KR20120002596A - 박막 형성 장치 및 박막 형성 방법 - Google Patents

Abstract

워크에 먼지가 부착되거나 워크의 측부에 막재료가 부착되는 것을 방지하면서, 균일한 두께의 박막을 형성할 수 있는 박막 형성 장치 및 박막 형성 방법을 제공한다. 워크(1)의 상면을 유지하는 유지부(2)와, 유지부(2)에 유지된 워크(1)의 아래쪽에 수지(R)를 공급하는 공급부(3)와, 공급부(3)에 의해 공급된 수지(R)가, 워크(1)의 하면에 전연되도록, 유지부(2)에 유지된 워크(1)를 회전시키는 회전 기구(22)와, 워크(1)의 하면에 전연된 수지(R)에, 자외선(UV)을 조사함으로써 경화시키는 경화부(4)와, 유지부(2)를, 공급부(3)와 경화부(4) 사이에서 이동시키는 이동 기구(24)를 갖는다.

Description

박막 형성 장치 및 박막 형성 방법{APPARATUS FOR FORMING THIN FILM AND METHOD FOR FORMING THIN FILM}

본 발명은, 예를 들어, 평판형 워크의 표면에 박막을 형성하기 위한 박막 형성 장치 및 박막 형성 방법에 관한 것이다.

휴대전화 등의 액정 패널이나 커버 패널의 표면, 광디스크 등의 기판의 표면에는, 보호용의 하드코팅층이 형성되어 있다. 이 하드코팅층은, 수지의 박막을 경화시킴으로써 형성되어 있다. 또, 광디스크에서는, 그 구성 부재인 한쌍의 기판을 접합하기 위해, 한쪽 또는 양쪽의 기판에, 접착제가 되는 수지의 박막을 도포해야 한다.

이러한 표시 패널이나 보호 패널, 기판 등의 평판형 부재(이하, 워크라고 함)의 표면에 수지의 박막을 형성하는 방법으로는, 일반적으로, 스핀코트법이 이용되고 있다(특허문헌 1 참조). 스핀코트법에 의한 수지의 도포는, 예를 들어 다음과 같이 행해진다.

즉, 도 11의 (A)에 나타낸 바와 같이, 턴테이블(T) 상에 배치된 워크(W) 상에, 노즐(N)이 수지(R)를 적하한다. 그리고, 도 11의 (B)에 나타낸 바와 같이, 모터(M)에 의해 턴테이블(T)을 회전시키면, 원심력의 작용에 의해 워크(W)의 표면에 수지(R)가 전연(展延)된다.

스핀코트법 이외에, 수지의 박막을 형성하는 방법으로서, 직선형의 슬릿에 의해 수지를 도포하는 방법이 존재한다. 이것은, 슬릿이, 수지를 공급하면서 워크의 표면을 평행 이동함으로써, 워크의 표면에 수지가 도포되는 기술이다(특허문헌 2 참조).

특허문헌 1 : 일본 특허 공개 제2002-343701호 공보 특허문헌 2 : 일본 특허 공개 평6-343908호 공보

그러나, 상기와 같은 스핀코트법에 의한 박막의 형성에는, 이하와 같은 문제가 있었다. 즉, 턴테이블 상에 배치된 워크 상에는, 주위의 먼지가 낙하할 가능성이 있다. 이와 같이 낙하한 먼지는, 워크의 회전중에 수지의 전연을 저해하는 요인이 되어, 제품의 품질이나 수율에 영향을 미치게 된다.

또, 스핀코트법에 의한 경우에는, 회전의 원심력에 의해 워크의 둘레 가장자리를 향하여 수지가 이동하고, 여분의 수지는 비산한다. 이와 같이 워크의 둘레 가장자리로 이동한 수지는, 중력에 의해 아래쪽으로 향하기 때문에, 워크의 측부에 수지가 부착되기 쉽다. 예를 들어, 도 12에 나타낸 바와 같이, 워크(W)가 사각형의 액정 패널이나 커버 패널인 경우, 측부에 단차나 홈이 형성되어 있다. 이러한 워크(W)의 표면에 박막을 형성할 때에는, 측부에 대한 수지의 부착은, 전기 계통이나 장착의 문제점을 초래하기 때문에, 바람직하지 않다.

이것에 대처하기 위해, 슬릿에 의해 수지를 도포하는 방법을 적용하는 것도 생각할 수 있다. 그러나, 이 방법에 의한 경우, 도포시의 슬릿의 이동에는 시간이 걸리기 때문에, 제조 효율이 떨어진다. 또, 슬릿의 이동 타이밍이나 이동 속도에 따라서는, 도포면에 줄이 남을 가능성이 있어, 표면의 균일성이 손상되는 경우가 있다. 또한, 측부에 수지가 부착되는 것을 방지하기 위해 슬릿을 정확하게 위치 결정하는 것이, 반드시 용이한 것은 아니다.

본 발명은, 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 그 목적은, 워크에 먼지가 부착되거나 워크의 측부에 막재료가 부착되는 것을 방지하면서, 균일한 두께의 박막을 형성할 수 있는 박막 형성 장치 및 박막 형성 방법을 제공하는 것에 있다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 박막 형성 장치는, 평판형 워크의 상면을 유지하는 유지부와, 상기 유지부에 유지된 워크의 수직 방향의 하면에 막재료를 공급하는 공급부와, 상기 공급부에 의해 공급된 막재료가 워크의 하면에 전연되도록, 상기 유지부에 유지된 워크를 회전시키는 회전 기구를 갖는 것을 특징으로 한다.

다른 양태는, 유지부가, 평판형 워크의 상면을 유지하고, 공급부가, 상기 유지부에 유지된 워크의 수직 방향의 하면에 막재료를 공급하고, 회전 기구가, 상기 공급부에 의해 공급된 막재료가 워크의 하면에 전연되도록, 상기 유지부에 유지된 워크를 회전시키는 것을 특징으로 한다.

이상과 같은 발명에서는, 워크에 대한 막재료의 공급면이 아래쪽을 향해 있기 때문에, 낙하하는 먼지가 부착되기 어려워, 전연을 저해하는 요인을 배제할 수 있어, 품질, 수율이 향상된다. 또, 워크의 하면을 이동한 수지는, 중력에 의해 아래쪽으로 향하기 때문에, 워크의 측부에 부착되지 않는다.

다른 양태는, 상기 공급부는, 상기 워크의 하면에 막재료를 부착시키는 도포부를 갖는 것을 특징으로 한다.

이상과 같은 발명에서는, 막재료를 워크의 하면에 부착시킨 후에 워크를 회전시킴으로써, 간단하게 막재료를 전연시킬 수 있다.

다른 양태는, 상기 도포부는 복수 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.

이상과 같은 발명에서는, 복수의 도포부에 의해 막재료를 다점에 도포함으로써, 막두께의 균일성을 조절할 수 있다.

다른 양태는, 상기 공급부는, 상기 워크의 하면을 향하여 막재료를 분출시키는 분출부를 갖는 것을 특징으로 한다.

이상과 같은 발명에서는, 막재료를 분출시킴으로써, 보다 고속으로 막재료를 워크의 하면에 전연시킬 수 있다.

다른 양태는, 상기 분출부는 복수 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.

이상과 같은 발명에서는, 복수의 분출부에서의 분출량 또는 분출 속도를 바꿈으로써, 막두께를 균일하게 하거나, 부분적으로 바꿀 수 있다.

다른 양태는, 상기 유지부는, 워크의 외형 이하의 외형의 유지 부재를 갖는 것을 특징으로 한다.

이상과 같은 발명에서는, 유지 부재가 워크보다 작기 때문에, 비산한 막재료가 유지 부재에 부착되는 것을 방지할 수 있다.

다른 양태는, 상기 워크와 상기 공급부 사이의 상하 방향의 거리가 변화하도록, 상기 워크와 상기 공급부의 상대 위치를 변화시키는 승강 기구를 갖는 것을 특징으로 한다.

다른 양태는, 상기 승강 기구가, 회전하는 워크의 하면을 막재료의 표면에 접근 또는 접촉시킴으로써, 막재료가 워크의 하면에 전연되도록, 상기 공급부는, 막재료를 수용한 용기를 갖는 것을 특징으로 한다.

다른 양태는, 워크와 막재료 사이의 거리를 변화시킴으로써, 워크의 회전에 의해 생기는 워크의 하면측의 기류를 변화시키는 것을 특징으로 한다.

이상과 같은 발명에서는, 용기 내의 막재료의 표면에 회전하는 워크를 접근 또는 접촉시킴으로써, 공급 노즐에 대한 위치 결정 등의 수고를 생략하고, 워크에 막재료를 순간적으로 전연시킬 수 있다.

다른 양태는, 상기 유지부를, 상기 공급부를 포함하는 복수 개소로 이동시키는 이동 기구를 갖는 것을 특징으로 한다.

이상과 같은 발명에서는, 유지부가 워크 상면을 유지한 채, 전공정에서 후공정으로 이동할 수 있고, 워크를 반전시킬 필요가 없기 때문에, 그것을 위한 설비가 불필요해져, 장치의 간소화와 저비용화가 가능해진다.

이상, 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 워크에 먼지가 부착되거나 워크의 측부에 막재료가 부착되는 것을 방지하면서, 균일한 두께의 박막을 형성할 수 있는 박막 형성 장치 및 박막 형성 방법을 제공할 수 있다.

도 1은 본 발명의 박막 형성 장치의 일실시형태를 나타낸 평면도이다.
도 2는 도 1의 실시형태의 유지부 및 공급부를 나타낸 측면 단면도이다.
도 3은 도 1의 실시형태의 유지부 및 경화부를 나타낸 측면 단면도이다.
도 4는 도 1의 실시형태의 워크에 대한 수지의 공급 및 전연을 나타낸 설명도이다.
도 5는 본 발명의 박막 형성 장치의 다른 실시형태를 나타낸 평면도이다.
도 6은 본 발명의 박막 형성 장치의 공급부에서의 다른 형태를 나타낸 측면 단면도이다.
도 7은 본 발명의 박막 형성 장치의 공급부에서의 다른 형태를 나타낸 측면 단면도이다.
도 8은 본 발명의 박막 형성 장치의 공급부에서의 다른 형태를 나타낸 측면 단면도이다.
도 9는 본 발명의 박막 형성 장치의 공급부에서의 다른 형태를 나타낸 측면 단면도이다.
도 10은 본 발명의 박막 형성 장치의 유지부에서의 다른 형태를 나타낸 측면 단면도이다.
도 11은 종래의 스핀 도포 장치의 일례를 나타낸 측면 단면도이다.
도 12는 일반적인 액정 패널을 나타낸 사시도이다.

다음으로, 본 발명을 실시하기 위한 형태(이하, 실시형태라고 함)에 관해, 도면을 참조하여 구체적으로 설명한다.

[구성]

우선, 본 실시형태의 구성을, 도 1∼4를 참조하여 설명한다. 본 실시형태는, 휴대전화의 액정 패널(이하, 워크로 함)의 표면에, 보호용의 하드코팅막을 형성하는 박막 형성 장치이다. 본 실시형태에 워크를 반입, 반출하는 장치 등에 관해서는, 공지의 모든 기술을 적용할 수 있으므로, 설명을 생략한다.

즉, 본 실시형태는, 도 1∼3에 나타낸 바와 같이, 워크(1)를 유지하는 유지부(2)와, 유지부(2)의 아래쪽에 적절하게 위치 결정되는 공급부(3) 및 경화부(4) 등을 갖고 있다.

유지부(2)는, 유지 기구(21), 회전 기구(22), 승강 기구(23), 이동 기구(24) 등을 갖고 있다. 유지 기구(21)는, 도 2에 나타낸 바와 같이 유지 부재(21a)와 흡착 노즐(21b)을 갖고 있다. 유지 부재(21a)는 평판형의 플레이트이며, 회전 기구(22)에 의해 회전 가능하게 설치되어 있다. 이 유지 부재(21a)는, 평면 방향에서 볼 때 워크(1)의 외형과 같거나 또는 그보다 작은 외형을 갖고 있다.

흡착 노즐(21b)은 워크(1)를 흡착 유지하는 노즐이다. 이 흡착 노즐(21b)은 도시하지 않은 진공원에 접속되어 있고, 밸브의 전환 등에 의해 워크(1)의 상면의 흡착, 해방을 행할 수 있다.

회전 기구(22)는, 구동원인 모터(22a)에 의해 유지 기구(21)를 회전시키는 수단이다. 이 회전 기구(22)는, 승강 기구(23)에 의해 승강 가능하게 설치되어 있다.

승강 기구(23)는, 지주부(23a) 및 아암부(23b) 등을 갖는 구동 기구이다. 지주부(23a)는, 수직 방향의 부재이며, 이동 기구(24)에 의해 수평 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있다.

아암부(23b)는, 수평 방향의 부재이며, 일단이 지주부(23a)에 대하여 수직 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있다. 이 아암부(23b)를 이동시키는 기구로는, 모터 구동에 의한 이송 나사에 의한 것, 실린더에 의한 것 등, 주지의 모든 기술을 적용할 수 있다. 아암부(23b)의 타단에는 회전 기구(22)가 부착되어 있다.

이동 기구(24)는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 지주부(23a)를 수평 방향으로 이동시킴으로써, 유지부(2)를 공급부(3)와 경화부(4) 사이에서 이동시키는 기구이다. 이동 기구(24)로는, 예를 들어, 모터 구동의 이송 나사(24a)에 의해, 레일이나 가이드 샤프트 등의 가이드 부재(24b)를 따라서 직선형으로 이동시키는 것을 생각할 수 있다. 단, 본 발명은 이것에는 한정되는 것은 아니고, 수평 이동시킬 수 있는 것이라면, 주지의 모든 기구를 적용할 수 있다.

공급부(3)는, 도 2에 나타낸 바와 같이, 탱크(31), 공급 노즐(32), 펌프(33), 필터(34), 수용부(35) 등을 갖고 있다. 탱크(31)는, 막재료가 되는 자외선 경화형의 수지(R)를 저장한 용기이다. 공급 노즐(32)은, 탱크(31)로부터 송출되는 수지(R)를, 워크(1)의 수직 방향(중력 방향)의 하면에 공급하는 노즐(도포부)이다.

탱크(31)로부터 공급 노즐(32)로의 수지(R)의 송출은, 펌프(33) 및 필터(34)가 설치된 공급로(31a)를 통해 행해진다. 수용부(35)는, 공급 노즐(32) 및 워크(1)로부터 적하한 수지(R)를 수용하는 용기이다. 이 수용부(35)에서 수용한 수지(R)는, 회수로(35a)를 통해 탱크(31)로 복귀된다.

경화부(4)는, 도 3에 나타낸 바와 같이, 수용부(41), 조사 장치(42) 및 보호 부재(43) 등을 갖고 있다. 수용부(41)는, 워크(1)로부터 적하한 수지(R)를 수용하는 용기이다. 이 수용부(41)에서 수용한 수지(R)는, 폐기 경로(41a)를 통해 폐기된다. 조사 장치(42)는, 수용부(41)의 중앙부에 설치되어 있다. 이 조사 장치(42)는, 유지 기구(21)에 유지된 워크(1)의 하면의 전면(全面)에 자외선(UV)을 조사하는 장치이다.

보호 부재(43)는, 수용부(41)에서의 조사 장치(42)의 상부에 부착된 유리판이다. 이 보호 부재(43)는, 워크(1)로부터 적하하는 수지(R)로부터 조사 장치(42)를 보호하고, 조사 장치(42)로부터의 자외선(UV)을 투과할 수 있다.

승강 기구(23), 이동 기구(24), 모터(22a), 펌프(33), 조사 장치(42), 진공원(밸브 등도 포함) 등의 동작은, 제어 장치에 의해 제어된다. 이 제어 장치는, 예를 들어, 전용 전자 회로 또는 정해진 프로그램으로 동작하는 컴퓨터 등에 의해 실현할 수 있다. 따라서, 이하에 설명하는 순서로 본 장치의 동작을 제어하기 위한 컴퓨터 프로그램 및 이것을 기록한 기록 매체도, 본 발명의 하나의 양태이다.

[작용]

상기와 같은 구성을 갖는 본 실시형태의 작용을 설명한다. 우선, 도 1에 나타낸 바와 같이, 진공원이 작동하여, 유지 기구(21)의 흡착 노즐(21b)이, 전공정으로부터 반송되어 온 워크(1)를 흡착 유지한다. 이동 기구(24)는, 유지부(2)를, 워크(1)의 중앙이 공급 노즐(32)의 상부에 오도록 이동시킨다. 승강 기구(23)는, 유지 기구(21)를 하강시켜 워크(1)를 공급 노즐(32)에 접근시킨다. 그리고, 펌프(33)가 작동하여 공급 노즐(32)이 수지(R)를 공급함으로써, 도 4의 (A)에 나타낸 바와 같이, 워크(1)의 하면에 수지(R)가 도포된다.

또한, 도 4의 (B)에 나타낸 바와 같이, 회전 기구(22)의 모터(22a)를 작동시키면, 유지 기구(21)의 유지 부재(21a)와 함께, 흡착 노즐(21b)에 흡착된 워크(1)가 회전한다. 그렇게 하면, 원심력에 의해 수지(R)가 워크(1)의 하면에 전연된다. 이 때, 워크(1)로부터 적하한 수지(R)는, 수용부(35)에 낙하하여, 회수로(35a)를 통해 탱크(31)로 복귀된다. 수지(R)의 도포를, 워크(1)를 회전시키면서 행하는 것도 가능하다.

다음으로, 모터(22a)가 정지함으로써, 유지 부재(21a)의 회전이 정지한다. 이동 기구(24)는, 유지부(2)를, 워크(1)의 중앙이 조사 장치(42)의 상부에 오도록, 경화부(4)측으로 이동시킨다. 그리고, 다시 모터(22a)를 작동시켜, 유지 부재(21a)와 함께 워크(1)를 회전시키면서, 조사 장치(42)에 의해 워크(1)의 전면(全面)에 자외선(UV)을 조사한다. 이에 따라, 워크(1)에 전연된 수지(R)가 경화한다. 그 후, 워크(1)를 다음 공정으로 반송한다. 워크(1)를 회전시키지 않고 자외선(UV)을 조사해도 좋다.

[효과]

이상과 같은 본 실시형태에 의하면, 워크(1)에 대한 수지(R)의 도포면이 아래쪽을 향해 있기 때문에, 낙하하는 먼지가 부착되기 어려워, 전연을 저해하는 요인을 배제할 수 있어, 품질, 수율이 향상된다. 슬릿을 이동시키는 경우와 같이, 수지(R)의 표면에 줄이 잔류할 가능성도 없다. 또, 워크(1)의 중앙으로부터 이동한 수지는, 중력에 의해 아래쪽으로 향하므로, 워크(1)의 측부에 부착되지 않는다. 또한, 유지 부재(21a)가 워크(1)보다 작기 때문에, 비산한 수지(R)가 유지 부재(21a)에 부착되는 것도 방지할 수 있다.

[다른 실시형태]

본 발명은, 상기와 같은 실시형태에 한정되지 않는다. 예를 들어, 유지부가 워크를 유지한 상태로, 전공정으로부터 연속하여 반입하고, 그대로 다음 공정으로 반출하는 구성이어도 좋다. 이에 따라, 워크의 변경 등의 작업이 불필요해진다.

또, 유지부를 이동시키는 이동 기구는, 턴테이블 등에 의해 회전 이동시키는 것이어도 좋다. 이 경우, 예를 들어, 도 5에 나타낸 바와 같이, 턴테이블(5) 상에, 복수대의 유지부(2)를 탑재하는 것을 생각할 수 있다. 이 턴테이블(5)은, 인덱스 기구에 의해, 워크(1)를 반입하는 반입 포지션(5A), 공급부(3)가 설치된 공급 포지션(5B), 경화부(4)가 설치된 경화 포지션(5C), 워크(1)를 반출하는 반출 포지션(5D)에 맞춰 간헐적으로 회전하도록 구성되어 있다.

각 유지부(2)에 유지된 워크(1)는, 턴테이블(5)의 회전에 따라서, 반입 포지션(5A)에서의 워크(1)의 반입, 공급 포지션(5B)에서의 수지의 공급, 경화 포지션(5C)에서의 수지의 경화, 반출 포지션(5D)에서의 워크(1)의 반출이 행해진다. 이러한 실시형태에서는, 복수의 포지션에서 동시에 병행 처리를 행할 수 있기 때문에, 제조 효율이 향상된다.

워크에 대한 수지의 공급을 복수회로 나눠 반복적으로 행함으로써, 막두께를 조절할 수도 있다. 이 경우, 단일 공급부에서 반복하여 수지를 전연시킬 수도 있지만, 유지부가, 복수의 공급부 사이를 순차적으로 이동하면서, 워크에 대하여 수지를 복수회 전연시켜도 좋다. 수지의 경화도, 복수회의 수지의 전연마다 행해도 좋고, 복수회의 전연후 통합하여 경화시켜도 좋다. 그 경우도, 단일 경화부에 의해 행해도 좋고, 복수의 경화부에 의해 행해도 좋다.

또한, 유지부와 공급부 또는 경화부의 위치는, 상대적으로 바꿀 수 있으면 좋다. 따라서, 예를 들어, 상기 실시형태에서의 공급부 또는 경화부를 이동 기구에 의해 수평 방향으로 이동시키거나, 유지부 및 공급부 또는 경화부의 쌍방을 이동 기구에 의해 수평 방향으로 이동시키는 구조로 해도 좋다. 이 경우의 이동 기구는, 상기에 예시한 바와 같은 직선 이동시키는 구성이어도 좋고, 회전 이동시키는 구성이어도 좋고, 주지의 모든 기구를 적용할 수 있다. 도 1에 나타낸 실시형태에서, 이동 기구(24)의 어느 한쪽 단부를, 반입 및 반출 포지션으로 해도 좋다. 이동 기구(24)의 한쪽 단부를 반입 포지션으로 하고, 다른쪽 단부를 반출 포지션으로 해도 좋다.

또한, 공급부 또는 경화부를, 승강 기구에 의해 승강시키는 구조로 하거나, 유지부 및 공급부 또는 경화부의 쌍방을, 승강 기구에 의해 승강시키는 구조로 해도 좋다. 이 경우의 승강 기구도, 상기에 예시한 바와 같이, 주지의 모든 기술을 적용할 수 있다.

또, 공급부에 의한 막재료의 공급 방법은, 상기 실시형태에서 나타낸 것으로 한정되지 않는다. 예를 들어, 공급 노즐에 의한 막재료의 도포는, 워크의 중심에만 실행되어도 좋고, 복수 개소에서 실행되어도 좋으며, 직선형, 고리형, 물결형 등 어떠한 형태로 행해도 좋다. 또, 공급 노즐을 복수 설치하여, 동시에 다점에 도포하여 막두께를 조절해도 좋다. 이러한 경우에는, 워크의 종류나 크기에 따라서, 막재료의 도포 점수나 점도 등을 바꿀 수 있어, 적용 대상이 확대된다.

또, 도 6에 나타낸 바와 같이, 유지 기구(21)에 유지된 워크(1)를 유지부(2)의 회전 기구(22)에 의해 회전시키면서, 공급부(3)의 공급 노즐(32)(분출부)이 수지(R)를 분출함으로써, 수지(R)를 워크(1)의 하면에 신속하게 전연시킬 수 있다.

또한, 도 7에 나타낸 바와 같이, 복수의 공급 노즐(32)로부터 수지(R)를 분출함으로써, 회전하는 워크(1)의 하면에 수지(R)를 전연시킬 수도 있다. 이 경우, 각 공급 노즐(32)에서의 분출량 또는 분출 속도를 바꿈으로써, 막두께를 균일하게 하거나 부분적으로 바꿀 수 있다.

또, 도 8에 나타낸 바와 같이, 유지 기구(21)에 유지된 워크(1)를 회전 기구(22)에 의해 회전시키면서, 승강 기구(23)에 의해 용기 내에 채워진 수지(R)의 표면에 접근시킴으로써, 수지(R)를 워크(1)의 하면에 전연시켜도 좋다. 이것은, 베르누이의 법칙으로부터, 워크(1)의 하면과 수지(R)의 표면 사이에 음압이 생겨, 수지(R)가 흡인되는 것에 의한 것이다. 또한, 청구항에 있어서의 공급부에 의한 막재료의 공급이란, 워크(1)에 막재료를 접촉시키는 경우도, 워크(1)의 아래쪽에 막재료를 도입하는 경우도 포함하는 넓은 개념이다.

이러한 양태에서는, 공급 노즐에 대한 위치 결정 등의 수고를 생략하여, 순간적으로 전연시킬 수 있다. 또, 막재료의 공급측에서, 워크(1)의 하면에 대한 평행도를 고려하지 않아도 된다. 이 때의 워크(1)의 하면과 수지(R)의 표면의 거리는, 워크(1)의 측부에 기체의 난류를 발생시키지 않는 거리로 하는 것이 바람직하다. 워크(1)의 하면을 수지(R)의 표면에 접촉시키는 것에 의해서도 수지(R)를 전연시킬 수 있다.

또한, 도 9에 나타낸 바와 같이, 승강 기구(도시하지 않음)에 의해, 수지(R)의 용기의 베이스(B)가 승강하도록 구성하고, 베이스(B)의 승강에 의해, 워크(1)의 하면에 대한 수지(R)의 거리 또는 접촉량을 관리하여 막두께를 조절할 수 있다. 이러한 양태는, 수지(R)가 고점도인 경우에 유리하다. 즉, 높은 점도의 수지(R)를 분출시키는 경우에는, 워크(1)의 전면(全面)에 균일하게 도포되기 어려울 가능성이 있다. 따라서, 베이스(B)를 이용하여, 미리 베이스(B)의 표면에 얇게 늘여서 수지(R)를 준비해 둔다. 그리고, 이 수지(R)에 워크(1)를 접촉시킴으로써, 워크(1)의 전면(全面)에 균일하게 수지(R)를 도포할 수 있다.

이들 양태와 같이, 수지(R)의 액면에 접근 또는 접촉시켜 수지(R)를 전연시키는 경우에도, 유지 부재(21a)가 워크(1)보다 작기 때문에, 수지(R)가 유지 부재(21a)에 부착되는 것을 방지할 수 있다. 베이스(B)와 워크(1)의 간격은 상대적으로 바꿀 수 있으면 되기 때문에, 베이스(B)를 고정하고 워크(1)를 승강 기구에 의해 승강시켜도 좋다. 또, 회전 기구에 의해, 워크(1) 및 베이스(B)의 쌍방을 회전시켜도 좋고, 어느 한쪽을 회전시켜도 좋다. 워크(1) 및 베이스(B)를 회전시키지 않아도 좋다.

또한, 베이스(B)에 히터 등의 가열 수단을 장착하여, 수지(R)의 온도를 상승시킴으로써 점도를 조절해도 좋다. 또, 베이스(B)의 상면에 수지(R)를 송출하는 구멍이 여러개 있어도 좋다.

또, 유지부에서의 워크의 유지 방법도, 진공 척, 정전 척, 미케니컬 척 등 주지의 모든 기술을 적용할 수 있다. 도 10에 나타낸 바와 같이, 워크(1)를 수지(R)에 접촉시키면서 회전시키는 경우에, 워크(1)가 어긋나는 것을 방지하기 위해, 유지 부재(21a)에 워크(1)의 외측 둘레를 가이드하는 가이드부(21c)를 부착해도 좋다.

또, 공급부나 경화부를, 별개의 또는 공통의 진공 챔버 내에 수용하여, 진공중에서 막재료의 도포, 전연, 경화 등을 행함으로써, 먼지의 부착이나 경화 저해를 방지할 수 있다. 워크에 관해서는, 그 크기, 형상, 재질 등은 임의적으로 선택될 수 있으며, 막재료의 도포가 필요한 모든 것에 적용할 수 있다. 따라서, 접합하는 워크의 접착층으로서의 박막 형성에도 본 발명을 이용할 수 있다. 이 경우, 워크의 하면에 접착층이 형성되기 때문에, 유지부를 그대로 서로 접합 대상이 되는 워크 상으로 이동시켜 하강시키면, 반전 등의 필요가 없어, 용이하게 접합이 가능해진다. 막재료에 관해서도, 모든 워크의 보호층, 접착층에 사용하는 것을 적용할 수 있다.

1 : 워크 2 : 유지부
3 : 공급부 4 : 경화부
5 : 턴테이블 5A : 반입 포지션
5B : 공급 포지션 5C : 경화 포지션
5D : 반출 포지션 21 : 유지 기구
21a : 유지 부재 21b : 흡착 노즐
21c : 가이드부 22 : 회전 기구
22a : 모터 23 : 승강 기구
23a : 지주부 23b : 아암부
24 : 이동 기구 24a : 나사
24b : 가이드 부재 31 : 탱크
31a : 공급로 32 : 공급 노즐
33 : 펌프 35, 41 : 수용부
35a : 회수로 41a : 폐기 경로
42 : 조사 장치 43 : 보호 부재

Claims (11)

1. 평판형 워크의 상면을 유지하는 유지부와,
   상기 유지부에 유지된 워크의 수직 방향의 하면에 막재료를 공급하는 공급부와,
   상기 공급부에 의해 공급된 막재료가, 워크의 하면에 전연(展延)되도록, 상기 유지부에 유지된 워크를 회전시키는 회전 기구
   를 갖는 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 공급부는, 상기 워크의 하면에 막재료를 부착시키는 도포부를 갖는 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치.
3. 제2항에 있어서, 상기 도포부는 복수 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치.
4. 제1항에 있어서, 상기 공급부는, 상기 워크의 하면을 향하여 막재료를 분출시키는 분출부를 갖는 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치.
5. 제4항에 있어서, 상기 분출부는 복수 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치.
6. 제1항에 있어서, 상기 유지부는, 워크의 외형 이하의 외형의 유지 부재를 갖는 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치.
7. 제1항에 있어서, 상기 워크와 상기 공급부 사이의 상하 방향의 거리가 변화하도록, 상기 워크와 상기 공급부의 상대 위치를 변화시키는 승강 기구를 갖는 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치.
8. 제7항에 있어서, 상기 승강 기구가, 회전하는 워크의 하면을 막재료의 표면에 접근 또는 접촉시킴으로써, 막재료가 워크의 하면에 전연되도록, 상기 공급부는, 막재료를 수용한 용기를 갖는 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치.
9. 제1항에 있어서, 워크를 유지한 상기 유지부를, 상기 공급부를 포함하는 복수 개소로 이동시키는 이동 기구를 갖는 것을 특징으로 하는 박막 형성 장치.
10. 유지부가, 평판형 워크의 상면을 유지하고,
    공급부가, 상기 유지부에 유지된 워크의 수직 방향의 하면에 막재료를 공급하고,
    회전 기구가, 상기 공급부에 의해 공급된 막재료가, 워크의 하면에 전연되도록, 상기 유지부에 유지된 워크를 회전시키는 것을 특징으로 하는 박막 형성 방법.
11. 제10항에 있어서, 워크와 막재료 사이의 거리를 변화시킴으로써, 워크의 회전에 의해 생기는 워크의 하면측의 기류를 변화시키는 것을 특징으로 하는 박막 형성 방법.

Images