 노즐 시스템. (E) 표본 플랫폼. (F) 강제된 공기 팬.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 코어 구성 요소는 로봇 암이며, 그 위에 하나 이상의 어플리케이터 시스템이 부착될 수 있다. 그런 다음, 이들 도포 시스템을 사용하여 에나멜을 표본 플랫폼에 분배할 수 있다- 이는 페인팅될 평평한 또는 곡면을 포함할 수 있다. 표본 플랫폼은 말단 이펙터 어플리케이터의 크기에 따라 조정될 수 있으며, 위치 특이성(하나 이상의 로봇 포즈가 존재할 수 있는 말단 이펙터 궤적의 위치)이 움직임에 영향을 줄 수 있는 상황을 피하기 위해 조정될 수 있다.
일부 구현예에서, Meca500 로봇 또는 다른 로봇 암은 다수의 명령을 통해 이동하도록 지시될 수 있다. 일부 구현예에서, 복잡성을 줄이기 위해, 로봇에 전송되는 명령의 일부 또는 전부는 온보드 역운동학(IK) 솔버를 이용할 수 있고, 여기서 공간 내의 위치 및 배향(X, Y, Z, A, G, B)이 제공되고, 로봇은 말단 이펙터를 목적하는 위치 및 자세로 이동시킨다. 다른 구현예에서, 예를 들어, 암을 따라 특정 조인트 각도를 계산하는 것과 같은 다른 접근법이 사용될 수 있다.
일부 구현예에서, 때때로, 말단 이펙터의 위치 변화는 작지만 내부 조인트 각도의 큰 변화를 필요로 할 수 있다. 따라서, 말단 이펙터의 최대 이동 속도는 각 모터의 최대 속도뿐만 아니라 각 조인트의 배향과 위치의 조합에 의해 제한된다. 따라서, 말단 이펙터가 특정 조인트로부터 큰 변위를 필요로 하는 경우, 다른 배향으로 쉽게 수득 가능했던 것으로 속도를 제한할 수 있다.
도 117은 네일 케어 시스템의 프로토타입에 대한 이동성 메커니즘 시스템 (1000)의 프로토타입의 참조 프레임의 개략도이다.
이러한 제한은 시스템 복잡성을 최소화하려는 욕구와 함께, FRFy 및 FRFx 평면을 따라 위치된 노즐 시스템을 유지하려는 일부 구현예에 따른 욕구를 초래하였다. 이를 통해 필요한 좌표 변환 방정식을 줄일 수 있을 뿐만 아니라 로봇의 중립 위치에 대한 작업 영역을 더 많이 유지할 수 있도록 한다(이는 생성되는 조인트 이동을 보다 선형 체계 내에 유지시킴). 네일 페인팅 작업에는 작은 적용 범위가 필요하기 때문에 이것은 큰 제한이 아닐 수 있다. 일부 구현예에서, 노즐 오프셋 높이가 증가함에 따라 운동 특이성 및 속도 변화의 기회가 증가한다.
테스트 방법
에나멜 도포의 각 방법을 테스트하기 위해, 각 도포 기술을 사용하여 비반응성 평평한 표면에 에나멜을 증착하는 기본 관행이 표준화되었다. 각 방법의 상대적 성능을 기반으로, 일부는 도포 유형의 추가의 세부 사항과 복잡성을 탐색하기 위해 선택되었다.
모든 평평한 표면 테스트에 대해, 유리 슬라이드가 사용되었다. 유리는 반응성이 없으며 투명하고 단단하며 쉽게 이용 가능하기 때문에 선택되었다. 광택제의 종류와 특성은 다양하다. 초기에, 시장에서 이용 가능한 광택제의 광범위한 선택에 주목하여, 임의의 차이를 수용할 수 있도록 다양한 광택제 유형이 사용되었다. 전반적으로, 컬러 에나멜과 탑 코트 사이의 점도의 큰 변화를 넘어서, 컬러 에나멜 유형 사이에 큰 변동성은 보이지 않았다. 초기 탐사 단계에서 사용된 광택제는 다음 다이아그램에 예시되어 있다.
도 118a-118f: 성능을 테스트하기 위해 처음 사용된 다양한 광택제.
도 118a는 OPI에 의한 It Never Ends 병의 정면도이다.
도 118b는 OPI에 의한 Envy the Adventure 병의 정면도이다.
도 118c는 FingerPaints에 의한 탑 코트 병의 정면도이다.
도 118d는 컬러 테라피에 의한 Haute Springs 병의 정면도이다.
도 118e는 컬러 테라피에 의한 Red-y to Glow 병의 정면도이다.
도 118f는 wet n wild에 의한 Through the Grapevine 병의 정면도이다.
일부 구현예에서, 반짝이는 광택제가 또한 사용될 수 있다. 예를 들어, 일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 그의 역학이 광택제 내의 입자 크기를 통과하기에 충분히 크도록 적응된다.
도 119a는 FingerPaints에 의한 반짝이는 광택제 병의 정면도이다.
도 119b는 FingerPaints에 의한 반짝이는 광택제 병의 정면도이다.
도 119c는 Sally Hanson에 의한 반짝이는 광택제 병의 정면도이다..
도 119d는 ORLY에 의한 반짝이는 광택제 병의 정면도이다.
테스트가 계속 좁아지고 보다 구체적인 도포 기술에 초점이 맞춰짐에 따라, 실험을 위해 한 가지 유형의 광택 및 탑 코트 유형을 표준화하는 데 초점이 맞춰졌다. 선택된 2개는 풀 사이드 서비스였으며, 모두 1개의 탑 코트와 베이스 층에 있으며, 둘 다 Essie에 의한 것이다.
도 119e는 Essie에 의한 Pool Side Service 병의 정면도이다.
도 119f는 Essie에 의한 All In One 병의 정면도이다.
에나멜을 표준화함으로써, 실험 변수를 좀 더 잘 제어할 수 있다. 어두운 에나멜은 페인팅되지 않은 영역의 콘트라스트를 강조하기 위해 선택되었다. 프로젝트의 종료 무렵에, 몇몇 테스트 샘플을 생성하기 위해 더 순수한 광택을 사용하도록 요청받았다. 권장되는 광택은 Essie에 의한 Ballet Slippers라고 칭명되었다.
도 119g는 Essie에 의한 Ballet Slippers 병의 정면도이다.
시어 광택제는 불투명한 광택제보다 약간 얇았지만, 어플리케이터 시스템은 탑 코트(점성이 훨씬 적음)를 작동하도록 개발되었기 때문에, 큰 장애물은 발견되지 않았다.
세 가지 주요 유형의 표면 재료가 다양한 구현예에 따른 프로젝트 동안 사용되었다. 그들은 Delrin, 유리 및 아크릴을 포함한다. Delrin과 유리는 광택제 내의 용매에 반응하지 않았지만, 아크릴은 반응했다. 광택제가 아크릴에 도포되면, 바로 아래의 플라스틱이 연화되기 시작한다. 이것은 인조 아크릴 네일이 업계에서 표준이고, 따라서 인조 네일을 페인팅하기 위해, 아크릴 위에 있어야 한다는 점에서 도전을 제기했다. 테스트의 추가 진행(특히 탑 코트 도포로)은 낮은 힘 및 비접촉 도포 기술을 우선시하였고, 이는 아크릴 페인팅의 우려를 감소시켰다.
어플리케이터 확산
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 스프레더를 포함한다. 스프레더는 에나멜이 먼저 농축된 영역에 증착된 후 도구를 통해 재분배되도록 작동한다.
회전 스프레더
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 축 주위를 회전하는 확산 어플리케이터를 포함하는 회전 스프레더를 포함한다.
수평으로 회전하는 스프레더
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 도포 표면에 평행한 축 주위를 회전하는 수평으로 회전하는 스프레더를 포함한다. 에나멜은 처음에는 이동 방향 앞에 침착된 다음, 회전 헤드는 에나멜 위로 스윕하여 확산시킨다.
도 120a는 이동 방향에 대한 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 확산 헤드의 시계방향 회전의 측면도이다.
도 120b는 이동 방향에 따른 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 확산 헤드의 반시계 방향 회전의 측면도이다.
도 121a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 수평으로 회전된 면봉의 투시도이다.
도 121b는 제1 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위해 수평으로 회전된 면봉을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 121c는 제2 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위해 수평으로 회전된 면봉을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 121d는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 수평으로 회전된 실리콘 아이라이너 브러시의 투시도이다.
도 121e는 제1 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 수평으로 회전된 실리콘 아이라이너 브러시를 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 121f는 제2 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 수평으로 회전된 실리콘 아이라이너 브러시를 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
수직 회전 스프레더
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 수직으로 회전하는 스프레더를 포함한다. 이러한 회전 스프레더는 수평 스프레더와 유사할 수 있다. 그러나, 회전축은 페인팅된 표면에 수직일 수 있다. 이러한 노력을 위해, 대체 가능한 어플리케이터 팁을 교체할 수 있는 회전 헤드가 개발되었다.
도 122는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 회전 부착물의 투시도이다.
일부 구현예에 따른 회전 부착물의 설계는 다른 도구가 통과할 수 있을 뿐만 아니라 각 시험 적용에 제공된 다운포스를 변경하기 위해 상이하게 가중될 수 있는 중공 샤프트를 갖는다. 일련의 높은 다운포스(10그램(0.3527온스) 초과의 다운포스) 및 낮은 다운포스(1그램(0.03527온스) 미만의 다운포스) 실험이 이 도구를 사용하여 수행되었다. 결과는 이하 표에 요약되어 있다.
도 123은 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 도 122의 회전 부착물에 대한 페인팅 결과의 투시도이다.
도 124a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 제1 필렛 감소 헤드의 투시도이다.
도 124b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 제2 필렛 감소 헤드의 투시도이다.
도 124c는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 제1 필렛 감소 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124d는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 제2 필렛 감소 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124e는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 제1 원추형 팁 헤드의 투시도이다.
도 124f는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 제2 원추형 팁 헤드의 투시도이다.
도 124g는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 제1 원추형 팁 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124h는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 제2 원추형 팁 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124i는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 돔형 팁 헤드의 투시도이다.
도 124j는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 돔형 팁 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124k는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 제1 내부 공동 헤드의 투시도이다.
도 124l은 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 제2 내부 공동 헤드의 투시도이다.
도 124m은 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 제1 내부 공동 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124n은 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 제2 내부 공동 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124o는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 실리콘 브러시의 투시도이다.
도 124p는 제1 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 실리콘 브러시를 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124q는 제2 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 실리콘 브러시를 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124r은 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 미니어처 면봉의 투시도이다.
도 124s는 제1 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 미니어처 면봉을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124t는 제2 방향으로 회전하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 미니어처 면봉을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124u는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 미니어처 면봉의 투시도이다.
도 124v는 제1 도포 패턴을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 미니어처 면봉을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124w는 제2 도포 패턴을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 미니어처 면봉을 사용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 124x는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 제3 필렛 감소 헤드의 투시도이다.
도 124y는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 제3 필렛 감소 헤드의 페인팅 결과의 평면도이다.
일부 구현예에 따른 필렛 감소 헤드로부터의 유망한 성능은 이 기술에 대한 추가 조사를 촉진하였다. 헤드는 회전축을 따라 작은 오리피스를 통해 유체를 분배하도록 변경되었다. 도구를 바깥쪽으로 나선형화하는 원형 궤적이 생성되었다. 실험 경로와 결과의 묘사는 이하에서 볼 수 있다:
도 125는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 외부 나선형 경로 계획의 X-Y 다이어그램이다. 제1 추적(x = 196.2, y = 0에서 시작하고 x = 199.0, y = 0으로 종결됨)은 외부 나선형이고, 제2 추적은 외부 궤적이고, 제3 추적(x = 195.8, y = 0에서 시작하고 x = 194.2, y = 1.8로 종결됨)은 도구를 제거하기 전의 최종 궤적이다. 내부 나선은 페인팅된 영역 내의 도구를 제거하여 에지를 원래 상태로 유지하는 데 도움이 되는 것으로 발견되었다.
도 126a는 도포 전의 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 필렛 감소 헤드의 투시도이다.
도 126b는 에나멜을 분배하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 필렛 감소 헤드이다.
도 126c는 분배된 에나멜을 확산시키는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 필렛 감소 헤드이다.
도 126d는 분배되고 확산된 에나멜을 지속적으로 확산시키는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 필렛 감소 헤드이다.
도 126e는 에나멜 도포가 완료된 후 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 필렛 감소 헤드이다.
일부 구현예에 따른 윤곽이 있는 표면에 에나멜 도포의 효과를 연구하기 위해, 경로는 곡선 실린더에 대해 변형되었다. 기하학이 손톱과 유사하지만, 간단하고 충분한 궤적 계획을 가능하게 했기 때문에, 실린더가 선택되었다. 게다가, 중공 튜브가 쉽게 이용 가능했기 때문에, 상이한 에나멜 도포 실험용 테스트 실린더를 교체하는 간단한 방법을 제공했다.
도 127a는 사용자의 손가락 대신에 중공 튜브에 입사하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 필렛 감소 헤드의 투시도이다.
도 127b는 중공 튜브에 입사하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 필렛 감소 헤드의 측면도이다.
도 127c는 고통스러운 중공 튜브의 원통형 표면 및 사용자의 손목 관절의 스위프 궤적의 Y-Z 플롯이다.
도 128a는 도포 전 에나멜/광택 도포 시스템(600) 및 중공 튜브용 필렛 감소 헤드의 상부 투시도이다.
도 128b는 에나멜을 분배하고 확산시키는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 필렛 감소 헤드의 상부 투시도이다.
도 128c는 분배되고 확산된 에나멜을 지속적으로 확산시키는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 필렛 감소 헤드의 상부 투시도이다.
도 128d는 에나멜 도포가 완료된 후의 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 필렛 감소 헤드의 상부 투시도이다.
필렛 감소 헤드를 사용하여 수행된 대부분의 테스트는 매우 부드러운 에나멜 도포를 초래했다. 일부 구현예에서, 도포 도구는 또한 연속 코트로 잘 수행된다. 일부 구현예에서, 공기 포획이 발생하고 큰 기포를 남길 수 있기 때문에, 회전 헤드가 페인팅된 영역 내에 너무 오래 유지되지 않도록 주의를 기울인다.
도 129는 회전 헤드의 과도한 혼합에 의해 야기되는 바람직하지 않은 공기 포획으로 적용된 에나멜의 평면도이다.
엘라스토머 도구 팁을 사용하여 일련의 실험을 수행하여 훨씬 더 낮은 다운포스가 존재할 때 이 도포 공정의 효과를 테스트하였다. 아래 제시된 결과와 함께 세 가지 도구 팁이 사용되었다.
도 130a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크가 장착된 회전 부착물의 투시도이다.
도 130b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크의 단면도이다.
도 130c는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크가 장착된 회전 부착물의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 130d는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 낮은 각도 회전 고무 원뿔이 장착된 회전 부착물의 투시도이다.
도 130e는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 낮은 각도 회전 고무 원뿔의 단면도이다.
도 130f는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 낮은 각도 회전 고무 원뿔이 장착된 회전 부착물의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 130g는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크가 장착된 회전 부착물의 투시도이다.
도 130h는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크의 측면도이다.
도 130i는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 부드럽고 매끄러운 회전 고무 디스크가 장착된 회전 부착물의 페인팅 결과의 평면도이다.
상기 제시된 바와 같이, 원뿔 설계는, 예를 들어, 회전 헤드의 중심점이 표면과의 접촉을 유지할 수 있게 하는 반면, 외부는 유체를 회전시켜 상당히 균일한 코팅을 생성한다.
일부 구현예에 따라 수직으로 회전하는 스프레더의 장점은 도구의 회전이 도구의 중심 주위에 에나멜의 원형 장벽을 형성한다는 것이다. 사용 방향에 따라 페인트 분포가 변경될 수 있는 일부 구현예에 따른 수동적 스프레더와 달리, 회전 도구는 경로 이력에 관계없이 그들이 어느 방향으로 이동하든 균일한 에나멜 줄무늬를 남길 수 있다.
브러시
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 반복된 방식으로 매니큐어를 도포하기 위한 브러시를 포함한다. 일부 구현예에서, 브러시의 접촉 패치의 크기는 브러시 배향 및 표면 위의 높이에 크게 의존하기 때문에, 하나 또는 둘 모두가 조심스럽게 제어된다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 브러시로 매니큐어를 도포하기 위한 시각적 피드백 시스템을 포함한다. 실시간 시각적 피드백은 네일 케어 시스템(100)이 목적하는 브러시 형상을 달성하기 위해 브러시 압력을 조정할 때를 결정하도록 할 수 있다.
4개의 상이한 브러시의 테스트가 수행되었으며, 결과는 부록 C: 브러시 어플리케이터에 포함되어 있다.
능동적 분배 시스템
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 능동적 분배 시스템을 포함한다. 예를 들어, 단순히 에나멜을 재배치 및/또는 재위치시킬 수 있는 확산 어플리케이터와는 대조적으로, 능동적으로 분배하는 어플리케이터는 원격 저장소로부터 네일 표면에 새로운 에나멜을 도포하는 역할을 할 수 있다. 일부 구현예에 따른 능동적 분배 시스템은 3개의 별개의 부분으로 분할될 수 있다: 펌프, 전달 시스템, 및 노즐. 펌프는 유체를 가압할 수 있고, 전달 시스템은 흐름을 저장소로부터 노즐로 수송할 수 있고, 노즐은 배출시 유체를 제어하는 것을 돕는 오리피스일 수 있다.
일부 구현예에 따른 능동적 분배 시스템은 임의의 확산 어플리케이터보다 훨씬 더 신뢰 가능하고 정확한 것으로 입증될 수 있다.
능동적 펌프 시스템
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 공압 시스템을 사용하여 에나멜을 분배하며, 여기서 가압된 공기는 유체의 실린더 내에서 플런저를 전진시키는 데 사용된다. 이러한 시스템의 장점은, 예를 들어, 신속한 설정 및 조정 용이성을 포함한다. 다른 구현예에서, 매니큐어의 급속 건조성 고점도 특성에 더 적합할 수 있는 보다 견고한 분배 시스템이 제공된다.
도 131은 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 프로토타입에 의해 유지되는 공압 구동 시린지 헤드의 프로토타입의 측면 투시도이다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 공압에 대한 대체물로서 스테퍼 구동 양성 변위 펌프를 포함한다. 이 펌프는 공압 버전과 동일한 일회용 주사기 아키텍처를 많이 이용할 수 있다. 이 새로운 설계는 우수한 제어를 제공할 뿐만 아니라 이러한 분배 아키텍처를 데스크탑 디바이스에서 구현될 수 있는 방법을 더 잘 반영할 수 있다.
도 132는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 구속식 리드스크류 피스톤 펌프의 투시도이다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 구속식 리드스크류를 구동하는 모터를 포함하는 펌핑 시스템을 포함한다. 리드스크류의 말단에는 주사기 내부를 따라 밀리는 플런저가 있을 수 있다. 다양한 구현예에서, 주사기는 다양한 색상 및 유형의 에나멜이 사용될 수 있도록 교체될 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 USB 직렬 링크를 통한 수동 제어(버튼 인터페이스를 통해) 및/또는 컴퓨터 제어를 갖도록 설계된다. 일부 구현예에 따른 시스템 아키텍처가 아래에 예시된다:
도 133은 네일 케어 시스템의 스테퍼 모터의 제어 및 작동을 위한 시스템 아키텍처의 다이아그램이다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 오도메트리가 내장된 마이크로제어기 소프트웨어를 포함하고, 이에 따라 설정된 속도로 분배할 뿐만 아니라 설정된 용량까지 분배할 수 있다. 가속도 및 속도도 구성 가능할 수 있다. 일부 구현예에서, 간단한 정적 유량이 사용될 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 로봇 암의 움직임을 분배 속도로 조정하는 컴퓨터 제어기를 포함한다. 예를 들어, 일부 구현예에서, 사용자가 두 디바이스를 동시에 더 잘 작동하도록 하는 간단한 파이썬 GUI가 포함될 수 있다.
유체 전달 시스템
대부분의 실험에서, 저장소로부터 노즐 출구로의 유체 전달은 다소 간단했다. 많은 사례가 직선 또는 테이퍼링 도관과 관련되었지만, 도관 경로가 보다 복잡한 방식으로 에나멜의 흐름을 재지시한 몇 가지 사례가 있었다. 이러한 모든 구현예는 범위 내에 있다.
일정한 직경 튜브
이 구현예에서, 흐름은 주사기 저장소로부터 작은 일정한 직경의 튜브를 통해 말단의 노즐로 지시될 수 있다.
도 134는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 일정한 직경의 튜브의 투시도이다.
일반적으로, 매니큐어는 점성이 높은 액체일 수 있으며, 따라서 작은 공간에 통해 매니큐어를 밀어 넣기 위해서는 고압이 필요하다. 실험을 통해, 1mm(0.03937in) 이하의 노즐 직경은 적합한 에지 제어를 제공하는 것으로 보였지만 유체 도관 전체에 걸쳐 이 노즐 직경을 유지해도 더 좋은 성능 또는 이점을 초래하지 않는다. 더 작은 노즐 직경이 더 나은 페인팅 제어를 제공했고, 따라서 튜브의 직경이 작아짐에 따라 그들을 통해 유체를 흐르게 하는 데 필요한 압력이 증가했다. 사용하는 동안, 유체가 농축되거나 심지어 건조되어 분배 제어에 큰 영향을 줄 수 있는 흐름에 추가적인 제한이 생길 수 있다. 일부 구현예에서, 압력을 최소화하고 유동 저항을 감소시키기 위해, 전달 시스템은 얇은 직경의 튜브로 유동을 제한하지 않고 가능한 한 짧을 것이다. 이러한 요소의 주의 깊은 균형은 낮은 압력에서 정확한 적용을 초래할 수 있다.
목적하는 유량을 달성하기 위해 더 높은 압력을 필요로 하는 긴 도관 시스템에서, 유체 시스템 내에 포획된 공기는 분배 제어에 악영향을 미칠 수 있다. 공기는 플런저 씰 자체 내부에서 세정 또는 에나멜 용적의 변화(예: 건조 및 수축)에 의해 노즐을 통해 경시적으로 도입될 수 있거나 저장소에 도입되기 전에 간단히 에나멜에 존재한다. 분배가 발생하면, 저장소는 시스템 내의 흐름에 대한 등가 저항까지 자연스럽게 가압될 수 있다. 이 저항이 높을수록 압력이 높아진다. 저장소에 임의의 공기가 있으면, 압축될 수 있다. 이 압축은 스프링처럼 작용하며, 정상 상태 흐름에 도달하는 시간을 늘릴 수 있다. 유량의 임의의 급작스런 변화도 시스템 내의 공기에 의해 영향을 받을 수 있으므로 동적으로 제어하는 것보다 페인팅 공정 전체에서 일정한 유량을 관리하는 것이 더 나을 수 있다. 유체 또는 공급 시스템 내에 약간의 압축성이 있는 경우, 유동 저항이 증가하여 더 높은 작동 사용 압력을 생성하기 때문에, 제어 수준이 도관의 길이가 길어질수록 감소할 수 있다.
일부 구현예에서, 강성이 낮은 재료는 또한 유동 제어 지연에 유사한 치수를추가할 수 있고, 여기서 비강성 제료, 예를 들어, 고무 튜브는 가압될 때 팽창할 수 있다. 이러한 비강성 부재를 최소한으로 유지하면 더 나은 유체 제어를 제공할 수 있다.
일부 구현예에 따른 네일 케어 시스템(100)은 다음 원리 중 하나 이상(예: 모두)에 따라 작동하여 능동적 분배 제어를 달성할 수 있다:
항상 또는 가능한 한 정상 상태 흐름을 유지한다.
네일의 중요한 에지를 페인팅하기 전에 정상 상태 흐름을 달성한다.
이것은, 예를 들어, 네일 도포 전에 재료를 다른 용기를 흐르게 하거나 페인트의 초기 부분을 나중에 다시 추적될 네일의 영역으로 흐르게 함으로써 수행될 수 있다.
분배 속도보다는 표면 속도를 변경하여 용적 적용의 속도를 변경한다.
대량의 공기가 없는 시스템을 유지한다.
깨끗한 노즐을 유지하여 반복적으로 예측 가능한 에나멜 도포를 가능하게 한다.
장기간 또는 세정 후 사용되지 않은 경우, 분배 유체를 사용하여 전달 도관을 퍼징하고 순환시킨다.
테이퍼 튜브
도 135는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 테이퍼 튜브의 투시도이다.
일정한 직경의 튜브 내 흐름은 이동 거리를 따라 선형 압력 강하를 나타낼 수 있다. 일부 구현예에 따라 파이프의 직경을 증가시킴으로써 이러한 손실은 감소될 수 있다. 따라서, 튜브의 직경이 불필요한 장소에서 확대되는 경우(최종 직경은 노즐에서만 필요함), 일부 구현예에 따르면, 노즐의 길이를 따른 유동 내의 압력 강하가 감소될 수 있다.
일부 구현예에서, 이는 네일 케어 시스템(100)에서 사용되는 테이퍼 또는 원추형 노즐 뒤의 원리이다. 테이퍼 튜브는 또한 세정하기 더 쉽고 신속하게 막히는 경향이 없을 수 있다. 유동 저항의 감소와는 별도로, 에나멜 도포의 성능은 튜브 어플리케이터 칩의 성능과 유사할 수 있으며, 이는 이 설계는 일정한 직경의 전달 시스템에 대한 일부 구현예에서 매력적인 대안이도록 할 수 있다.
팁 구성
다양한 구현예에 따른 네일 케어 시스템(100)을 위해, 다양한 유형의 능동적 분배 칩 구성이 제공될 수 있다.
기본 노즐 팁
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 분배 팁의 가장 단순한 형태일 수 있는 기본 노즐을 포함할 수 있다. 노즐은 팁이 표면을 가로질러 스윕될 때 유체가 압출되는 둥근 오리피스일 수 있다. 아래 이미지에서 표시된 바와 같이, 높은 수준의 에지 부드러움뿐만 아니라 두께 일관성이 달성될 수 있다.
도 136은 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 기본 노즐 칩을 이용한 페인팅 결과의 평면도이다.
도 137은 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 기본 노즐 선단의 투시도이다.
특정 경우에, 증착 공정으로부터의 인공물이 토폴로지 내에서 형성될 수 있다. 이는 어느 정도까지 모든 도포 기술과 함께 존재할 수 있다. 에나멜의 나이 및 점도는 일부 구현예에 따른 균일성의 주요 인자인 것으로 밝혀졌다. 이러한 효과를 최소화하기 위해, 선형 이동 속도, 궤적, 노즐 크기 및/또는 유량은 네일 케어 시스템(100)에 의해 관리될 수 있다. 이러한 변수를 적절하게 관리함으로써 이러한 시각적 장애의 영향을 줄일 수 있다.
예시적인 시험에서, 노즐 팁은 비접촉 도포 방법으로 페인팅된 표면 위에 호버링되었다. 다른 실험에서는 접촉 기반 방법이 개발되었다. 이 접촉 방법을 통해 노즐 팁은 제한된 힘으로 페인팅된 표면과 접촉할 수 있었다. 두 방법 모두 고품질의 에나멜 증착을 초래했고 테스트 중 가장 일관성 있고 제어 가능한 어플리케이터였다.
비접촉 방법은 아래의 층을 방해하지 않기 때문에, 에나멜의 복수 층을 도포할 때 보다 균일한 결과를 생성했다. 부드럽고 일관된 페인트 형성을 달성하기 위해, 노즐 팁은 표면에 매우 가깝게 배치되었다. 테스트는 보다 높은 유체 유량(보다 관용성)에서, 노즐은 일부 구현예에 따라 표면으로부터 0.5밀리미터 이내에 배치될 필요가 있음을 보여주었다. 유량이 감소됨에 따라, 이 거리도 또한 감소하고, 이상적으로 노즐은 일부 구현예에 따라 이 0.5밀리미터 임계값 내에서 잘 유지될 수 있다.
일부 구현예에 따라 노즐의 팁이 표면으로부터 너무 멀리 배치되는 경우, 에나멜은 덩어리로 나오고 얼룩진 도포를 초래할 것이다. 노즐이 표면에 너무 가까워지면 흐름이 제한되고 줄무늬 마크가 생긴다. 이것은 에나멜의 흐름을 감소시키고 궤적을 추적하는 동안 팁은 이미 도포된 에나멜을 이동 경로의 측면으로 밀어내어 일부 경우에 일관성 없는 도포를 초래한다.
전반적으로, 일부 구현예에서, 더 넓은 노즐은 나중에 더 넓은 연마 경로를 남기는 경향이 있고, 따라서 에나멜 도포의 중첩 경로의 필요성은 더 작은 노즐의 경우만큼 크지 않을 수 있다. 대조적으로, 일부 구현예에 따른 더 작은 노즐은 압출 용적 및 속도의 감소에서 약간 더 양호한 에지 평활도를 생성할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 하나 이상의 공정 단계(예: 에나멜 도포) 동안 평평한 표면으로부터 곡면으로 전환될 수 있다. 일부 구현예에서, 표면의 법선과 노즐의 중심 축 사이의 각도가 유동 및 생성되는 표면 마무리에 부정적으로 영향을 미치도록 노즐 튜브 설계를 갖는 것을 피하기 위해 주의를 기울인다. 각도가 점점 더 많이 달라지기 시작하면 노즐로부터의 흐름의 분포가 변할 수 있다. 이하 다이아그램은 이 효과를 예시하는 데 도움이 된다:
도 138a는 노즐로부터의 에나멜 흐름의 바람직하지 않은 변경된 분포에 중점을 둔 사용자의 곡선형 네일과 직교로 입사하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 기본 노즐 팁 단면도이다.
도 138b는 노즐로부터의 에나멜 흐름의 개선된 분포에 중점을 둔 사용자의 곡선형 네일에 수직으로 입사하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 기본 노즐 팁의 단면도이다.
위치 A와 C의 일부 노즐은 네일의 중심에서 멀리 유체를 배출하는 경향이 있지만, 위치 B에서는 노즐의 분포가 더 균일하다. 일부 구현예에서, 이러한 효과의 조정은 경로 계획 단계에서 설명될 수 있다. 노즐이 넓어짐에 따라, 완전한 커버리지를 달성하기 위해 광택 층은 두께를 증가시킴으로서 보상할 필요가 있을 수 있다. 더 두꺼운 층은 건조 과정을 늦출 수 있다. 특정 시점에서, 중력의 영향은 유체의 움직임을 압도하여 유체의 증착을 제어하는 것을 불가능하게 할 수 있다. 이 때문에, 위치 A와 C는 실행될 가능성이 더 높을 수 있다. 노즐의 폭을 줄이면, 각 통과는 더 작은 너비의 네일을 필요로 할 수 있기 때문에 층 두께를 감소시킬 수 있다.
위치 D, E 및 F는 페인팅된 표면에 수직으로 배치될 때 일부 구현예에 따라 노즐로부터의 유출의 변화를 예시한다. 일부 구현예에 따라, 노즐이 표면에 수직인 경우, 네일은 노즐 폭의 더 큰 선택을 사용하여 보다 균일한 흐름으로 페인팅될 수 있다. 따라서, 일부 구현예에서, 에나멜 분포는 노즐 주위에서 가능한 한 대칭으로 유지하고, 최상의 제어를 산출하기 위해, 네일 케어 시스템(100)은 노즐을 가능한 한 표면에 수직에 가깝게 유지할 수 있다.
플레어 캐슬-팁 포인트
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 플레어 캐슬-팁 포인트를 포함할 수 있다. 이 노즐은, 예를 들어, 플라스틱 테이퍼 팁으로부터 절단되어 평평한 표면에 광택을 압출하는데 사용될 수 있다. 이 구현예에서, 플레어 암은 노즐 배치의 다양한 거리에서 표면과 접촉하도록 구부러지고 확산될 수 있어 노즐이 네일 위에 정확하게 위치시킬 필요성을 완화시킬 수 있다. 팁의 이미지는 이하 제시된다:
도 139a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 플레어 캐슬-팁 포인트의 상부 단면도이다.
도 139b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 플레어 캐슬-포인트의 측면도이다.
일부 구현예에 따라, 이러한 타입에 따른 노즐 칩을 사용하여 남겨진 큰 정사각형 및 표면 인공물의 이미지가 아래에 도시되어 있다.
도 140a는 바람직하지 않는 표면 인공물에 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 플레어 캐슬-칩 포인트를 사용한 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 140b는 바람직하지 않은 표면 인공물에 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 플레어 캐슬-팁 포인트를 사용한 제2 페인팅 결과의 투시도이다.
아이싱 노즐
도 141a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 2개의 내측 곡선 비트를 갖는 제1 아이싱 노즐의 투시도이다.
도 141b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 비교적 느슨한 배열로 4개의 내측 곡선 비트를 갖는 제2 아이싱 노즐의 투시도이다.
도 141c는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 비교적 긴밀한 배열로 4개의 내측 곡선 비트를 갖는 제3 아이싱 노즐의 투시도이다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 아이싱에 사용되는 노즐 칩을 포함하거나 이와 유사하게 보이는 노즐을 포함할 수 있다. 예를 들어, 이러한 팁은 에나멜이 직접 하향이 아닌 노즐의 측면 밖으로 강제된다는 의도로 설계될 수 있다. 이렇게 함으로써, 디바이스는 유량에 영향을 주지 않고 가능하게는 에나멜을 보다 균일하게 분배하지 않고 장치를 임의의 방향으로 네일-상에 놓을 수 있다.
필라멘트 노즐
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 필라멘트 노즐을 포함할 수 있다. 예를 들어, 일부 구현예에 따라 기본 노즐을 사용하여 수행된 테스트는 페인팅된 표면과 분배 노즐 팁 사이의 거리가 중요함을 보여주었다. 노즐이 너무 가깝게 배치되면, 흐름이 막힌다. 너무 멀리 배치되면, 에나멜이 표면과 접촉하게 될 만큼 충분히 커지기 전에 팁에 비드업된다. 속도로, 이 비드의 형성은 매우 일관성이 없는 것처럼 보이는 블롭형 광택 도포로 변환된다.
도 142a는 바람직하지 않은 블롭 형성에 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 필라멘트 노즐 및 필라멘트 노즐을 사용한 제1 페인팅 결과의 투시도이다.
도 142b는 에나멜의 바람직하지 않은 일관성이 없는 페인팅에 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 필라멘트 노즐을 사용한 제2 페인팅 결과의 평면도이다. 페인팅은 수평 방향으로 수행되었다.
필라멘트는 일부 구현예에 따라 노즐의 말단에서 구의 형성을 파괴하고, 매니큐어가 필라멘트 샤프트 아래로 흐르게 하고 대신에 베이스에 집결하는 경로를 생성하도록 설계되었다. 필라멘트는 Z 방향으로 제한되지 않았으므로 중력(또는 에나멜의 흐름)에 의해 핀을 네일 위에서 아래로 끌어 당길 것이다. 이 접촉은 매니큐어를 필라멘트에서 네일 표면으로 쉽게 옮길 수 있도록 한다. 필라멘트 노즐의 두 가지 주요 형태는 일부 구현예에 따라 설계되었다: 내부 필라멘트 및 외부 필라멘트.
내부 필라멘트 노즐
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 내부 필라멘트 노즐을 포함할 수 있다. 예를 들어, 필라멘트 팁은 유동 경로 자체 내에 배치된 필라멘트를 포함할 수 있다. 이러한 설계는 다음 이미지에 예시되어 있다.
도 143a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 내부 필라멘트 노즐의 측면 투시도이다.
도 143b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 내부 필라멘트 노즐의 투시도이다.
이 설계에서 이 필라멘트는 유동 튜브의 내부 직경 내에서 부유하는 큰 직경의 막대를 이용한다. 더 큰 직경의 막대는 필라멘트 위치의 제어를 증가시킬 수 있다.
일부 구현예에 따른 강성 필라멘트/플로팅 핀은 표면 윤곽을 매우 잘 따르고 광범위한 윤곽 변화에 걸쳐 핀을 네일 상과 접촉된 상태로 유지했다는 점에서 성공적인 변형인 것으로 입증되었다. 일부 구현예에서, 하기 조건들을 피하기 위해 추가적인 조치가 취해지고 있다.
핀은 노즐 내에서 동심원적으로 충분히 제한되지 않았기 때문에 주위를 부유할 수 있었다. 강모 브러시보다 훨씬 결정적이지만, 핀의 위치가 노즐 튜브에 대해 위치를 변경하여 부정확한 에나멜 도포로 이어질 수 있다.
에나멜은 핀 주위를 일관되게 유동하는 데 문제가 있었고, 팁에 불균일한 광택 분포를 생성했다. 이것은 또한 일관성 없는 에나멜 도포에 기여했다.
도 144a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 내부 필라멘트 노즐로부터의 바람직하지 않은 불균일한 흐름의 제1 예의 측면 투시도이다.
도 144b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 내부 필라멘트 노즐로부터의 바람직하지 않은 불균일한 흐름의 제2 예의 측면 투시도이다.
도 144c는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 내부 필라멘트 노즐로부터의 바람직하지 않은 불균일한 흐름의 제3 예의 측면 투시도이다.
외부 필라멘트 노즐
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 외부 필라멘트 노즐을 포함할 수 있다. 예를 들어, 일부 구현예에 따른 내부 필라멘트 노즐의 문제를 해결하기 위해, 에나멜의 유동 경로로부터 필라멘트 베어링 표면을 분리하는 외부 필라멘트 시스템이 설계되었다. 이것은 에나멜의 일관성과 점도가 성능에 미치는 영향을 줄이기 위해 수행되었다. 게다가, 필라멘트는 더 나은 정밀도로 이어질 수 있는 더 나은 제약을 받을 수 있었다. 아래 이미지는 외부 필라멘트 시스템을 예시한다.
도 145a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 외부 필라멘트 노즐의 측면 투시도이다.
도 145b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 외부 필라멘트 노즐 및 이의 페인팅 결과의 투시도이다.
예상된 바와 같이, 일부 구현예에 따른 외부 필라멘트 시스템은 베어링 표면이 에나멜을 함유하지 않고 잔류하였기 때문에 내부 필라멘트 설계보다 더 잘 수행되었다. 그러나, 일부 구현예에 따른 설계는 여전히 에나멜의 유동 경로를 차단하기 위해 필라멘트를 필요로 했다. 일부 구현예에 따른 내부 필라멘트 설계만큼 유의하게 성능에 영향을 미치지 않았지만, 성능을 최적화하기 위해 일부 구현예에서 사용하기 전에 필라멘트를 세정할 필요가 있을 수 있다.
진동 슈라우드
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 진동 운동을 이용하여 매니큐어 도포의 흐름 및 마무리에 영향을 미칠 수 있다. 예를 들어, 많은 광택 제형에 함유된 헥토라이트 및 벤토나이트 점토는 전단력이 증가함에 따라 점도가 감소하는 틱소트로피 효과를 생성할 수 있다.
이 실험의 결과는 핀의 작은 배열에 의해 요약된다.
부록 E: 진동 확산.
스프링 플런저 노즐
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 스프링 플런저 노즐을 포함할 수 있다. 스프링 플런저 노즐은 팁 내로부터의 압축 스프링이 플런저와 노즐의 내부 표면 사이에 포지티브 밀봉을 형성하도록 강제하는 팁을 포함할 수 있다. 밀봉력이 극복되면(예: 플런저를 밀어 올림으로써), 유체는 노즐로부터 유동할 수 있다.
일부 구현예에 따른 이러한 칩 설계의 한 가지 이점은 도구 내의 에나멜이 건조되는 것을 방지하는데 매우 성공적이라는 것이다. 팁의 외부는(예: 사용할 때마다) 세정되어야 할 수도 있지만, 이 절차는 매니큐어 리무버로 코팅된 스폰지로 브러싱하는 것과 같이 매우 간단할 수 있다.
이 플런저 팁의 설계는 페인팅된 표면으로부터 제거될 때 자체 밀봉될 수 있다는 점을 제외하고 내부 필라멘트 노즐의 설계와 유사하게 기능할 수 있다. 내부 플런저가 훨씬 짧을 수 있기 때문에, 유출은 이전에 테스트된 필라멘트 팁 중 어느 하나보다 훨씬 부드럽고 더 제어가능할 수 있다.
도 146a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 스프링 플런저 팁의 상부 투시도이다.
일부 구현예에서, 도구는 합리적이고 제어 가능한 에지를 갖는 매끄러운 코팅을 뒤에 남겨둘 수 있다. 플런저는 내부적으로 튀어 나올 수 있으므로 밀봉을 개방하는 데 더 큰 힘이 필요할 수 있다.
도 146b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 스프링 플런저 선단의 페인팅 결과의 상부 투시도이다.
일부 구현예에 따르면, 이러한 더 높은 힘은 칩의 사용에 조건을 부과할 수 있다. 예를 들어, 일부 구현예에서, 팁이 에나멜의 임의의 더 낮은 층으로 침투하는 것을 방지하기 위해 적합한 경화 시간이 허용된다. 단층 도포의 경우, 이러한 추가적인 건조 또는 경화 시간이 필요하지 않을 수 있다.
분배 경로
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 에나멜을 분배하기 위한 하나 이상의 분배 경로를 사용할 수 있다. 일부 구현예에서, 복수의 궤적(예: 스트로크의 중첩)이 사용될 수 있다. 일부 구현예에서, 분배는 더 빠른 속도로 및/또는 에지의 매끄러움을 위해 설계된 하나 이상의 경로를 사용할 수 있다. 본원의 교시에 따라 네일 케어 시스템(100)의 다양한 구현예에 따라 구현될 수 있는 궤적의 예(예: 메모리에 저장되고 에나멜을 도포하기 위해 장치의 로봇 암과 같은 메커니즘 또는 요소에 의해 작동됨)는 이하 표에 예시되어 있다.
도 147a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 원형 외부 나선형 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 원형 외부 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147c는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 주변 궤적 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147d는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 주위 궤적 경로 계획이 이어지는 원형 외부으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147e는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 원형 외부에 이은 주위 궤적, 이어서 궤적 후방 내부 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147f는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 원형 외부에 이은 주변 궤적에 이어, 궤적 후방 내부 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147g는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 원형 외부에 이은 나선형 내부 정사각형 (낮은 피치) 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147h는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 나선형 내부 정사각형 (낮은 피치) 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147i는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 원형 외부에 이은 나선형 내부 정사각형 (높은 피치) 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147j는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 나선형 내부 정사각형 (높은 피치) 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147k는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 원형 외부에 이어 정사각형 주위, 이어서 내부 시작 패턴 외부 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147l은 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 정사각형 주위에 이어서, 내부 시작 패턴 외부 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147m은 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 원형 외부에 이어 전후 선형 경로에 이어서, 주변 궤적 경로 계획의 X-Y 다이아그램이다.
도 147n은 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 전후의 선형 경로에 이어 주변 궤적 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147o는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 원형 외부에 이어 90도 오프셋 전후 선형 경로에 이어 주위 궤적 (와플 패턴) 경로 계획의 X-Y 다이어그램이다.
도 147p는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 90도 오프셋 전후 선형 경로에 이어 주위 궤적 (와플 패턴) 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147q는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 점조각 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147r은 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 점조각 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147s는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 지그재그 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147t는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 지그재그 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147u는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 중첩 정사각형 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147v는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 중첩 정사각형 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147w는 에나멜/광택 도포 시스템(600)에 대한 중첩된 D의 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이어그램이다.
도 147x는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 중첩된 D의 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147y는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 중첩된 C의 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147z는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 중첩된 C의 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 147aa는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 주변 및 충전 (낮은 피치) 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147ab는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 주변 및 충전 (높은 피치) 경로 계획이 이어지는 원형 외부의 X-Y 다이아그램이다.
도 147ac는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 주변 및 충전 (높은 피치) 경로 계획으로부터의 페인팅 결과의 평면도이다.
다양한 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 이동 속도, 유체 유량, 노즐 크기, 유체 유형 및 표면 하층을 포함하는 하나 이상(예: 모두)의 변수를 제어할 수 있다. 이들 인자 각각의 세부 사항과 일부 구현예에 따른 경로 선택에 영향을 미치는 방법은 아래 표에서 논의된다:
| 속성 | 효과 |
| 페인팅 속도 | 노즐이 표면을 통과하는 속도는 페인팅 속도로 정의된다. 교반 기간과 혼합 시간을 단축할 수 있는 경우, 유체는 경화되기 전에 표면의 이상을 자체 레벨화하고 "치유"하는 데 오래 걸리기 때문에 페인팅 속도가 중요하다. 유체의 자체 레벨링 특성은 건조하고 농축되기 시작하면 매우 신속하게 감소될 수 있다. 이상적으로, 페인팅은 가능한 한 빨리 수행될 수 있지만, 과도한 속도는 에지 일관성의 감소와 같은 부정적인 영향을 미칠 수 있다. 페인팅 속도를 일정하게 유지하면서 더 넓은 영역을 더 빨리 페인팅하고 싶은 경우, 더 큰 직경의 노즐과 더 높은 체적 흐름이 권장될 수 있다. |
| 유체 유량 | 유체의 유량은 페인팅 속도와 밀접하게 관련되어 있다. 예를 들어, 동일한 에나멜 두께를 유지하기 위해 유체 유량을 2배로 하는 경우, 페인팅 속도도 2배로 해야 한다. 유체 전달 시스템의 내부 저항이 높고 시스템에 기포 또는 엘라스토머 부재가 있는 경우, 더 높은 유량은 일반적으로 정상 상태의 흐름에 도달하는 데 더 긴 시간을 필요로 할 수 있다. |
| 노즐 크기 | 더 작은 직경의 노즐은 더 낮은 유량으로 잘 작동할 수 있는 반면, 더 큰 노즐은 더 높은 유량으로 더 잘 작동할 수 있다. 게다가, 노즐 크기는 또한 줄무늬 폭에 영향을 미칠 수 있으며, 이는 궤적 매개변수에 영향을 줄 수 있다.. 작은 노즐은 표면으로부터의 작동 거리가 작아지므로 더 높은 Z 정확성이 필요할 수 있지만 더 넓은 노즐과 비교할 때 보다 일관된 에지 형성을 가질 수 있다. |
| 유체 유형 | 탑 코트 유체는 더 낮은 점도를 가질 수 있지만, 또한 일단 분배되면 훨씬 더 짧은 작업 시간을 가질 수 있다. 컬러 에나멜의 유체 경로는 에지 정밀도를 위해 더 느린 속도에 초점을 맞춘 다음 빨리 건조되는 탑 코트의 더 빠른 루틴으로 후속 조치를 취할 수 있다. |
| 하위 표면 층 | 다른 층 위에 탑 코트를 적용하는 경우, 네일 케어 시스템(100)이 아래 표면과 접촉하는 시간을 최소화하고자 할 수 있다. 보다 최근에 도포된 물질은 밑에 있는 에나멜을 용해시키기 시작할 수 있고, 따라서 더 빠른 속도, 더 큰 직경의 노즐 및 높은 유량이 이러한 경우에 효과적일 수 있다. |
대안적으로 또는 추가로, 노즐이 페인팅 영역 내에 착륙되고/되거나 이로부터 제거되는 위치와 같은 다른 인자는 일부 구현예에 따른 품질에 영향을 미칠 수 있다. 페인팅 영역 내에 노즐을 착륙하거나 이로부터 제거하면 페인팅된 주변 에지를 따라 얼룩 및 과도한 증착을 방지하는 데 도움이 될 수 있지만 페인팅된 영역 내에서 공기 포획 또는 기타 이상이 발생할 수도 있다.
대안적으로 또는 추가로, 일부 구현예에서, 가속 및 감속 속도가 중요한 역할을 할 수 있다. 예를 들어, Meca500 로봇은 모든 직선 운동에 가속 및 감속 계수가 내장되어 있기 때문에, 이 속도의 변화에 의해, 경로의 궤적이 방향의 급격한 변화를 겪는 페인트의 더 큰 증착을 초래할 수 있다. 갑작스런 전후의 움직임은 최악일 수 있는데, 이는 이러한 단계는 다시 추적된 페인팅 영역을 통해 속도 저하 및 후속 속도 향상이 필요할 수 있기 때문이다. 일정한 노즐 흐름이 주어지면, 이것은 방향 변화의 노드 주위에 불균형한 양의 유체를 초래할 수 있다.
도 148은 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 노즐의 바람직하지 않은 이동 속도 프로파일의 개략도이고, 여기서 노즐은 경로 ABC를 따라 이동하고, 팁이 B로 감속한 후 C로 재가속됨에 따라 노즐이 표면을 따라 느리게 통과할수록 노즐이 B 지점에 더 가까워져 B 지점 주위에 바람직하지 않은 고농도의 에나멜을 유발한다.
일부 구현예에서, 이러한 영향을 최소화하기 위해 가속 및 감속 상수는 증가되거나 최대화될 수 있다. 일부 구현예에서, 이들은 로봇의 물리적 제한에 기초하기 때문에, 그들은 속도에 비례하여 스케일링되지 않을 수 있다. 따라서, 이와 관련하여, 느린 페인팅 및 유속은 보다 일관된 코팅을 초래하는 경향이 있을 수 있다.
예를 들어, Meca500은 정밀한 기계이며 프로파일링된 엔벨로프 전체에 걸쳐 광고된 정밀도를 유지해야 하기 때문에, 선형 운동의 가속도가 비교적 안전한 수준으로 제한될 수 있음을 이해할 수 있다. 예를 들어, 더 낮은 DOF 로봇, 더 짧은 사지 세그먼트 및 더 적은 질량으로 더 높은 가속 및 감속을 달성할 수 있다. 이는 분배 헤드의 속도가 나지 않는 시간을 단축시킬 수 있고 더 빠른 페인팅을 가능하게 한다.
일부 구현예에서, 궤적 계획의 변경은 운동 경로의 급격한 변화를 감소시킴으로써(예: 이러한 방향의 변화를 필렛) 도움이 될 수 있다. 일부 구현예에서, 속건성 에나멜로 네일을 가장 잘 페인팅하기 위해, 한 국소화된 영역에서 다음 영역으로 진행하는 접근법이 최상의 결과를 제공할 수 있다(네일의 한쪽에서 다른 쪽으로의 빠른 전후 스트로크). 도포 경로를 개발할 때 이들 2개의 요인을 관리하는 것은 일부 구현예에 따라 중요한 고려사항일 수 있다.
탑 코트 도포
일부 구현예에서, 에나멜이 손톱에 페인팅되면, 네일 케어 시스템(100)은 광택 위에 투명한 탑 코트를 도포하여 이를 추가로 보호하고/하거나 건조 시간을 단축시킬 수 있다. 이 과정을 컬러 도포와 약간 다르게 할 수 있는 것은 그 아래의 페인팅된 코트를 방해하는 방식으로 수행할 필요가 있다는 것이다. 탑 코트는 잠재적으로 아래의 에나멜 코트를 신속하게 용해시킬 수 있기 때문에, 이는 단계를 더욱 복잡하게 할 수 있다- 예를 들어, 도구 압력(접촉 노즐을 사용하는 경우), 유량 및/또는 도포 속도를 조심스럽게 제어해야 할 수 있다.
먼저, 일부 구현예에서, 탑 코트의 도포는 표면(예: 테스트를 위한 평평한 유리 표면) 상에 분배 노즐을 호버링하고 투명한 탑 코트를 압출함으로써 비접촉 방법을 사용하여 적용될 수 있다. 아래 제시된 결과는 이 방법을 사용하여 탑 코트 층을 얼마나 균일하게 도포할 수 있는지를 보여준다.
도 149a는 표면(예: 테스트를 위한 평평한 유리 표면) 상에 분배 노즐을 호버링하고 투명한 탑 코트를 압출함으로써 비접촉 방법을 사용한 탑 코트의 도포의 제1 결과의 평면도이다.
도 149b는 분배 노즐을 표면 상에 호버링하고 투명한 탑 코트를 압출함으로써 비접촉 방법을 사용한 탑 코트의 도포의 제2 결과의 평면도이다.
도 149c는 분배 노즐을 표면 상에 호버링하고 투명한 탑 코트를 압출함으로써 비접촉 방법을 사용한 탑 코트의 도포의 제3 결과의 평면도이다.
예를 들어, 신선한 경우, 탑 코트 유체는 매니큐어보다 더 낮은 점도를 가질 수 있지만, 또한 훨씬 빠른 속도로 응고될 수 있다. 따라서, 탑 코트는 처음에는 유동하고, 광택제보다 자체 레벨이 더 양호할 수 있지만, 액체가 건조되기 시작하면 이러한 특성은 훨씬 빠르게 변할 수 있다.
탑 코트 도포는 페인트의 마지막 층일 수 있기 때문에, 일부 구현예에 따른 네일 케어 시스템(100)은 다음 층에 어떻게 영향을 미칠 것인지를 고려하지 않고 보다 관대한 양을 네일에 도포할 수 있다. 게다가, 탑 코트는 훨씬 빠른 속도로 건조될 수 있기 때문에, 여분의 탑 코트 재료는 착색된 에나멜의 등가물을 첨가하는 것만큼 건조 시간에 큰 영향을 미치지 않을 수 있다.
이러한 두 가지 요인을 염두에 두고, 일부 구현예에 따른 네일 케어 시스템(100)은 착색된 에나멜 층의 두께 및/또는 균일성을 제어할 수 있고, 이는 탑 코트보다 전체 처리 시간에 훨씬 더 중요한 영향을 미칠 수 있다. 일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 투명한 코트보다 정확하고 제어된 광택 층의 분배 공정을 이용할 수 있다.
예를 들어, 경화된 에나멜로 페인팅된 정사각형 위에 탑 코트를 호버링함으로써 비접촉 노즐을 사용하여 다음과 같은 결과를 산출하였다.
도 150a는 베어 에나멜을 사용하여 경화된 에나멜 페인팅된 정사각형에 탑 코트를 호버링하여 비접촉 노즐을 사용한 결과의 투시도이다.
도 150b는 탑 코트와 함께 에나멜을 사용하여 경화된 에나멜 페인팅된 정사각형에 탑 코트를 호버링하여 비접촉 노즐을 사용한 결과의 투시도이다.
알 수 있는 바와 같이, 에나멜은 매트한 마무리가 더 많으며, 탑 코트는 최종 출력에 더 부드러운 외관을 추가한다. 추가 관찰은 베이스 에나멜 층이 안료 영역을 완전히 덮는 한, 에나멜의 대부분의 작은 표면 결함(페인팅 스트로크 등으로부터)은 탑 코트가 도포될 때 사라졌음을 입증했다. 건조되면, 탑 코트 층의 토폴로지는 인식된 도포 품질을 지배한다. 따라서, 완전한 커버리지를 보장하고 자체 레벨을 최대화하기 위해 상부 코트의 더 두꺼운 코팅을 도포하는 것이 일부 구현예에 따라 구현될 수 있다.
탑 코트가 평평한 표면 및 곡면 모두에 도포되었을 때 다양한 적용 인자를 테스트하기 위해 다수의 실험이 수행되었다. 다양한 구현예에 따른 네일 케어 시스템(100)은 다음 중 하나 이상(예: 모두)을 구현할 수 있다:
에나멜의 베이스 층은 탑 코트가 일관되게 도포될 수 있기 전에 경도의 최소 임계값을 충족해야 한다. 에나멜 층이 충분히 경화되지 않으면, 층의 혼합이 발생할 수 있다.
투명한 탑 코트 액체의 너무 많은 교반은 피하고, 이는 포획된 공기를 초래할 수 있다.
탑 코트의 궤적은 탑 코트의 건조가 훨씬 빠르기 때문에 신속하게 수행되고/되거나 최소한으로 유지되어야 한다.
비접촉 도포는 광택 층의 파괴 가능성을 줄이고 접촉이 필요 없기 때문에 코코트 사이에 필요한 건조 시간을 단축한다.
탑 코트의 저점도 매개변수를 최대한 활용하기 위해, 신속한 도포가 최선일 수 있다.
탑 코트 층은 아래 착색된 광택 층을 연화시킬 수 있고, 따라서 페인팅은 아래 연화된 에나멜 층의 이러한 파괴를 최소화하는 방식으로 수행될 수 있다.
탑 코트는 투명하기 때문에, 탑 코트 도포의 정밀도는 에나멜 단계보다 더 관대할 수 있다.
다양한 구현예에서, 이러한 학습은 보다 높은 표면 속도 및 유량, 더 적은 경로 궤적를 강조하고 에나멜 페인팅 공정보다 더 넓은 노즐을 이용하는 탑 코트 페인팅 전략을 형상화하는데 도움이 될 수 있다. 이러한 조합된 특성은 탑 코트 의 도포를 훨씬 빠르게 할 수 있다.
캔틸레버 팔로워 시스템
일부 구현예에서, 노즐을 표면 위로 호버링하고 에나멜을 분배하면 매우 반복 가능한 마무리를 초래할 수 있다. 일부 구현예에서, 이를 수행하기 위해, 손톱의 기하학은 충분히 특성화되어야 한다. 테스트는 일관된 방식으로 페인트를 증착하기 위해 페인팅 장비의 노즐은 표면에서 0.5mm 이내에 배치되어야 할 수 있음을 입증했다. 그러나, 이것은 절대 최소값일 수 있으며, 노즐 크기, 유량 및 표면 속도의 변화를 감안하여 변동될 수 있다. 노즐의 팁이 표면에 가까울수록 에나멜 층이 얇아질 수 있으므로, 에나멜이 건조될 때까지 기다리는 시간이 줄어들 수 있다. 결과적으로, 도구는 사용 중에 이 0.5mm(0.01969in)의 임계값 내에 잘 유지될 수 있다.
일부 구현예에서, 필요한 정밀도를 감소시키기 위한 노력으로, 표면과 도구 팁 사이의 어느 정도의 순응성을 가능하게 할 수 있는 또 다른 방법이 사용될 수 있다. 이러한 시스템은 노즐이 네일의 표면에 대해 자유롭게 위아래로 번역될 수 있다는 점에서 "팔로워 도구"라고 지칭될 수 있다. 일부 구현예에 따른 팔로워 프로토타입 중 몇몇이 이하 도 151에 예시되어 있다.
도 151a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 엘라스토머 튜브의 비교적 긴 도관을 갖는 팔로워의 프로토타입의 투시도이다.
도 151b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 교체 가능한 노즐을 갖는 캔틸레버 팔로워의 프로토타입의 측면도이다.
도 151c는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 (컬러 코트 및 탑 코트를 분배하기 위한) 시차 노즐을 갖는 엘라스토머 캔틸레버 팔로워의 프로토타입의 측면도이다.
도 151d는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 루트 섹션(순응성을 위해)에 비교적 짧은 엘라스토머 섹션을 갖는 강성 캔틸레버 팔로워의 프로토타입의 측면도이다.
일부 구현예에서, 이들 팔로워 시스템은 네일 케어 시스템(100)이 훨씬 덜 정의되었된 곡면을 페인팅할 수 있게 한다. 예를 들어, 네일의 곡률을 추정하고 네일베드의 2D 경로를 매핑함으로써, 고도의 충실도가 달성될 수 있다. 팔로워 시스템의 설계는 이전에 실험된 몇 가지 접촉형 노즐 설계와 다소 유사하지만, 이 설계는 이전의 프로토타입으로부터의 학습을 통합하여 보다 견고한 시스템을 생성할 수 있다. 일부 구현예에 따른 팔로워 프로토타입은 암의 루트가 짧은 엘라스토머 부재로 구성된 캔틸레버 분배 도관의 사용에 초점을 맞추었다. 노즐의 힘에 반응하여, 팁은 쉽게 위로 밀릴 수 있어 - 시스템이 노즐 팁과 네일 표면 사이의 상대적 위치의 큰 변동을 흡수할 수 있도록 한다.
도 152는 도포 표면에 대해 팔로워 시스템 주체의 굴곡에 특히 중점을 둔 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 팔로워 시스템 주체의 프로토타입의 측면도이다.
다양한 구현예에 따라 다양한 접근이 가능하다. 일부 구현예에서, 팔로워 시스템의 주요 목표는 다운포스 및 유체 저항을 최소화하고, 유체 전달을 위한 견고한 방법을 생성하고/하거나 컴팩트 패키지에서 그렇게 하는 동안 시스템을 쉽게 모두 서비스할 수 있게 하는 것이다. 일부 구현예에 따른 이들 예시적인 목표는 하기 표에 추가로 요약된다.
| 설계 목적 | 이유 | 솔루션 |
| 다운포스 최소화 | 네일에 다운포스의 양을 제한하는 것이- 특히 부분적으로 경화된 광택 층 위에 탑 코트를 적용 할 때, 중요할 수 있다. 다운포스가 너무 높으면, 팁이 에나멜 층을 파고 들어 문제를 일으킬 수 있다. | 노즐 팁에서 힘을 줄이기 위해 긴 레버 암이 활용될 수 있다. |
| 유체 전달 저항 최소화 | 압력이 증가함에 따라 시스템 내에 공기가 존재하는 경우 제어의 손실도 증가하기 때문에 전달 저항의 감소는 매우 중요할 수 있다. 또한, 작동 압력이 높을수록 시스템이 누출될 가능성이 커진다. | 유체는 넓은 직경 매니폴드를 통해 통과할 수 있으며, 대형 게이지 튜브는 전달 부재용으로 사용될 수 있다. |
| 콤팩트 크기 | 시스템의 크기가 매우 작은 것은 중요하지 않을 수 있지만, 위치 정확도와 유량 제어를 위해 질량과 도관의 길이를 낮게 유지하는 것이 중요할 수 있다. 더 작은 패키지는 또한 소형화에 대한 현실적인 경로를 보여주는 데 도움이 될 수 있다. | 레버 암 거리에 제한이 있을 수 있고, 도관 경로는 상당히 직선적으로 유지될 수 있다. 펌핑 시스템은 최소한의 부품과 복잡성으로 설계될 수 있다. |
| 견고한 유체 전달 | 막힘을 최소한으로 유지하면서 일관된 유체 전달을 제공하는 시스템을 생성하는 것이 중요할 수 있다. | 노즐 캡은 저장용으로 개발될 수 있으며, 편향되는 동안 결합을 방지하기 위해 노즐 팁 부근에서 마찰이 감소될 수 있다. |
| 용이한 서비스 및 세정 | 막힘이 발생하면, 시스템의 서비스 및 세정을 용이하게 하는 것이 중요할 수 있다. 게다가, 에나멜 저장소를 교환할 수 있게 하는 것은 또 다른 매력적인 특성일 수 있다. | 에나멜 저장소는 루어 록 유형의 연결을 사용할 수 있으며, 더 큰 게이지 전달 도관이 막히면 세정및 플러슁이 더 쉬울 수 있다. |
일부 구현예에 따른 팔로워 시스템의 최종 변형은 이하 도 153에 도시되어 있다. 그것은 부착된 리드-스크류 구동 펌프 시스템이 구비된 에나멜과 탑 코트 저장소를 모두 보여준다. 유체 경로는 두 개의 에나멜 색상을 동일한 플랫폼 역학으로 페인팅되도록 엇갈리게 배치된다. 두 도관 경로의 레버 암은 검은 케이스 내에서 우발적인 접촉으로부터 보호되는 반면, 조정 가능한 노즐 가이드(흰색)는 노즐을 제한하고 의도하지 않은 회전을 방지한다.
도 153은 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 팔로워 시스템의 프로토타입의 측면도이고, 상기 팔로워 시스템은 부착된 리드 스크류 구동 펌프 시스템이 구비된 에나멜 및 탑 코트 저장소를 포함한다.
위의 구현예에서 묘사된 팔로워 시스템은 이 단계에 대한 후자의 일련의 테스트에서 다수의 복잡한 곡선형 네일 표면을 페인팅하기 위해 사용되었던 것이다. 유체 제어는 매우 반응적이었고, 설계는 노즐 다운포스와 신뢰성 사이에 양호한 절충안을 제공했다(다운포스가 너무 적으면 노즐은 상향 위치에서 결합하는 경향이 있다). 노즐 근처에 배치된 조정 가능한 위치 플레이트는 노즐을 제자리에 유지하고 미세한 조정이 가능하도록 했다. 마지막으로, 도관의 굽힘은 에나멜을 로케이터 슬롯에서 멀리하고, 시스템을 굳히기에 충분한 길이였다.
전반적으로, 이 팔로워 설계는 네일과 접촉하는 시스템이 견고하고 반복 가능한 분배를 제공할 수 있음을 보여주었다 - 이것은 여러 면에서 훨씬 관대한 패키지로 필적할 만한 결과를 생성할 수 있다.
네일 페인팅 출력
테스트가 매끄러운 표면과 곡면 모두에서 에나멜 도포에 고도의 신뢰성을 입증하면, 일부 구현예에 따라 인간의 손톱을 가장 잘 페인팅하기 위해 시험 플랫폼을 변경하였다. 이 섹션에서는 시스템 설정, 경로 생성 방법론을 문서화하고 도포 출력의 일부 이미지를 공유한다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 사용자가 자신의 손가락을 배치하는 평평한 표면을 포함할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 (예를 들어, 손가락을 반복 가능하게 위치시키기 위해) 손가락을 안정화시키고 배향하는 것을 돕는 기계적 고정구 또는 디바이스를 포함할 수 있다. 예를 들어, 일부 구현예에서, 트레이는 손가락의 좌우 및 전후(X 및 Y) 위치 지정에 일부 제약을 제공한다. 작업 영역을 가능한 한 제한되지 않도록 유지하기 위해 트레이의 설계를 최소화할 수 있다. 일부 구현예에 따른 이 트레이 및 로봇적으로 페인팅된 손가락의 이미지가 아래에 도시되어 있다.
도 154는 손/발 받침 시스템(1200)을 위해 사용자의 손가락을 안정화하고 배향하기 위한 기계적 고정구의 프로토타입의 투시도이다.
도 155는 손/발 받침 시스템(1200)을 위해 사용자의 손가락을 안정화하고 배향하기 위한 기계적 고정구의 프로토타입에 보유된 사용자의 손가락의 투시도이다.
손가락을 페인팅하기 위해, 일부 구현예에 따르면, 네일 케어 시스템(100)은 손톱이 매우 정확한 방식으로 반복적으로 배치될 필요가 있을 수 있는 로봇에 프로그램된 일련의 궤적 운동을 가질 수 있다. 트레이가 없으면, 일부 구현예에서 손가락의 반복 가능한 위치 지정이 불가능할 수 있다. 또한, 정확한 XY 배향으로 배치되지만, 손가락의 압력 및/또는 축 방향 회전의 변화는 네일 케어 시스템(100)에 의해 모니터링될 수 있다.
운동 궤적을 개발하기 위해, 일부 구현예에 따른 네일 케어 시스템(100)은 먼저 원래 경로 플롯팅이 개발된 손톱의 하향식 2D 이미지로 시작할 수 있다. 경로가 만들어지면, 실제 손톱에 움직임을 더 잘 맞추기 위해 코드에 약간의 조정이 추가되는 손가락에 반복적으로 실행될 수 있다. 네일이 크래들에 어떻게 위치하는지, 곡률, 팔로어 서스펜션 이동 및 기타 효과는 네일 표면에 대한 더 자세한 지식 없이 설명할 수 없고, 따라서 이 반복 공정은 일부 구현예에서 최선의 가능한 페인팅 경로를 생성하는 데 필요할 수 있다. 경로 플롯팅 전략을 갖는 2개의 인간 네일의 이미지가 이하 도 156에 도시되어 있다.
도 156a는 경로 플롯팅 전략과 중첩된 사용자의 손가락의 평면도이다.
도 156b는 경로 플롯팅 전략과 중첩된 또 다른 사용자의 손가락의 평면도이다.
경로가 적절하게 구성되면, 네일은 에나멜 및/또는 투명한 탑 코트로 페인팅될 수 있다. 이 공정의 이미지는 도 157에 도시되어 있다.
도 157a는 경로 플롯팅 전략에 기초하여 에나멜로 네일을 페인팅하는 제1 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 157b는 경로 플롯팅 전략에 기초하여 네일을 에나멜로 페인팅하는 제2 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 157c는 경로 플롯팅 전략에 기초하여 네일을 에나멜로 페인팅하는 제3 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 이를 채우기 전에 영역의 윤곽선을 페인팅할 수 있다. 이러한 방식으로, 먼저 매끄러운 에지가 확립된 다음 채워질 수 있다. 에나멜이 가능한 한 액체인 구역에서 경로 궤적을 유지하기 위해 충전은 점진적인 방식으로 수행될 수 있고, 이 경우에, 충전은 상기 표시된 네일의 위에서 아래로 수행될 수 있다.
도 157d는 경로 플롯팅 전략을 기반으로 탑 코트로 네일을 페인팅하는 제1 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 157e는 경로 플롯팅 전략을 기반으로 탑 코트로 네일을 페인팅하는 제2 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
도 157f는 경로 플롯팅 전략을 기반으로 탑 코트로 네일을 페인팅하는 제3 단계 동안 사용자의 손가락의 투시도이다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 탑 코트 도포와 동일한 도포 공정을 따를 수 있다. 일부 구현예에서, 투명한 코트는 더 빠른 속도로 건조될 수 있기 때문에, 속도가 우선시될 수 있고, 이 공정은 더 넓은 노즐, 더 빠른 유속 및/또는 더 낮은 충전 피치를 사용할 수 있다.
네일을 반복적으로 페인팅하는 것은 일정한 에나멜 제거를 필요로 했고, 순식간에, 얇은 에나멜이 제거하기가 어려웠던 네일 주위 영역으로 스며들었다. 다음은 기계 페인팅된 네일의 이미지이다. 네일의 오른쪽에 있는 손가락의 페인트는 이전 제거 시도에서 남아 있다.
도 158은 경로 플롯팅 전략에 기초하여 탑 코트로 네일을 페인팅하는 제3 단계 후 사용자의 손가락의 평면도이다.
네일과 주변 영역을 세정하는 것은 일부 실험에서는 문제가 될 수 있기 때문에 다른 실험에서는 복제 손가락이 교체 가능한 네일과 함께 사용되었다. 복제 손가락은 쉽게 세정되었고, 네일은 교체할 수 있어서 - 반복 시간을 단축시키고 더 나은 이미지를 생성할 수 있었다. 또한, 가짜 손가락으로, 네일은 지그 내에서 더 정확성으로 배치될 수 있다.
도 159는 네일을 페인팅한 후 인공 손가락과 네일(손/발 받침 시스템(1200)의 프로토타입 지그에 부착된 사용자의 손가락을 안정시키고 배향하기 위한 기계적 고정구의 프로토타입에 배치됨)의 투시도이다.
일부 구현예에 따른 에나멜 도포 후의 복제 손가락의 일부 이미지가 하기에 도시되어 있다.
도 160a는 네일을 페인팅한 후의 인공 손가락 및 네일의 투시도이다.
도 160b는 네일을 페인팅한 후의 인공 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 160c는 네일을 페인팅한 후의 인공 손가락 및 네일의 평면도이다.
도 160d는 네일을 페인팅한 후의 인공 손가락 및 네일의 측면도이다.
또한, 샘플 네일을 페인팅하기 위해 네일 지그를 만들어 공정을 쉽게 관찰 할 수 있도록 했다.
도 161a는 네일을 페인팅하는 것을 테스트하기 위한 네일 지그의 투시도이다.
도 161b는 네일을 페인팅하는 제1 단계 동안 네일 지그의 투시도이다.
도 161c는 네일을 페인팅하는 제2 단계 동안 네일 지그의 투시도이다.
도 161d는 네일을 페인팅하는 제3 단계 후 네일 지그의 투시도이다.
샘플은 청록색(Essie의 Poolside Service)과 더 얇은 창백한 시어 에나멜(Essie의 Ballet Slippers) 모두로 만들어졌다.
도 162a는 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제1 인공 네일의 평면도이다.
도 162b는 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제2 인공 네일의 평면도이다.
도 162c는 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제3 인공 네일의 평면도이다.
도 162d는 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제4 인공 네일의 평면도이다.
도 162e는 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제5 인공 네일의 평면도이다.
도 162f는 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제6 인공 네일의 평면도이다.
도 162g는 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제7 인공 네일의 평면도이다.
도 162h는 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제8 인공 네일의 평면도이다.
도 162i는 네일 지그를 사용하여 페인팅된 제9 인공 네일의 평면도이다.
일부 구현예에 따른 네일 페인팅 테스트 결과에 기초하여, 팔로워 시스템을 사용하여 네일에 에나멜을 자동으로 도포하면 고품질 및 일관된 결과를 산출한다.
카트리지 설계
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 데스크탑 네일 페인팅 디바이스일 수 있고 일회용 카트리지를 통합할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 다양한 접근법에 따라 일회용 카트리지를 통합할 수 있다. 예를 들어, 두 가지 주요 시나리오가 고려될 수 있으며, 각각의 예시적인 장점과 단점이 고려될 수 있다. 시나리오의 제1 세트에서, 네일 케어 시스템(100)은 모든 공정 일회용품을 하나의 카트리지에 포함하는 완전히 통합된 카트리지를 포함할 수 있다. 시나리오의 제2 세트에서, 네일 케어 시스템(100)은 자체 속도로 교환될 수 있는 각 공정(성형, 제거 및 도포)과 구별되는 역학을 포함하는 시스템(또는 서브시스템) 특정 카트리지를 포함할 수 있다.
일부 구현예에서, 모든 공정 일회용품을 함유하는 개별 패키지(완전히 통합된 카트리지)가 제공될 수 있다. 일부 구현예에서, 보다 높은 카트리지 모듈성으로 실현될 수 있는 이점이 있다.
통합 카트리지 개념
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 카트리지는 3개의 기능(성형, 제거 및 도포)을 위한 모든 일회용품을 함께 통합할 수 있다. 동일한 작동 역학을 사용하기 위해, 적합한 도구를 선택할 수 있도록 선택 장치가 시스템에 포함될 수 있다. 하기 구현예에서, 도구는 회전 터렛 시스템을 통해 반복된다.
도 163은 멀티-툴 시스템(1900)에 통합되고 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 말단에 의해 유지되는 소모성 카트리지/포드 시스템(1600)의 3개의 카트리지의 투시 분해도이다.
카트리지는 기계의 중앙 포스트에 로딩될 수 있고, 내부 링 기어 또는 다른 구동 메커니즘을 통해 그 축을 중심으로 회전될 수 있다. 포스트 내의 역학은 활성 스팟에 배치되면 일회용품의 세 시스템 각각을 작동시킬 수 있고- 따라서 모든 기능간에 드라이브 시스템을 공유하고 비용을 낮게 유지할 수 있다. 예시적인 장점 및 단점은 다음을 포함할 수 있다:
| 장점 | 단점 |
| 고객은 한 번에 하나의 카트리지만 로딩하면 된다. 재로딩 시스템의 복잡성은 매우 간단할 수 있다. |
도구를 선택하려면 추가 제어 축이 필요하다. 카트리지는 더 큰 물리적 크기를 수용하기 위해 더 많은 구조를 필요로할 수 있다. 더 많은 건설 및 운송 비용을 초래할 수 있다. 더 큰 벌크는 작동 시스템에서 더 많은 전력과 강성이 필요할 수 있다. 또한 기계 내부의 작업 엔벨로프 내에 더 많은 공간이 필요할 수 있다. 감소된 모듈성 때문에, 인기가 없는 색상을 함유한 패키지는 오랫 기간 동안 보관 상태로 유지될 수 있다. 이는 더 많은 자본이 재고에 묶일 수 있다. 올인원 카트리지는 소모품의 각 부분의 속도가 균형을 이루지 못할 수 있으므로 기계의 범용성을 제한할 수 있다. 카트리지의 미사용 부분은 폐기될 수 있으며, 고객 경험을 감소시킬 수 있다.. 카트리지는 벌키해서, 소비자를 설득하지 못할 수 있다. |
통합 모듈식 카트리지
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 카트리지는 이전 개념을 보다 모듈화된 시스템으로 분할할 수 있다. 이는 사용자는 전체 터렛(예: 제거, 성형 및 도구)을 한 번에 교체할 수 있도록 하거나, 그들이 선택하는 경우, 필요한 경우 개별 카트리지를 또한 교체할 수 있다. 이것의 장점은 고객이 자신의 경험을 더 잘 제어할 수 있도록 한다는 것이다. 완전한 카트리지 터렛은 더 높은 비용으로 판매될 수 있지만, 개별 구성 요소는 또한 더 낮은 비용으로 구입될 수 있다.
도 164는 소모성 카트리지/포드 시스템(1600)의 3개의 카트리지의 투시 분해도이다.
예시적인 장점 및 단점은 다음을 포함할 수 있다:
| 장점 | 단점 |
| 단순화된 터렛 카트리지는 하나의 완전한 매니큐어에 대한 모든 요구 사항을 포함할 수 있다. 가능한 특성과 업그레이드를 공장에서 터렛 카트리지에 통합하는 것은 모듈성으로 인해 용이할 수 있다. 터렛은 공장에서 신속하게 조립될 수 있기 때문에 모듈성은 대규모 재고의 필요성을 감소시킬 수 있다. 색상을 쉽게 교체하는 능력은 재고를 보다 다재다능하게 만들고 사용되지 않는 스톡에 묶이는 비용을 감소시킬 수 있다. 모듈식 카트리지 시스템은 사용자가 기계 사용 방법을 더 잘 제어할 수 있게 할 수 있어 설정된 속도로 기계의 모든 기능을 활용할 필요가 없다. |
터렛의 위치를 선택하려면 추가 제어 축이 필요할 수 있다. 더 큰 벌크는 작동 시스템에서 더 많은 전력과 강성을 필요로 할 수 있다. 또한 기계 내부의 작업 엔벨로프 내에 더 많은 공간이 필요할 수 있다. 카트리지는 더 복잡해질 수 있다. |
개별 카트리지 설계
일부 구현예에 따른 개별 카트리지 시스템은 사용자 경험에 좀 더 복잡성을 적용할 수 있지만, 그렇게 함으로써, 개인이 기계의 사용을 훨씬 더 잘 제어할 수 있게 한다. 카트리지는 다양한 속도로 소모될 수 있으므로, 모듈성은 장치 내의 개별 기능의 활용에서 더 많은 제어를 허용할 수 있다.
또한, 더 많은 재료를 카트리지에 넣을 수 있으면, 폐기물을 감소시킬 수 있을 뿐만 아니라 운송, 보관 및 추가 카트리지 비용을 크게 줄일 수 있다. 예를 들어, 에나멜 도포 카트리지는 거의 추가 비용 없이 여러 용도에 충분한 재료를 쉽게 적응할 수 있지만, 훨씬 높은 가격으로 판매될 수 있다.
에나멜 제거 카트리지는 사용당 더 많은 용적을 필요로 할 수 있어 이 카트리지의 사용을 연장하면 많은 비용 절감을 초래할 수 없지만, 제거 시스템을 추가로 모듈성으로 분할하면 비슷한 절감 효과를 볼 수 있다.
마지막으로 카트리지를 기계의 여러 기능(예: 3개) 기능 각각을 표적으로 하는 모듈식 단위로 분리함으로써, 기계 설계에서 더 많은 유연성을 허용할 수 있다. 카트리지가 더 작을 수 있기 때문에, 기계가 더 작아지고 덜 견고해질 수 있다. 또한 두 모델을 제공할 가능성을 열 수 있다: 하나는 네일을 페인팅하기만 하고, 다른 하나는 페인팅하고 형상화하고 제거한다. 이 시나리오에서, 네일을 페인팅하기만 하는 더 비용 효율적인 기계는 그렇지 않으면 더 비싼 기계로는 존재할 수 없는 더 큰 시장을 유혹할 수 있다. 모듈식 카트리지 설계는 이러한 시나리오를 가능하게 하는 반면, 올인원 소모품이 재설계되어야 한다.
기계 모델에 관계없이, 카트리지는 사용자가 자신의 경험을 더 잘 조정할 수 있도록 하는 팩의 혼합물로 판매될 수 있다.
에나멜 제거 카트리지
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 에나멜 제거 카트리지를 포함할 수 있다. 예를 들어, 이 제1 에나멜 제거 개념은 에나멜 제거 구성 요소를 저장소와 마이크로섬유 롤과 함께 모두 일회용으로 패키징한다. 카트리지의 이미지는 이하 예시되어 있다:
도 165는 에나멜/광택 제거 시스템(300)용 소모성 카트리지/포드 시스템(1600)의 에나멜 제거 카트리지의 투시 분해도이다.
카트리지를 작동 헤드에 스냅할 수 있고, 램은 저장소 플런저로 구동되어 아세톤을 아래의 마이크로 섬유 천으로 밀어낼 수 있다. 마이크로 섬유 천은 결합 스플라인/소켓에 의해 진행되는 스풀 세트에 패키징될 수 있다. 예시적인 장점과 단점은 다음과 같을 수 있다:
| 장점 | 단점 |
| 카트리지 교체가 간단할 수 있으며, 사용자가 마이크로 섬유 천 테이프를 라우팅하거나 아세톤을 다시 채울 필요가 없을 수 있다. 작동은 기본 기계에 있는 역학으로 수행될 수 있고, 일회용품에 포함되지 않을 수 있다. |
카트리지는 네일 위에 확산되는 서스펜션액을 포함할 수 있다. 카트리지의 큰 벌크는 아세톤용 저장소를 필요로 할 수 있다. |
카트리지의 많은 부분이 아세톤 저장소로부터 취해질 수 있기 때문에, 일부 구현예에 따른 하나의 변형은 일회용으로부터 이를 제거하고 영구 저장소를 유닛 상에 배치하는 것이다. 아세톤은 쉽게 찾을 수 있으며, 공급망에서 제거함으로써 위험한 화학물질 보관 및 운송 물류의 위험을 줄일 수 있다. 아세톤 저장 및 서스펜션 역학 모두의 생성되는 특성은 기계에 영구적으로 남아 있으며 마이크로 섬유 천 스풀만 카트리지 내에 함유될 수 있다. 이러한 아이디어의 이러한 구현예는 이하 예시되어 있다:
도 166은 에나멜/광택 제거 시스템(300)용 소모성 카트리지/포드 시스템(1600)의 에나멜 제거 카트리지를 위한 스프링 로딩된 스캐폴딩의 투시 분해도이다.
스프링 로딩 스캐폴딩은 아래로 눌러 마이크로섬유 테이프가 제거 헤드의 서스펜션 역학 위로 연신되도록 할 수 있다. 더 멀리 떨어진 위치에 배치된 간단한 펌프는 아세톤을 제거 헤드에 분배할 수 있다. 저장소를 기계 내의 다른 위치로 이동함으로써, 액추에이터 헤드는 대량의 액체 주위를 이동할 필요가 없어 전자 구동 시스템의 크기, 전력 및 비용을 줄일 수 있다. 생성되는 카트리지는 훨씬 더 컴팩트해지고, 여러 용도가 이 시스템으로부터 수득될 수 있었다. 예시적인 장점과 단점은 다음과 같을 수 있다:
| 장점 | 단점 |
| 카트리지는 매우 컴팩트할 수 있고, 이는 시스템에서 더 많은 용도를 초래할 수 있다. 운송 비용이 감소되고 위험한 물질 처리가 제거될 수 있다. 매니큐어 리무버는 쉽게 찾을 수 있으며, 광택 제거 비용으로 이미 예상된다. 작동 헤드로부터 유체 저장소를 제거하면 보다 컴팩트한 운동 엔벨로프를 가능하게 할 수 있다. 소모성 역학은 단순화되어 카트리지 비용을 낮출 수 있다. |
사용자는 기계의 저장소를 아세톤으로 채워야 할 수 있다. 시스템은 개인이 카트리지와 매니큐어 리무버를 모두 구입하는 것을 필요로 할 수 있다. 매니큐어 리무버는 고객이 취급할 수 있다. 잠재적인 오용 및 취급이 발생할 수 있다. 저품질 또는 호환되지 않는 유체의 도입은 결과를 방해될 수 있다. |
에나멜 도포 카트리지
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 에나멜 도포 카트리지를 포함할 수 있다. 예를 들어, 도포 기술의 유형(접촉 노즐 또는 비접촉 노즐)에 따라 에나멜 도포 카트리지가 다를 수 있다.
카트리지의 설계에 더하여, 노즐 팁을 밀봉하는 방법이 다양한 구현예에 따라 제시된다. 예를 들어, 이러한 카트리지가 여러 용도로 활용되도록 설계되었거나 사용 사이에 몇 분 이상 유휴 상태가 놓이도록 설계된 경우, 노즐 팁은 밀봉될 수 있고, 카트리지 또는 카트리지 홀더 기능의 중요한 구성 요소일 수 있다.
비접촉 애플리케이터 개념
이러한 어플리케이터 시스템은 가장 간단할 수 있고, 본질적으로 말단에 테이퍼 노즐을 구비한 제거 가능한 주사기일 수 있다. 일회용 패키지는 코크 튜브 또는 2-부분 에폭시 분배기와 거의 동일하거나 유사할 수 있으며, 여기서 카트리지는 이미 설치된 플런저와 함께 제공된다. 이 플런저는 튜브가 진행됨에 따라 튜브의 내벽에 대해 슬라이딩 밀봉을 형성할 수 있다.
도 167은 에나멜/광택 제거 시스템(300)용 소모성 카트리지/포드 시스템(1600)의 에나멜 제거 카트리지를 위한 에나멜 저장소의 부분 절개 측면도이다.
도 168은 에나멜/광택 제거 시스템(300)용 소모성 카트리지/포드 시스템 (1600)의 에나멜 제거 카트리지를 위한 에나멜 저장소와 맞물리는 램의 부분 절개 분해 측면도이다.
에나멜을 밀어내기 위해, 네일 케어 시스템(100)은 램을 통해 플런저에 힘을 인가할 수 있다. 노즐과 저장소는 동일한 장치에 통합되어 있기 때문에, 색상이나 에나멜 유형을 전환할 때 세정은 필요하지 않을 수 있다. 선택 가능한 색상 또는 에나멜 카트리지가 매거진에 로딩될 수 있는 개념은 이하에 예시된다:
도 169는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 소모성 카트리지/포드 시스템(1600)의 모터 및 기어에 의해 구동되는 복수의 카트리지를 유지하기 위한 컬러 매거진의 투시도이다.
이 시나리오에서, 색상을 선택하기 위해, 네일 케어 시스템(100)의 램은 후퇴하고, 목적하는 카트리지가 있는 위치로 회전한 다음, 플런저에 대해 다시 아래로 연장하여 노즐로부터의 유동을 시작할 수 있다.
접촉/팔로워 카트리지 개념
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 에나멜 도포는 개념적 팔로워 카트리지를 포함할 수 있다. 유체가 그의 루트에 작은 가요성 부재를 갖는 더 얇은 도관 부재를 통해 운반될 수 있다는 점을 제외하고, 상기 기재된 에나멜 카트리지와 유사한 설계를 사용할 수 있다. 이 가요성 섹션은 튜브가 이 연결을 중심으로 회전할 수 있도록 한다.
도 170은 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 소모성 카트리지/포드 시스템(1600)의 램, 가요성 부재, 튜브 및 노즐과 맞물리는 저장소의 투시도이다.
도관의 말단에 굽힘이 있으며, 이는 흐름을 하향으로 지시하고 노즐 밖으로 지시할 수 있다. 가요성 부재의 크기 및 경도계는 단독으로 정치시키면, 노즐이 중립 위치로 되돌아갈 수 있지만, 눌려지면 저장소를 향해 상향으로 번역되도록 할 수 있도록 하는 것일 수 있다. 내부 슬롯은 평면을 따라 이 움직임을 제한할 수 있다.
도 171은 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 소모성 카트리지/포드 시스템(1600)의 기어 램, 가요성 부재, 튜브 및 노즐과 맞물리는 저장소용 기어 램의 투시도이다.
카트리지가 기계에 삽입될 때, 네일 케어 시스템(100)의 철회 가능한 램은 공장에서 설치될 수 있는 플런저 뒤로 구동될 수 있다. 램이 앞으로 진행되면, 유체가 팁에서 밀려날 수 있다. 카트리지가 저장소, 서스펜션 시스템 및 노즐을 동일한 장치에 통합할 수 있으므로, 색상 사이에 변경할 때 세정 또는 시스템 플러싱이 필요하지 않을 수 있고, 폐기할 수 있을 만큼 간단할 수 있다.
서스펜션 튜닝은 공장에서 설정될 수 있으며, 전달 시스템이 카트리지 인클로저 내에 가려질 수 있기 때문에, 우발적인 손상으로부터 보호될 수 있다.
도 172는 에나멜/광택 도포 시스템(600)용 소모성 카트리지/포드 시스템(1600)을 위한 한 쌍의 카트리지를 유지하기 위한 어플리케이터 트레이의 투시도이다.
매니큐어 공정 동안 상이한 색상 또는 에나멜 유형이 사용될 수 있도록 다수의 카트리지가 일부 구현예에 따라 작동된 어플리케이터 트레이에 로딩될 수 있다.
도포 헤드 밀봉
상기 구현예에서 제시된 두 카트리지의 개념은 노즐, 유체 전달 및 저장소를 하나의 일회용 유닛에 통합한다. 이는 일부 구현예에서 수행될 수 있는데, 그 이유는, 예를 들어, 이들 시스템들 중 일부를 세정하는 것이 너무 힘들거나 달성하고자 하는 청정도를 초래하지 않을 수 있기 때문이다. 예를 들어, 다른 에나멜이 혼합되지 않으면, 공급자가 색상과 유체 특성을 완전히 제어할 수 있도록 한다.
예를 들어, 매니큐어 리무버가 세정하려는 노력으로 노즐을 통해 플러싱되면, 임의의 잔여 희석제가 분배되는 다음 에나멜의 모양과 점도에 영향을 미칠 수 있다. 이 외에도, 시스템을 플러싱하는 것은 완전하지 않으며, 여러 번 잔여 색상이 통과하는 에나멜의 다음 배치로 블리딩되도록 남아 있을 수 있다.
유동 경로 역학을 그들의 개별적 에나멜 유형과 짝을 이루어 유지함으로써, 보다 일관된 도포가 달성될 수 있고/있거나 플러싱 재료 및/또는 플러싱 역학에 대한 필요성이 제거되거나 감소될 수 있다. 일부 구현예에 따라 어떠한 시스템 플러싱도 발생할 수 없기 때문에, 카트리지를 연장된 기간(예: 1회 이상 사용)에 걸쳐 사용하려는 경우, 노즐 밀봉이 더욱 중요해질 수 있다.
노즐 밀봉은 전달 시스템 내의 에나멜이 공기에 노출되어 에나멜을 건조시키고 팁을 막을 수 있는 것을 방지할 수 있다. 일부 구현예에 따른 노즐 밀봉의 세 가지 개념이 아래에 제시된다.
도 173a는 바늘이 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 막힌 노즐과 맞물리기 전의 제1 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
도 173b는 바늘이 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 막힌 노즐과 맞물린 후의 제1 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
일부 구현예에 따른 이 제1 구현은 베이스에 스프링 로딩된 원추형 함몰부를 사용한다. 노즐이 원뿔 안으로 내려감에 따라, 먼저 노즐을 원뿔의 중심에 집중시키고, 추가 압력이 인가되면, 핀을 오리피스로 밀어 올려 추가로 밀봉하고 팁이 막히지 않도록 한다. 제거될 때, 노즐은 외부에서 소량의 세정을 거쳐야 할 수도 있지만, 간단한 닦는 과정으로 충분할 수 있다.
일부 구현예에 따른 제2 구현은 노즐이 얇은 멤브레인 내로 또는 이를 통해 구동되는 격막 피어싱을 제공한다. 아래의 예시에서, 노즐은 제거 유체에 침지되지만, 연질 고무 블록과 같은 것조차도 다른 구현예에서 사용될 수 있다.
도 174a는 막힌 노즐을 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 에나멜 희석제의 저장소에 삽입하기 전의 제2 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
도 174b는 막힌 노즐을 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 에나멜 희석제의 저장소에 삽입한 후의 제2 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
격막의 설계에 따라, 노즐의 삽입 또는 제거는 팁에서 에나멜을 닦아내고, 작업 준비가 된 어플리케이터를 제공할 수 있다.
일부 구현예에 따른 이러한 마지막 구현은 카트리지 자체에 상주할 수 있고 도어형 밀봉 시스템일 수 있다. 카트리지가 사용되지 않을 때는 도어가 갑자기 닫힐 수 있으며 사용 중일 때만 개방될 수 있다. 도어의 작동은 핀 및 기타 디바이스와 같은 간단한 기계적 인터록으로 달성될 수 있다.
도 175a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 노즐에 대해 개방된 위치에 스윙 도어 및 고무 패드를 갖는 제3 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
도 175b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 노즐에 대해 밀폐된 위치에 스윙 도어 및 고무 패드를 갖는 제3 노즐 밀봉/개방 시스템의 측면 단면도이다.
이 구현예에 따라, 노즐 밀봉 및/또는 노즐 외부 주위의 와이핑이 제공될 수 있다.
온보드 카트리지 선택 및 저장
일부 구현예에서, 작동 질량을 가능한 한 많이 감소시키기 위해, 모듈식 카트리지의 개념을 이용하는 구현예는 목적하는 도구로 이동하고 작동을 위해 선택할 수 있는 선택 장치를 포함할 수 있다. 각 도구는 공통 결합 용기를 가질 수 있고, 이는 이미 기계에 내장된 작동을 사용하여 잠재적으로 맞물리거나 분리될 수 있었다. 이것은 움직이는 헤드의 벌크 및 로봇의 필요한 엔벨로프를 줄이는 실용적인 방법일 수 있다.
도 176은 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 도포 헤드, 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 제거 헤드, 및 네일 성형 시스템(400)의 도포 헤드와의 선택적 맞물림을 위한 갠트리 시스템에 장착된 램 및 램 구동 모터의 투시도이다.
이 구현예를 추가로 외삽하면, 일부 구현예에서, 시스템이 일련의 매거진 내의 일회용 스톡을 유지할 수 있는 기계 내에서 여분의 저장을 허용할 수도 있다. 이러한 구현예는 이하에 예시된다.
도 177은 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 복수의 도포 헤드 중 하나, 에나멜/광택 제거 시스템(300)의 복수의 제거 헤드 중 하나 및 네일 성형 시스템(400)의 복수의 성형 헤드 중 하나와의 선택적 맞물림을 위한 갠트리 시스템에 장착된 램 및 램 구동 모터의 투시 분해도이다.
이러한 구현예는 사용자 경험을 단순화할 수 있는데, 이는, 예를 들어, 사용자가 얼마나 많은 카트리지가 남았는지 쉽게 볼 수 있을 뿐만 아니라 소비되지 않은 재료를 저장할 장소를 제공할 수 있기 때문이다. 예시적인 장점과 단점은 다음과 같다:
| 장점 | 단점 |
| 직접 카트리지 교체는 사용자가 수행할 필요가 없을 수 있다. 일회용품은 벌크로 구입하여 기계에 저장될 수 있다. 매거진은 사용자가 보다 능동적인 방식으로 소모품을 추적하도록 할 수 있다. |
매거진 저장은 매거진의 크기를 증가시킬 수 있다. 도구 연결 작업은 소모품에 의한 보다 정밀도를 포함할 수 있다. 저장은 비용과 복잡성을 증가시킬 수 있다. |
결론
따라서, 매니큐어 관리 로봇 플랫폼의 다음 서브시스템 중 하나 이상(예: 모두)을 포함하는 네일 케어 시스템(100) 및 상응하는 방법이 제공됨을 알 수 있다: 비전 시스템, 에나멜 제거, 네일 성형 및 에나멜 도포.
부록 A: 로봇 플랫폼 연구 및 선택
테스트 기능의 제한을 방지하기 위해, 높은 수준 또는 정확도로 많은 자유도를 제공하는 플랫폼을 선택하려고 했다.
6 자유도(6-DOF) 로봇 암은 테스트 중인 어플리케이터가 공간과 방향 모두에 쉽게 배치될 수 있도록 하는 매력적인 플랫폼으로 간주되었다. 로봇 암을 선택하는 작업은 비용, 리드 타임, 정확성, 문서화 및 프로그래밍의 용이성에 의존했다. 이하에 식별된 것들을 포함하는 다른 로봇 암이 다른 구현예에서 사용될 수 있다. 거의 30개의 6-DOF 미니어처 로봇 암의 목록이 식별되었으며, 가능한 후보는 아래 목록으로 좁혀졌다:
추가 조사는 Mecademic의 Meca500 암은 온보드의 역 운동학 솔버를 사용하는 옵션 우수한 문서를 가지고 있으며, 이는 전체가 본원에 참고로 통합되었으며, 대부분의 다른 암보다 저렴했는 것을 나타냈다.
도 178은 도 117의 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 프로토타입에 대한 제어 윈도우의 스크린샷이다.
부록 B: 에나멜 제거 도구 치수
부록 C: 브러시 어플리케이터
브러시의 접촉 패치의 크기는 브러시 방향과 표면 위의 높이에 매우 의존할 수 있으며, 이들 둘 다는 조심스럽게 제어되어야 할 수 있다. 또한, 네일의 곡면은 브러시의 제어를 더욱 복잡하게 할 수 있다.
동적 브러시 형상의 가능성과 실시간 시각적 피드백의 필요성은 브러시 애플리케이터의 주요 관심사였다.
네일 케어 시스템(100)의 다양한 구현예에 따라 사용하기 위한 4개의 상이한 브러시의 테스트가 발생했고, 결과는 하기에 포함된다:
소프트 나일론 브러시
매우 가요성 나일론 브러시가 에나멜을 도포하는데 사용되었다. 이 어플리케이터의 결과는 매니큐어 브러시의 결과와 유사했다.
도 179는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 나일론 브러시 팁의 투시도이다.
도 180a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 나일론 브러시 팁의 근접 투시도이다.
도 180b는 단일 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 나일론 브러시 팁의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 180c는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 나일론 브러시 팁의 근접 투시도이다.
도 180d는 이중 코팅을 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 나일론 브러시 팁의 페인팅 결과의 평면도이다.
짧은 강모 메이크업 브러시
더 짧은 강모가 바람직한 결과를 생성할 수 있는지 확인하기 위해 짧은 강모 브러시가 테스트되었다. 대부분의 매니큐어 브러시는 도포 압력을 줄일 가능성이 있는 긴 강모를 갖지만, 강모를 짧게 함으로써 더 큰 에지 정밀도가 달성될 수 있다.
도 181a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 메이크업 브러시의 투시도이다.
도 181b는 가벼운 압력으로 단일 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 181c는 가벼운 압력으로 단일 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 투시도이다.
도 181d는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 메이크업 브러시의 투시도이다.
도 181e는 가벼운 압력으로 이중 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 181f는 가벼운 압력으로 이중 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 투시도이다.
도 181g는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 메이크업 브러시의 투시도이다.
도 181h는 중압으로 단일 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 181i는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 메이크업 브러시의 투시도이다.
도 181j는 중압으로 이중 코트를 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 평면도이다.
도 181k는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 메이크업 브러시의 투시도이다.
도 181l은 블롯팅 방법으로 에나멜을 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 메이크업 브러시의 페인팅 결과의 평면도이다.
매니큐어 브러시
매니큐어 브러시는 로봇 헤드에 부착되었고, 평평한 표면을 따라 번역되었다.
도 182는 도 117의 이동성 메커니즘 시스템의 프로토타입에 부착된 매니큐어 브러시의 투시도이다.
브러시는 네일 기술자가 손톱에 광택을 도포하는 방법과 유사한 2개의 약간 중첩성 평행 경로에 따라 당겨졌다. 결과는 다음에 제시되어 있고, 많은 장소의 에지는 다소 균일하지만 때때로 편차가 있을 수 있다. 추가로, 광택의 풀은 일부 구현예에서 착륙점 및 후퇴점(스트로크의 시작 및 종료) 근처에서 가시성일 수 있다. 마지막으로, 제어되지 않으면, 도포는 바람직하지 않은 줄무늬를 남길 수 있다.
제2 코팅이 줄무늬를 고정시킬 수 있지만, 일부 구현예에서, 에지 제어의 결여가 남을 수 있다.
도 183a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 매니큐어 브러시의 측면도이다.
도 183b는 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 선형 로봇 운동을 이용하여 비교적 느린 속도로 에나멜을 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 매니큐어 브러시의 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 183c는 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 선형 로봇 운동을 이용하여 비교적 느린 속도로 에나멜을 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 매니큐어 브러시의 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 183d는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 매니큐어 브러시의 측면도이다.
도 183e는 이동성 메커니즘 시스템(1000)의 선형 로봇 운동을 이용하여 비교적 빠른 속도로 에나멜을 도포한 후의 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 매니큐어 브러시의 제3 페인팅 결과의 평면도이다.
저력 확산 어플리케이터
매니큐어 브러시를 분석하여 일반적인 사용 중에 손톱에 인가되는 힘과 결과 압력을 결정했다. 브러시는 전형적인 방식으로 로딩되었고 힘과 관련된 접촉 패치가 측정되었다.
도 184a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 저력 확산 어플리케이터의 상부도이다.
도 184b는 매니큐어를 확산시키는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 저력 확산 애플리케이터의 브러시 강모의 측면도이다.
1그램의 다운포스(Fy)(광택 도포에 전형적인 것처럼 보임)에서, 빈 브러시에 의해 형성된 접촉 패치는 약 6.5mm2를 측정하여 약 0.15g/mm2의 평균 압력을 초래했다. 브러시의 강모는 그들의 긴 길이와 낮은 스프링 상수를 초래하기 때문에, 사용자 또는 네일 케어 시스템(100)이 이러한 다운포스를 제어된 방식으로 조절할 수 있도록 한다. 브러시를 네일로부터 설정된 높이에 브러시를 배치함으로써, 사용자는 네일에 주어진 힘을 확립할 수 있다. 추가로, 브러시를 더 아래로 밀면, 강모는 부채꼴로 퍼지고, 더 큰 접촉 패치를 소비하므로, 광택 도포에 최적인 영역에서 접촉 압력을 제한할 것이다.
사용 중에 매니큐어 브러시에서 발생하는 미세한 힘을 시뮬레이션하기 위해, 이러한 힘의 일부를 복제하기 위해 일련의 어플리케이터가 개발되었다.
자유 슬라이딩 핀 어레이
자유 슬라이딩 핀 개념의 목적은 더 제어 가능한 강성 어레이를 사용하여 브러시의 최소 압력을 복제하는 것이다. 일련의 작은 게이지 튜브는 블록으로 압착시키고, 이는 더 작은 핀을 내부에 배치되도록 하였다. 핀은 튜브 내부로 자유롭게 미끄러져 내려갔다.
도 185a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 측면 투시도이다.
도 185b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 말단 투시도이다.
매니큐어를 슬라이드 상에 분배하고, 자유 슬라이딩 핀 어레이를 사용하여 에나멜을 유리 슬라이드 주위에 확산시켰다. 다양한 운동을 시도하여 아래 이미지를 초래했다.
도 186a는 와류 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186b는 와류 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186c는 비교적 더 단단한 와류 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제3 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186d는 앞뒤 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제4 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186e는 비교적 긴 스위핑 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제5 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186f는 비교적 긴 스위핑 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제6 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186g는 지그재그 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제7 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186h는 지그재그 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제8 페인팅 결과의 평면도이다.
도 186i는 지그재그 운동을 사용하는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 자유 슬라이딩 핀 어레이의 제9 페인팅 결과의 평면도이다.
자유 슬라이딩 핀 어레이는 일부 경우에 명확한 줄무늬를 남겼지만, 상당히 잘 수행되었으며 심지어 일부 인상적으로 균일한 영역을 남겼다.
중력 구동 말단 이펙터
상기 핀 어레이와 유사하게, 이러한 이펙터는 중력을 통해 네일 베드에 대해 유지되었고, 도구 팁은 텔레스코핑 튜브 설계를 이용함으로써 z-방향으로 자유롭게 번역되도록 하였다. 그들의 질량은 힘을 줄이기 위해 최소한으로 유지되었다.
도 187a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 비교적 부드럽고 매끄러운 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터의 투시도이다.
도 187b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 비교적 부드럽고 매끄러운 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187c는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 비교적 부드럽고 매끄러운 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187d는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 텍스처링된 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터의 투시도이다.
도 187e는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 텍스처링된 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187f는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 텍스처링된 고무 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187g는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 마이크로브러시 팁의 투시도이다.
도 187h는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 마이크로브러시 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터의 투시도이다.
도 187i는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 마이크로브러시 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187j는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 마이크로브러시 팁을 갖는 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187k는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 중력 구동 로드의 투시도이다.
도 187l은 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 중력 구동 로드를 사용하는 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187m은 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 중력 구동 웨지의 투시도이다.
도 187n은 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 중력 구동 웨지를 사용하는 페인팅 결과의 평면도이다.
도 187o는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 중력 구동 스퀴지를 구비한 중력 구동 말단 이펙터의 투시도이다.
도 187p는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 중력 구동 스퀴지를 구비한 중력 구동 말단 이펙터를 사용하는 페인팅 결과의 평면도이다.
부록 D: 다양한 구현예에 따른 다른 확산 방법
공기 확산
공기 확산은 집중된 공기의 제트로 에나멜을 주위로 밀어냈다. 공기 확산이 예상보다 더 효과적이었지만, 가속된 건조 속도는 확산을 시간이 지남에 따라 더 어렵게 할 수 있다. 낮은 압력은 더 잘 제어 가능할 수 있지만, 이 방법은 제어되지 않으면, 신뢰할 수 없는 에지 제어를 나타낼 수 있다.
도 188a는 공기 확산 기술을 적용하기 전의 에나멜의 투시도이다.
도 188b는 공기 확산 기술을 적용한 후의 에나멜의 투시도이다.
다양한 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 공기에 의한 에나멜 침착의 형상을 제어할 수 있다(예를 들어, 영역이 접촉될 필요가 있고/있거나 에나멜이 특정 방향으로 유동하는 것을 방지하는 상황에서). 대안적으로 또는 추가로, 네일 케어 시스템(100)은, 예를 들어, 건조 시간을 촉진하기 위해 집중딘 공기 제트를 사용할 수 있으며, 이는 도포에 유익할 수 있다.
절단 및 페이스트
다양한 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 경화된 매니큐어(예: 평평한 시트에서 경화된 매니큐어, 컷아웃, 다음 손톱에 고정됨)를 사용할 수 있다. 컷아웃은 네일의 복잡한 표면 위로 구부러질 수 있다.
네일 케어 시스템(100)은 일부 구현예에서 네일에 도포하기 전에 컷아웃의 베이스를 부드럽게 하기 위해 매니큐어 리무버를 도포할 수 있다. 일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 컷아웃을 아래에 배치하기 전에 매니큐어의 얇은 층을 네일에 도포할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 도포 전에 매니큐어 층을 열로 리플로우할 수 있거나 오븐에 넣을 수 있다.
도 189a는 평평한 표면에 적용된 정사각형 형상의 절단 및 페이스트 에나멜 섹션의 평면도이다.
도 189b는 인공 네일에 적용된 맞춤형 형상 절단 및 페이스트 에나멜 섹션의 평면도이다.
도 189: a) 평평한 표면에 도포된 정사각형 컷아웃- 표면 위 잔물결에 유의한다. b) 아크릴 네일에 도포된 다른 건조 컷아웃. 불균일한 표면 반사와 에지를 따르는 치핑에 유의한다.
스탬핑 및 패드 인쇄
네일 케어 시스템(100)은 일부 구현예에서 스탬핑 또는 패드 인쇄를 사용할 수 있다. 패드 인쇄 기술을 사용하여 잉크 전달이 사용될 수 있다. 이들은 저점도 아크릴 잉크를 사용하여 고해상도 인쇄물을 생성할 수 있지만 더 긴 건조 시간을 가질 수 있다. 매니큐어 및 패드 인쇄 도구를 사용하는 패드 인쇄가 사용될 수 있다.
일부 구현예에 따른 스폰지의 적용은 보다 균일한 착색을 산출할 수 있다. 다수의 코팅이 수행되면, 색상이 더 어두워질 수 있다. 수행된 실험으로부터의 출력은 이하에 제시된다.
도 190a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 네일 아트 패드 프린터의 투시도이다.
도 190b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 네일 아트 패드 프린터를 사용하는 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 190c는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 네일 아트 패드 프린터를 사용하는 제2 페인팅 결과의 평면도이다.
도 190d는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 연속 기포 발포체 패드의 투시도이다.
도 190e는 평면 표면 상의 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 연속 기포 발포체 패드를 사용하는 제1 페인팅 결과의 평면도이다.
도 190f는 인공 네일 상의 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 연속 기포 발포체 패드를 사용하는 제2 페인팅 결과의 투시도이다.
만년필
네일 케어 시스템(100)은 일부 구현예에서 도포를 위한 만년필 팁(또는 유사한)을 사용할 수 있다. 일련의 만년필 팁이 획득되었고, 제어된 방식으로 광택을 적용하기 위한 시도로 매니큐어에 침지시켰다. 금속 펜촉은 단시간 사용으로 작동했지만 막히는 것을 방지하기 위해 주기적인 세정을 필요로 할 수 있다.
도 191a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 제1 만년필 스타일 팁의 투시도이다.
도 191b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 제2 만년필 스타일 팁의 투시도이다.
펠트 팁 어플리케이터
네일 케어 시스템(100)은 일부 구현예에서 펠트 팁 (또는 유사한) 어플리케이터를 사용할 수 있다. 예를 들어, 테스트된 이 방법은 잉크가 칩을 향해 유동하도록 내부에 작은 모세관을 가진 칩을 사용했다. 이들은 점도가 낮은 페인트 마커에서 일반적이다. 두 가지 유형이 사용되었다 - 하나는 네일 아트 어플리케이터 펜으로 광고되었고, 또 다른 하나는 시판되는 페인트 펜이었다.
도 192a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 제1 펠트 팁의 투시도이다.
도 192b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 제2 펠트 팁의 투시도이다.
일부 구현예에 따라 다운포스의 모니터링 및 막힘 방지가 필요할 수 있지만, 둘 다 페인트의 초기 층을 생성하는데 사용되는 경우에 잘 수행되었다.
핀 그리드 어플리케이터
네일 케어 시스템(100)은 일부 구현예에서 핀 그리드 어플리케이터를 사용할 수 있다. 예를 들어, 직경 .020" 홀의 작은 어레이를 .030" 떨어져 배치된 블록 또는 Delrin에 주입했다. 직경 0.02" 핀을 홀에 삽입하여 이하 제시된 바와 같이 3면의 정사각형 형상을 생성했다. 이어서, 핀의 그리드는 광택 웅덩이에 넣은 다음, 유리 슬라이드에 "스탬프"를 찍어 오른쪽에 보이는 "C" 문자를 남겼다.
도 193a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 핀 그리드 어플리케이터의 투시도이다.
도 193b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 핀 그리드 어플리케이터를 사용하는 페인팅 결과의 평면도이다.
이 탐구는 작은 핀 어레이로 얼마나 잘 형상이 생성될 수 있는지를 입증했다.
부록 E: 진동 확산
네일 케어 시스템(100)은 일부 구현예에서 매니큐어 도포를 위해 진동 운동을 사용할 수 있다.
예를 들어, 이 효과를 테스트하기 위해, 에나멜을 압전 부저 다이어프램에 배치하여 고주파 진동이 유체에 영향을 미칠 수 있는 효과를 관찰했다. 에나멜 액적을 횡격막에 놓고 짧은 스피커 변조 기간 전, 도중 및 후에 이미지를 촬영했다.
도 194a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 진동 확산 전의 에나멜의 투시도이다.
도 194b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 진동 확산 동안의 에나멜의 투시도이다.
도 194c는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 진동 확산 후의 에나멜의 투시도이다.
도 194: 비교적 평평한 표면에 도포된 매니큐어 방울. a) 진동 전 매니큐어 액적 b) 진동 중 액적. 중앙에서 후광 형상을 유의한다. c) 진동 종료 직후의 액적. 후광이 어떻게 사라졌는지 주목한다.
도 195a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 진동 확산 전의 가파르게 각진 표면 상의 에나멜의 투시도이다.
도 195b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 진동 확산 동안의 가파르게 각진 표면 상의 에나멜의 투시도이다.
도 195c는 에나멜/광택 도포 시스템(600)을 위한 진동 확산 후의 가파르게 각진 표면 상의 에나멜의 투시도이다.
도 195: 가파르게 각진 표면에 도포된 매니큐어 방울. a) 진동 전 매니큐어 액적 B) 진동 중 액적. 표면 반사는 약간의 표면 변화를 나타냈음에 유의한다. c) 진동 종료 직후의 액적. 표면이 원래 모양으로 되돌아가는 방법에 유의한다.
두 개의 교반 헤드가 개발되어 압출 노즐에 장착되었다. 일부 구현예에 따른 설계는 단순히 에나멜이 분배되는 내부 샤프트 주위를 슬라이딩하는 플로팅 맨드릴 주위에 감긴 코일이다. 장치 내부에는 축 방향으로 자화된 중공 원통형 자석이 있다. 코일을 통해 통과하는 전류의 방향에 따라 맨드릴을 밀어 올리거나 아래로 당긴다. 반복적으로 순환될 때, 진동은 분배된 에나멜 내에 국부적인 진동을 생성한다.
도 196은 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 진동 확산 시스템의 구성 요소의 분해 투시도이다.
진동 팁은 로봇과 정사각형 침착물에 부착되었다. 테스트는 에나멜의 진동/교반이 표면 마무리에 긍정적인 영향을 미쳤음을 보여주었다.
도 197a는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 기본 노즐 팁을 사용하는 페인팅 결과의 투시도이다.
도 197b는 에나멜/광택 도포 시스템(600)의 진동 확산 시스템을 사용하는 페인팅 결과의 투시도이다.
도 197: (a) 기본적인 압출 노즐 시스템을 사용하는 정사각형 에나멜 도포. (b) 동일한 에나멜 도포 루틴이지만, 이번에는 진동 팁이 관여되었다. 경로 인공물의 감소에 유의한다.
추가 구현예
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 전술한 특징 중 일부 또는 전부 및/또는 하나 이상의 추가 특징을 포함할 수 있다.
컴퓨팅 및 아키텍처
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 에나멜 제거, 큐티클 관리, 네일 성형, 에나멜 도포(예: 다수의 에나멜 코트 또는 탑 코트 및 하부 코트 도포) 중 하나 이상(예: 모두)을 제어하거나 영향을 미치는 하나 이상의 프로세서(예: 하나 이상의 로봇의 일부로서)를 포함할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 연결된 디바이스(예: 클라우드 컴퓨터 또는 사용자의 모바일 디바이스)에 의해 수행될 수 있는 하나 이상의 처리 동작(예: 원격 계산)에 의해 제어될 수 있다. 예를 들어, 일부 구현예에서, 손톱 이미지의 처리는 원격 컴퓨터(예: 클라우드 내의 하나 이상의 서버) 상에서 수행될 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 매니큐어에 필요한 하나 이상의 소모품이 전형적인 소비자에 의해 용이하게 획득될 수 있도록 설계될 수 있다. 예를 들어, 네일 케어 시스템(100)은 사용자가 다시 채울 수 있는 매니큐어 리무버 용 저장소를 가질 수 있다. 일부 구현예에서, 제한된 수의 허용 가능한 제품(예: 1개, 2개, 또는 모두 이용 가능)이 있을 수 있다.
일부 구현예에서, 매니큐어에 필요한 모든 소모품은 하나의 패키지(예: 로봇으로 접근 가능한 패키지) 또는 복수의 패키지(예를: 다수의 로봇으로 접근 가능한 패키지), 또는 다수의 패키지 및 사용자 재충전 가능하거나 교체 가능한 저장소 및/또는 구성 요소에 포함될 수 있다.
일부 구현예에서, 장치는 소모품을 자동으로 배출하거나 조합하여 배출하도록 설계될 수 있다. 이는 소모품의 정리 및/또는 폐기를 용이하게 할 수 있고/있거나 보다 쾌적한 사용자 경험을 제공할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 소모품에 관한 정보(예: 색상, 점도, 필요한 코트의 수, 이 특정 소모품의 나이, 이 소모품이 사용된 횟수, 또는 기타 특별 취급 또는 처리 요건)를 일회용 카트리지에 내장된 정보를 사용하여 로봇 플랫폼에 통신할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 하나 이상의 특성에 관한 정보에 기초하여 하나 이상의 도포 매개변수를 변경할 수 있다. 예를 들어, 일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 하나 이상의 프로세서는 하나 이상의 알고리즘을 실행하여 다른 알고리즘이 초기 손톱 경계 식별 출력을 이중 체크해야 할 때를 통지할 수 있다. 일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 하나 이상의 프로세서는 하나 이상의 알고리즘을 실행하여 인간이 손톱 경계 식별 출력을 이중 체크해야 할 때를 통지할 수 있다. 다양한 구현예에서, 하나 이상의 알고리즘은 하나 이상의 기능적 모듈의 거의 임의의 매개변수(예: 제거, 성형, 큐티클 관리, 에나멜의 도포)를 변경할 수 있다. 예를 들어, 제거 도구에 의해 취해지는 속도, 방향, 압력, 및/또는 경로는 일부 구현예에서 사용자의 네일(들)의 다양한 특성, 예를 들어, 길이, 두께, 전체 크기, 제거될 재료의 양 등에 기초하여 변할 수 있다. 적절하게 적용되는 유사한 기술은 다양한 구현예에서 장치의 모든 기능에 적용될 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 사용자의 모바일 또는 다른 디바이스(예: 컴퓨터, 전화, 또는 테블릿, 예를 들어, 그 위에 수행되는 애플리케이션)와 통신하여 사용자가 사용자의 모바일 디바이스를 사용하여 네일 케어 시스템(100)의 출력 또는 하나 이상의 특성을 검증 또는 변경할 수 있도록 할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 원격 컴퓨터(예: 클라우드 서버 컴퓨터)와 통신하여 운영자(예: 직원)가 네일 케어 시스템(100)의 출력 또는 하나 이상의 특성을 원격으로 검증 또는 변경할 수 있도록 할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 사용자가 하나 이상의 손가락 또는 네일을 누락할 때 또는 하나 이상의 사용자의 손가락 또는 네일이 장치의 동작 한계 내에 있지 않을 때(예: 누락되거나, 정상과 상당히 상이한 치수를 갖거나, 충분히 비정상적인 방식으로 배향됨)를 식별하기 위한 알고리즘을 실행할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 특정 사람의 네일 및/또는 손톱의 원형의 식별을 개선하거나 통지하는 데이터를 개발 및 저장할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 에나멜의 제1 도포(또는 네일 케어 시스템(100)의 다른 작동) 이전 및/또는 에나멜의 다른 도포(또는 네일 케어 시스템(100)의 다른 작동(들)) 이전에 여러 번 스캔하고 이미지화할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 누군가가 로봇/자동화 매니큐어의 단계를 건너뛰거나 사용자의 손가락/네일의 일부(예: 하나 또는 모두)에만 단계를 적용하도록 선택하도록 하는 기능성을 구현할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 누군가가 로봇/자동화 매니큐어의 단계를 반복 또는 연장하거나, 단계를 사용자의 손가락/네일의 일부(예: 하나 또는 전부)에만 단계를 반복 또는 연장하도록 선택하도록 하는 기능성을 구현할 수 있다.
일부 구현예에서, 마케팅 또는 콘텐츠는 네일 특징 또는 소모품 선호도(예: 네일 케어 시스템(100)에 입력되거나 네일 케어 시스템(100)에 의해 학습된 특성 및/또는 선호도)에 기초하여 사용자(들)를 표적으로 할 수 있다. 시스템(100)은 사용자 선호 정보를 저장하도록 구성될 수 있다. 사용자 선호도는 사용자가 건너 뛰기로 선택한 하나 이상의 단계, 사용자의 손의 중요한 특성(예: 예를 들어, 누락/추가 숫자), 소모성 패드의 사용자 재고품, 구매 이력, 사용 이력 등을 포함할 수 있다. 익명화된 사용자 데이터와 메타데이터는 통계 분석을 위해 수집 및 집계될 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 2D 패턴(예: 로고 또는 이미지)을 3D 네일 표면에 매핑하는 방법을 수행할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 카트리지/일회용품의 원격(클라우드 기반) 검증을 위해 하나 이상의 원격 컴퓨터와 통신할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100) 및/또는 하나 이상의 원격 및/또는 연결된 컴퓨터는 소비시(예: 물리적 또는 카트리지 기반 및/또는 적용용 데이터 저장을 통해) 소모품 또는 카트리지 (또는 상응하는 고유 식별자)의 무효화를 등록할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 국부적으로(예: 네일 케어 시스템(100) 또는 연결된 디바이스에 의해) 카트리지/일회용품을 검증할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100) 및/또는 하나 이상의 원격 및/또는 연결된 컴퓨터는 (예: 단일 사용자에 의해 및/또는 집계된 사용자에 의해) 사용되거나 선호되는 이전의 컬러/도포 패키지에 관한 데이터를 컴파일링하고 저장할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100) 및/또는 하나 이상의 원격 및/또는 접속된 컴퓨터는 소모품의 구입 및 사용에 관한 데이터를 컴파일링 및 저장할 수 있다.
비전 시스템
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 그의 비전 시스템을 사용할 수 있고 손가락으로부터 손톱을 구별하는 하나 이상의 알고리즘(예: 경계 및 곡률)을 수행할 수 있다(예를 들어, 하나 이상의 빛의 위치 결정에 기초하여 구조화된 광, 빛의 하나 이상의 주파수를 사용하여, 카메라(들)의 작동을 통해 하나 이상의 카메라(들)의 위치 결정에 기초하여 법선 맵을 사용하여, 더 나은 이미지를 달성하기 위해 상이한 광원(위치)를 사용하고/하거나 추정치를 개선하기 위해 상기 방법들 중 둘 이상으로부터 추정치를 결합하거나 우선수위를 정하는 방법을 사용하여).
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 손톱의 이미지/지식에 기초하여 로봇의 작동을 계획하는 알고리즘을 수행하는데 사용될 수 있다(예: 상기 영역에 대한 추정치를 매끄럽게 페인팅 가능한 영역으로 정제하는 방법, 상기 영역에 대한 추정치를 이전 네일 관찰 지식을 사용하여 및/또는 다른 손톱 형상의 지식을 사용하여 성형을 위한 매끄러운 경로에 정제하는 방법).
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 비전 시스템은 구조화된 광을 생성할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 비전 시스템은 구조화된 광을 조정하여 대안적인 데이터를 생성할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 비전 시스템은 복수의 광원을 사용할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 비전 시스템은 상이한 주파수의 빛(예를 들어, 적외선 또는 자외선과 같은 전형적인 인간의 시각 능력을 초과하는 빛을 포함함)을 사용할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 비전 시스템은 하나 이상의 광원을 소정의 또는 랜덤 방식으로 이동시킬 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 비전 시스템은, 예를 들어, 하나 이상의 손가락의 시간 순서 조명을 제공하기 위해 소정의 패턴에 따라 또는 랜덤하게 하나 이상의 상이한 광원을 조명할 수 있다.
일부 구현예에서, 하나 이상의 마스크가 빛의 패턴을 생성하는데 사용될 수 있다.
일부 구현예에서, 하나 이상의 반사기를 사용하여 특정 패턴의 빛을 생성할 수 있다.
다양한 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 비전 시스템은 광을 생성하기 위해 상기 기술 중 하나 이상(예: 모두)을 단독으로 및/또는 조합하여 사용할 수 있다. 예를 들어, 구조화된 광은 일부 구현예에서 다수의 광원을 사용하여 생성될 수 있거나, 전형적인 인간의 시각 범위를 초과하는 주파수를 포함하는 다수의 주파수로 방출될 수 있다. 다른 예로서, 일부 구현예에서, 하나 이상의 광원이 하나 이상의 마스크 및/또는 하나 이상의 반사기와 함께 사용될 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 비전 시스템은 에나멜 제거 완전성을 평가하기 위한 알고리즘을 실행하는데 사용될 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 비전 시스템은 훈련된 알고리즘을 훈련 또는 실행하여 라벨링된 예에 기초하여 손가락으로부터 손톱을 구별할 수 있다. 일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 비전 시스템은 하나 이상의 손가락 또는/또는 네일의 존재, 위치 및/또는 배향을 결정하는데 사용될 수 있다.
일부 구현예에서, 비전 시스템을 사용하여 알고리즘을 실행하여 다른 구성 요소가 하나 이상의 사용자의 손가락 및/또는 사용자의 손의 움직임을 보상하도록 할 수 있다.
일부 구현예에서, 비전 시스템을 사용하여 어느 손이 존재하는지(좌측 또는 우측)를 결정할 수 있다.
일부 구현예에서, 비전 시스템을 사용하여 물체(예: 반지, 네일 아플리케, 장식 물체 및/또는 손가락 살 및 네일 이외의 임의의 다른 재료)의 존재를 결정할 수 있다.
일부 구현예에서, 비전 시스템은 언제 사용자가 장치에 손을 넣었는지를 결정하는데 사용될 수 있다.
일부 구현예에서, 비전 시스템은 손 또는 일부 다른 물체가 장치에 배치되는지 여부를 결정하는데 사용될 수 있다.
일부 구현예에서, 비전 시스템은, 예를 들어, 특정 매니큐어 색상 또는 도포 유형(예: 프랑스 매니큐어, "네이키드" 매니큐어 등)을 제안하기 위해 피부 톤 및/또는 색소 침착을 결정하는데 사용될 수 있다.
일부 구현예에서, 비전 시스템을 사용하여, 예를 들어, 사용자에게 매니큐어 추천(예: 매니큐어 색상, 프랑스 매니큐어, "네이키드" 매니큐어 등)을 수행하기 위해 손가락 형태학(예: 짧은 것, 얇은 것, 긴 것, 주걱 모양 등)을 결정할 수 있다.
네일 성형
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 네일 성형 시스템은 로봇 상의 진동, 왕복 운동 및/또는 회전 성형기(예: 로봇에 의해 변경될 수 있는 일회용품을 구비한 진동, 왕복 운동 및/또는 회전 성형기)를 포함할 수 있다. 일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 네일 성형 시스템은 진동 성형기에 압력을 인가하는 하나 이상의 순응성 구성 요소(예: 스프링, 발포체, 엘라스토머)를 포함할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 성형 도구 모터에 의해 인출되는 전류 및/또는 역 EMF를 모니터링할 수 있다(예를 들어, 네일 성형을 통지 또는 조정하기 위해 및/또는 네일 성형 과정을 통지하기 위해).
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 인코더(예: 광학적, 자기적, 전위차계법)를 사용하여 성형 요소의 배향 및/또는 회전 속도의 결정을 제공할 수 있다(예를 들어, 네일 성형을 통지 또는 조정하기 위해 및/또는 네일 성형 과정을 통지하기 위해).
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 (예를 들어, 네일 성형을 통지 또는 조정하기 위해 및/또는 네일 성형의 진행을 통보하기 위해) 본질적으로 인코더 정보를 제공하는 모터(예: 브러시리스 AC 또는 DC 모터)를 사용할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 공간 내의 성형 요소의 위치를 모니터링할 수 있다(예를 들어, 네일 성형을 통지 또는 조정하기 위해 및/또는 네일 성형 진행을 통지하기 위해). 이는, 예를 들어, 작동 시스템의 일부 또는 모든 부재에 절대 또는 상대 인코더를 사용함으로써 또는, 예를 들어, 비전 시스템의 구성 요소(또는 다른 구체적으로 목적된 비전 요소)를 사용하여 성형 요소를 광학적으로 위치함으로써 또는, 예를 들어, 성형 요소와의 공지된 관계로 위치된 자기 요소의 감지에 의해 또는, 예를 들어, 성형 요소와의 공지된 관계로 위치된 성형 요소 또는 정전 용량형 표적을 위치시키기 위한 정전 용량형 센서의 사용에 의해 달성될 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 성형 도구에 의해 인가되는 힘을 모니터링할 수 있다(예를 들어, 네일 성형을 통지 또는 조정하기 위해 및/또는 네일 성형 과정을 통지하기 위해).
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 성형 공정 동안 소비되는 시간의 길이를 모니터링할 수 있다(예를 들어, 네일 성형을 통지 또는 조정하기 위해 및/또는 네일 성형 과정을 통지하기 위해).
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 성형 공정 동안(예를 들어, 네일성형을 통지 또는 조정하기 위해 및/또는 네일 성형 과정을 통지하기 위해), 비전 시스템의 하나 이상의 구성 요소(예: LED, 하나 이상의 카메라, 구조화된 광, 또는 다른 구성 요소)를 사용할 수 있다.
에나멜 도포
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 에나멜 도포 시스템은 매니큐어 또는 다른 소모품 도포를 위한 압출 노즐을 포함할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 에나멜 도포 시스템은 에러가 발생할 수 있는 네일의 기하학에 따르는 가요성 압출 노즐을 포함할 수 있다.
일부 구현예에서, 압출 노즐은 노즐로부터 및 노즐로의 유동 모두를 가능하게 하도록 설계될 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 에나멜 도포 시스템은 도포 시스템을 일시 정지하는 프로그램을 실행하여 전체 시스템이 네일의 윤곽을 따르도록 편향될 수 있도록 할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 에나멜 도포 시스템은 하나 이상의 카트리지 또는 사용자 교환가능하고/하거나 리필가능한 구성 요소를 이용할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 에나멜 도포 시스템은 노즐을 밀봉, 저장 및/또는 그렇지 않으면 팁 또는 튜브에서 경화/응고를 방지하는 방법을 수행할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 에나멜 도포 시스템은 노즐을 세정/퍼징하는 방법을 수행하여 양호한 도포를 달성할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 에나멜 도포 시스템은 완전한 커버리지 및/또는 매끄러운 마무리를 달성하는 능력을 최적화하는 방식으로 손톱에 노즐을 착륙시키는 공정을 수행할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 에나멜 도포 시스템은 일회용 도포 노즐(예: 유동 경로 및 경화 및 막힘의 가능성을 최소화하기 위해 용기에 통합된 노즐)을 이용할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 에나멜 도포 시스템은 먼저 주위를 도포하고 나중에 중심을 충전함으로써 고점도 유체(또는 에나멜)를 도포하는 방법을 수행할 수 있다. 다른 구현예에서, 광범위한 기술 및/또는 경로가 사용될 수 있다. 예를 들어, 도포는, 예를 들어, 나선형 또는 변형된 나선형 중 일부 형태를 사용하여 중심으로부터 바깥쪽으로 수행될 수 있다. 다른 구현예에서, 충전은 적절하게 이격된 수평 또는 수직 열을 사용하여 달성될 수 있다. 다른 구현예에서, 네일의 섹션이 충전될 수 있다(예를 들어, 임의의 다양한 기술을 사용함으로써, 이들 중 일부는 상기 예로서 제공된다). 일부 구현예에서, 임의의 공간 충전 패턴이 임의의 네일 또는 네일들의 일부 또는 전부를 충전시킬 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 에나멜 도포 시스템은 가요성 도포 노즐 및 그의 편향을 사용하는 측정을 수행하고 이용하여 네일의 3D 기하학의 더 나은 이해를 통지할 수 있다(예를 들어, 더 정확한 탑-코트 도포를 허용할 수 있고/있거나 미래의 매니큐어 또는 사용 중에 비접촉 도포를 통지할 수 있다).
일부 구현예에서, 노즐은 도포를 보다 정확하게 및/또는 균일하게 제어하기 위해 하나 이상의 가능하게는 상호 수직 축으로 능동적으로 제어될 수 있다.
일부 구현예에서, 에나멜은 도포되는 물질의 양을 정확하게 제어하기 위해 포지티브 변위 펌프를 사용하여 분배될 수 있다.
일부 구현예에서, 어플리케이터 펌프는 도포 속도를 최적으로 제어하기 위해 유체를 압출 및 인출할 수 있다.
일부 구현예에서, 도포 펌프는 교체 가능한 카트리지 내에 함유된다. 일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)은 공간에서의 도포 노즐의 위치를 모니터링할 수 있다(예를 들어, 네일 성형을 통지 또는 조정하기 위해 및/또는 네일 성형 과정을 통지하기 위해). 이것은 다양한 방법으로, 예를 들어, 작동 시스템의 일부 또는 모든 부재에 절대적 또는 상대적 인코더를 사용하거나, 또는, 예를 들어, 비전 시스템의 구성 요소(또는 다른 구체적으로 목적된 비전 요소)를 사용하여 성형 요소를 광학적으로 위치시거나, 또는, 예를 들어, 정전 용량형 센서를 사용하여 성형 요소와의 공지된 관계로 위치된 성형 요소 또는 정전 용량형 표적을 위치시켜 달성될 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 또는 그의 법선에 대한 노즐의 위치 및/또는 배향은, 예를 들어, 광학적 또는 음향적 거리 측정, 또는 정전 용량형 감지를 사용하여 모니터링될 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 또는 그의 법선에 대한 노즐의 위치 및/또는 배향을 사용하여, 예를 들어, 속도, 커버리지, 광택성 및 도포된 유체의 균일성을 최적으로 균형을 맞추기 위해 노즐이 뒤따르는 경로를 변경할 수 있다.
일부 구현예에서, 노즐의 구성(예: 길이 및/또는 폭, 노즐 내의 필라멘트 또는 바늘의 존재 및/또는 위치 등)은 도포될 에나멜 또는 다른 재료의 분배를 최적화하기 위해 능동적으로 또는 수동적으로 또는 둘 다로 변경될 수 있다.
에나멜 제거
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 에나멜 제거 시스템은 사용자의 전체 네일 베드와 접촉하도록 설계된 수동적으로 또는 능동적으로 제어되는 가요성 이펙터(예를 들어, 및/또는 측면 네일 주름으로 확산되도록 설계된 동일한 것)를 포함할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 에나멜 제거 시스템은 천 층으로 덮인 아세톤(또는 리무버) 저장소로서 작용하는 더 두꺼운 흡수층을 포함할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 에나멜 제거 시스템은 아세톤 또는 리무버를 이펙터 내로 또는 네일 상에 자동으로 분배하는 시스템을 포함할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 에나멜 제거 시스템은 에나멜을 흡수하는 직물 층을 포함할 수 있으며, 이는 각 손톱 뒤에 새로운 표면을 배치하기 위해 번역 또는 회전될 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 에나멜 제거 시스템은 굴곡부 및 제거제 침지된 면봉(또는 층)의 위치를 유지하면서 직물/흡수층의 자율적 번역/작동을 포함할 수 있다.
일부 구현예에서, 네일 케어 시스템(100)의 에나멜 제거 시스템은 에나멜 제거를 개선하기 위해(예를 들어, 동시에 사용자의 손가락에 대한 압력을 유지하고/하거나 손톱에 대해 수직으로 유지하면서) 하나 이상의 방식으로 이동하는 말단 이펙터를 포함할 수 있다.
네일 케어 시스템에 관한 추가 구현예 및 세부사항
본원에 기재된 주제의 하나 이상의 측면 또는 특징은 디지털 전자 회로, 집적 회로, 특별히 설계된 도포 특정 집적 회로(ASIC), 전장 프로그램 가능한 게이트 어레이(FPGA) 컴퓨터 하드웨어, 펌웨어, 소프트웨어 및/또는 이들의 조합으로 실현될 수 있다. 이러한 다양한 측면 또는 특징은 저장 시스템, 적어도 하나의 입력 디바이스 및/또는 적어도 하나의 출력 디바이스로부터 데이터 및 명령어를 수신하고 데이터 및 명령어를 전송하도록 결합되는 특수 또는 범용일 수 있는 적어도 하나의 프로그램 가능한 프로세서(예: 복수의 프로세서)를 포함하는 프로그램 가능한 시스템 상에서 실행가능하고/하거나 해석 가능한 하나 이상의 컴퓨터 프로그램에서의 구현을 포함할 수 있다. 프로그램 가능한 시스템 또는 컴퓨팅 시스템은 클라이언트 및 서버를 포함할 수 있다. 클라이언트 및 서버는 일반적으로 서로 원격이며 전형적으로 통신 네트워크를 통해 상호 작용한다. 클라이언트와 서버 간의 관계는 각 컴퓨터에서 실행되며 서로 클라이언트-서버 관계를 갖는 컴퓨터 프로그램에 의해 발생한다.
프로그램, 소프트웨어, 소프트웨어 응용 프로그램, 응용 프로그램, 구성 요소 또는 코드로도 지칭될 수 있는 이러한 컴퓨터 프로그램은 프로그램 가능한 프로세서의 기계 명령어를 포함하며, 하이-레벨 절차 언어, 물체 배향 프로그래밍 언어, 기능 프로그래밍 언어, 논리 프로그래밍 언어로, 및/또는 어셈블리/기계어로 구현될 수 있다. 본원에서 사용된 용어 "기계 판독 가능 매체" 또는 "컴퓨터 판독 가능" 매체는 기계 명령어를 기계 판독 가능 신호로서 수신하는 기계 판독 가능 매체를 포함하여, 기계 명령어 및/또는 데이터를 프로세서로 제공하는데 사용되는, 예를 들어, 자기 디스크, 광 디스크, 메모리, 및 프로그램 가능한 논리 디바이스(PLD)와 같은 임의의 컴퓨터 프로그램 제품, 장치 및/또는 디바이스를 지칭한다. 여기에는 기계 명령을 기계 판독 가능 신호로 수신하는 기계 판독 가능 매체가 포함된다. 용어 "기계 판독 가능 신호"는 기계 명령어 및/또는 데이터를 프로세서에 제공하는데 사용되는 임의의 신호를 지칭한다. 기계 판독 가능 매체는, 예를 들어, 비일시적인 고체 상태 메모리 또는 자기 하드 드라이브 또는 임의의 등가의 저장 매체와 같은 이러한 기계 명령어를 비일시적으로 저장할 수 있다. 기계 판독 가능 매체는 대안적으로 또는 추가로, 예를 들어, 하나 이상의 물리적 프로세서 코어와 연관된 프로세서 캐시 또는 다른 랜덤 액세스 메모리와 같은 방식과 같이 일시적인 방식으로 이러한 기계 명령어를 저장할 수 있다.
사용자와의 상호작용을 제공하기 위해, 본원에 기재된 주제의 하나 이상의 측면 또는 특징은 디스플레이 디바이스(예: 인터랙티브 디스플레이 디바이스), 예를 들어, 정보를 사용자에게 디스플레이하기 위한 캐소드 선관(CRT) 또는 액정 디스플레이(LCD) 또는 발광 다이오드(LED) 모니터, 및 일부 구현예에서, 하나 이상의 버튼, 키보드, 포인팅 디바이스, 예를 들어, 마우스 또는 트랙볼을 갖는 컴퓨터 또는 로봇에서 구현될 수 있고, 이에 의해, 사용자는 컴퓨터에 입력을 제공할 수 있다(예를 들어, 일부 구현예에서, 사용자는 인터랙티브 디스플레이를 통해 입력을 제공할 수 있다). 다른 유형의 장치를 사용하여 사용자와의 상호 작용을 또한 제공할 수 있다. 예를 들어, 사용자에게 제공된 피드백은, 예를 들어, 시각적 피드백, 청각적 피드백, 또는 촉각적 피드백과 같은 임의의 형태의 감각적 피드백일 수 있고; 사용자로부터의 입력은 음향, 음성 또는 촉각 입력을 포함하지만 이에 제한되지 않는 임의의 형태로 수신될 수 있다. 다른 가능한 입력 디바이스는 터치 스크린 또는 다른 터치 감지 디바이스, 예를 들어, 단일 또는 다중 점 저항성 또는 정전 용량형 트랙패드, 음성 인식 하드웨어 및 소프트웨어, 광학 스캐너, 광학 포인터, 디지털 이미지 캡처 디바이스 및 관련 통역 소프트웨어 장치 등을 포함하지만 이에 제한되지 않는다.
용어
본원에 사용되는 용어는 단지 특정 구현예를 기재하기 위한 것이고, 본 개시내용을 제한하려는 의도는 아니다. 본원에서 사용된 바와 같이, 단수형 "a", "an" 및 "the"는 문맥이 명백히 다르게 나타내지 않는 한, 복수형을 또한 포함하는 것으로 의도된다. 또한, 본 명세서에서 사용될 때 용어 "포함한다" 및/또는 "포함하는"은 설명된 특징, 정수, 단계, 조작, 요소 및/또는 구성 요소의 존재를 특정하지만, 하나 이상의 다른 특징, 정수, 단계, 조작, 요소, 구성 요소 및/또는 이의 그룹의 존재 또는 첨가를 배제하지 않음을 이해할 것이다. 본원에서 사용되는 용어 "및/또는"은 관련된 나열된 품목의 하나 이상의 임의의 및 모든 조합을 포함한다.
적어도 하나의 예시적인 구현예는 예시적인 공정을 수행하기 위해 복수의 유닛을 사용하는 것으로 기재되지만, 예시적인 공정은 또한 하나 또는 복수의 모듈에 의해 수행될 수 있는 것으로 이해된다.
본원에서 "제1", "제2", "제3" 등의 용어의 사용은 임의의 순서를 설명하지 않고 다양한 구조, 치수 또는 동작을 식별하기 위해 제공되며, 구조, 치수 또는 동작은 특정 순서가 문맥에서 명확히 특정되지 않는 한, 지정된 순서와는 다른 순서로 실행될 수 있다.
본 명세서 및 청구범위 전체에서 걸쳐 본원에 사용된 바와 같은 근사 언어는 그것이 관련된 기본 기능의 변화를 초래하지 않고 허용 가능하게 변할 수 있는 임의의 정량적 표현을 변경하기 때문에 적용될 수 있다. 따라서, "약" 또는 "실질적으로"와 같은 용어 또는 용어들에 의해 변경된 값은 지정된 정확한 값으로 제한되지 않는다. 적어도 일부 예에서, 근사 언어는 값을 측정하기 위한 장비의 정밀도에 상응할 수 있다. 여기서, 명세서 및 청구범위 전반에 걸쳐, 범위 제한은 조합 및/또는 교환될 수 있으며, 이러한 범위는 식별되고 문맥 또는 언어가 달리 나타내지 않는 한, 거기에 함유된 모든 서브 범위를 포함한다.
구체적으로 언급되지 않거나 문맥으로부터 명백하지 않는 한, 본원에서 사용되는 바와 같이, "약"이라는 용어는 당업계의 통상적인 허용 범위 내, 예를 들어, 평균의 2 표준 편차 이내라고 이해된다. "약"은 언급된 값의 10%, 9%, 8%, 7%, 6%, 5%, 4%, 3%, 2%, 1%, 0.5%, 0.1%, 0.05% 또는 0.01% 이내로 이해될 수 있다. 맥락으로부터 달리 명확하지 않는 한, 본원에 제공된 모든 수치 값은 용어 "약"에 의해 변형된다.
상기 설명 및 청구범위에서, "적어도 하나의" 또는 "하나 이상의"와 같은 어구는 요소 또는 특징의 접속 목록이 뒤따를 수 있다. 용어 "및/또는"은 또한 둘 이상의 요소 또는 특징들의 목록에서 발생할 수 있다. 그것이 사용되는 맥락에 의해 달리 암시적 또는 명시적으로 모순되지 않는 한, 이러한 구는 임의의 나열된 요소 또는 특징을 개별적으로 또는 임의의 다른 인용된 요소 또는 특징과 조합된 임의의 나열된 요소 또는 특징을 의미하는 것으로 의도된다. 예를 들어, "A와 B 중 적어도 하나"; "A 및 B 중 하나 이상"; 및 "A 및/또는 B"는 각각 "A 단독, B 단독 또는 A와 B를 함께"를 의미하는 것으로 의도된다. 유사한 해석은 3개 이상의 항목을 포함하는 목록에도 의도된다. 예를 들어, 문구 "A, B 및 C 중 적어도 하나", "A, B 및 C 중 하나 이상" 및 "A, B 및/또 C"는 각각 "A 단독, B 단독, C 단독, A와 B 함께, A와 C 함께, B와 C 함께, 또는 A와 B와 C 함께"를 의미하는 것으로 의도된다. 게다가, 상기 및 청구범위에서 "~에 기초하는"이라는 용어의 사용은 인용되지 않은 특징 또는 요소가 또한 허용 가능하도록 "적어도 부분적으로 ~에 기초하는"을 의미하는 것으로 의도된다.
본원에 기재된 주제는 목적하는 구성에 따라 시스템, 장치, 방법, 및/또는 물품으로 구현될 수 있다. 전술한 설명에 기재된 구현예는 본원에 기재된 주제와 일치하는 모든 구현예를 나타내는 것은 아니다. 대신, 그들은 단순히 기재된 주제와 관련된 측면과 일치하는 몇 가지 예이다. 일부 변형이 위에서 자세히 설명되었지만, 다른 변경이나 첨가가 가능하다. 특히, 본원에 제시된 것 이외에, 추가의 특징 및/또는 변형이 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 기재된 구현예는 개시된 특징들의 다양한 조합 및 서브조합, 및/또는 상기 개시된 몇몇 추가의 특징들의 조합 및 서브조합에 지시될 수 있다. 더욱이, 첨부된 도면에 도시되고/되거나 본원에 기재된 논리적 흐름은 바람직한 결과를 달성하기 위해 도시된 특정 순서 또는 순차적 순서를 반드시 필요로 하지 않는다. 다른 구현예는 이하의 청구범위의 범위 내에 있을 수 있다.
Claims (29)
- 성형 시스템(shaping system), 광택 제거 시스템(polish removal systme) 및 큐티클 관리 시스템(cuticle management system) 중 하나 이상;
비전 시스템(vision system);
매니큐어 도포 시스템(nail polish application system); 및
이동성 시스템을 포함하는 네일 케어 시스템(nail care system). - 제1항에 있어서, 상기 성형 시스템이 회전 운동, 선형 왕복 운동, 및 회전 진동 중 하나 이상을 위해 구성되고, 상기 성형 시스템이 연마 요소(abrasive element)를 포함하는, 네일 케어 시스템 .
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 광택 제거 시스템이 스폰지, 이의 표면 상의 반원형 홈(semi-circular groove) 또는 홈 패턴, 및 브러시(brush) 또는 하나 이상의 강모(bristle) 중 하나 이상을 포함하는 광택 제거 도구를 포함하는, 네일 케어 시스템.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 큐티클 관리 시스템이 버니싱 도구(brushing tool)를 포함하는, 네일 케어 시스템.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 비전 시스템이 이미지 획득 시스템, 조명 시스템 및 머신 비전 처리 시스템을 포함하는, 네일 케어 시스템.
- 제5항에 있어서, 상기 머신 비전 처리 시스템이 컴퓨터 디바이스를 포함하고, 상기 컴퓨터 디바이스가 적어도 하나의 프로세서, 및 적어도 하나의 프로세서에 의해 실행하기 위한 적어도 하나의 프로그램을 저장하는 메모리를 갖고, 상기 적어도 하나의 프로그램이 적어도 하나의 프로세서에 의해 실행될 때, 적어도 하나의 프로세서가 비전 시스템으로부터 이미지 정보를 수신하는 단계; 수신된 이미지를 전처리(pre-processing)하는 단계; 전처리된 이미지의 분석에 기초하여 네일 범위 및 네일 높이 프로파일을 결정하는 단계; 전처리된 이미지의 분석에 기초하여 손가락과 네일 배치를 결정하는 단계; 결정된 네일 범위, 결정된 네일 높이 프로파일, 및 결정된 손가락 및 네일 배치에 기초하여 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 비전 시스템, 매니큐어 도포 시스템 및 이동성 시스템 중 하나 이상에 대한 작동 명령어를 출력하는 단계를 포함하는 동작을 수행하도록 하는 명령어(operating instruction)를 포함하는, 네일 케어 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 매니큐어 도포 시스템이 노즐과 유체 연통(fluid communication)하는 저장소(reservoir) 또는 바이알(vial)을 포함하는, 네일 케어 시스템.
- 제7항에 있어서, 상기 저장소 또는 바이알이 캡을 포함하고, 상기 캡이 노즐에 대해 고정된 상태로 구성되며, 상기 저장소 또는 바이알이 노즐에 대해 이동하여 상기 저장소 또는 바이알 내의 유체가 노즐 밖으로 유동하도록 구성되는, 네일 케어 시스템.
- 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이동성 시스템이 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 적어도 3개의 방향으로 그리고 적어도 두 개의 축을 중심으로 회전적으로 이동시키도록 구성되는, 네일 케어 시스템.
- 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 가속 건조 시스템(accelerated drying system)을 추가로 포함하는, 네일 케어 시스템.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 손 마사지 시스템을 추가로 포함하는, 네일 케어 시스템.
- 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 네일 식별, 진단 및 상태 추정 시스템을 추가로 포함하는, 네일 케어 시스템.
- 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 이동성 시스템, 하나 이상의 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 및 매니큐어 도포 시스템을 둘러싸도록 구성되고, 적어도 3개의 방향으로, 그리고 적어도 두 개의 축을 중심으로 회전적으로 동일한 것의 이동을 허용하도록 구성된 인클로저(enclosure) 시스템을 추가로 포함하는 네일 케어 시스템.
- 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 기준, 및 양측 대칭성을 갖는 적어도 하나의 손가락 가이드를 포함하는 손 또는 발 받침 시스템을 추가로 포함하는 네일 케어 시스템.
- 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 매니큐어 도포 시스템의 하나 이상의 구성 요소 및 광택 제거 시스템을 포함하는 카트리지 또는 포드 시스템을 추가로 포함하는 네일 케어 시스템.
- 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 이동성 시스템에 의한 이동을 위해 구성되고, 큐티클 시스템, 성형 시스템, 도포 시스템 및 제거 시스템 중 하나 이상과 맞물리도록 구성된 멀티-툴 시스템을 추가로 포함하는 네일 케어 시스템.
- 네일 케어 방법으로서, 디바이스가 제공되고, 상기 디바이스가 적어도 하나의 프로세서 및 적어도 하나의 프로세서에 의해 실행하기 위한 적어도 하나의 프로그램을 저장하는 메모리를 갖고, 상기 적어도 하나의 프로그램이 적어도 하나의 프로세서에 의해 실행될 때, 적어도 하나의 프로세서가 성형 시스템, 광택 제거 시스템 및 큐티클 관리 시스템 중 하나 이상; 비전 시스템; 매니큐어 도포 시스템; 및 이동성 시스템의 협력 동작을 포함하는 동작을 수행하도록 하는 명령어를 포함하는, 네일 케어 방법.
- 제17항에 있어서, 상기 비전 시스템으로부터 이미지 정보를 수신하는 단계; 수신된 이미지를 전처리하는 단계; 전처리된 이미지의 분석에 기초하여 네일 범위 및 네일 높이 프로파일을 결정하는 단계; 전처리된 이미지의 분석에 기초하여 손가락과 네일의 배치를 결정하는 단계; 결정된 네일 범위, 결정된 네일 높이 프로파일 및 결정된 손가락 및 네일 배치에 기초하여 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 비전 시스템, 매니큐어 도포 시스템, 및 이동성 시스템 중 하나 이상에 대한 작동 명령어를 출력하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
- 제17항 또는 제18항에 있어서, 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 네일에 대한 시작점(starting point)으로 구동하는 단계; 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 네일의 측면 주름으로 구동하는 단계; 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 네일에 대해 임의의 적합한 방향으로 이동시키는 단계; 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 들어 올리는 단계; 및 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 네일에 대해 또 다른 지점으로 구동하는 단계를 포함하는 컴퓨터 구현 도구 이동 방법(computer implemented tool movement method)을 추가로 포함하는, 방법.
- 제17항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 소정의 패턴에 따라 구동하여 네일의 하나 이상의 해부학적 특징(nantomical feature)에 근접한 소정의 위치로 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 배치하여 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상의 동작을 수행하는 단계를 포함하는 컴퓨터 구현 도구 방법을 추가로 포함하는, 방법.
- 제17항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, 단일 네일, 복수의 네일, 및/또는 복수의 네일을 포함하는 전체 손을 위한, 및 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 구동하고 작동시키기 위한 명령어를 생성하기 위한 컴퓨터 구현 경로 계획 방법을 추가로 포함하는, 방법.
- 네일 케어 시스템으로서, 상기 시스템이 적어도 하나의 프로세서, 및 적어도 하나의 프로세서에 의해 실행하기 위한 적어도 하나의 프로그램을 저장하는 메모리를 갖는 디바이스를 포함하고, 상기 적어도 하나의 프로그램이 적어도 하나의 프로세서에 의해 실행될 때, 적어도 하나의 프로세서가 성형 시스템, 광택 제거 시스템 및 큐티클 관리 시스템 중 하나 이상; 비전 시스템; 매니큐어 도포 시스템; 및 이동성 시스템의 협력 동작을 포함하는 동작을 수행하도록 하는 명령어를 포함하는, 네일 케어 시스템.
- 제22항에 있어서, 사용자 인터페이스(user interface), 네일 형상 모델 시스템, 동작 구성 시스템, 손 모델 시스템, 운동학적 모델 시스템(kinematic model system) 및 경로 플래너 시스템을 포함하는 경로 플래너 적용을 추가로 포함하는 컴퓨터 아키텍쳐(architecture)를 추가로 포함하는, 시스템.
- 제22항 또는 제23항에 있어서, 상기 컴퓨터 아키텍처가 인클로저 시스템, 비전 시스템, 경로 플래너 적용 및 사용자 인터페이스 시스템을 포함하는 비전 시스템 아키텍처를 추가로 포함하는, 시스템.
- 네일 케어를 위한 적어도 하나의 프로그램, 적어도 하나의 프로세서에 의해 실행하기 위한 적어도 하나의 프로그램, 및 적어도 하나의 프로그램을 저장하는 메모리를 저장하는 비일시적 컴퓨터 판독 가능 저장 매체로서, 상기 적어도 하나의 프로그램이 적어도 하나의 프로세서에 의해 실행될 때, 적어도 하나의 프로세서가 성형 시스템, 광택 제거 시스템 및 큐티클 관리 시스템 중 하나 이상; 비전 시스템; 매니큐어 도포 시스템; 및 이동성 시스템의 협력 동작을 포함하는 동작을 수행하도록 하는 명령어를 포함하는, 비일시적 컴퓨터 판독 가능 저장 매체.
- 제25항에 있어서, 상기 비전 시스템으로부터 이미지 정보를 수신하는 단계; 수신된 이미지를 전처리하는 단계; 전처리된 이미지의 분석에 기초하여 네일 범위 및 네일 높이 프로파일을 결정하는 단계; 전처리된 이미지의 분석에 기초하여 손가락과 네일의 배치를 결정하는 단계; 결정된 네일 범위, 결정된 네일 높이 프로파일 및 결정된 손가락 및 네일 배치에 기초하여 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 비전 시스템, 매니큐어 도포 시스템 및 이동성 시스템 중 하나 이상에 대한 작동 명령어를 출력하는 단계를 추가로 포함하는, 비일시적인 컴퓨터 판독 가능 저장 매체.
- 제25항 또는 제26항에 있어서, 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 네일에 대한 시작점으로 구동하는 단계; 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상의 중심을 네일의 측면 주름(lateral fold)으로 구동하는 단계; 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 네일에 대해 임의의 적합한 방향으로 이동시키는 단계; 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 들어 올리는 단계; 및 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 네일에 대해 또 다른 지점으로 구동하는 단계를 포함하는 컴퓨터 구현 도구 이동 방법을 추가로 포함하는, 비일시적 컴퓨터 판독 가능 저장 매체.
- 제25항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서, 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 소정의 패턴에 따라 구동하여 네일의 하나 이상의 해부학적 특징에 근접한 소정의 위치로 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 배치시켜 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템 및 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상의 동작을 수행하는 단계를 포함하는 컴퓨터 구현 도구 이동 방법을 추가로 포함하는, 비일시적 컴퓨터 판독 가능 저장 매체.
- 제25항 내지 제28항 중 어느 한 항에 있어서, 단일 네일, 복수의 네일 및/또는 복수의 네일을 포함하는 전체 손을 위한, 및 상기 성형 시스템, 광택 제거 시스템, 큐티클 관리 시스템, 매니큐어 도포 시스템 중 하나 이상을 구동하고 작동시키기 위한 명령어를 생성하기 위한 컴퓨터 구현 경로 계획 방법을 추가로 포함하는, 비일시적 컴퓨터 판독 가능 저장 매체.
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