JP7035394B2 - 描画装置及び描画方法 - Google Patents

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Description

本発明は、描画装置及び描画方法に関するものである。
従来、人の指の爪に好みのネイルデザインを描画する描画装置(ネイルプリント装置)が知られている(例えば、特許文献1参照)。
このような装置を用いれば、ネイルサロン等を利用することなく、手軽にネイルプリントを楽しむことができる。
描画装置(ネイルプリント装置)としては、インクジェット方式で描画を行う装置が知られている。
特表2003-534083号公報
しかしながら、ネイルプリント装置の描画対象である人の爪は、幅方向の左右両端部が低く中心部近傍が高くなっていて全体に丸みを帯びた湾曲形状をしており、描画ヘッドは爪の幅方向に沿って移動しながらインクを吐出して描画を行う。
このため、幅方向の端部において、傾斜した面を登る方向に描画ヘッドが移動する際に描画ヘッドから吐出されたインク液滴は良好に着弾するが、傾斜した面を下る方向に描画ヘッドが移動する際に描画ヘッドから吐出されたインク液滴は着弾しないか、着弾位置がずれたり乱れたりしやすい。このため、描画された画像(ネイルデザイン)に歪みや濃度むら等を生じて、画像品位が劣化するとの問題があった。
本発明は以上のような事情に鑑みてなされたものであり、爪表面等の湾曲する描画対象面の両端部までデザインが崩れず、全面に亘って均一に描画を行うことのできる描画装置及び描画方法を提供することを目的とするものである。
前記課題を解決するために、本発明の第1の態様の描画装置は、
互いに異なる第1方向と第2方向とに沿って移動しながら描画対象面に描画を行う描画ヘッドと、前記描画ヘッドの動作を制御する制御装置と、備え、前記描画ヘッドは、前記描画対象面が前記第1方向に対して登り傾斜となり前記第2方向に対して下り傾斜となる第1領域を有している場合に、前記第1方向に沿って移動する第1走査と前記第2方向に沿って移動する第2走査とにより、前記第1領域に描画予定の画像を構成する複数の第1の画素の少なくとも一部を描画し、前記制御装置は前記複数の第1の画素に対する、前記第1走査において前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を、前記第2走査において前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合より多くするように制御前記第1走査において、前記複数の第1の画素のうちの前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させるように制御し、前記第2走査において、前記複数の第1の画素のうちの、前記第1走査において前記描画ヘッドが描画しなかった前記第1の画素を前記描画ヘッドが描画し、前記複数の第1の画素に対する前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させるように制御する、ことを特徴としている。
また、本発明の第2の態様の描画装置は、
互いに異なる第1方向と第2方向とに沿って移動しながら描画対象面に描画を行う描画ヘッドと、前記描画ヘッドの動作を制御する制御装置と、を備え、前記描画ヘッドは、前記描画対象面が前記第1方向に対して登り傾斜となり前記第2方向に対して下り傾斜となる第1領域を有している場合に、前記第1方向に沿って移動する第1走査と前記第2方向に沿って移動する第2走査とにより、前記第1領域に描画予定の画像を構成する複数の第1の画素の少なくとも一部を描画し、前記描画対象面が前記第1方向に対して下り傾斜となり、かつ、前記第2方向に対して登り傾斜となる第2領域を有している場合に、前記第2領域に描画予定の画像を構成する複数の第2の画素の少なくとも一部を前記第1走査と前記第2走査とにより描画し、前記制御装置は、前記複数の第1の画素に対する、前記第1走査において前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を、前記第2走査において前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合より多くするように制御し、前記第1走査において、前記第1領域における前記複数の第1の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて、第1の値から前記第1の値より小さい第2の値に減少させ、前記第2領域における前記複数の第2の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第2の画素の割合を、前記第2領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第2の値と同じか前記第2の値より小さい第3の値から前記第3の値より小さい第4の値に減少させ、前記第2走査において、前記第2領域における前記複数の第2の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第2の画素の割合を、前記第2領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第1の値から前記第2の値に減少させ、前記第1領域における前記複数の第1の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第3の値から前記第4の値に減少させる、ことを特徴としている。
また、本発明の第1の態様の描画方法は、
描画装置の描画方法であって、前記描画装置は、互いに異なる第1方向と第2方向とに沿って移動しながら描画対象面に描画を行う描画ヘッドを備え、前記描画対象面が、前記第1方向に対して登り傾斜となり前記第2方向に対して下り傾斜となる第1領域を有している場合に、前記第1領域に描画予定の画像を構成する複数の第1の画素の少なくとも一部を、前記描画ヘッドにより、前記描画ヘッドを前記第1方向に沿って移動させる第1走査と、前記描画ヘッドを前記第2方向に沿って移動させる第2走査と、により描画させ、前記複数の第1の画素に対する、前記第1走査において前記描画ヘッドにより描画させる前記第1の画素の割合を、前記第2走査において前記描画ヘッドにより描画させる前記画素の割合より多くするように制御し、前記第1走査において、前記複数の第1の画素のうちの前記描画ヘッドにより描画させる前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させ、前記第2走査において、前記複数の第1の画素のうちの、前記第1走査において描画されなかった前記第1の画素を前記描画ヘッドにより描画させ、前記複数の第1の画素に対する前記描画ヘッドにより描画させる前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させることを特徴としている。
また、本発明の第2の態様の描画方法は、
描画装置の描画方法であって、前記描画装置は、互いに異なる第1方向と第2方向とに沿って移動しながら描画対象面に描画を行う描画ヘッドを備え、前記描画対象面が、前記第1方向に対して登り傾斜となり前記第2方向に対して下り傾斜となる第1領域を有している場合に、前記第1領域に描画予定の画像を構成する複数の第1の画素の少なくとも一部を、前記描画ヘッドにより、前記描画ヘッドを前記第1方向に沿って移動させる第1走査と、前記描画ヘッドを前記第2方向に沿って移動させる第2走査と、により描画させ、前記描画対象面が前記第1方向に対して下り傾斜となり、かつ、前記第2方向に対して登り傾斜となる第2領域を有している場合に、前記第2領域に描画予定の画像を構成する複数の第2の画素の少なくとも一部を前記第1走査と前記第2走査とにより描画させ、前記複数の第1の画素に対する、前記第1走査において前記描画ヘッドにより描画させる前記第1の画素の割合を、前記第2走査において前記描画ヘッドにより描画させる前記画素の割合より多くするように制御し、前記第1走査において、前記第1領域における前記複数の第1の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて、第1の値から前記第1の値より小さい第2の値に減少させ、前記第2領域における前記複数の第2の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第2の画素の割合を、前記第2領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第2の値と同じか前記第2の値より小さい第3の値から前記第3の値より小さい第4の値に減少させ、前記第2走査において、前記第2領域における前記複数の第2の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第2の画素の割合を、前記第2領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第1の値から前記第2の値に減少させ、前記第1領域における前記複数の第1の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第3の値から前記第4の値に減少させる、ことを特徴としている。
本発明によれば、爪表面等の湾曲する描画対象面の両端部までデザインが崩れず、全面に亘って均一に描画を行うことができる。
(a)は、本実施形態における描画装置の正面図であり、(b)は、(a)に示された描画装置の内部構成を示す側面図である。 本実施形態に係る描画装置の制御構成を示した要部ブロック図である。 描画対象である爪の一例を示す平面図である。 (a)は、各曲面補正レベルの爪のイメージを示す図であり、(b)は、曲面補正レベルと各曲面補正レベルにおける補正範囲との対応を示す図である。 本実施形態において各走査における描画画素の量を示す説明図である。 マスクパターンの閾値を変化させていった場合の濃度変化を模式的に示す図である。 4回の走査における閾値の振り分けを示す模式図である。 4回の走査における各閾値範囲を模式的に示した図である。 本実施形態における描画処理の全体の流れを示すフローチャートである。 本実施形態における描画処理の具体的な内容を示すフローチャートである。 本実施形態における描画処理の具体的な内容を示すフローチャートである。 (a)~(c)は、各走査における描画画素の量の設定の仕方の変形例を示す説明図である。
図1から図11を参照しつつ、本発明に係るネイルプリント装置(描画装置)及びネイルプリント装置(描画装置)の描画方法の一実施形態について説明する。
なお、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。
また、以下の実施形態では、ネイルプリント装置1は手の指の爪を描画対象とし、その爪の表面を描画対象面として、これに描画するものとして説明するが、本発明の描画対象面は手の指の爪の表面に限るものではなく、例えば足の指の爪を描画対象とし、その爪の表面を描画対象面としてもよい。
図1(a)は、ネイルプリント装置の内部構成を示すネイルプリント装置の正面図であり、図1(b)は、図1(a)に示されたネイルプリント装置の内部構成を示す側面図である。
図1(a)及び図1(b)に示すように、本実施形態におけるネイルプリント装置1は、描画機構40が描画用具である描画ヘッド41を備え、インクジェット方式にて印刷指U1の爪Tに描画を施す描画装置である。
このネイルプリント装置1は、ケース本体2と、このケース本体2に収容される装置本体10とを備えている。
ケース本体2の側面上部一端には、後述する描画機構40の描画ヘッド41を交換するために開閉可能に構成された蓋部23が設けられている。蓋部23は、例えばヒンジ等を介して、図1に示すように閉状態から開状態まで回動自在となっている。
ケース本体2の上面(天板)には操作部25(図2参照)が設置されている。
操作部25は、ユーザが各種入力を行う入力部である。
操作部25には、例えば、ネイルプリント装置1の電源をONする電源スイッチ釦、動作を停止させる停止スイッチ釦、爪Tに描画するデザイン画像を選択するデザイン選択釦、描画開始を指示する描画開始釦等、各種の入力を行うための図示しない操作釦が配置されている。
また、ケース本体2の上面(天板)のほぼ中央部には表示装置26が設置されている。
表示装置26は、例えば液晶ディスプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイその他のフラットディスプレイ等で構成されている。
本実施形態において、この表示装置26には、例えば、印刷指U1を撮影して得た爪画像(爪Tの画像を含む印刷指U1の画像)、この爪画像中に含まれる爪Tの輪郭等の画像、爪Tに描画すべきデザイン画像を選択するためのデザイン選択画面、デザイン確認用のサムネイル画像、各種の指示を表示させる指示画面等が適宜表示される。
なお、表示装置26の表面に各種の入力を行うためのタッチパネルが一体的に構成されていてもよい。
装置本体10は、ほぼ箱状に形成され、ケース本体2の内部下方に設置された下部機枠11と、この下部機枠11の上方で且つケース本体2の内部上方に設置されている上部機枠12とを備えている。
まず、下部機枠11について説明する。
下部機枠11は、背面板111、底板112、左右一対の側板113a,113b、X方向移動ステージ収容部114、Y方向移動ステージ収容部115及び隔壁116を有する。
側板113a,113bの下端部は、底板112の左右両端部にそれぞれ連結され、側板113a,113bが底板112に対して立てられた状態に設けられている。
背面板111の下部は、前方(指挿入方向手前側)に向かって2段に窪むように形成されている。背面板111の下端部は底板112の前端部に連結されており、背面板111は、底板112と側板113a,113bによって囲われた領域を前後に区切っている。
この窪んだ背面板111の後ろ側に形成される空間がX方向移動ステージ収容部114、Y方向移動ステージ収容部115(図1(b)参照)となっている。X方向移動ステージ収容部114内には、描画機構40が前方(指挿入方向手前側)に移動した際に描画機構40のX方向移動ステージ45が収容される。また、Y方向移動ステージ収容部115内には、描画機構40のY方向移動ステージ47が配置されている。
また、隔壁116は、下部機枠11の内部前方側の空間(背面板111、底板112及び側板113a,113bによって囲われた指挿入方向手前側の空間)を上下に区切るように下部機枠11の内側に設けられている。隔壁116はほぼ水平に設けられ、隔壁116の左右両端部が側板113a,113bにそれぞれ連結され、隔壁116の後端部が背面板111に連結されている。
この下部機枠11には、指固定部30(図1(b)参照)が一体的に設けられている。
指固定部30は、描画を施す爪Tに対応する指(以下、これを「印刷指U1」という。)を受け入れる指受入部31と、この印刷指U1以外の指(以下、これを「非印刷指U2」という。)を退避させる指退避部32と、から構成されている。
指受入部31は、隔壁116の上側であって下部機枠11の幅方向のほぼ中央部に配置されている。また、隔壁116によって下部機枠11の下側に区分けられた空間が指退避部32を構成している。
例えば、薬指の爪Tに描画を施す場合には、指受入部31に印刷指U1としての薬指を挿入し、非印刷指U2であるその他の4指(親指、人差し指、中指、小指)を指退避部32に挿入する。
図1(a)及び図1(b)に示すように、指受入部31は、下部機枠11の前面側(印刷指挿入方向の手前側)に開口しており、下側が隔壁116の一部を構成する指載置部116aによって区画されている。指載置部116aは、描画を施す爪Tの指(印刷指U1)をXY平面上に載置するものである。
また、指受入部31の上側には、指受入部31に挿入された印刷指U1の爪Tを露出させるための図示しない窓部が形成されている。
また、隔壁116の上面であって下部機枠11の前面側の両側部には、下部機枠11の前面側を塞ぐ前壁31f(図1(a)参照)が立設されている。また、隔壁116の上面には、この前壁31fの中央部寄りの端部から前記指受入部31に向けて狭窄し、印刷指U1を指受入部31内に案内する一対のガイド壁31g(図1(a)参照)が立設されている。
ユーザは指受入部31に挿入した印刷指U1と指退避部32に挿入した非印刷指U2との間に隔壁116を挟むことができる。そのため、指受入部31内に挿入された印刷指U1が安定して固定される。
下部機枠11の上面であって、指受入部31の横(本実施形態では、図1(a)において右側)には、後述する描画ヘッド41の移動可能範囲内に、非描画時に、描画ヘッド41が待機するホームエリア60が設けられている。
ホームエリア60には、例えば後述する描画ヘッド41のインク吐出部(ノズル面)をクリーニングするためのクリーニング機構やインク吐出部(ノズル面)の保湿状態を保つためのキャップ機構等(いずれも図示せず)で構成されるインクジェット保守部が、非描画時に描画ヘッド41が配置される位置に対応して設けられている。
なお、ホームエリア内のインクジェット保守部等の配置はここで例示したものに限定されない。
描画機構40は、描画ヘッド41、描画ヘッド41を支持するユニット支持部材44、描画ヘッド41をX方向(図1(a)におけるX方向、描画装置1の左右方向)に移動させるためのX方向移動ステージ45、X方向移動モータ46、描画ヘッド41をY方向(図1(b)におけるY方向、描画装置1の前後方向)に移動させるためのY方向移動ステージ47、Y方向移動モータ48等を備えて構成されている。
本実施形態では、描画機構40は、幅方向に沿った一端側から他端側に亘って登り傾斜と下り傾斜とを有するように湾曲する描画対象面である爪Tの表面に対して、描画ヘッド41を一端側から他端側に亘って偶数回走査することで描画対象面に描画を行うようになっている。
なお、描画機構40(描画機構40の描画ヘッド41)の具体的な描画の仕方については後述する。
本実施形態において描画ヘッド41は、ヘッドホルダ43に保持されてユニット支持部材44に設けられている。
描画ヘッド41は、例えば、イエロー(Y;YELLOW)、マゼンタ(M;MAGENTA)、シアン(C;CYAN)のインクに対応する図示しないインクカートリッジと各インクカートリッジにおける描画対象(爪T)に対向する面(本実施形態では、図1(a)等における下面)に設けられたインク吐出部411(図8参照)とが一体に形成されたインクカートリッジ一体型のヘッドである。インク吐出部411は、それぞれの色のインクを噴射する複数のノズルからなるノズルアレイを備えており、描画ヘッド41は、インクを微滴化し、インク吐出部411から描画対象面(爪Tの表面)に対して直接にインクを吹き付けて描画を行う。
インクを噴射する複数のノズルは、それぞれ図示しないピエゾ素子(圧電素子)等を備え、後述する描画制御部814(図2参照)により、個別に噴射制御を行うことができるようになっている。本実施形態では、後述するように、インク吐出部411を4つの領域(Ar1~Ar4)に分けて順次各領域内のノズルを駆動させることで描画を行う(図8等参照)。
なお、描画ヘッド41は、上記3色のインクを吐出させるものに限定されない。その他の種類のインクを貯留するインクカートリッジ及びインク吐出部を備えていてもよい。
また、描画ヘッド41のノズルは、個別に噴射制御を行うことが可能なものであればその構成は特に問わず、ピエゾ素子を用いてインクを吐出させる方式のものに限定されない。例えば個々のノズルにヒータを備えるサーマル方式のノズル等であってもよい。
また、ユニット支持部材44は、X方向移動ステージ45に取り付けられたX方向移動部451に固定されている。X方向移動部451は、X方向移動モータ46の駆動によりX方向移動ステージ45上を図示しないガイドに沿ってX方向に移動するようになっており、これにより、ユニット支持部材44に取り付けられている描画ヘッド41が、X方向(図1(a)におけるX方向、ネイルプリント装置1の左右方向)に移動するようになっている。
また、X方向移動ステージ45は、Y方向移動ステージ47のY方向移動部471に固定されている。Y方向移動部471は、Y方向移動モータ48の駆動によりY方向移動ステージ47上を図示しないガイドに沿ってY方向に移動するようになっており、これにより、ユニット支持部材44に取り付けられている描画ヘッド41が、Y方向(図1(b)におけるY方向、ネイルプリント装置1の前後方向)に移動するようになっている。
なお、本実施形態において、X方向移動ステージ45及びY方向移動ステージ47は、X方向移動モータ46、Y方向移動モータ48と、図示しないボールネジ及びガイドとを組み合わせることで構成されている。
本実施形態では、X方向移動モータ46及びY方向移動モータ48等により、描画ヘッド41をX方向及びY方向に駆動するXY駆動部としてのヘッド移動部49が構成されている。
描画機構40における描画ヘッド41、X方向移動モータ46、Y方向移動モータ48は、後述する制御装置80の描画制御部814(図2参照)に接続され、該描画制御部814によって制御されるようになっている。
また、撮影機構50は、撮像装置51と、照明装置52とを備えている。
この撮影機構50は、指受入部31内に挿入されて窓部から見える爪T(爪Tを含む印刷指U1)を照明装置52によって照明する。そして、撮像装置51によってその印刷指U1を撮影して、印刷指U1の画像である爪画像(爪Tの爪画像を含む指の画像)を得るものである。
図1(a)及び図1(b)に示すように、本実施形態において、撮像装置51及び照明装置52は、上部機枠12に設けられている。
すなわち、上部機枠12には基板13が設置されており、撮影機構50を構成する撮像装置51及び照明装置52は、この基板13の下面に、隔壁116に対向するように設けられている。
なお、基板13に取り付けられている撮像装置51及び照明装置52の位置は図示例に限定されない。
撮像装置51は、例えば、200万画素程度以上の画素を有する固体撮像素子とレンズ等を備えて構成された小型撮像装置である。
本実施形態では、撮影機構50の撮像装置51によって、爪Tを含む印刷指U1を撮影して爪画像が取得される。
後述する爪情報検出部812は、この爪画像を用いて印刷指U1及び描画対象である爪Tの位置や形状(爪Tの輪郭)、爪Tの縦横比等を検出するようになっている。
照明装置52は、例えば白色LED等の照明装置である。
本実施形態では、撮像装置51の両側、手前側及び奥側に撮像装置51を囲むように4つの照明装置52が配置されている。照明装置52は、下方に向けて光を照射して、撮像装置51の下方の撮影範囲を照明する。
なお、照明装置52を設ける数や、その配置等は図示例に限定されない。
この撮影機構50は、後述する制御装置80の撮影制御部811(図2参照)に接続され、該撮影制御部811によって制御されるようになっている。
なお、撮影機構50によって撮影された画像(すなわち、爪画像)の画像データは、後述する記憶部82の爪画像記憶領域821に記憶される。
制御装置80は、例えば上部機枠12に配置された基板13等に設置されている。
図2は、本実施形態における制御構成を示す要部ブロック図である。
制御装置80は、図2に示すように、図示しないCPU(Central Processing Unit)により構成される制御部81と、ROM(Read Only Memory)及びRAM(Random Access Memory)等(いずれも図示せず)で構成される記憶部82とを備えるコンピュータである。
記憶部82には、ネイルプリント装置1を動作させるための各種プログラムや各種データ等が格納されている。
具体的には、記憶部82のROMには、印刷指U1の位置や形状(輪郭)、爪Tの位置や形状(輪郭)、爪Tの縦横比等の検出を行うための爪情報検出プログラム、ネイルデザインの画像データに曲面補正等を行って描画用のデータを生成するための描画データ生成プログラム、描画処理を行うための描画プログラム等の各種プログラムが格納されており、これらのプログラムが制御装置80によって実行されることによって、ネイルプリント装置1の各部が統括制御されるようになっている。
また、本実施形態において記憶部82には、撮影機構50によって取得されたユーザの印刷指U1の爪Tの爪画像を記憶する爪画像記憶領域821、爪情報検出部812によって検出された爪情報(印刷指U1の輪郭や爪Tの輪郭、爪Tの縦横比等)が記憶される爪情報記憶領域822、及び描画対象である爪Tに描画されるネイルデザインの画像データ(これを単に「デザインデータ」ともいう。)を記憶するネイルデザイン記憶領域823、後述する爪Tの曲面補正レベルに応じた補正を行う際に必要なデータを記憶する補正用データ記憶領域824等が設けられている。
制御部81は、機能的に見た場合、撮影制御部811、爪情報検出部812、描画データ生成部813、描画制御部814、表示制御部815等を備えている。これら撮影制御部811、爪情報検出部812、描画データ生成部813、描画制御部814、表示制御部815等としての機能は、制御部81のCPUと記憶部82のROMに記憶されたプログラムとの共働によって実現される。
撮影制御部811は、撮影機構50の撮像装置51及び照明装置52を制御して撮像装置51により、指受入部31に挿入された印刷指U1の画像(爪Tの画像を含む印刷指U1の画像、以下「爪画像」という。)を撮影させるものである。
撮影機構50により取得された爪画像の画像データは、記憶部82の爪画像記憶領域821に記憶される。
なお、以下においては、撮影機構50により取得された爪画像から印刷指U1や爪Tの輪郭、爪Tの縦横比等を爪情報として検出する場合について説明するが、爪画像から検出される爪情報はこれに限定されず、例えば爪Tの曲率等も爪画像に基づいて検出されてもよい。
爪情報検出部812は、撮影機構50の撮像装置51によって取得された爪Tを含む印刷指U1の画像である爪画像から、印刷指U1の領域を画する指の輪郭や、描画対象である爪Tの領域を画する爪Tの輪郭(爪形状)、描画対象である爪T表面の爪幅方向における湾曲の程度を示す曲面レベル等を検出する。
爪情報検出部812による爪情報の検出手法は、例えば、印刷指U1や爪Tと背景(本実施形態では、指載置部116a)との色の差を印刷指U1や爪Tの形状(輪郭)を検出する。また、爪Tと印刷指U1との色の差や陰影の付き方等から爪Tと印刷指U1の皮膚との境界を検出し、爪Tの形状(輪郭)を取得する。
また、例えば撮影機構50において、照明装置52による光の照射角度等を変えながら複数回撮影を行い、複数枚の爪画像が取得されている場合には、爪情報検出部812は、爪画像に現れる陰影の程度等に基づいて、爪T表面の幅方向における湾曲の程度がどの程度であり、その程度の補正が必要であるかを示す曲面補正レベルを取得する。この曲面補正レベルは、後述する図4(a)に示すように、爪T表面の水平方向の所定間隔毎の位置の湾曲の程度、すなわち爪T表面の水平方向に対する傾斜の程度、に対応する情報を含んでいる。
なお、爪情報検出部812による爪情報の検出手法は、ここで例示したものに限定されず、各種の手法を用いることが可能である。また、爪情報検出部812が曲面レベルを検出するとしたが、この曲面補正レベルは爪情報検出部812が検出する態様に限るものではなく、例えば予め曲面補正レベルの標準的な値が設定されていてもよく、ユーザがその曲面補正レベルの設定値を変更可能となっていてもよい。
図3は、描画対象である爪Tを示す模式図である。
図3では、描画対象面である爪Tの爪表面を上方から見た平面図と、爪Tを先端側から見た正面図とを1つの図の中に示し、爪表面を上方から平面的に見た場合の見かけ上の爪幅寸法をWとしている。
また、比較的平坦で曲面補正を必要としない爪幅方向のほぼ中央部の領域を「無補正領域C」、湾曲していて曲面補正が必要な爪幅方向の両端部のうち、左側端部の領域を「左補正領域LE」、右側端部の領域を「右補正領域RE」としている。
図3に示すように、描画対象面である爪Tの表面は、幅方向の一端側端部E1と他端側端部E2との高さが相対的に低く、幅方向の中央部の高さが相対的に高くなるように湾曲している。これに対し、描画ヘッド41を爪Tの幅方向に沿って、一端側端部E1から他端側端部E2に向かう方向に移動(走査)させながらインク液滴を吐出させた場合、吐出されたインク液滴の進行方向(吐出方向)は、図3のdに示すように、鉛直方向に対して描画ヘッド41の移動方向に向かって傾斜した方向となる。このため、爪Tの表面の、描画ヘッド41の移動方向に沿って登り傾斜となる領域に対する走査(これを「第1走査」という。)では描画ヘッド41から吐出されたインク液滴が爪Tの表面の高さの低い部分にも良好に着弾する。これに対して、爪Tの表面の、描画ヘッド41の移動方向に沿って下り傾斜となる領域に対する走査(これを「第2走査」という。)では描画ヘッド41(図3の上側に一点鎖線で示す。)から吐出されたインク液滴の進行方向dと爪Tの表面の傾斜方向との角度差が小さくなる。そのため、インク液滴が着弾し難くなったり、着弾位置が乱れたりして、インク液滴の着弾が不良となってしまう。
そこで本実施形態では、爪Tの幅方向の長さをWとした場合に、爪Tの幅方向の中央部は補正のいらない無補正領域Cとし、この無補正領域Cの左側の所定の幅領域を左補正領域LEとし、無補正領域Cの右側の所定の幅領域を右補正領域REとして、左補正領域LE及び右補正領域REにおいて補正を行うようにしている。
具体的には、爪情報検出部812は、図4(a)に示すように、爪Tの湾曲程度から、曲面補正レベルを0~5の6段階のうちのいずれかに分類する。爪情報検出部812が曲面補正レベルの分類を行う手法は特に限定されないが、例えば、記憶部82の補正用データ記憶領域824には、曲面補正レベルを分類するための閾値等が記憶されており、爪情報検出部812は爪Tの表面形状を検出すると、当該ユーザの爪Tがいずれの曲面補正レベルに分類されるかを、閾値を参照しながら決定する。なお、曲面補正レベルはここに示す6段階に限定されず、3段階等少なくてもよいし、7段階以上にさらに細かく分類されてもよい。
図4(a)では、ほぼ平坦に近い爪T表面の曲面レベルを「曲面補正レベル0」とし、比較的湾曲の少ない全体に平坦な爪T表面の曲面レベルを「曲面補正レベル1」とし、比較的大きく湾曲した爪T表面の曲面レベルを「曲面補正レベル5」とし、そのほぼ中間の一般的・標準的な爪T表面の曲面レベルを「曲面補正レベル2」「曲面補正レベル3」として、それぞれ閾値を設けて分類している。
また、図4(b)に示すように、各曲面補正レベル0~5について、それぞれ補正範囲を対応付けたテーブルが補正用データ記憶領域824に記憶されている。
補正範囲は、補正を行う領域の幅を爪幅Wに占める割合(%)で規定したものである。
例えば、爪Tが曲面補正レベル1に分類された場合には、爪Tの左端部から5%の幅領域が左補正領域LEとされ、爪Tの右端部から5%の幅領域が右補正領域REとされ、これ以外の中央部分が無補正領域Cとなる。
また、爪Tが曲面補正レベル5に分類された場合には、爪Tの左端部から25%の幅領域が左補正領域LEとされ、爪Tの右端部から25%の幅領域が右補正領域REとされ、これ以外の中央部分が無補正領域Cとなる。
描画データ生成部813は、描画ヘッド41により印刷指U1の爪Tにネイルデザインの描画を施すのに必要なデータを生成するものである。描画データ生成部813は、ユーザによって選択されたネイルデザインをユーザの爪形状に合せ込むとともに、爪情報検出部812により検出された曲面補正レベルに応じて、複数回の走査においていずれの画素を描画するのか(すなわち、描画ヘッド41のインク吐出部411のうち、いずれの画素に対応するノズルを駆動させるのか)を制御するための描画用データを生成する。
また、描画制御部814は、描画データ生成部813により生成された描画用データに基づいて適宜複数のノズルの全部又は一部を駆動させながら描画対象面である爪表面上で描画ヘッド41を複数回走査させ、画像を形成させるように描画ヘッド41を制御する。
本実施形態では、爪Tの上で描画ヘッド41を往復移動させながら、4回の走査(4パス)で画像を形成させるようになっている。
描画制御部814は、描画データ生成部813によって生成された描画用データに基づいて描画機構40に制御信号を出力し、爪Tに対してこの描画データにしたがった描画を施すように描画機構40のX方向移動モータ46、Y方向移動モータ48、描画ヘッド41等を制御する。
本実施形態では、描画データ生成部813及び描画制御部814により描画機構40の描画動作を制御する制御部が構成されている。
本実施形態では、描画機構40は、描画対象面である爪Tの表面を爪Tの幅方向の一端側から他端側に亘って偶数回走査することで描画対象面に描画を行うようになっている。
そしてこのとき、描画機構40の描画動作を制御する制御部である描画データ生成部813及び描画制御部814は、描画機構40の走査により描画される画素を描画画素として、描画対象面(爪Tの表面)における描画ヘッド41の移動方向に沿って登り傾斜となる領域に対する走査(第1走査)では、描画機構40により当該第1走査において描画される描画画素の量を、第1走査の始点から描画ヘッド41の移動方向に沿って多量から少量へ減少させるように変化させる。
また、描画対象面(爪Tの表面)における描画ヘッド41の移動方向に沿って下り傾斜となる領域に対する走査(第2走査)では、描画機構40により当該走査において描画される描画画素の量を、第2走査の始点から、少なくとも第1走査の終点における量から描画ヘッド41の移動方向に沿って減少させるように変化させる。
さらに、偶数回の走査において対をなす走査、すなわち、一端側から他端側に走査する往路の際の第1走査における描画画素の量の変化と、他端側から一端側に走査する復路の際の第2走査における描画画素の量の変化とが互いに補完し合うように描画機構40の描画動作を制御する。
以下、図5から図11を参照しつつ、描画データ生成部813及び描画制御部814による描画機構40の描画動作の制御について説明する。
図5は、本実施形態において描画機構の各走査における描画画素の割合を示す説明図である。
ここでは、爪幅がW、曲面補正レベルが4で、補正範囲が20%とされる場合であり、図5における描画ヘッド41が左から右に向かって移動(移動方向R)して描画する場合、爪Tの幅方向の左側端部からW×20/100の領域を左補正領域LEとする。また、図5における描画ヘッド41が右から左に向かって移動(移動方向L)して描画する場合、爪Tの幅方向の右側端部からW×20/100の領域を右補正領域REとし、これ以外の爪幅Wの60%にあたる中心部分を、補正を行わない無補正領域Cとする。
そして、爪Tの表面である描画対象面の単位領域Pを4回の走査(パス)でシングリング印刷する場合を例として説明する。
ここで、図5等においては、1パス目(1走査目)は、描画ヘッド41が左から右(図5において左から右)に移動することにより走査され、描画ヘッド41の移動方向(描画方向)は右方向Rとなる。このときの描画を図5等において「L2R1」とする。また、2パス目(2走査目)は、描画ヘッド41が右から左(図5において右から左)に移動することにより走査され、描画ヘッド41の移動方向(描画方向)は左方向Lとなる。このときの描画を図5等において「R2L2」とする。同様に、3パス目(3走査目)は、描画ヘッド41が左から右(図5において左から右)に移動することにより走査され、描画ヘッド41の移動方向(描画方向)は右方向Rとなる。このときの描画を図5等において「L2R3」とする。また、4パス目(4走査目)は、描画ヘッド41が右から左(図5において右から左)に移動することにより走査され、描画ヘッド41の移動方法(描画方向)は左方向Lとなる。このときの描画を図5等において「R2L4」とする。
従来の一般的な手法によれば、1パス目(1走査目)から4パス目(4走査目)の各走査において、爪Tの幅方向の全域で、描画するデザイン画像を構成する全画素のうちの25%の画素ずつを描画していき、4回のパス(走査)によって全画素の描画が行われるようにする。
これに対し、本実施形態では、爪Tの幅方向の両端部に設定された左補正領域LE及び右補正領域REにおいて、描画するデザイン画像を構成する全画素のうちの各走査において描画機構40により描画する画素(以下、描画画素とも記す)の量を、各走査における描画ヘッド41の移動に伴って変化させるようになっている。
すなわち、本実施形態では、図5に示すように、左側から右側(図5において移動方向R)への1パス目(1走査目)のL2R1において、左補正領域LEでは、左補正領域LEの始点(すなわち、左側端部)においては、デザイン画像を構成する全画素のうちの描画画素の割合を50%とし、左補正領域LEの終点(すなわち、左補正領域LEにおける無補正領域Cとの境界側)では、描画画素の割合を25%とし、左補正領域LEの始点から終点にかけて、描画画素の割合を50%から25%に変化させる。
そして、無補正領域Cでは描画画素の割合を25%とする。
さらに、1パス目(1走査目)のL2R1において、右補正領域REでは、右補正領域REの始点(すなわち、右補正領域REにおける無補正領域Cとの境界側である左側端部)においては、描画画素の割合を25%とし、右補正領域REの終点では、描画画素の割合を0%とし、右補正領域REの始点から終点にかけて、描画画素の割合を25%から0%に変化させる。
これにより、図5において1パス目(1走査目)のL2R1として示すように、左補正領域LEでは、左側端部において描画画素の割合を50%とし、描画画素の割合を徐々に25%まで減少させながら描画し、無補正領域Cでは描画画素の割合を25%として描画し、右補正領域REでは、描画画素の割合を25%から徐々に0%まで減少させながら描画を行う。
また、この1パス目(1走査目)のL2R1と対をなす走査である右側から左側(図5において移動方向L)への2パス目(2走査目)のR2L2では、右補正領域REの始点(すなわち、右側端部)においては、描画画素の割合を50%とし、右補正領域REの終点(すなわち、右補正領域REにおける無補正領域Cとの境界側)においては、描画画素の割合を25%とし、右補正領域REの始点から終点にかけて、描画画素の割合を50%から25%に変化させる。
そして、無補正領域Cでは描画画素の割合を25%とする。
さらに、2パス目(2走査目)のR2L2において、左補正領域LEでは、左補正領域LEの始点(すなわち、左補正領域LEにおける無補正領域Cとの境界側である右側端部)において、描画画素の割合を25%とし、左補正領域LEの終点では、描画画素の割合を0%とし、左補正領域LEの始点から終点にかけて、描画画素の割合を25%から0%に変化させる。
これにより、図5において2パス目(2走査目)のR2L2として示すように、右補正領域REでは、右側端部において描画画素の割合を50%とし、描画画素の割合を徐々に25%まで減少させながら描画し、無補正領域Cでは描画画素の割合を25%として描画し、左補正領域LEでは、描画画素の割合を25%から徐々に0%まで減少させながら描画を行う。
この結果、図5に示す1パス目(1走査目)のL2R1における描画画素量の模式的な推移図と2パス目(2走査目)のR2L2における描画画素量の模式的な推移図とを爪Tの幅方向の両端部の形状が嵌り合うように、L2R1における描画画素量の模式的な推移図を上下反転させて重ね合わせると、1パス目と2パス目とによる描画画素の割合は、左側端部から右側端部間の全体に亘ってほぼ均一に50%となる。
すなわち、爪Tの幅方向の一端側から他端側に走査する往路の際の第1走査(図5ではL2R1)において描画されなかった画素(非描画画素)を他端側から一端側に走査する復路の際の第2走査(図5ではR2L2)において描画することで、往路の際の第1走査(図5ではL2R1)ける描画画素の割合の変化と、復路の際の第2走査(図5ではR2L2)における描画画素の割合の変化とが、互いに補完し合う関係となる。
なお、このことは、図5に示す3パス目(3走査目)のL2R3と4パス目(4走査目)のR2L4との間でも同様である。
このように、本実施形態では、爪Tの幅方向に沿って走査する往路と復路の両方向において描画が可能であり、その一部において、一方向の走査時においてのみ描画が行われる領域が存することとなる。
そして、描画機構40の描画動作を制御する制御部である描画データ生成部813及び描画制御部814は、描画対象面である爪Tの表面の湾曲の程度(すなわち、曲面補正レベル)に応じて描画画素量の補正を行う補正範囲を調整し、描画機構40による描画画素の量の変化の程度を制御するようになっている。
また、本実施形態では、描画データ生成部813及び描画制御部814は、図5における描画画素量の模式的な推移図に示すように、描画機構40による描画画素の量をリニアに変化させるように制御する。このため、描画画素の量を調整する領域(すなわち、左補正領域LE及び右補正領域RE)と調整しない領域(すなわち、無補正領域C)との間に筋等が現れにくく、美しい仕上がりのネイルプリントを行うことができる。
ここで、各走査において描画を行う画素である描画画素と描画を行わない非描画画素との振り分けについて具体的に説明する。
本実施形態において、記憶部の補正用データ記憶領域824等には、ランダムに配列される複数のドットからなるマスクパターン(シングリングマスク)のデータが記憶されており、描画機構40の描画動作を制御する制御部を構成する描画データ生成部813は、このマスクパターンを構成するドットにより描画機構40により描画される描画画素の割合を制御する。
図6にマスクパターン(シングリングマスク)の一例を示す。
マスクパターン(シングリングマスク)は、縦方向及び横方向のそれぞれに256個のドットが配列された正方形の領域を有し、65536個のドットがこの領域内にランダムかつ均一に配列されている。各ドットは描画機構40による描画における解像度と同じ密度で配置されている。そして、各ドットには0から255の数値の何れか割り当てられており、各数値が割り当てられているドットがそれぞれ256個あり、それぞれが領域内にランダムかつ均一に配列されている。また、実際の描画対象面に対しては、描画対象面の全体をカバーするように複数のマスクパターンが適用される。
そして、このマスクパターンに対して、各ドットに割り当てられている数値に対する閾値を設定することにより、その閾値に対応するドットを抽出することができ、デザイン画像を構成する全画素のうちの抽出したドットに対応する画素を、描画機構40により描画する描画画素に設定し、それ以外を描画機構40により描画を行わない非描画画素に設定する。すなわち、図6に示すように、閾値を0から12に設定した場合には描画画素の割合は5%となり、閾値を0から25に設定した場合には描画画素の割合は10%となり、閾値を0から38に設定した場合には描画画素の割合は15%となり、閾値を0から63に設定した場合には描画画素の割合は25%となり、閾値を0から255に設定した場合には描画画素の割合は100%となる。なお、上記の閾値の範囲は一例であり、例えば閾値を64から127に設定した場合でも、閾値を128から191に設定した場合でも、閾値を192から255に設定した場合でも、描画画素の割合は25%となる。また、閾値の範囲が異なると、マスクパターンにおける対応するドットの位置も異なることになる。
このマスクパターン(シングリングマスク)では、全てのドットがランダムかつ均一に配列されているため、これに閾値を適用して各走査における描画画素を設定した場合に、描画画素の割合が多いときも少ないときも、図6に示すように、均等な濃度となるようにされる。
一般的な描画手法としては、このようなマスクパターンに対して閾値を設定したテーブルを準備し、このテーブルに基づいて、1パス目(1走査目)では閾値を0から63に設定して、描画画素の割合を25%として描画し、2パス目(2走査目)では閾値を64から127に設定して、描画画素の割合を25%として描画し、3パス目(3走査目)では閾値を128から191に設定して、描画画素の割合を25%として描画し、4パス目(4走査目)では閾値を192から255に設定して、描画画素の割合を25%として描画することとなる。
これに対して、本実施形態では、図7及び図8に示すように、1パス目(1走査目)のL2R1時において、左補正領域LEの間では、マスクパターンに対する閾値を0から127に設定した状態から閾値を0から64に設定した状態まで徐々に変化させ、無補正領域Cの間では閾値を0から63に設定する。そして、右補正領域REの間では、閾値を0から63に設定した状態から閾値を0に設定した状態まで徐々に変化させて、それぞれにおいて閾値に対応して描画画素の割合を設定して、描画機構40による描画を行う。
2パス目(2走査目)のR2L2時において、右補正領域REの間では、閾値を0から127に設定した状態から閾値を64から127に設定した状態まで徐々に変化させていく。無補正領域Cの間では閾値を64から127に設定する。そして、左補正領域LEの間では閾値を64から127に設定した状態から閾値を127に設定した状態へ徐々に変化させて、それぞれにおいて閾値に対応して描画画素の割合を設定して、描画機構40による描画を行う。すなわち、1パス目の描画画素と2パス目の描画画素は互いに異なっている。
また、3パス目(3走査目)のL2R3において、左補正領域LEの間では、閾値を128から255に設定した状態から閾値を128から191に設定した状態まで徐々に変化させ、無補正領域Cの間では閾値を128から191に設定する。そして、右補正領域REの間では閾値を128から191に設定した状態から閾値を128に設定した状態へ徐々に変化させて、それぞれにおいて閾値に対応して描画画素の割合を設定して、描画機構40による描画を行う。
さらに、4パス目(4走査目)のR2L4時において、右補正領域REの間では、閾値を128から255に設定した状態から閾値を192から255に設定した状態まで徐々に変化させ、無補正領域Cの間では閾値を192から255に設定する。そして、左補正領域LEの間では、閾値を192から255に設定した状態から閾値を255に設定した状態へ徐々に変化させて、それぞれにおいて閾値に対応して描画画素の割合を設定して、描画機構40による描画を行う。ここで、3パス目及び4パス目の描画画素は1パス目及び2パス目の描画画素とは異なり、3パス目の描画画素と4パス目の描画画素は互いに異なっている。
表示制御部815は、表示装置26を制御して表示装置26に各種の表示画面を表示させるものである。本実施形態では、表示制御部815は、例えばネイルデザインの選択画面やデザイン確認用のサムネイル画像、印刷指U1を撮影して取得した爪画像、各種の指示画面、操作画面等を表示装置26に表示させるようになっている。
なお、ユーザの爪T表面の曲面レベルが決定されると、これを表示装置26に表示させてユーザに確認を求めるようにしてもよい。この場合、ユーザが装置側で自動的に選択された曲面レベルが自分の爪Tに合っていないと判断するときは、操作部25やタッチパネル等から曲面レベルを変更したり、微調整を行ったりすることができてもよい。
次に、図9から図11を参照しつつ、本実施形態におけるネイルプリント装置1による描画方法について説明する。
図9は、ネイルプリント装置による描画処理の全体の流れを示すフローチャートである。
このネイルプリント装置1により描画を行う場合、ユーザはまず、電源スイッチを入れて制御装置80を起動させる。
描画スイッチから指示が入力されると、描画動作を開始する前に、まず撮影制御部811が撮影機構50を制御して、照明装置52により印刷指U1を照明しながら撮像装置51により印刷指U1を撮影させる。これにより、撮影制御部811は、印刷指U1の爪Tの撮影画像(爪画像)を取得する(ステップS1)。
次に爪情報検出部812が爪画像から、爪Tの輪郭や爪Tの高さ方向の位置等の爪情報を検出する(ステップS2)。
さらに、爪情報検出部812は爪情報から描画対象である爪Tの爪幅方向における湾曲の程度を示す曲面補正レベルを取得する(ステップS3)。
爪Tについて曲面補正レベルが取得されると、描画データ生成部813は、この曲面補正レベルに応じて設定された補正範囲を決定する(ステップS4)。
さらに、描画データ生成部813は、曲面補正レベルに応じて設定された補正範囲等に基づくとともに、爪の形状等の爪情報を考慮して描画用画像データを生成する(ステップS5)。
描画データ生成部813により、描画用画像データが生成されると、描画制御部814はこれに基づいて描画ヘッド41の動作を制御し、爪Tへのネイルデザインの描画処理を開始する(ステップS6)。
次に、図10及び図11に基づいて、描画処理について説明する。
描画処理が開始されると、図10に示すように、描画制御部814は、当該描画が1パス目(1走査目)のL2R1であるか否かを判断する(ステップS11)。そしてL2R1の描画である場合(ステップS11;YES)には、L2R1に対応した描画処理を行うように描画機構40を制御する(ステップS12)。
すなわち、左補正領域LEにおいては始点(すなわち、左側端部)から終点にかけては、描画画素の割合を50%から25%まで徐々に減少させていき、無補正領域Cでは描画画素の割合を25%とし、右補正領域REでは描画画素の割合を25%から0%まで徐々に減少させていく補正処理を行いながら、描画処理を行う。
ここで、1パス目(1走査目)のL2R1の描画処理を行う場合の処理について、図11を参照しつつ説明する。
1パス目(1走査目)のL2R1の描画処理を行う場合、図11に示すように、描画制御部814は、描画位置が左補正領域LEか否かを判断する(ステップS21)。そして描画位置が左補正領域LEである場合(ステップS21;YES)には、左補正領域LEに対応する描画画素の割合で描画を行う(ステップS22)。すなわち、左補正領域LEにおいては始点(すなわち、左側端部)から終点にかけて、描画画素の割合を50%から25%まで徐々に減少させて描画を行う。
他方、描画位置が左補正領域LEでない場合(ステップS21;NO)には、描画制御部814は、描画位置が無補正領域Cか否かを判断する(ステップS23)。そして描画位置が無補正領域Cである場合(ステップS23;YES)には、無補正領域Cに対応する描画画素量で描画を行う(ステップS24)。すなわち、無補正領域Cでは描画画素の割合を25%として描画を行う。
他方、描画位置が無補正領域Cでない場合(ステップS23;NO)には、描画制御部814は、さらに描画位置が右補正領域REか否かを判断する(ステップS25)。そして描画位置が右補正領域REである場合(ステップS25;YES)には、右補正領域REに対応する描画画素の割合で描画を行う(ステップS26)。すなわち、右補正領域REでは描画画素の割合を25%から0%まで徐々に減少させていく補正処理を行いながら描画処理を行う。
なお、R2L2からR2L4の描画を行う場合も上記とほぼ同様の処理が行われる。
他方、図10に戻り、L2R1の描画でない場合(ステップS11;NO)には、描画制御部814は、当該描画が2パス目(2走査目)のR2L2であるか否かを判断する(ステップS13)。そしてR2L2の描画である場合(ステップS13;YES)には、R2L2に対応した描画処理を行うように描画機構40を制御する(ステップS14)。
すなわち、右補正領域REにおいては始点(すなわち、右側端部)から終点にかけては、描画画素の割合を50%から25%まで徐々に減少させていき、無補正領域Cでは描画画素の割合を25%とし、左補正領域LEでは描画画素の割合を25%から0%まで徐々に減少させていく補正処理を行いながら描画処理を行う。
他方、R2L2の描画でない場合(ステップS13;NO)には、描画制御部814は、当該描画が3パス目(3走査目)のL2R3であるか否かを判断する(ステップS15)。そしてL2R3の描画である場合(ステップS15;YES)には、L2R3に対応した描画処理を行うように描画機構40を制御する(ステップS16)。
すなわち、この場合には、1パス目(1走査目)のL2R1である場合と同様に、左補正領域LEにおいては、始点(すなわち、左側端部)から終点にかけては、描画画素の割合を50%から25%まで徐々に減少させていき、無補正領域Cでは描画画素の割合を25%とし、右補正領域REでは描画画素の割合を25%から0%まで徐々に減少させていく補正処理を行いながら描画処理を行う。
他方、L2R3の描画でない場合(ステップS15;NO)には、描画制御部814は、当該描画が4パス目(4走査目)のR2L4であると判断し、R2L4に対応した描画処理を行うように描画機構40を制御する(ステップS17)。
すなわち、この場合には、2パス目(2走査目)のR2L2である場合と同様に、右補正領域REにおいては、始点(すなわち、右側端部)から終点にかけては、描画画素の割合を50%から25%まで徐々に減少させていき、無補正領域Cでは描画画素の割合を25%とし、左補正領域LEでは描画画素の割合を25%から0%まで徐々に減少させていく補正処理を行いながら描画処理を行う。
このようにして、描画対象面について、1パス目(1走査目)のL2R1から4パス目(4走査目)のR2L4の描画処理が終了すると、図9のステップS6の描画処理を終了する。
次に、図9に戻り、描画制御部814は、爪Tについて全ての描画処理が終了したか否かを常に判断し(ステップS7)、描画処理が終了した場合(ステップS7;YES)には処理を終了し、終了していない(すなわち、描画ヘッドによる4回の走査が終了していない)場合(ステップS7;NO)には、ステップS6に戻って処理を繰り返す。
以上のように、本実施形態によれば、ネイルプリント装置1は、互いに異なる第1方向と第2方向とに沿って移動しながら描画対象面である爪Tの表面に描画を行う描画ヘッド41を有し、描画ヘッド41は、描画対象面(爪Tの表面)が第1方向に対して登り傾斜となり第2方向に対して下り傾斜となる第1領域を有している場合に、第1方向に沿って移動する第1走査と第2方向に沿って移動する第2走査とにより、第1領域に描画予定の画像を構成する複数の第1の画素の少なくとも一部を描画する。そして、制御装置81は、第1領域に描画予定の画像を構成する複数の画素に対する第1走査で描画ヘッド41が描画する画素の割合を、第2走査で描画ヘッド41が描画する画素の割合より多くするように制御するようになっている。
登り傾斜における走査では、インク液滴の着弾が乱れないため、着弾させる画素数(すなわち、描画画素量、描画量)を多くしても高精細に描画を施すことができる。他方で、下り傾斜における走査では、描画ヘッド41からインクを吐出させてもうまく着弾しないこともあり、また着弾してもその着弾位置が乱れやすい。
この点、着弾が乱れる場面では描画量(描画画素量)を減らし、良好に着弾させることのできる側からの描画量(描画画素量)を多くすることにより、描画の仕上がりを良くすることができる。
また、登り傾斜における第1走査と下り傾斜における第2走査とで、描画画素の量の変化が互いに補完し合うように描画動作を制御している。このため、
着弾の乱れを防ぐために描画量(描画画素量)を減らした部分は、当該走査と対をなす走査において画素を描画することができ、爪Tの幅方向を全体として見たときの濃度のばらつきも生じず、高精細な描画を実現することができる。
偶数回の走査において対をなす2回の走査(例えば移動方向Rへの往路と移動方向Lの復路)の第1走査と第2走査とで描画画素の量の変化を補完し合うため、最低限描画ヘッド41を1往復させることで濃度むらのない画像形成を可能とする。
また、本実施形態のように、描画対象面が幅方向の一端側端部と他端側端部との高さが低く、幅方向の中央部の高さが高くなるように湾曲する爪の表面である場合に描画量(描画画素量)の制御を行うことができるため、美しいネイルプリントを実現することができる。
また、本実施形態では、描画対象面(爪Tの表面等)の湾曲の程度に応じて描画機構40による描画画素の量の変化の程度を制御することができる。
爪Tの湾曲形状は人によって様々であるところ、このように、湾曲の程度を考慮して制御を行うことにより、どのような形状の爪Tにも適切な補正を行って、高精細なネイルデザインを実現することができる。
また、本実施形態では、描画機構40により描画される描画画素の量をリニアに変化させるようになっている。
このため、描画画素の量の調整を行った箇所において筋が現れたりせず、美しい仕上がりとすることができる。
また、本実施形態では、それぞれに複数の数値のいずれかが割り当てられてランダムに配列される複数のドットからなるマスクパターンを有し、このマスクパターンを構成する各ドットに割り当てられている数値に対する閾値を設定することにより描画機構により描画される描画画素の量を制御している。
このため、描画画素を均一に配置することができ、むらのない描画を行うことができる。
なお、以上本発明の実施形態について説明したが、本発明は、かかる実施形態に限定されず、その要旨を逸脱しない範囲で、種々変形が可能であることは言うまでもない。
例えば、本実施形態では、図5に示すように、左補正領域LEにおいては始点(すなわち、左側端部)から終点にかけては、描画画素とする量を50%から25%までリニアに減少させていき、右補正領域REにおいても描画画素とする量を25%から0%までリニアに減少させていく場合を例示したが、偶数回の走査のうち、左補正領域LEと右補正領域REとの対応する部分において全ての画素が埋まるように補完し合うような構成となっていればよく、各領域における描画画素の設定の仕方は本実施例の場合に限定されない。
例えば、図12(a)に示すように、左補正領域LEにおいては始点(すなわち、左側端部)から所定の範囲内は50%を描画画素とし、右補正領域REにおけるこれに対応する部分は0%としてもよい。
さらに、図12(b)に示すように、左補正領域LE内は全て50%を描画画素とし、これに対応する右補正領域RE内は全て描画画素を0%として、下り傾斜の部分では描画を行わないようにしてもよい。
リニアに変化していない部分がある場合、当該箇所で境界部分に筋が現れるおそれがあるが、描画するデザイン等によっては境界部分における筋が気にならない場合もあり、全体として描画対象面の両端部と中央部等の濃度がそろっていれば美しい仕上がりに見せることができる。
また、登り傾斜部分に対応する補正領域と下り傾斜部分に対応する補正領域とにおいて互いに補完し合うように補正が行われていればよく、例えば、図12(c)に示すように曲面に沿う方向の一端側から他端側まで全体的にリニアに描画画素量が変化していくようにしてもよい。この場合には無補正領域Cがない構成となる。
このように全体がリニアに変化する場合でも、対となる走査間において描画画素に偏り等がないように補完し合う構成とすれば、全体として美しい仕上がりを実現することができる。
また、本実施形態では、図5に示すように描画画素量が直線的に変化する場合を例示したが、描画画素量の変化は直線的なものに限定されず、例えば曲線を描くものであってもよい。
この場合も対となる走査間において互いに補完し合う形状の曲線を描くように描画画素量の変化を設定すれば、むらのない美しい仕上がりとすることができる。
さらに、本実施形態では、描画対象面の単位領域Pを4回のパス(走査)で描画する場合を例示したが、描画対象面の単位領域Pを描画するためのパス数は4回に限定されない。互いに補完し合うことのできる一対の走査があるように構成すればよく、偶数回の走査であれば、2回でもよく、6回以上でもよい。
また、本実施形態では、図9等に示すように描画ヘッド41のインク吐出部411がAr1~Ar4の4つの領域に分けられている場合を例示したが、インク吐出部411の構成はこれに限定されない。さらに多くの領域に分割されていてもよい。
また、本実施形態では、図6に示すようなマスクパターン(シングリングマスク)を用いて、各走査において描画する描画画素と描画しない非描画画素とを振り分ける場合を例示したが、各走査において描画する描画画素と描画しない非描画画素とを振り分ける手法はこれに限定されず、描画する画素(これに対応するノズル)を間引きながら印刷を行う各種の手法を適用することも可能である。
また、本実施形態では、ネイルデザインの画像データが装置内の記憶部82に記憶されている場合を例示したが、ネイルデザインの画像データは、例えばインターネット等を介して外部装置から取得してもよい。
また、補正等の描画制御を行う制御部についても外部装置に持ち、描画装置自体には制御信号を受けて描画処理を行う機能部のみがあるような構成を採用することも可能である。
また、本実施形態では、描画ヘッド41がインクジェット方式のものである場合を例示して説明したが、描画ヘッドはこれに限定されず、例えば、インクジェット方式の描画ヘッドと、ペン等の描画用具とを両方備え、両者を使って描画を行うものであってもよい。
以上本発明のいくつかの実施形態を説明したが、本発明の範囲は、上述の実施の形態に限定するものではなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲とその均等の範囲を含む。
以下に、この出願の願書に最初に添付した特許請求の範囲に記載した発明を付記する。付記に記載した請求項の項番は、この出願の願書に最初に添付した特許請求の範囲の通りである。
〔付記〕
<請求項1>
互いに異なる第1方向と第2方向とに沿って移動しながら描画対象面に描画を行う描画ヘッドと、
前記描画ヘッドの動作を制御する制御装置と、
を備え、
前記描画ヘッドは、前記描画対象面が前記第1方向に対して登り傾斜となり前記第2方向に対して下り傾斜となる第1領域を有している場合に、前記第1方向に沿って移動する第1走査と前記第2方向に沿って移動する第2走査とにより、前記第1領域に描画予定の画像を構成する複数の第1の画素の少なくとも一部を描画し、
前記制御装置は、前記複数の第1の画素に対する、前記第1走査において前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を、前記第2走査において前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合より多くするように制御する、
ことを特徴とする描画装置。
<請求項2>
前記制御装置は、
前記第1走査において、前記複数の第1の画素のうちの前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させるように制御し、
前記第2走査において、前記複数の第1の画素のうちの、前記第1走査において前記描画ヘッドが描画しなかった前記第1の画素を前記描画ヘッドが描画し、前記複数の第1の画素に対する前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させるように制御する、
ことを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
<請求項3>
前記制御部は、前記第1走査及び前記第2走査において、前記複数の第1の画素に対する前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を前記描画ヘッドの位置に対してリニアに変化させるように制御することを特徴とする請求項2に記載の描画装置。
<請求項4>
前記描画ヘッドは、前記描画対象面が前記第1方向に対して下り傾斜となる第2領域を有している場合に、前記第2領域に描画予定の画像を構成する複数の第2の画素の少なくとも一部を前記第1走査と前記第2走査とにより描画し、
前記制御装置は、
前記第1走査において、
前記第1領域における前記複数の第1の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて、第1の値から前記第1の値より小さい第2の値に減少させ、前記第2領域における前記複数の第2の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第2の画素の割合を、前記第2領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第2の値と同じか前記第2の値より小さい第3の値から前記第3の値より小さい第4の値に減少させ、
前記第2走査において、
前記第2領域における前記複数の第2の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第2の画素の割合を、前記第2領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第1の値から前記第2の値に減少させ、前記第1領域における前記複数の第1の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第3の値から前記第4の値に減少させる、
ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の描画装置。
<請求項5>
前記描画対象面は、前記第1方向に沿った両端に対して前記第1方向に沿った中央部が高く、前記第1方向に沿って湾曲した形状を有し、
前記制御部は、前記描画対象面の前記湾曲の程度に応じて、前記第1領域及び前記第2領域の前記第1方向に沿った長さを設定することを特徴とする請求項4に記載の描画装置。
<請求項6>
前記制御装置は、
それぞれに複数の数値の何れかが割り当てられてランダムに配列されている複数のドットにより構成されるマスクパターンのデータを有し、
前記マスクパターンを構成する前記複数のドットに割り当てられている数値に対する閾値を設定して前記複数のドットの一部を抽出し、抽出した前記ドットに基づいて前記描画ヘッドが描画する前記第1画素及び前記第2画素を設定する、
ことを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の描画装置。
<請求項7>
前記描画対象面は、手の指の爪の表面又は足の指の爪の表面であり、前記第1方向は前記爪の幅方向に沿った方向であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の描画装置。
<請求項8>
前記描画ヘッドは、インクジェット方式により液滴化したインクを吐出することにより前記描画対象面に描画を行うことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の描画装置。
<請求項9>
描画装置の描画方法であって、
前記描画装置は、互いに異なる第1方向と第2方向とに沿って移動しながら描画対象面に描画を行う描画ヘッドを備え、
前記描画対象面が、前記第1方向に対して登り傾斜となり前記第2方向に対して下り傾斜となる第1領域を有している場合に、前記第1領域に描画予定の画像を構成する複数の第1の画素の少なくとも一部を、前記描画ヘッドにより、前記描画ヘッドを前記第1方向に沿って移動させる第1走査と、前記描画ヘッドを前記第2方向に沿って移動させる第2走査と、により描画させ、
前記複数の第1の画素に対する、前記第1走査において前記描画ヘッドにより描画させる前記第1の画素の割合を、前記第2走査において前記描画ヘッドにより描画させる前記画素の割合より多くするように制御することを特徴とする描画方法。
<請求項10>
前記第1走査において、前記複数の第1の画素のうちの前記描画ヘッドにより描画させる前記第1の画素の割合を、前記第1描画領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させ、
前記第2走査において、前記複数の第1の画素のうちの、前記第1走査において描画されなかった前記第1の画素を前記描画ヘッドにより描画させ、前記複数の第1の画素に対する前記描画ヘッドにより描画させる前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させる、
ことを特徴とする請求項9に記載の描画方法。
<請求項11>
前記描画対象面が前記第1方向に対して下り傾斜となる第2領域を有している場合に、前記第2領域に描画予定の画像を構成する複数の第2の画素の少なくとも一部を前記第1走査と前記第2走査とにより描画させ、
前記第1走査において、前記第1領域における前記複数の第1の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて、第1の値から前記第1の値より小さい第2の値に減少させ、前記第2領域における前記複数の第2の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第2の画素の割合を、前記第2領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第2の値と同じか前記第2の値より小さい第3の値から前記第3の値より小さい第4の値に減少させ、
前記第2走査において、前記第2領域における前記複数の第2の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第2の画素の割合を、前記第2領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第1の値から前記第2の値に減少させ、前記第1領域における前記複数の第1の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第3の値から前記第4の値に減少させる、
ことを特徴とする請求項9又は請求項10に記載の描画方法。
1 ネイルプリント装置
40 描画機構
41 描画ヘッド
50 撮影機構
81 制御部
82 記憶部
812 爪情報検出部
813 描画データ生成部
824 補正用データ記憶領域
T 爪
U1 印刷指

Claims (9)

  1. 互いに異なる第1方向と第2方向とに沿って移動しながら描画対象面に描画を行う描画ヘッドと、
    前記描画ヘッドの動作を制御する制御装置と、
    を備え、
    前記描画ヘッドは、前記描画対象面が前記第1方向に対して登り傾斜となり前記第2方向に対して下り傾斜となる第1領域を有している場合に、前記第1方向に沿って移動する第1走査と前記第2方向に沿って移動する第2走査とにより、前記第1領域に描画予定の画像を構成する複数の第1の画素の少なくとも一部を描画し、
    前記制御装置は
    前記複数の第1の画素に対する、前記第1走査において前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を、前記第2走査において前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合より多くするように制御
    前記第1走査において、前記複数の第1の画素のうちの前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させるように制御し、
    前記第2走査において、前記複数の第1の画素のうちの、前記第1走査において前記描画ヘッドが描画しなかった前記第1の画素を前記描画ヘッドが描画し、前記複数の第1の画素に対する前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させるように制御する、
    ことを特徴とする描画装置。
  2. 前記制御装置は、前記第1走査及び前記第2走査において、前記複数の第1の画素に対する前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を前記描画ヘッドの位置に対してリニアに変化させるように制御することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
  3. 互いに異なる第1方向と第2方向とに沿って移動しながら描画対象面に描画を行う描画ヘッドと、
    前記描画ヘッドの動作を制御する制御装置と、
    を備え、
    前記描画ヘッドは、
    前記描画対象面が前記第1方向に対して登り傾斜となり前記第2方向に対して下り傾斜となる第1領域を有している場合に、前記第1方向に沿って移動する第1走査と前記第2方向に沿って移動する第2走査とにより、前記第1領域に描画予定の画像を構成する複数の第1の画素の少なくとも一部を描画し、
    前記描画対象面が前記第1方向に対して下り傾斜となり、かつ、前記第2方向に対して登り傾斜となる第2領域を有している場合に、前記第2領域に描画予定の画像を構成する複数の第2の画素の少なくとも一部を前記第1走査と前記第2走査とにより描画し、
    前記制御装置は、
    前記複数の第1の画素に対する、前記第1走査において前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を、前記第2走査において前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合より多くするように制御し、
    前記第1走査において、
    前記第1領域における前記複数の第1の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて、第1の値から前記第1の値より小さい第2の値に減少させ、前記第2領域における前記複数の第2の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第2の画素の割合を、前記第2領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第2の値と同じか前記第2の値より小さい第3の値から前記第3の値より小さい第4の値に減少させ、
    前記第2走査において、
    前記第2領域における前記複数の第2の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第2の画素の割合を、前記第2領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第1の値から前記第2の値に減少させ、前記第1領域における前記複数の第1の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第3の値から前記第4の値に減少させる、
    ことを特徴とする描画装置。
  4. 前記描画対象面は、前記第1方向に沿った両端に対して前記第1方向に沿った中央部が高く、前記第1方向に沿って湾曲した形状を有し、
    前記制御装置は、前記描画対象面の前記湾曲の程度に応じて、前記第1領域及び前記第2領域の前記第1方向に沿った長さを設定することを特徴とする請求項3に記載の描画装置。
  5. 前記制御装置は、
    それぞれに複数の数値の何れかが割り当てられてランダムに配列されている複数のドットにより構成されるマスクパターンのデータを有し、
    前記マスクパターンを構成する前記複数のドットに割り当てられている数値に対する閾値を設定して前記複数のドットの一部を抽出し、抽出した前記ドットに基づいて前記描画ヘッドが描画する前記第1の画素及び前記第2の画素を設定する、
    ことを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の描画装置。
  6. 前記描画対象面は、手の指の爪の表面又は足の指の爪の表面であり、前記第1方向は前記爪の幅方向に沿った方向であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の描画装置。
  7. 前記描画ヘッドは、インクジェット方式により液滴化したインクを吐出することにより前記描画対象面に描画を行うことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の描画装置。
  8. 描画装置の描画方法であって、
    前記描画装置は、互いに異なる第1方向と第2方向とに沿って移動しながら描画対象面に描画を行う描画ヘッドを備え、
    前記描画対象面が、前記第1方向に対して登り傾斜となり前記第2方向に対して下り傾斜となる第1領域を有している場合に、前記第1領域に描画予定の画像を構成する複数の第1の画素の少なくとも一部を、前記描画ヘッドにより、前記描画ヘッドを前記第1方向に沿って移動させる第1走査と、前記描画ヘッドを前記第2方向に沿って移動させる第2走査と、により描画させ、
    前記複数の第1の画素に対する、前記第1走査において前記描画ヘッドにより描画させる前記第1の画素の割合を、前記第2走査において前記描画ヘッドにより描画させる前記画素の割合より多くするように制御し、
    前記第1走査において、前記複数の第1の画素のうちの前記描画ヘッドにより描画させる前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させ、
    前記第2走査において、前記複数の第1の画素のうちの、前記第1走査において描画されなかった前記第1の画素を前記描画ヘッドにより描画させ、前記複数の第1の画素に対する前記描画ヘッドにより描画させる前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させる、
    ことを特徴とする描画方法。
  9. 描画装置の描画方法であって、
    前記描画装置は、互いに異なる第1方向と第2方向とに沿って移動しながら描画対象面に描画を行う描画ヘッドを備え、
    前記描画対象面が、前記第1方向に対して登り傾斜となり前記第2方向に対して下り傾斜となる第1領域を有している場合に、前記第1領域に描画予定の画像を構成する複数の第1の画素の少なくとも一部を、前記描画ヘッドにより、前記描画ヘッドを前記第1方向に沿って移動させる第1走査と、前記描画ヘッドを前記第2方向に沿って移動させる第2走査と、により描画させ、
    前記描画対象面が前記第1方向に対して下り傾斜となり、かつ、前記第2方向に対して登り傾斜となる第2領域を有している場合に、前記第2領域に描画予定の画像を構成する複数の第2の画素の少なくとも一部を前記第1走査と前記第2走査とにより描画させ、
    前記複数の第1の画素に対する、前記第1走査において前記描画ヘッドにより描画させる前記第1の画素の割合を、前記第2走査において前記描画ヘッドにより描画させる前記画素の割合より多くするように制御し、
    前記第1走査において、前記第1領域における前記複数の第1の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて、第1の値から前記第1の値より小さい第2の値に減少させ、前記第2領域における前記複数の第2の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第2の画素の割合を、前記第2領域における前記第1方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第2の値と同じか前記第2の値より小さい第3の値から前記第3の値より小さい第4の値に減少させ、
    前記第2走査において、前記第2領域における前記複数の第2の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第2の画素の割合を、前記第2領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第1の値から前記第2の値に減少させ、前記第1領域における前記複数の第1の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第1の画素の割合を、前記第1領域における前記第2方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第3の値から前記第4の値に減少させる、
    ことを特徴とする描画方法。
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