KR20110099255A - 가요성 웨브를 세척하기 위한 장치 및 방법 - Google Patents

가요성 웨브를 세척하기 위한 장치 및 방법 Download PDF

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KR20110099255A
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Abstract

침지조(dipping bath) 또는 초음파 에너지를 사용하지 않고서, 웨브, 특히 상대적으로 유연한 중합체 웨브를 세척하는 방법이 제공된다. 방법은 백업 롤러에 대해 웨브를 이송시키는 단계 및 웨브가 백업 롤러에 의해 지지되는 동안 고압 액체를 웨브에 분사하는 단계를 포함한다. 그 후에, 웨브가 백업 롤러에 의해 지지되는 동안, 고압 스트림으로부터의 잔류 유체가 기체 커튼에 의해 웨브로부터 제거된다. 많은 바람직한 실시 형태에서, 웨브는 웨브가 백업 롤러와 접촉하는 동안 세척 롤러와 접촉된다.

Description

가요성 웨브를 세척하기 위한 장치 및 방법 {APPARATUS AND METHOD FOR CLEANING FLEXIBLE WEBS}
본 발명은 초청정 표면의 제조에 관한 것이고, 특히 가요성 웨브를 세척하는 방법에 관한 것이다.
현대 산업에서, 몇몇 제조 공정, 예컨대 부스러기의 가장 작은 조각도 손상을 줄 수 있는, 마이크로 프로세서용 규소 웨이퍼의 제조가 있다는 것이 공지되어 있다. 그러한 경질 표면으로부터 더욱 더 초미세한 입자의 제거를 위한 특정 기술이 공지되어 있다. 그러나, 더욱 최근에 더 가볍고, 더 얇은 광학 및 전자 장치로의 증가된 산업계 이동에 의해, 초청정 재료에 대한 요구는 재료의 웨브를 사용한 대량 롤-투-롤 제조까지 확산되었다. 경질 재료, 예컨대 스테인리스강의 웨브가 이러한 팽창하는 시장에서 보이지만, 더 흔하게는 중합체 재료가 그의 가요성 및 광학적 투명성으로 인해 바람직하다. 작은 부스러기가 규소 웨이퍼에 손상을 줄 수 있는 것과 동일한 방식으로, 세척될 필요가 있는 영역 및 통상 훨씬 더 유연한 표면의 존재가 많은 추가의 복잡성을 갖는 웨브의 롤-투-롤 처리에 있어서 작은 부스러기가 상당한 문제가 될 수 있다. 여전히, 경질 및 불투명 재료의 웨브는 표면으로부터 작은 입자를 세척하는 것으로부터 이익을 얻을 수 있다.
본 발명은 침지조(dipping bath) 또는 초음파 에너지를 사용하지 않고서, 재료의 웨브, 특히 상대적으로 유연한 중합체 웨브를 세척하는 방법을 제공한다. 일 태양에서, 본 방법은 백업 롤러로 웨브를 지지하는 단계; 웨브의 제1 표면에 대향하는 제2 표면이 백업 롤러와 접촉하는 동안, 고압 액체를 웨브의 제1 표면에 분사하는 단계; 및 분사 후에, 대향하는 제2 표면이 백업 롤러에 의해 지지되는 동안, 기체 커튼을 제1 표면으로 지향시키는 단계를 포함한다. 다수의 유체가 분사를 위해 적합한 것으로 고려되지만, 초청정수, 탈이온수, 계면활성제를 함유하는 물, 유기 용매, 및 고비중 유체가 세척되는 웨브의 유형에 따라 특히 바람직한 것으로 고려된다. 본 발명과 관련하여 사용되는 유체를 예비 여과하는 것이 특히 바람직하다.
다른 실시 형태에서, 재료의 웨브는 웨브가 백업 롤러와 접촉하는 동안, 세척 롤과 접촉된다. 다공성의 돌기형 표면을 갖는 세척 롤이 유용한 것으로 알려졌고, 바람직하게는 폴리비닐 알코올(PVA) 또는 그의 변형물로부터 제조된다. 돌기형 롤은 원통형 메사(mesa) 또는 다른 패턴화된 메사를 가질 수 있다. 세척 롤이 웨브의 이동 방향과 반대인 방향으로 웨브에 대해 마찰할 때 기공을 통해 방사상 외부로 전달되는 유체를 내부로 공급받는 것이 전형적이다. 돌기형 롤러는 웨브 및 백업 롤러에 대해 닙핑(nipping)될 때 방사상으로 측정된 전형적으로 0.5 내지 약 2.5 ㎜로 압축된다. 본 방법은 웨브 재료를 세척 롤과 접촉시키기 전에 습윤시키는 단계를 선택적으로 포함할 수 있다. 이러한 방법은 돌기형 롤러를 통한 유체의 유동 내에서 또는 롤러의 회전 표면 위에 적하되는 농축물로서 습윤제 또는 계면활성제를 이용하는 것을 선택적으로 포함할 수 있다.
다른 실시 형태에서, 웨브를 세척하는 동안 입자 제어 분위기를 갖는 청정실 내에서 재료의 웨브를 보유하면서 본 방법의 일부 또는 전부를 수행하는 것이 유용하다. 재료의 웨브는 연방 표준(Federal Standard) 209 ＂청정실 및 청정 구역 내의 부유 입상 물질 청정도 등급(Airborne Particulate Cleanliness Classes in Cleanrooms and Clean Zones)＂의 제한을 만족시키는 청정실 내에 위치될 수 있다. 특히, 청정실은 연방 표준 209 하의 등급 10,000 또는 등급 1,000 또는 등급 100 또는 등급 10에 대한 조건을 만족시킬 수 있다.
다른 태양에서, 재료의 웨브를 세척하기 위한 장치는 백업 롤 둘레에 적어도 부분적으로 웨브를 감도록 위치된 백업 롤러; 웨브가 백업 롤에 의해 지지되는 동안, 웨브에 분사하기 위한 적어도 하나의 노즐에 연결된 고압 액체의 공급원; 및 적어도 하나의 노즐 이후에 위치된 출구 기체 커튼에 연결된 기체의 공급원을 포함하고, 기체 커튼은 웨브의 이동 방향에 대해 교차하여 배향되고, 웨브가 백업 롤에 의해 지지되는 동안 웨브로부터 액체를 제거하도록 위치된다.
본 기술 분야의 통상의 기량을 가진 자라면 본 개시 내용이 전형적인 실시예의 설명일뿐 본 발명의 보다 넓은 태양들을 한정하려는 것은 아니며, 이 전형적인 구성에서 보다 넓은 태양들이 구현된다는 것을 이해할 것이다.
<도 1>
도 1은 본 발명에 따른 웨브 세척 장치의 측면도를 도시한다.
<도 2>
도 2는 본 발명에 따른 웨브 세척 장치의 다른 실시예의 측면도를 도시한다.
<도 3>
도 3은 본 발명에 따른 웨브 세척 장치의 다른 실시예의 측면도를 도시한다.
<도 4>
도 4는 웨브 세척 라인의 측면도를 도시한다.
명세서 및 도면(축척에 맞게 도시되지 않음)에서 참조 부호의 반복된 사용은 본 발명의 동일하거나 유사한 특징부 또는 요소를 나타내도록 의도된다.
정의
본 명세서에 사용되는 바와 같이, "포함하다", "갖다", 및 "포함하다"라는 단어의 형태는 법률적으로 동등하며 제한이 없다. 따라서, 열거한 요소, 작용, 단계 또는 한정 이외에도 추가의 열거되지 않은 요소, 작용, 단계 또는 한정이 제시될 수 있다.
본 명세서에 사용되는 바와 같이, ＂고압＂은 약 3.45 ㎫(500 psi) 내지 약 20.68 ㎫(3000 psi)로서 정의되고, 약 6.89 ㎫(1000 psi) 내지 약 17.24 ㎫(2500 psi)이 특히 바람직한 것으로 간주된다.
이제 도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 웨브 세척 장치(10)의 제1 실시 형태가 방향(D1)으로 이동하는 웨브(12) 상에 작용하는 것으로 도시되어 있다. 가요성 웨브(12)는 전형적으로 그의 폭보다 현저하게 더 큰 길이를 갖는다. 가요성 웨브의 길이는 연속적으로 형성된 다음 세척되는 중합체 웨브에 대해 무한할 수 있거나, 롤로 권취된 다음 웨브 세척을 위해 풀리는 미리 형성된 가요성 웨브에 대해 한정된 길이일 수 있다. 본 발명의 다양한 실시 형태에서, 가요성 웨브(12)의 길이는 3.0 m(10 피트) 초과, 또는 30.4 m(100 피트) 초과, 또는 304.8 m(1,000 피트) 초과일 수 있다.
가요성 웨브(12)는 구동식 또는 비구동식 롤일 수 있는 백업 롤(14)에 의해 지지된다. 가요성 웨브는 백업 롤에 접할 수 있거나 (0° 감기) 또는 가요성 웨브는 필요한 지지를 위해 백업 롤의 원주부의 상당 부분을 감을 수 있다. 적합한 가요성 웨브 감기는 0° 내지 약 270°, 또는 10° 내지 약 180°일 수 있다. 특별히 적합한 감기 각도는 0°, 90°, 또는 225°를 포함한다. 더 큰 감기 각도는 복수의 스프레이 노즐, 복수의 세척 롤, 기체 편향기 및 다른 장치가 백업 롤의 주연부 둘레에 위치되도록 허용할 수 있다. 백업 롤에 의해 지지되는 동안, 가요성 웨브(12)의 제1 면(16)은 제1 표면을 세척하도록 고압 액체 스프레이(18)를 받는다.
백업 롤(14) 상에서 가요성 웨브를 안정화시킴으로써, 가요성 웨브를 고압 액체 스프레이와 접촉시킬 때 여러 이점이 발생한다. 첫째, 정밀한 고압 스프레이가 채용될 수 있는데, 이는 가요성 웨브가 고압 스프레이에 응답하여 이동 또는 변위되는 것이 방지되기 때문이다. 가요성 웨브의 표면에 대한 고압 스프레이의 각도는 정밀하게 설정되고 유지될 수 있다. 스프레이 노즐(42)과 가요성 웨브의 표면 사이의 거리는 정밀하게 설정되고 유지될 수 있다. 이러한 공정 변수는 스프레이 압력 및 세척되는 가요성 웨브의 유형에 기초하여 조정될 수 있다. 둘째, 가요성 웨브(12)에 대한 손상이 덜 일어날 수 있다. 지지되지 않는 가요성 웨브(12)가 고압 스프레이(18)를 받으면, 액체 충격이 웨브를 재위치, 이동, 또는 변위시킬 수 있고, 웨브가 요동치게 하기 쉽다. 웨브 요동은 웨브 주름 및/또는 웨브 표면의 손상 및 웨브 표면의 일관되지 않은 세척으로 이어질 수 있다. 넓은 가요성 웨브의 경우, 고압 스프레이의 임의의 횡방향(CD) 불균일성이 지지되지 않는 스팬(span)의 비틀림 또는 요동을 일으켜서, 불균일한 세척 및 심각한 웨브 취급 문제로 이어질 수 있다. 마지막으로, 지지되지 않는 가요성 웨브는 스프레이의 충격에 저항하도록 더 큰 기계 방향(MD) 장력을 요구할 수 있다. 더 높은 MD 장력은 가요성 웨브를 영구적으로 왜곡시킬 수 있고, 이는 몇몇 용도에 대해 바람직하지 않다.
대체로, 백업 롤(14)은 백업 롤과 접촉하는 가요성 웨브의 제2 면(20)을 손상시키는 것을 방지하기 위해 매끄럽고 균일한 표면을 가질 수 있다. 추가로, 이는 롤을 떠나는 가요성 웨브에 의해 발생되는 정전하를 제어하는 것을 돕기 위한 전도 특성을 가질 수 있다. 적합한 백업 롤은 알루미늄 또는 강철과 같은 금속 롤, 변형 가능한 롤, 고무 롤, 압축성 커버 롤, 그래파이트 또는 비전도성 롤, 내구성 경질 코팅을 갖는 롤, 양극 산화 처리된 롤, 전도성 코팅을 갖는 롤, 또는 다른 적합한 웨브 처리 롤을 포함할 수 있다.
백업 롤 재료의 선택은 부식 문제를 방지하기 위해 사용되는 고압 유체의 선택에 의해 영향을 받을 수 있다. 백업 롤은 제2 면(20) 상으로 방출되는 입자 또는 코팅에 민감하지 않아야 한다. 백업 롤 직경은 웨브 세척 장치를 설계할 때의 편향 요건 및 공간 요건에 기초하여 결정될 수 있다.
웨브 세척 장치(10) 내에 포함되는 추가의 장비는 스프레이 챔버(22), 선택적인 입구 기체 커튼(24), 출구 기체 커튼(26), 선택적인 세척 롤러(28), 선택적인 적하 바아(drip bar)(30), 및 선택적인 정전기 중화 장치(31)를 포함한다. 스프레이 챔버(22)는 대부분 둘러싸이고, 백업 롤의 원주부의 적어도 일 부분에 밀접하게 일치할 수 있다. 스프레이 챔버(22)를 구성하기에 적합한 재료는 당업자에게 공지된 플라스틱 및 금속 재료를 포함한다. 스프레이 챔버(22)의 입구 및 출구에서, 스프레이 챔버와 백업 롤(14) 사이의 갭이 최소화되어, 가요성 웨브(12)가 스프레이 챔버와 부딪히지 않고서 스프레이 챔버로 들어오고 나가기에 충분한 간극을 허용한다. 대안적으로, 쓰레딩(threading) 또는 겹쳐 잇기를 위해 개방된 다음 정상 작동 중에 폐쇄되는 후퇴 가능한 플랩 또는 도어, 에어 나이프, 및/또는 롤러가 제공될 수 있다. 스프레이 챔버의 CD 폭은 가요성 웨브의 최대 CD 폭에 밀접하게 일치할 수 있고, 스프레이 챔버의 CD 단부들은 백업 롤의 직경부에 밀접하게 일치할 수 있다. 필요하다면, 단부 시일이 백업 롤의 표면에 스프레이 챔버의 CD 단부를 밀봉하도록 사용될 수 있다.
스프레이 챔버(22)는 드레인(32)을 포함하고, 스프레이 챔버의 바닥(34)은 드레인을 향해 액체를 이동시키도록 경사질 수 있다. 몇몇 실시 형태에서, 액체는 추가의 사용을 위해 여과 및 세척된다. 스프레이 챔버(22)는 또한 적어도 하나의 배출 덕트(35)를 포함한다. 배출 덕트(35)는 배출 덕트 내로의 미스트 유입을 감소시키기 위한 미스트 제거 메시(36)를 갖출 수 있다. 대안적으로 또는 조합하여, 미스트 분리기 또는 에어로졸 필터가 배출 기체로부터 액체를 제거하도록 사용될 수 있다. 일 실시 형태에서, 배출 덕트(35)는 스프레이 챔버 내로 액체를 유출시키기 위해 스프레이 챔버로부터 멀리 상방으로 기울어진다. 다른 실시 형태에서, 배출 덕트(35)는 스프레이 챔버(22) 내에서 음의 기체 압력을 유도하기 위해 또는 고압 스프레이 및 기체 커튼으로부터 생성되는 스프레이 챔버 내부의 기체 압력을 감소시키기 위해 작동된다. 낮은 또는 음의 스프레이 챔버 공기 압력은 미스트가 스프레이 챔버를 나가는 것을 최소화하거나 없애고, 스프레이 챔버와 백업 롤(14)과 웨브(12) 사이의 임의의 개방 통풍 영역에서 스프레이 챔버(22) 내로의 주변 공기의 흡입을 최소화하도록 설정될 수 있다. 스프레이 챔버 내부의 적합한 공기 압력은 약 -0.0025 ㎝(-0.001 인치)의 수주 내지 약 -1.27 ㎝(약 -0.50 인치)의 수주, 또는 약 -0.0025 ㎝(-0.001 인치)의 수주 내지 약 -0.254 ㎝(-0.1 인치)의 수주일 수 있다. 몇몇 실시 형태에서, -0.0813 ㎝(-0.032 인치)의 수주 및 -0.127 ㎝(-0.05 인치)의 수주가 사용된다.
선택적인 입구 기체 커튼(24) 및 출구 기체 커튼(26)은 스프레이 챔버 내에 임의의 미스트를 추가로 포함하도록 사용될 수 있다. 기체 커튼은 스프레이 챔버의 내부 또는 외부에 위치될 수 있다. 적합한 기체 커튼은 가요성 웨브 또는 스프레이 챔버의 CD 폭을 가로질러 기체의 실질적으로 균질인 라인을 제공할 수 있는 에어 노즐, 에어 바아, 또는 에어 나이프를 포함할 수 있다. 일 실시 형태에서, 미국 오하이오주 신시네티 소재의 엑스에어 코포레이션(Exair Corporation)에 의해 제조되는 스탠더드 에어 나이프(Standard Air Knife) 또는 수퍼 에어 나이프(Super Air Knife)와 같은 에어 나이프가 성공적으로 사용되었다. 다른 실시 형태에서, 회생식 송풍기 및 판금속 노즐이 입구 및 출구 기체 커튼을 제공하기 위해 사용될 수 있다.
입구 기체 커튼(24)의 CD 균일성은 덜 중요한데, 이는 그의 주요 기능이 액체 및 미스트가 스프레이 챔버(22)를 나가는 것을 방지하는 것이기 때문이다. 충분한 배출 공기 유동에 의해 또는 미스트가 존재하는 것이 덜 중요한 곳에 위치된 장치에 대해, 입구 기체 커튼(24)은 제거될 수 있다.
출구 기체 커튼(26)은 가요성 웨브(12)의 제1 표면(16)에 접착된 임의의 액체 필름의 대부분을 박리시키고 그 다음 증발에 의해 임의의 잔류 액체 필름을 건조시키는 것을 돕도록 사용된다. 바람직하게는, 액체 필름은 줄무늬 형성 , 물 얼룩, 또는 먼지 입자를 끌어 당기거나 농축시킬 수 있는 과도한 수분 남기는 것을 방지하기 위해 균일하게 제거된다. 백업 롤(14)은 가요성 웨브(12)를 안정화함으로써 출구 기체 커튼(26)을 도와서, 출구 기체 커튼의 정밀한 배치 및 배향을 허용한다. 일 실시 형태에서, 웨브가 백업 롤(14)에 의해 지지되는 동안 공기 커튼의 최고 압력 라인이 가요성 웨브(12)의 제1 표면(16)으로부터 대략 0.254 ㎜(0.010 인치) 내지 약 0.635 ㎜(0.030 인치)에 위치되도록 엑스에어 모델 2012SS 에어 나이프가 위치된다. 기체 커튼은 웨브의 표면에 대해 0° 내지 약 90°, 또는 70° 내지 약 90°의 각도로 제1 표면(16)과 충돌한다. 일 실시 형태에서, 대략 80°의 각도를 사용하였다. 대체로, 입구 및 출구 기체 커튼은 기체 커튼에 의해 공급되는 기체의 대부분이 웨브의 이동 방향과 반대인 방향으로 통과하도록 조정된다.
선택적인 입구 기체 커튼(24) 및 출구 기체 커튼(26)으로 공급되는 기체(37)의 공급원은 오일 유착 필터(48)에 의해 여과되고, 당업자에게 공지된 여과 장비를 사용하여 탈수될 수 있다. 몇몇 실시 형태에서, 기체는 기체 커튼으로부터의 유동을 증가시키기 위해 약 34.5 ㎪(5 psi) 내지 약 689.5 ㎪(100 psi)의 압력으로 압축된다. 유용한 기체는 공기, 질소, 또는 다른 적합한 기체를 포함할 수 있다. 특히, 공급되는 기체는 깨끗하고, 수분 또는 다른 액체 오염물이 실질적으로 없어야 한다. 일 실시 형태에서, 압축 공기가 0.01 마이크로미터를 초과하는 크기를 갖는 모든 입자로부터 완전하게 여과되고, 그 다음 공기 커튼으로 공급된다. 일 실시 형태에서, 출구 기체 커튼(26)으로 공급되는 기체(37)는 웨브 상의 임의의 잔류 수분의 증발 건조를 돕도록 가열된다. 출구 기체 커튼(26)으로 공급되는 기체(37)는 약 15.5℃(60℉) 내지 약 260℃(500℉)의 온도를 가질 수 있다. 압축 기체의 온도는 열에 대한 가요성 웨브 재료의 민감도 및 가요성 웨브 재료가 기체 커튼을 받는 체류 시간에 기초하여 결정될 수 있다. 적외 방사선, 마이크로파, 대류, 또는 전도 건조와 같은 추가의 건조 장비가 필요하다면 임의의 잔류 수분을 증발시키도록 사용될 수 있다. PVA 스펀지 롤러와 같은 추가의 건조 장비가 에어 나이프 또는 다른 교정 수단이 하류에서 채용되기 전에 수분의 대부분을 먼저 제거하도록 사용될 수 있다.
제1 표면(16)을 세척하는 것을 추가로 돕기 위해, 제1 표면은 선택적인 세척 롤러(28)와 백업 롤(14) 사이의 닙(nip)을 통해 이송될 수 있다. 적합한 세척 롤러(28)는 브러시 롤 및 스펀지 피복 롤을 포함할 수 있다. 세척 롤러(28)의 표면은 모가 형성되거나, 리브가 형성되거나, 텍스처가 형성되거나, 딤플이 형성되거나, 돌기가 형성될 수 있다. 바람직하게는, 세척 롤러(28)는 제1 세척 유체(38)가 제1 표면(16)에 인가되도록 세척 롤러의 내부에 공급될 수 있도록 다공성 재료로 제조된다. 제1 세척 유체(38)는 세척되는 가요성 웨브 재료에 따라 고압 스프레이(18)에 공급되는 동일한 액체이거나 상이할 수 있다. 적합한 세척 유체는 탈이온수, 초청정수, 또는 계면활성제로 여과된 물을 포함한다. 전형적으로, 대략 0.10 내지 2 중량% 농도 비의 수산화암모늄이 제거를 쉽게 하기 위한 입자 중화를 돕도록 유체 내에 포함된다. 바람직하게는, 세척 롤러(28)는 그가 제1 표면에 대해 마찰될 때 굽혀져서 제1 표면(16)에 일치할 수 있도록 쉽게 변형 가능하다. 일 실시 형태에서, 세척 롤러(28)의 표면은 제1 표면과 접촉할 때 약 0.5 ㎜(0.02 인치) 내지 약 2.5 ㎜(0.1 인치)로 압축된다.
제1 표면(16)의 세척을 추가로 향상시키기 위해, 세척 롤러(28)는 제1 표면의 표면 속도와 상이한 표면 속도로 운전될 수 있다. 속도 차이는 제1 표면(16)과, 상이한 표면 속도에서의 동일한 방향, 동일한 표면 속도에서의 반대 방향, 또는 상이한 표면 속도에서의 반대 방향일 수 있다. 일 실시 형태에서, 세척 롤러는 백업 롤러(14)의 회전과 반대 방향으로, 제1 표면(16)의 속도보다 더 빠른 표면 속도로 회전된다. 적합한 표면 속도 차이는 약 +1000% 내지 -1000%일 수 있다.
일 실시 형태에서, 쉽게 압축되는 외측 표면 상의 복수의 작은 돌출부 또는 메사를 갖는 돌기형 세척 롤러가 사용된다. 돌기형 돌출부는 제1 표면을 세척하는 것을 도울 뿐만 아니라, 역회전하는 압축된 돌기형 롤러의 드래그를 감소시킨다. 특히 적합한 세척 롤러(28)는 미국 뉴저지주 마와 소재의 아이티더블유 텍스와이프(ITW Texwipe)로부터 구매가능한, 텍스와이프 모델 TX 5580 돌기 세척 브러시이다. 이러한 세척 롤러는 대략 0.12 g/㎝3의 겉보기 밀도, 89%의 유효 다공도, 528 ㎛의 등가 기공 직경, 및 71.5 g/㎝2의 30% 압축 강도를 갖는다. 폴리비닐 아세탈(PVA) 또는 폴리비닐 알코올(PVA) 또는 폴리비닐-포르말(PVF)로부터 제조된 전형적인 돌기형 롤러가 이용 가능하다.
제1 표면을 세척하는 것을 추가로 돕기 위해, 적하 바아(30)는 세척 롤러(28)의 주연부 또는 가요성 웨브(12)의 제1 표면(16)에 계면활성제 용액(40)을 적용할 수 있다. 적합한 계면활성제 용액은 수산화암모늄(NH4OH) 및 다른 음이온성, 양이온성, 또는 비이온성 계면활성제를 포함한다. 일 실시 형태에서, 0.1% 수산화암모늄 용액이 튜브의 길이를 따라 2.54 ㎜(1 인치)로 이격된 복수의 0.76 ㎜(0.03 인치) 직경의 구멍을 갖는 적하 바아에 대략 30 ㎖/min의 유속으로 공급되는데, 바아는 세척 롤러(28)의 표면 상으로 적하하도록 위치된다. 수산화암모늄은 먼지 입자와 제1 표면 사이의 제타 전위를 균등화함으로써 제1 표면(16)을 세척하는 것을 도울 수 있다. 이는 인력을 감소시키고, 먼지 입자가 기계적 교란에 의해 더 쉽게 제거되도록 한다.
선택적인 세척 롤러(28) 이후에, 제1 표면(16)은 고압 스프레이(18)를 받는다. 고압 스프레이(18)는 제1 표면(16) 상으로 고압 스프레이(18)를 지향하는 CD 스프레이 매니폴드(44)에 부착된 하나 이상의 스프레이 노즐(42)에 의해 제공된다. 웨브 세척 장치는 백업 롤의 주연부 둘레에 위치된 복수의 CD 스프레이 매니폴드를 포함하여, 도 2 및 3에 도시된 바와 같이 하나 이상의 고압 스프레이 구역을 생성할 수 있다. 적합한 스프레이 노즐은 표면을 가로지른 라인 내로 분사력을 집중시키기 위한 팬(fan) 스프레이 패턴을 위해 설계된 노즐을 포함할 수 있다. 하나의 적합한 노즐은 미국 일리노이주 휘톤 소재의 스프레잉 시스템즈 컴퍼니(Spraying Systems Co.)의 모델 번호 TPU150017이다. 대체로, 스프레이 노즐의 오리피스는 약 0.279 ㎜(0.011 인치) 내지 약 0.381 ㎜(0.015 인치)의 등가 직경일 수 있고, 스프레이 팬은 약 5° 내지 약 20°일 수 있다. 스프레이 노즐로부터의 스프레이는 웨브의 표면에 대해 약 45° 내지 약 90°, 예를 들어 약 70° 내지 약 90°의 각도로 제1 표면(16)과 충돌하도록 지향된다.
하나 초과의 스프레이 노즐이 CD 스프레이 매니폴드(44)에 부착될 때, 각각의 개별 스프레이 노즐은 스프레이 팬이 CD 방향에 대해 약 1° 내지 약 10°의 각도에 있도록 CD 방향에 대해 회전될 수 있다. 스프레이 노즐의 회전은 인접한 스프레이 팬들이 서로 충돌하는 것을 방지할 수 있고, 전체 제1 표면(16)을 가로질러 더 균일한 스프레이를 제공한다. 스프레이 노즐은 제1 표면이 어떠한 영역도 놓치지 않으며 인접한 스프레이 노즐들 사이의 약간의 중첩을 허용하면서 고압 스프레이를 균일하게 받는 것을 보장하도록 스프레이 매니폴드를 따라 이격된다. 적합한 편향기 또는 밸브가 웨브의 표면을 선택적으로 세척하거나 웨브 세척 장치를 통해 더 좁은 웨브 표면을 이송하도록 사용될 수 있다.
고압 액체(46)의 공급원이 스프레이 매니폴드(44)에 제공된다. 고압 스프레이(18)에 적합한 액체는 초청정수, 탈이온수, 및 계면활성제를 함유하는 물, 유기 용매, 및 고비중 유체를 포함한다. 고비중 유체는 HFE(플루오르화 수소 에테르(hydrogen fluorinated ether)) 또는 유사한 고비중 저표면 장력 유체를 포함할 수 있다. 앱솔루트 필터(absolute filter)(48)가 액체가 제1 표면에 인가되기 전에 액체로부터 대략 0.2 마이크로미터 직경 이상을 초과하는 대부분의 입자를 제거하도록 제공된다.
일 실시 형태에서, 물이 대략 0.2 마이크로미터를 초과하는 입자를 제거하기 위해 물을 여과하고, 물을 탈이온화하고 재이온화함으로써 공급되었다. 다른 실시 형태에서, 물은 여과되고 탈이온화된다. 재이온화는 반대 면 상에서 이산화탄소(CO2)를 갖는 멤브레인을 가로질러 탈이온수를 통과시킴으로써 우선적으로 수행된다. CO2는 멤브레인을 가로질러 물 속으로 전달된다. 물을 정화시키는 공정의 결과로서, 탈이온수는 물이 하이드록실 이온(-OH) 및 저농도의 옥소늄(H3O+ )의 이온 상태로 자연적으로 분해되게 하는 극성 특징을 지닌다. 고도로 탈이온화된 물과 접촉하는 금속은 표면에서 국소화된 이온화 및 실제 구조적 손상을 보일 수 있다. 그 다음, 철 금속은 세척되는 웨브 상에 불순물로서 침작되는 이온을 방출할 수 있다. 추가로, 탈이온수의 고속 스프레이는 코로나 및 이후에 높은 정전하를 발생시킬 수 있다. 유전성 중합체 웨브에 부여되는 그러한 전하는 정전하가 입자가 웨브에 고도로 부착되게 할 수 있다는 점에서 유해하다. 그러나, 탈이온수와 CO2를 혼합하여 생성되는 반응에서, 물은 그의 이온 특징을 효과적으로 중화시키는 새로운 이온을 획득한다. 따라서, 재이온화는 가압된 파이프 시스템 내에서 금속에 대한 이온 손상을 방지하고 웨브 상의 정전기 축적을 최소화할 수 있다. 또한, CO2 를 사용하는 것은 불순물의 공급원일 수 있는 이온을 추가하지 않고서 중성 이온을 회복시킨다.
도 1의 장치는 기체 커튼, 세척 롤러, 및 고압 스프레이를 거치는 동안 가요성 웨브(12)를 지지하기 위한 단일 백업 롤과 함께 도시되어 있다. 그러나, 웨브가 처리될 때 이를 지지하기 위해 스프레이 챔버(22) 내에서 하나 이상의 백업 롤(14)을 사용하는 것이 가능하다. 예를 들어, 제1 백업 롤은 입구 기체 커튼(24) 및 돌기형 롤러(28)와 함께 사용될 수 있고; 제2 백업 롤러는 고압 스프레이(18)와 함께 사용될 수 있고; 제3 백업 롤은 출구 기체 커튼(26)과 함께 사용될 수 있다. 하나 이상의 백업 롤이 각각의 처리 작업 중에 웨브를 지지하도록 사용될 수 있다.
이제 도 2를 참조하면, 웨브 세척 장치(100)의 제2 실시 형태가 도시되어 있다. 장치는 스프레이 챔버(22), 선택적인 입구 기체 커튼(24), 복수의 스프레이 노즐(42)을 각각 가져서 백업 롤(14)의 주연부를 따라 제1 고압 스프레이 구역(50) 및 제2 고압 스프레이 구역(52)을 생성하는 2개의 스프레이 매니폴드(44), 출구 기체 커튼(26), 제1 검사 시스템(54), 및 제2 검사 시스템(56)을 포함한다. 검사 시스템은 웨브의 표면 상의 부스러기를 검출하기 위한 카메라 및 조명을 포함할 수 있다.
도 2의 웨브 세척 장치에서, 가요성 웨브(12)는 대략 100°로 백업 롤(14)을 감았다. 기체 커튼(24, 26)은 도시된 바와 같이 스프레이 챔버(22)의 외부에 위치되었다. 스프레이 챔버 외부에 공기 커튼을 위치시키는 것은 스프레이 챔버 내에서의 미스트의 구속을 추가로 향상시킬 수 있다. 다른 실시 형태에서, 공기 커튼은 도시된 바와 같이 스프레이 챔버 내부에 위치될 수 있다.
검사 시스템(54, 56)을 사용하여, 고압 스프레이를 받기 전에 제1 표면(16) 상의 입상 물질의 개수를 측정하고, 그 다음 세척 후에 제1 표면 상의 입상 물질의 개수를 측정하는 것이 가능하다. 검사 시스템은 가요성 웨브의 동일한 CD 위치가 제1 및 제2 검사 시스템(54, 56) 둘 모두에 의해 검사되는 것을 보장하기 위해 고정된 CD 위치에 장착된다.
이제 도 3을 참조하면, 웨브 세척 장치(150)의 제3 실시 형태가 도시되어 있다. 웨브 세척 장치는 백업 롤(14) 주위에서의 웨브 이동의 방향(D1)으로, 선택적인 입구 기체 커튼(24), 제1 세척 롤러(28), 제1 고압 스프레이(50), 제2 세척 롤러(51), 제2, 제3 및 제4 고압 스프레이(52, 58, 60), 제1 공기 편향기(62), 제1 출구 기체 커튼(26), 제2 공기 편향기(64), 및 제2 출구 기체 커튼(66)을 포함한다. 웨브 세척 구성요소들은 스프레이 챔버(22) 내에 수용된다. 명확함을 위해, 개별 구성요소로의 액체 및 기체 연결부가 제거되었다.
개별 구성요소는 도 1의 웨브 세척 장치(10)에 대해 설명된 바와 동일한 방식으로 작동한다. 선택적인 입구 및 출구 기체 커튼은 조정 가능한 캐리지(carriage) 상에 장착되는데, 이는 기체 커튼의 배향(웨브까지의 거리 및 충돌 각도)이 조정되도록 허용한다. 유사하게, 세척 롤러는 조정 가능한 캐리지 상에 장착되는데, 이는 세척 롤러의 압축 정도가 조정되도록 허용한다. 세척 롤러들은 속도 차이를 증가시키기 위해 웨브(12)의 방향에 대해, 세척 롤러의 회전이 역전된 채로, 모두 구동된다.
제1 및 제2 공기 편향기(62, 64)는 공기 및 액체 입자의 혼합물(에어로졸 스프레이)을 포획하여 편향시키도록 설계된다. 이와 같이, 각각의 공기 편향기의 선단 에지는 제1 표면(16) 바로 위에 가까이 위치된다. 제1 공기 편향기(62)는 에어로졸 미스트를 스프레이 챔버의 출구로부터 멀리 전환하도록 설계된다. 이는 미스트 제거 장치(36)로의 에어로졸의 일부 전달을 허용하는 구멍을 갖는 다공성일 수 있다. 제2 공기 편향기(64)는 임의의 잔류 에어로졸 및 유동을 출구 기체 커튼(26)으로부터 배출 덕트(35)를 향해 보내도록 설계된다. 제2 출구 기체 커튼(66)에서의 임의의 잔류 액적의 제거는 미스트 구속 및 제1 표면의 건조를 돕는다.
도 4를 참조하면, 웨브 세척 라인(200)이 도시되어 있다. 웨브 세척 라인은 세척 후에 웨브를 입자로 오염시키는 것을 방지하기 위해 청정실 환경 내에 위치될 수 있다. 웨브 세척 라인(200)은 가요성 웨브의 제1 면(16) 상에 포커싱된 제1 검사 시스템(230) 및 웨브의 제2 면(20) 상에 포커싱된 제2 검사 시스템(240)을 갖는 제1 검사 스테이션(220)으로 가요성 웨브(12)를 공급하기 위한 풀림부(210)를 포함한다. 표면 오염물 입자를 측정하기 위해, 고강도 광이 작은 입자 또는 표면 불균일부에 의해 반사되는 수준으로 증폭될 수 있다. 그 다음, 반사된 광은 반사 광 경로 내에 위치된 감지 요소에 의해 측정될 수 있다. 이러한 방식으로, 개별 먼지 입자는 검사 지점을 통과할 때 격리되고 전기적으로 계수될 수 있다.
제1 검사 스테이션(220) 이후에, 가요성 웨브(12)의 제1 면(16)은 도 3의 웨브 세척 장치(150)에 의해 세척된다. 그 다음, 가요성 웨브의 제2 면(20)은 다른 웨브 세척 장치(150)에 의해 세척된다. 제1 면(16) 상에 포커싱된 제1 검사 시스템(230) 및 제2 면(20) 상에 포커싱된 제2 검사 시스템(240)을 갖는 제2 검사 스테이션(250)이 제2 웨브 세척 장치 이후에 위치된다. 그 후, 가요성 웨브는 롤로 권취하기 위한 권취기(260)로 간다.
추가의 웨브 처리 장비가 각각의 웨브 세척 장치 이전 또는 이후에 위치될 수 있다. 예를 들어, 슬릿 형성 섹션(270)이 웨브 세척 장치 및 슬릿 형성에 의해 생성된 작은 입자를 제거하기 위해 이후에 사용되는 장비 이전에 위치된다. 대안적으로, 코팅 섹션(280)이 웨브 세척 장치 이후에 위치될 수 있다. 대체로, 오염물이 없는 가요성 웨브 표면이 필요한 경우에, 웨브 세척 장치는 가요성 웨브의 일 면 또는 양 면을 세척하도록 채용될 수 있다.
웨브 세척 라인은 또한, 웨브의 제어를 유지하는 동안, 라인을 통해 가요성 웨브를 운반하기 위해, 당업자에게 공지된 바와 같이, 장력 감지 롤러, 당김 롤, 및 아이들러 롤러를 포함한다. 추가로, 세척되는 웨브 재료에 따라, 능동 또는 수동 정전기 제거 바아 및 접지 도체와 같은 정전기 제어 장비가 가요성 웨브에 의해 축적되는 임의의 정전기를 중화시키기 위해 웨브 세척 라인 전반에 걸쳐 다양한 지점에 배치될 수 있다.
도 1, 도 2, 또는 도 3의 세척 작업을 받은 후에, 웨브의 제1 표면 및/또는 제2 표면은 극도로 작은 먼지 및 부스러기가 실질적으로 없다. 특히, 3 마이크로미터 이상의 입자 크기를 갖는 작은 먼지 및 부스러기 입자의 약 90% 초과, 또는 약 95% 초과, 또는 약 97% 초과가 세척되는 웨브의 표면으로부터 제거될 수 있다.
이러한 습식 웨브 세척 장치의 효율은 건식 웨브 세척 시스템에 대해 비교되었고 훨씬 더 우수한 것으로 알 수 있었다. 예를 들어, 제1 표면 상에 입자를 재침착시키기 위한 고도로 정교한 자동화된 현미경 검사 기술을 사용하는 닙핑된 접촉 세척 롤(CCR) 시스템 및 진공 바아 입자 제거 노즐을 갖는 고속 공기 나이프가 제시되었고, 극도로 작은 먼지 및 부스러기는 효과적으로 제거하지 않는다.
실시예 1
실험 설비를 대체로 도 2에 도시된 바와 같이 구성하였다. 25.4 ㎝(10 인치) 외경의 알루미늄 금속 실린더로 구성된 백업 롤(14)을 제공하였다. 미국 미네소타주 세인트 폴 소재의 쓰리엠(3M)으로부터 구매가능한 광학 등급 폴리에스테르 필름의 0.00508 ㎝(0.002 인치) 두께 및 22.86 ㎝(9 인치) 폭의 웨브를 장치를 통해 이송될 때 대략 90°로 백업 롤 주위에 감았다. 웨브의 대략적인 길이는 61.0 m(200 피트)였다.
웨브를 4.572 m/min(15 feet/min)의 선 속도로 백업 롤 주위에서 이송할 때, 4개의 스프레이 노즐(42)의 단일 열을 각각 갖는 2개의 CD 스프레이 매니폴드(42)가 제1 및 제2 고압 스프레이 구역(50, 52)을 생성하였다. 각각의 스프레이 노즐(스프레잉 시스템즈 컴퍼니(Spraying Systems Company) 모델 번호 TPU150017)은 0.0254 ㎝(0.010 인치) 등가 직경의 단일 오리피스를 가졌고, 10.34 ㎫(1500 psi)의 압력으로 공급되는 동안, 0.2 마이크로미터로 완전하고 순수하게 여과된 탈이온수를 18 MOhm의 저항 수준까지 제공받았다. 가요성 웨브를 웨브로부터 실질적으로 모든 물을 제거하기 위해 압축 공기의 메인 유동을 가요성 웨브를 가로지른 라인 내에 지향시키고 포커싱하기 위해 13°의 각도로 배향된 엑스에어 모델 #2012SS 공기 바아를 사용하는 출구 기체 커튼(26)에 의해 건조시켰다. 제1 및 제2 검사 시스템(54, 56)은 웨브 세척 전후에 먼지 입자를 측정하기 위해 제1 표면을 검사하였다.
비교예 2
비교예 2에 대해, 미국 뉴욕주 로체스터 소재의 폴리맥 텍 인크.(Polymag Tek Inc.)에 의해 제조된 점착 롤 세척 시스템, 6RNWC-IIA를 사용하였다. 6롤 협폭 웨브 세척기 시스템은 이동하는 기재로부터 산개된 입상 오염물을 제거하도록 설계된다. 폴리맥® 청색 접촉 세척 롤은 그가 웨브 세척기를 통해 이동할 때 웨브의 양 면과 접촉한다. 표면 오염이 웨브로부터 접촉 세척 롤로 전달된다. 그 다음, 3.175 ㎝(1.25") 외경의 접촉 세척 롤은 2개의 접착 테이프 롤에 의해 연속적으로 세척된다. 상부 접촉 세척 롤 및 접착 테이프 롤 조립체는 웨브와 하부 고정 접촉 세척 롤 사이에 닙을 생성한다. 웨브는 4개의 접촉 세척 롤 및 2개의 테이프 롤러를 구동한다. 웨브로부터의 오염물은 접착 테이프 롤의 표면 상에 수집된다. 접착 테이프 롤이 포화되면, 테이프의 층이 제거될 수 있다. 각각의 접착 테이프 롤은 대략 20.1 m(66 피트)의 접착 테이프를 포함한다. 대략 0.305 m(1 피트)의 테이프가 테이프 교환마다 사용된다.
미국 미네소타주 세인트 폴 소재의 쓰리엠으로부터 구매가능한 광학 등급 폴리에스테르 필름의 0.00508 ㎝(0.002 인치) 두께 및 22.86 ㎝(9 인치) 폭의 웨브를 413.7 ㎪(60 psi)로 설정된 닙 압력에서, 0.0762 m/s(15 fpm)의 선 속도로 점착 롤 세척 시스템을 통해 이송하였다. 웨브의 대략적인 길이는 61.0 m(200 피트)였다. 제1 및 제2 검사 웨브 시스템은 점착 롤 세척 시스템 전후에서 먼지 입자를 측정하기 위해 제1 표면을 검사하였다.
비교예 3
비교예 3에 대해, 미국 콜로라도주 브룸필드 소재의 웨브 시스템즈, 인크.(Web Systems, Inc.)에 의해 제조된 이중 초음파 웨브 세척기를 사용하였다. 웨브 세척기는 아이들러 롤러에 가까이 위치되도록 만곡된 횡방향 진공 튜브의 대향 면들 상에 위치된 2개의 초음파 노즐을 갖는다. 세척되는 웨브는 초음파 웨브 세척기 아래의 아이들러 롤러 주위로 이송된다.
미국 미네소타주 세인트 폴 소재의 쓰리엠으로부터 구매가능한 광학 등급 폴리에스테르 필름의 0.00508 ㎝(0.002 인치) 두께 및 22.86 ㎝(9 인치) 폭의 웨브를 0.0762 m/s(15 fpm)의 선 속도로 초음파 웨브 세척 시스템을 통해 이송하였다. 웨브의 대략적인 길이는 61.0 m(200 피트)였다. 제1 및 제2 검사 시스템은 초음파 웨브 세척 시스템 전후에서 먼지 입자를 측정하기 위해 제1 표면을 검사하였다.
［표 1］
Figure pct00001
표 1은 3가지 실험의 결과를 제시한다. 보이는 바와 같이, 본 발명의 웨브 세척 방법은 기존의 방법보다 웨브의 표면으로부터 3 마이크로미터 이상의 크기를 갖는 현저하게 더 많은 먼지 및 부스러기를 제거한다.
본 발명에 대한 다른 수정 및 변형은 첨부하는 특허청구의 범위에 보다 구체적으로 개시된 본 발명의 정신 및 범위로부터 일탈함 없이 본 기술 분야의 통상의 기량을 가진 자에 의해 실시될 수 있다. 다양한 실시예의 태양들은 전체적으로 또는 부분적으로 상호 교환될 수 있거나 또는 다양한 실시예의 다른 태양과 결합될 수 있다. 특허증을 위한 상기 출원에서 열거된 모든 참고 문헌, 특허 또는 특허 출원들은 일관된 방식으로 본원에서 참고로 인용된다. 인용된 참고 문헌들과 본 출원 간의 불일치나 모순이 있는 경우, 앞의 설명의 정보가 우선한다. 본 기술 분야의 통상의 기량을 가진 자가 청구된 본원을 실시할 수 있도록 제공한 앞의 설명은 청구 범위 및 그 등가물에 의해 정의되는 본 발명의 범위를 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다.

Claims (21)

  1. 백업 롤러로 웨브를 지지하는 단계;
    웨브의 제1 표면에 대향하는 제2 표면이 백업 롤러와 접촉하는 동안, 고압 액체를 웨브의 제1 표면에 분사하는 단계; 및
    분사 후에, 대향하는 제2 표면이 백업 롤러에 의해 지지되는 동안, 기체 커튼을 제1 표면으로 지향시키는 단계를 포함하는 재료의 웨브를 세척하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 분사 이전에, 제2 대향 표면이 백업 롤러에 의해 지지되는 동안, 제1 표면을 세척 롤러와 접촉시키는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  3. 제2항에 있어서, 제1 표면에 대해 세척 롤러를 압축시키는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  4. 제3항에 있어서, 백업 롤 둘레에서 웨브의 방향과 반대인 방향으로 세척 롤러를 회전시키는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  5. 제2항에 있어서, 세척 롤러에 용액을 공급하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  6. 제5항에 있어서, 공급하는 단계는 다공성 세척 롤러의 중심에 공급되는 제1 세척 용액을 포함하는 방법.
  7. 제5항에 있어서, 공급하는 단계는 세척 롤러 위에 위치된 적하 바아(drip bar)에 공급되는 계면활성제 용액을 포함하는 방법.
  8. 제1항에 있어서, 분사 이전에 기체 커튼을 제1 표면으로 지향시키는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  9. 제1항에 있어서, 웨브에 분사하는 동안 스프레이 챔버 내에 백업 롤의 적어도 일 부분을 둘러싸는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  10. 제9항에 있어서, 스프레이 챔버 내에 약 -0.0025 내지 약 -1.27 ㎝(약 -0.001 내지 약 -0.50 인치)의 수주의 압력을 유지하기 위해 스프레이 챔버로부터 기체를 배출시키는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  11. 제1항에 있어서, 기체를 제1 표면으로 지향시키기 전에 기체 커튼에 공급되는 기체를 가열 및 여과하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  12. 백업 롤 주위에 적어도 부분적으로 웨브를 감도록 위치된 백업 롤러;
    웨브가 백업 롤에 의해 지지되는 동안, 웨브에 분사하기 위한 적어도 하나의 노즐에 연결된 고압 액체의 공급원; 및
    백업 롤 주위에서의 웨브의 이동 방향으로 적어도 하나의 노즐 이후에 위치되고, 웨브가 백업 롤에 의해 지지되는 동안 웨브로부터 액체를 제거하기 위해 위치된, 출구 기체 커튼에 연결된 압축 기체의 공급원을 포함하는 재료의 웨브를 세척하기 위한 장치.
  13. 제12항에 있어서, 적어도 하나의 노즐 이전에 위치되고, 웨브가 백업 롤에 의해 지지되는 동안 웨브와 접촉하도록 위치된 세척 롤러를 추가로 포함하는 장치.
  14. 제13항에 있어서, 세척 롤러는 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 아세틸, 및 폴리비닐 포르말로 이루어진 군으로부터 선택된 재료를 포함하고, 상승된 메사(mesa) 패턴의 외부 표면을 갖는 장치.
  15. 제14항에 있어서, 세척 롤러의 중심에 공급되는 제1 세척 용액을 추가로 포함하는 방법.
  16. 제15항에 있어서, 웨브의 이동 방향과 반대인 방향으로 세척 롤러를 회전시키기 위한 구동부를 추가로 포함하는 장치.
  17. 제13항에 있어서, 세척 롤러 또는 웨브에 계면활성제 용액을 공급하도록 위치된 적하 바아를 추가로 포함하는 장치.
  18. 제12항에 있어서, 웨브가 백업 롤에 의해 지지되는 동안, 압축 기체를 웨브를 향해 지향시키는 입구 기체 커튼에 연결된 압축 기체의 공급원을 추가로 포함하는 장치.
  19. 제12항에 있어서, 드레인 및 배출 덕트를 갖는 스프레이 챔버를 추가로 포함하고, 스프레이 챔버는 출구 기체 커튼, 적어도 하나의 스프레이 노즐, 및 백업 롤의 적어도 일 부분을 둘러싸는 장치.
  20. 제12항에 있어서, 입자 제어 분위기를 갖는 청정실 내에 장치를 위치시키는 것을 추가로 포함하는 장치.
  21. 제12항에 있어서, 적어도 하나의 노즐과 출구 기체 커튼 사이에 위치된 공기 편향기를 추가로 포함하는 장치.
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