TWM457962U - 光罩水洗清潔機構 - Google Patents

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TWM457962U
TWM457962U TW101222491U TW101222491U TWM457962U TW M457962 U TWM457962 U TW M457962U TW 101222491 U TW101222491 U TW 101222491U TW 101222491 U TW101222491 U TW 101222491U TW M457962 U TWM457962 U TW M457962U
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Taiwan
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reticle
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water
washing
central axis
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TW101222491U
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English (en)
Inventor
Charng-Shiuan Suen
Yung-Chin Pan
Original Assignee
Gudeng Prec Ind Co Ltd
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • B08B1/14—
    • B08B1/50—
    • B08B1/52—
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    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
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    • G03F1/72—Repair or correction of mask defects

Description

光罩水洗清潔機構
本創作係有關於一種清洗光罩之機構，尤指一種具有擦拭元件之光罩水洗清潔機構。
光罩清潔機構即係用以清洗光罩，避免塵粒、髒污等沾附於光罩上，造成後續積體電路製程之缺陷或失敗，而目前習知之光罩清潔機構多直接以風刀、水刀或使用特殊清潔液體之方式進行光罩清理，其中，直接使用水刀或者特殊清潔液體之清潔方式，光罩需額外進行吹乾的作業，且光罩乾燥後易留下水痕或水漬，為了改善水痕或水漬的缺憾，改良後之光罩清潔機構除了使用水刀或者特殊清潔液體外，更配合擦拭方法以清潔光罩，但擦拭布料無法在光罩清理流程時同時進行清洗，因此需經常花費時間進行更替，更容易因為布料已使用多次佈滿灰塵或髒汙，使得完成清理流程後的光罩回沾布料所殘留之塵粒污垢，導致光罩無法完全清潔進而使後續製程發生缺陷或失敗之情況。
為了改善上述光罩殘留水痕或水漬以及光罩回沾灰塵髒污，因而導致後續製程發生缺陷或失敗之情形，本創作提出一種清洗光罩更可同時清潔擦拭元件之光罩水洗清潔機構。
本創作之光罩水洗清潔機構包含一座體、一中心軸、一擦拭元件、以及一水路系統，水路系統設置於座體內部，可輸入清潔液體至座體 內以及排除清潔液體至座體外。光罩水洗清潔機構係將擦拭元件包覆於中心軸之表面，其中心軸之二端點樞接於座體，可以順時針或逆時針方向旋轉，並以設置座體中之水路系統持續噴射清潔液體以對擦拭元件進行沖洗清潔，當欲清潔之光罩接觸設置於中心軸上的擦拭元件時，若光罩移動之方向與中心軸旋轉方向相同時，例如：順時針方向，光罩即帶動中心軸旋轉，將已被清潔之部分擦拭元件旋轉至可與光罩接觸之位置，當光罩移動之方向與中心軸旋轉方向不同時，例如：逆時針方向，其中心軸將固定不動，不會被光罩帶動旋轉，故已旋轉至可與光罩接觸之位置的已清潔之部分擦拭元件可對移動中的光罩進行擦拭清潔。
因此，本創作之優點在於，隨時以清潔過之擦拭元件對光罩進行擦拭清洗，有效改善因為擦拭元件在未清潔且使用多次的情況下造成光罩回沾髒汙而清潔不足，以及光罩在清潔過後殘留水痕或水漬，進而導致後續製程發生電路缺陷或失敗之情況，且本創作在清洗光罩的同時也清潔擦拭元件，可明顯提升單一擦拭元件之使用壽命，大幅減少替換或丟棄擦拭元件之頻率，進而減少為了更換擦拭元件而中斷清潔機構之次數，有效降低清潔光罩所需時程及擦拭元件之成本花費，並增加光罩清洗之便利。
 實施例一
請參閱圖1及圖2，圖1為本創作之一光罩水洗清潔機構(100)，圖2為該光罩水洗清潔機構(100)之剖面圖。
該光罩水洗清潔機構(100)包含一座體(200)，其設有一開口(210)，該座體(200)設有一中心軸(300)，該中心軸(300)之二端點樞接於該座體(200)，使該中心軸(300)可以樞接處連接成的直線為軸心，並能以順時針或逆時針之方向旋轉。該中心軸(300)之表面更包覆一擦拭元件(400)，該擦拭元件(400)係用以接觸並擦拭清潔光罩，該擦拭元件(400)可以是無塵布、無塵紙或海綿等其他使用上不產生微粒、粉塵以及纖維剝落之材料，且該擦拭元件(400)可具備彈性，因此可利用其彈性緊貼於該中心軸(300)之表面並維持張力，或者該擦拭元件(400)可以黏著劑或扣件緊貼於該中心軸(300)之表面，使該擦拭元件(400)不會因為該中心軸(300)的轉動而造成該擦拭元件(400)鬆脫或移動，該擦拭元件(400)並透過該開口(210)以部分該擦拭元件(400)與光罩接觸進而清潔擦拭光罩。
該光罩水洗清潔機構(100)之該座體(200)並含有一水路系統(500)，其設置於該座體(200)內，該水路系統(500)包含至少一第一水路管道(510)、至少一第二水路管道(520)、至少一出水管道(530)以及一排水管道(540)。該至少一第一水路管道(510)設置於該中心軸(300)之二側並與該至少一出水管道(530)相連，該至少一第一水路管道(510)並設有一第一出水孔(511)，該第一出水孔(511)之開口朝上方，光罩清潔時會於該開口(210)之上方，以與該中心軸(300)之軸心垂直的方向左右移動，因 此清潔液體可經由該至少一出水管道(530)傳送至該至少一第一水路管道(510)，並透過該第一出水孔(511)往上噴射以濕潤欲清潔之光罩，以增進清洗之效果，多餘的清潔液體則會經由該排水管道(540)快速排出，其中，清潔液體可以是純水、化學清潔液等可用以清洗光罩之液體。該至少一第二水路管道(520)設置於該中心軸(300)之二側並與該至少一出水管道(530)相連，該至少一第二水路管道(520)設有一第二出水孔(521)，該第二出水孔(521)之開口為朝向該中心軸(300)，使清潔液體可經由該至少一出水管道(530)傳送至該至少一第二水路管道(520)，並透過該第二出水孔(521)持續往該中心軸(300)之方向噴射，以沖洗被旋轉至該第二出水孔(521)外之部分該擦拭元件(400)，達到清潔使用過之該擦拭元件(400)的功效，而多餘的清潔液體則會由該排水管道(540)快速排出。
當光罩經由該開口(210)接觸部分該擦拭元件(400)時，若光罩以與該中心軸(300)旋轉之方向相同之去程，例如：順時針方向移動時，光罩的移動會帶動該中心軸(300)旋轉，使被該第二出水孔(521)清潔過的部分該擦拭元件(400)會因為該中心軸(300)的旋轉而被移動至可與光罩接觸之該開口(210)位置，當光罩再以與該中心軸(300)旋轉之方向相反之回程，例如：逆時針方向移動時，該中心軸(300)即固定不動，不會隨著光罩移動而轉動，故此時光罩可與清潔過的部分該擦拭元件(400)接觸並擦拭，達到清潔光罩之功能，且以清潔過的該擦拭元件(400)進行清潔，有效減少光罩清潔後回沾灰塵髒汙或留下水痕水漬之情況發生，進而達到有效清潔光罩之目的。
惟以上所述者，僅為本創作之較佳實施例而已，當不能以此限定本創作實施之範圍，即依本創作申請專利範圍及說明內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本創作涵蓋之範圍內。
100‧‧‧光罩水洗清潔機構
200‧‧‧座體
210‧‧‧開口
300‧‧‧中心軸
400‧‧‧擦拭元件
500‧‧‧水路系統
510‧‧‧第一水路管道
511‧‧‧第一出水孔
520‧‧‧第二水路管道
521‧‧‧第二出水孔
530‧‧‧出水管道
540‧‧‧排水管道
圖1為本創作之光罩水洗清潔機構
圖2為本創作之剖面圖
100‧‧‧光罩水洗清潔機構
200‧‧‧座體
210‧‧‧開口
400‧‧‧擦拭元件
511‧‧‧第一出水孔
540‧‧‧排水管道

Claims (9)

  1. 一種光罩水洗清潔機構，其包括：一座體；一中心軸，其二端點樞接於該座體，該中心軸能以樞接處連接成的直線為軸心旋轉；一擦拭元件，其包覆於該中心軸表面；以及一水路系統，設置於該座體內部，可輸入清潔液體至該座體內以及排除清潔液體至該座體外。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光罩水洗清潔機構，該座體設有一開口。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之光罩水洗清潔機構，其中該中心軸旋轉之方向可以是順時針或逆時針方向。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之光罩水洗清潔機構，其中該擦拭元件可以是無塵布、無塵紙或海綿。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之光罩水洗清潔機構，其中該水路系統包括至少一第一水路管道、至少一第二水路管道、至少一出水管道以及一排水管道，該至少一第一水路管道以及該至少一第二水路管道設置於該中心軸之二側，該至少一出水管道以及該排水管道設置於該中心軸下方。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之光罩水洗清潔機構，其中該至少一第一水路管道包括一第一出水孔，該第一出水孔開口朝上。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之光罩水洗清潔機構，其中該至少一第二水路管道包括一第二出水孔，該第二出水孔開口朝向該中心軸。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之光罩水洗清潔機構，其中該擦拭元件可在光罩移動時與光罩接觸，清潔光罩之接觸面。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之光罩水洗清潔機構，其中該擦拭元件與光罩接觸時，若光罩移動方向與該中心軸可旋轉之方向相同，則可帶動該中心軸旋轉，若移動方向與該中心軸可旋轉之方向不同，則該中心軸固定不動。
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