KR200471578Y1 - 포토마스크 물세척 클리닝 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 포토마스크 물세척 클리닝 장치에 관한 것으로서, 와이핑 소자가 중심축의 표면을 포함하여 뒤덮으며, 상기 와이핑 소자을 세척하도록 세정액을 지속적으로 분사하여 세척하려는 포토마스크가 중심축에 접촉할 때 포토마스크가 이동하는 방향에 의하여 세척된 와이핑 소자를 회전시키거나 또는 깨끗한 와이핑 소자로 포토마스크를 세척하는 것으로서, 먼지 입자, 얼룩 등이 세척된 포토마스크에 부착되는 것을 효과적으로 감소시키고 사용의 편리성이 개선된 포토마스크 물세척 클리닝 장치이다.

Description

포토마스크 물세척 클리닝 장치{A clearing apparatus for water washing photomasks}
본 발명은 포토마스크 세척 구조에 관한 것으로서, 특히 와이핑 소자가 있는 포토마스크 물세척 클리닝 장치에 관한 것이다.
포토마스크 세척 구조는 포토마스크를 세척하여 분진이나 자국 등이 포토마스크에 번지지 않도록 하는데 사용되어 향후 집적회로 제조공정에서의 결함이나 실패를 예방하는 구조이다. 기존의 포토마스크 세척 구조는 대개 윈드 블레이드, 물 블레이드를 직접 사용하거나 또는 특수 세정액을 사용하는 방식으로 포토마스크를 세척하였다. 이 중에서 물 블레이드나 특수 세정액을 사용하는 세척 방식일 경우 포토마스크를 말리는 작업이 추가로 필요할 뿐만 아니라 말린 포토마스크에 쉽게 물얼룩이 남겨지게 된다. 이러한 결함을 개선하기 위해, 개량식 포토마스크 세척 구조가 개발되었다. 해당 구조는 물 블레이드나 특수 세정액을 사용하는 것 이외에 포토마스크를 세척하기 위한 닦음 방식을 추가하였으나, 닦음용 천을 포토마스크 세척 공정과 동시에 세척할 수 없기 때문에 닦음용 천을 빈번히 교체해야 했다. 이는 시간이 소요될 뿐만 아니라 여러 번 사용된 천은 분진이나 자국 범벅이가 되기 때문에 잔류된 분진이나 자국이 세척 공정을 거친 포토마스크에 다시 번지게 되었다. 이로 인해 포토마스크는 철저히 세척되지 못하고 따라서 후속 제조공정에서 결함이 발생하거나 실패하는 상황이 발생하게 되었다.
위에서 설명한 포토마스크 상의 물얼룩이나 분진 또는 자국 번짐으로 인해 후속 제조공정에서 결함이나 실패가 발생하는 상황을 개선하기 위해 본 발명은 포토마스크를 세척하는 동시에 와이핑 소자도 세척하는 포토마스크 물세척 클리닝 장치를 제시한다.
본 발명의 포토마스크 물세척 클리닝 장치는 베이스 바디 한 개, 중심축 한 개, 와이핑 소자 한 개, 그리고 수로 시스템으로 구성되었으며, 수로 시스템은 베이스 바디 내부에 설치되어 세정액을 베이스 바디 내로 공급하고 또한 베이스 바디 밖으로 방출할 수 있다. 포토마스크 물세척 클리닝 장치에는 와이핑 소자가 중심축 표면에 피복되었으며, 중심축의 양쪽 끝부분은 베이스 바디에 핀 이음으로 연결되어 중심축은 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전할 수 있다. 그리고 베이스 바디 내에 설치된 수로 시스템은 세정액을 지속적으로 분사하여 와이핑 소자를 세척한다. 그리고 세척하고자 하는 포토마스크가 중심축에 설치된 와이핑 소자와 접촉할 때, 만약 포토마스크의 이동 방향이 중심축의 회전 방향과 일치할 경우, 즉 시계 방향일 경우, 포토마스크는 중심축의 회전을 일으켜 이미 세척된 와이핑 소자 부분을 포토마스크와 접촉할 수 있는 위치로 회전시킨다. 만약 포토마스크의 이동 방향이 중심축의 회전 방향과 다를 경우, 즉 반시계 방향일 경우, 중심축은 고정되고 포토마스크에 의한 회전이 일어나지 않기 때문에 이미 포토마스크와 접촉할 수 있는 위치로 회전한 세척된 와이핑 소자 부분은 이동 중인 포토마스크를 닦을 수 있다.
따라서, 본 발명의 장점은 수시로 세척된 와이핑 소자로 포토마스크를 닦고 세척하여 와이핑 소자가 청결하지 않거나 누차 사용됨으로 인해 포토마스크에 자국이 다시 번져서 포토마스크에 대한 세척이 부족한 문제, 그리고 포토마스크 세척 후 물얼룩이 남아 후속 제조공정에서 회로 결함이나 실패가 발생하는 상황을 효과적으로 개선할 수 있다는 것이다. 또한 본 발명에서는 포토마스크를 세척하는 동시에 와이핑 소자도 세척할 수 있기 때문에 와이핑 소자의 사용 수명을 현저히 향상시키고 와이핑 소자의 교체 또는 폐기 빈도를 대폭적으로 감소시켜 와이핑 소자를 교체하기 위해 세척 구조를 중단시키는 횟수를 줄일 수 있다. 따라서 포토마스크 세척에 필요한 시간과 와이핑 소자에 드는 비용을 효과적으로 감소하고 포토마스크 세척의 편리성을 향상시킨다.
도 1은 본 발명인 포토마스크 물세척 클리닝 장치(100)이며,
도 2는 본 발명인 포토마스크 물세척 클리닝 장치(100)의 단면도이다.
이하 본 고안에 따른 실시예를 설명한다.
도 1과 도 2를 참조한다. 도 1은 본 발명인 포토마스크 물세척 클리닝 장치(100)이며, 도 2는 본 발명인 포토마스크 물세척 클리닝 장치(100)의 단면도이다.
본 발명인 포토마스크 물세척 클리닝 장치(100)에는 개구(210)가 설치된 베이스 바디(200)가 한 개 있다. 해당 베이스 바디(200)에는 중심축(300)이 한 개 있으며, 해당 중심축(300)의 양쪽 끝부분은 베이스 바디(200)에 핀 이음으로 연결되어 있다. 그러므로 해당 중심축(300)은 핀 이음 연결로 인해 형성된 직선을 축의 중심으로 하여 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전할 수 있다. 해당 중심축(300)의 표면에는 와이핑 소자(400)가 피복되어 있으며, 해당 와이핑 소자(400)는 포토마스크와 접촉하고 포토마스크를 닦는 데 사용된다. 와이핑 소자(400)는 부직포, 무진지 또는 스펀지 등 사용시 미세 입자나 분진이 발생하거나 섬유가 풀어지지 않는 재료를 사용할 수 있다. 또한 해당 와이핑 소자(400)는 탄성을 지닐 수 있기 때문에 해당 탄성을 이용하여 중심축(300)의 표면에 밀착되게 하고 장력을 유지하도록 하거나, 해당 와이핑 소자(400)를 접착제나 조임쇠로 중심축(300)의 표면에 밀착시켜 와이핑 소자(400)가 중심축(300)의 회전으로 인해 해당 와이핑 소자(400)가 느슨해 지거나 이동하지 않도록 할 수 있다. 해당 와이핑 소자(400)는 개구(210)를 통해서 와이핑 소자(400)의 일부분으로 포토마스크와 접촉하고 포토마스크를 세척한다.
포토마스크 물세척 클리닝 장치(100)의 베이스 바디(200)에는 또한 수로 시스템(500)이 한 개 있으며 이는 베이스 바디(200) 내부에 설치되었다. 해당 수로 시스템(500)에는 최소한 한 개의 제1 수로 채널(510)과 최소한 한 개의 제2 수로 채널(520), 최소한 한 개의 급수 통로(530)와 배수 통로(540) 한 개가 있다. 해당 제1 수로 채널(510)은 중심축(300) 양측에 설치되었으며, 급수 통로(530)와 연결되었다. 제1 수로 채널(510)에는 제1 배수공(511)가 설치되어 있으며, 해당 제1 배수공(511)의 개구는 위를 향한다. 포토마스크는 세척시 해당 개구(210) 위에 위치하여 중심축(300)의 추심 수직 방향에서 좌우로 이동한다. 따라서 세정액은 급수 통로(530)를 통해서 제1 수로 채널(510)로 전송되고, 해당 제1 배수공(511)를 통해 위로 분사되어 세척하고자 하는 포토마스크를 적셔서 세척 효과를 향상시킨다. 남은 세정액은 배수 통로(540)를 통해서 신속히 방출된다. 여기서, 세정액은 정수, 화학 세정액 등 포토마스크를 세척할 수 있는 액체일 수 있다. 해당 제2 수로 채널(520)은 중심축(300) 양측에 설치되었으며, 급수 통로(530)와 연결되었다. 제2 수로 채널(520)에는 제2 배수공(521)가 설치되어 있으며, 해당 제2 배수공(521)의 개구는 중심축(300)을 향한다. 따라서 세정액은 급수 통로(530)를 통해서 제2 수로 채널(520)로 전송되고, 해당 제2 배수공(521)를 통해 중심축(300) 방향으로 분사되어 해당 제2 배수공(521) 바깥쪽으로 회전한 와이핑 소자(400) 부분을 씻어 사용된 와이핑 소자(400)를 세척하는 효과를 발휘한다. 그리고 남은 세정액은 배수 통로(540)를 통해서 신속히 방출된다.
포토마스크가 해당 개구(210)를 통해 일부분의 와이핑 소자(400)와 접촉할 때, 만약 포토마스크가 해당 중심축(300)의 회전 방향과 같은 쪽, 즉 시계 방향으로 이동하는 경우, 포토마스크의 이동은 해당 중심축(300)의 회전을 일으켜 제2 배수공(521)에 의해 세척된 일부분의 와이핑 소자(400)는 중심축(300)의 회전으로 인해 포토마스크와 접촉할 수 있는 해당 개구(210) 위치로 이동된다. 포토마스크가 중심축(300)의 회전 방향과 반대 방향으로 돌아올 때, 즉 반시계 방향으로 이동할 때, 중심축(300)는 고정되어 움직이지 않으며, 포토마스크의 이동에 따라 회전하지 않는다. 그러므로 이 때 포토마스크는 세척된 와이핑 소자(400) 일부분과 접촉하여 닦여지고, 포토마스크 세척효과를 달성하게 된다. 그리고 세척된 와이핑 소자(400)로 포토마스크를 세척하기 때문에 포토마스크 세척 후 분진이나 자국이 다시 번지는 것이나 물얼룩이 지는 상황을 효과적으로 감소시켜 포토마스크 세척 목적을 효율적으로 달성할 수 있다.
위에서 설명한 내용은 본 발명의 실시예일 뿐이며 본 발명의 실시 범위를 제한하는 것으로 봐서는 안 된다. 실시예의 내용은 관련 기술에 익숙한 자가 본 발명의 기술 내용을 이해하고 실시할 수 있을 만큼 충분하다. 그리고 관련 기술에 익숙한 자는 누구든지 본 명세서에 제시된 내용, 청구범위와 도식에 따라 본 발명과 연관된 목적 및 장점을 쉽게 이해할 수 있을 것이다.
100: 포토마스크 물세척 클리닝 장치
200: 베이스 바디
210: 개구
300: 중심축
400: 와이핑 소자
500: 수로 시스템
510: 제1 수로 채널
511: 제1 배수공
520: 제2 수로 채널
521: 제2 배수공
530: 급수 통로
540: 배수 통로

Claims (9)

  1. 포토마스크 물세척 클리닝 장치에 있어서,
    베이스 바디,
    2개의 끝단이 상기 베이스 바디에 축결합되고 상기 축결합된 끝단들을 연결한 직선을 축으로 회전하는 중심축,
    상기 중심축의 표면을 포함하여 뒤덮는 와이핑 소자, 및
    상기 베이스 바디의 내부에 설치되어 세정액을 상기 베이스 바디의 내부에 인입하고 상기 베이스 바디의 외부로 배출시키는 수로 시스템을 포함하는 포토마스크 물세척 클리닝 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 베이스 바디에 개구가 마련된 포토마스크 물세척 클리닝 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 중심축의 회전방향이 시계 방향 또는 반시계 방향인 포토마스크 물세척 클리닝 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 와이핑 소자가 부직포, 무진지 또는 스펀지인 포토마스크 물세척 클리닝 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 수로 시스템은 적어도 하나의 제1 수로관, 적어도 하나의 제2 수로관, 적어도 하나의 출수관 및 배수관이 포함하며, 상기 적어도 하나의 제1 수로관 및 상기 적어도 하나의 제2 수로관이 상기 중심축의 양측에 설치되고, 상기 적어도 하나의 출수관 및 상기 배수관이 상기 중심축의 하단에 설치되는 포토마스크 물세척 클리닝 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 제1 수로관은 제1 배수공을 포함하며, 상기 제1 배수공의 개구가 위를 향하는 포토마스크 물세척 클리닝 장치.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 제2 수로관은 제2 배수공을 포함하며, 상기 제2 배수공의 개구가 상기 중심축을 향하는 포토마스크 물세척 클리닝 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 와이핑 소자는 포토마스크 이동 시 상기 포토마스크에 접촉하고 포토마스크와의 접촉면을 세척하는 포토마스크 물세척 클리닝 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 와이핑 소자가 포토마스크와 접촉할 때, 포토마스크의 이동 방향이 상기 중심축의 회전 가능 방향과 같을 경우에는 상기 중심축의 회전을 일으킬 수 있고, 상기 포토마스크의 이동 방향이 상기 중심축의 회전 가능 방향과 다를 경우에는 상기 중심축이 고정되어 움직이지 않는 포토마스크 물세척 클리닝 장치.
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