JP4787061B2 - 基板の洗浄方法 - Google Patents
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Description
しかしながら、このような方法により基板表面を洗浄して異物を除去したにも関わらず、次の成膜工程で基板表面に金属化合物膜を成膜すると欠陥が検出されてしまうという問題があった。
また、リンス液供給ノズルにより、被洗浄基板の主面から端面方向へリンス液を供給して、洗浄液が被洗浄基板の端面方向から主面方向に進入するのを防止することができるので、飛沫遮蔽部材と被洗浄基板との隙間から洗浄液が主面側へ流れてくるのを防ぎ、被洗浄基板の主面が洗浄液で再汚染されるのを防止することができる。
このように、被洗浄基板の両主面側に配設された飛沫遮蔽部材が一体に成形されており、該一体に成形された飛沫遮蔽部材が、被洗浄基板を洗浄子の側に挿入して洗浄するための開口部が形成されたものであれば、より効率良く、洗浄子から被洗浄基板の主面へ洗浄液が飛散するのを防ぐことができる。
このように、飛沫遮蔽部材が洗浄子を囲う形状であれば、被洗浄基板の主面はもちろん周囲へも洗浄液が飛散するのを防ぐことができ、洗浄液の飛沫による基板の主面や作業雰囲気への汚染を一層効果的に防止できる。例えば円筒形状であれば、洗浄液の飛散を防止するとともに飛沫遮蔽部材が占めるスペースも比較的抑えられて好適である。
このように、洗浄子が、回転軸が被洗浄基板の端面の長辺方向に対して交差する向きに配設されたものであれば、比較的小さな洗浄子により被洗浄基板の端面の洗浄ができるため、装置をコンパクトにすることができる。
このように、洗浄子が、回転軸が被洗浄基板の端面の長辺方向に対して平行する向きに配設されたものであれば、洗浄子の被洗浄基板への接触面積が実質的に増加し、洗浄効率が上がって洗浄時間を短縮することが可能となる。
このような前記の基板の洗浄装置を用いて、前記被洗浄基板の両主面にリンス液を供給しながら被洗浄基板の端面を洗浄すれば、洗浄時に洗浄子からの洗浄液の飛沫を防ぐとともに、飛沫遮蔽部材と被洗浄基板との隙間から、洗浄液が端面方向から主面方向へ進入するのを防ぐことができ、被洗浄基板の両主面が洗浄後の洗浄液によって汚染されるのを効果的に防止することが可能である。そのため、被洗浄基板の両主面における洗浄液の残渣等の発生を抑制することができ、洗浄後に成膜工程で金属化合物膜を成膜しても上記残渣を原因として欠陥が発生するのを低減することができ、高品質の基板を得られる。
このように、本発明の洗浄方法においては、洗浄の対象として透明基板を選ぶことができ、特にフォトマスク基板を洗浄するのに好適である。
例えば、フォトマスクブランクを製造するにあたっては、用意したフォトマスク用の透明基板を研磨し、洗浄した後に基板表面に金属化合物膜を成膜する工程を行う。この成膜工程前の基板の洗浄では、主面を洗浄する他、例えば洗浄液を供給して基板の端面等をブラシなどを用いてスクラブ洗浄を行うが、このとき従来では基板主面に純水等のリンス液を供給したりして洗浄を行っていた。
図1〜4のそれぞれに、本発明に係る基板の洗浄装置の実施形態の一例を示す。
まず、全体の構成について図1を用いて説明する。例えば、本発明の基板の洗浄装置10は、被洗浄基板11の端面をスクラブ洗浄する洗浄子12、被洗浄基板11の主面にリンス液17を供給するリンス液供給ノズル16、洗浄子12からの洗浄液の飛沫20の飛散を防ぐ飛沫遮蔽部材15、洗浄液14を供給する洗浄液供給ノズル13を備えている。洗浄子12は被洗浄基板11の端面側に、リンス液供給ノズル16は両主面側に配設されており、さらに洗浄子12とリンス液供給ノズル16との間に飛沫遮蔽部材15が配設されている。また、洗浄液供給ノズル13は、図1のタイプでは、端部に向けて洗浄液14を供給するように飛沫遮蔽部材15と洗浄子12との間に配設されている。
以上のように、洗浄子12の形態は特に限定されるものではなく、被洗浄基板11を洗浄することができるものであれば、どのようなタイプのものであっても良い。
このように、例えば被洗浄基板11や洗浄範囲の大小等に合せて、必要な洗浄液供給ノズル13の数を決めることができる。同様にして、その配設位置も条件に対応して適宜決めることができる。
上記のように、この飛沫遮蔽部材15の配設位置は、洗浄子12や被洗浄基板11の端面に近い方が好ましい。これは、当然、洗浄子12が配置された端面に近い位置に配設する方が、より効果的に洗浄液の飛沫20が主面やその他に飛散するのを防ぐことができるからである。被洗浄基板11や洗浄子12、リンス液供給ノズル16等の大きさや位置関係からその都度適切な位置に配設することができる。
このように両主面側に配設された飛沫遮蔽部材同士を一体成形させたものは、その上下の飛沫遮蔽部材同士の隙間は洗浄時に被洗浄基板11を挿入する開口部19のみとなっているため、洗浄子12からの洗浄液14の飛散をより効率良く防止することができ、主面への洗浄液の飛沫20の付着をさらに低減することができる。
この隙間は被洗浄基板11の厚さや搬送機構等の精度に依存するため、条件に応じて適宜設定すれば良い。
例えば上記の複数の板を組合わせたものの例としては図1や図2に示す飛沫遮蔽部材15、15’が挙げられる。図1に示す飛沫遮蔽部材15は、2枚の平板を鈎型に組合わせたものであり、図2のものは、4枚の平板を組合わせている。また、これらの飛沫遮蔽部材15、15’は図1(B)、図2(B)に示すように、被洗浄基板11の両主面側において一体成形されたものであり、上述したように、このような両主面側の飛沫遮蔽部材が一体成形されたようなものには被洗浄基板11を挿入することのできる開口部19が形成されている。
洗浄子12、12’を囲う範囲は当然これらの例に限定されず、条件等によって範囲を調整して形成した飛沫遮蔽部材15、15’を用意することができる。
この円筒形状の飛沫遮蔽部材の例としては、図3、4に示すような飛沫遮蔽部材15’’、15’’’が挙げられる。図3、4の円筒形状の飛沫遮蔽部材15’’、15’’’は、内側に洗浄子12、12’を配設するものであり、その大きさは、洗浄時に洗浄子12、12’が回転するのを妨げない程度であれば良く特に限定されないが、より小さい方がコンパクトにすることができるので、洗浄子12、12’の大きさに対応して適切な大きさとするのが好ましい。
なお、図3に示す飛沫遮蔽部材15’’の例では円筒形状の上方および下方が、図4に示す例では側方が開いたものであるが、これらは閉じてても良い。この場合、洗浄液14やリンス液17を排出するための口を設ける必要がある。図4に洗浄液及びリンス液ドレイン18を示す。
以上のような洗浄子12、12’を囲う形状の飛沫遮蔽部材15、15’、15’’、15’’’によって、被洗浄基板11の主面や作業雰囲気への洗浄液の飛沫20の飛散を一層効果的に防止することができる。
上述のように、被洗浄基板11の主面にリンス液17を流して端面方向への流れによって、洗浄液供給ノズル13から供給された洗浄液14が端面方向から進入するのを防ぐように、洗浄液供給ノズル13の本数や配設位置に応じて、配設するリンス液供給ノズル16の本数や位置を決定することができる。
まず、被洗浄基板11を用意するが、本発明の洗浄方法においては、洗浄対象の基板の種類や大きさ等は特に限定されるものではない。半導体基板や、液晶表示パネル用のガラス基板、半導体製造装置用の透明なフォトマスク基板等、様々な基板に適用することが可能であり、特には角形の基板に対して好適である。
また、洗浄時にリンス液供給ノズル16からリンス液17を供給することによって、被洗浄基板11と飛沫遮蔽部材15との隙間から進入してくる洗浄液14を主面方向から端面方向へと洗い流すことができる。
洗浄子12による端面の洗浄効率を向上させるために使用する洗浄液14としては、例えばアニオン系界面活性剤であるアルキルベンゼンスルホン酸塩等を含有するものが挙げられるが、使用する薬液は特に限定されないし、純水を用いる場合もある。また、リンス液17としては、揮発後に残渣を含有しない水性液体が用いられ、通常は純水を用いる。これらの液は目的や条件に応じて適切なものを選択することができる。
このような汚染、すなわち洗浄液14中に浮遊している異物あるいは洗浄液14中の不揮発成分(例えば、上記のアルキルベンゼンスルホン酸塩)が、洗浄液の飛沫20等によって一旦被洗浄基板11上に付着してわずかな間でも乾燥すると、純水等のリンス液17による通常の洗浄では完全に除去することは難しくなり、洗浄後の金属化合物膜の成膜工程での欠陥発生の原因となってしまう。
一方で、本発明の洗浄方法においては、そのような検出されにくい洗浄液14由来の汚染そのものを、リンス液17を供給するとともに飛沫遮蔽部材15を配設することによって効果的に防止することができるので、洗浄後に形成した上記膜において欠陥の少ないものを得ることが可能である。
(実施例・比較例)
被洗浄基板として、精密研磨を施した後、0.5%HF水処理した0.2μm以上の欠陥がない石英基板(30枚)を用意し、スクラブ洗浄を連続的に行った。欠陥検出には欠陥検出装置(レーザーテック社製MAGICS)を用いた。
洗浄では、下記の洗浄液およびリンス液を用い、洗浄子で基板の裏面、表面の順に洗浄を行った後に、端面の洗浄を行い、最終的に裏面と表面のリンス液のみによる洗浄を行った。なお、端面の洗浄には、実施例においては図1に示した装置を用い、比較例においては洗浄液飛沫防止のための飛沫遮蔽部材がないものを使用した。また、各面の洗浄工程の切り替え時、待機ステージではリンス液を噴霧し、待機中に基板の乾燥の防止を行った。
上記洗浄における洗浄液およびリンス液は下記の通りである。
洗浄液:1%アルキルベンゼンスルホン酸塩水溶液
供給量 1L/分
リンス液:超純水 供給量 1L/分
成膜は、モリブデンとケイ素のターゲットを用い、アルゴン、酸素及び窒素雰囲気中で反応性スパッタリングを行い、組成がMo:Si:O:N=1:4:1:4である膜厚75nmのハーフトーン膜の形成を行った後、再度同様の検査により0.2μm以上の欠陥検出を行った。
洗浄後と成膜後の両検査結果を表1に示す。
しかし、本発明を実施した実施例においては、両主面において、リンス液を主面に供給するだけでなく、飛沫遮蔽部材を設けることによって洗浄液の洗浄子からの飛沫の飛散を防ぐことができたために、主面を洗浄液による汚染から効果的にまもることができ、その結果、成膜後においても欠陥が発生するのを抑制できたものと考えられる。
12、12’…洗浄子、
13…洗浄液供給ノズル、 14…洗浄液、
15、15’、15’’、15’’’…飛沫遮蔽部材、
16…リンス液供給ノズル、 17…リンス液、
18…洗浄液及びリンス液ドレイン、 19…開口部、 20…洗浄液の飛沫。
Claims (8)
- 少なくとも、被洗浄基板の端面をスクラブ洗浄するための洗浄方法であって、少なくとも、洗浄液供給ノズルから供給された洗浄液で被洗浄基板の端面をスクラブ洗浄する洗浄子と、前記被洗浄基板の主面にリンス液を供給するリンス液供給ノズルと、該リンス液供給ノズルと前記洗浄子との間に配設された飛沫遮蔽部材とを具備し、該飛沫遮蔽部材および前記リンス液供給ノズルは、前記被洗浄基板の両主面側に配設されており、前記飛沫遮蔽部材は、前記洗浄子から洗浄液の飛沫が被洗浄基板の主面へ飛散するのを防止するものであり、前記リンス液供給ノズルは、前記飛沫遮蔽部材の外側より被洗浄基板の両主面から端面方向へリンス液を供給して、前記洗浄液が被洗浄基板の端面方向から主面方向に進入するのを防止するものである基板の洗浄装置を用いて、前記飛沫遮蔽部材の外側より前記被洗浄基板の両主面にリンス液を供給しながら前記飛沫遮蔽部材の内側にて被洗浄基板の端面を洗浄することを特徴とする基板の洗浄方法。
- 前記被洗浄基板の両主面側に配設された飛沫遮蔽部材が一体に成形されており、該一体に成形された飛沫遮蔽部材は、前記被洗浄基板を前記洗浄子の側に挿入して洗浄するための開口部が形成されたものである前記洗浄装置を用いることを特徴とする請求項1に記載の基板の洗浄方法。
- 前記飛沫遮蔽部材は、前記洗浄子を囲う形状である前記洗浄装置を用いることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の基板の洗浄方法。
- 前記飛沫遮蔽部材は、円筒形状である前記洗浄装置を用いることを特徴とする請求項3に記載の基板の洗浄方法。
- 前記洗浄子は、該洗浄子の回転軸が被洗浄基板の端面の長辺方向に対して交差する向きに配設されたものである前記洗浄装置を用いることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の基板の洗浄方法。
- 前記洗浄子は、該洗浄子の回転軸が被洗浄基板の端面の長辺方向に対して平行する向きに配設されたものである前記洗浄装置を用いることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の基板の洗浄方法。
- 前記被洗浄基板を透明基板とすることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の基板の洗浄方法。
- 前記被洗浄基板をフォトマスク基板とすることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の基板の洗浄方法。
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