KR20070113290A - 시약의 고체 소스로부터 시약을 운반하기 위한 시스템 - Google Patents
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Abstract
시약의 고체 소스로부터 시약을 운반하기 위한 시스템(10)에 관한 것으로, 이 시스템은 가열과 고체 소스 물질(30)의 휘발에 의해 고체 소스 물질로부터 증기의 발생을 위해 그 구조체의 적어도 일부에 의해 감금된 상태로 고체 소스 물질을 보유하도록 배치된 구조체(16, 22, 24)와, 이러한 휘발을 위해 고체 소스 물질을 가열하도록 배치된 열원(82)과, 상기 시스템으로부터 증기를 배출하도록 배치된 증기 분배 조립체(52, 54)를 포함한다. 시약 저장 및 분배 용기, 예컨대 저압으로 분배되는 반도체 제조용 시약을 담고 있는 용기를 위한 분배 제어 밸브로서 사용하기 알맞은 높은 컨덕턴스 밸브(1510)가 또한 개시되어 있다. 높은 컨덕턴스 밸브는 입구 및 출구 통로가 실질적으로 수직으로 되어 있는 밸브 본체(1512)를 포함하며, 이들의 말단부들은 완전 개방 위치와 완전 폐쇄 위치 사이에서 이동 가능한 선택적인 위치 설정 가능한 밸브 요소를 포함하는 밸브 챔버(1536)와 연통한다. 약 2.7 내지 2.9 범위의 밸브 유동 계수(Cv)는 밸브가 심지어 극히 낮은 압력의 영역 예컨대, 20torr 미만의 압력에서도 우수한 분배 작동을 수 있도록 해주는 그러한 높은 컨덕턴스 밸브에 의해 달성될 수 있다.
Description
본 발명은 전반적으로 소스 시약의 패킹과 물질 운반 시스템에 관한 것이다. 특정한 양태에서, 본 발명은 시약의 고체 소스로부터 시약의 운반과, 이에 대응하는 소스 시약의 저장 및 분배를 위한 컨테이너와, 저압 유체 예컨대, 반도체 장치의 제조용 가스 혹은 증기의 운반에 유용한 높은 컨덕턴스 밸브와, 그리고 이러한 밸브를 사용하는 시스템과 방법에 관한 것이다.
화학 시약은 광범위하게 다양한 형태로 사용된다. 일례로, 화학 시약은 증기 형태로 사용되고, 예컨대, 주위의 온도와 압력 조건에서 초기에 고체 형태로 있는 소스로부터 유도된다.
고체 소스의 예는 반도체 제조에 붕소 도핑을 위한 소스로서 사용되는 디카보란과 옥타디카보란 등의 보란 화합물을 포함한다.
증기 시약을 제공하기 위한 고체 소스의 사용에 있어서, 고체 물질은 예컨대, 승화에 의해 혹은 일련의 고체 대 액체 대 증기 전이를 실행함으로써 증기 상으로의 상전이를 초래하기 위해 가열될 수 있다.
불행하게도, 이러한 증기 발생을 위한 고체 소스를 가열하는 종래의 방법은 몇몇의 문제점을 안고 있다.
통상적으로, 고체 덩어리의 소스 물질에서 희망하는 온도 균일성을 확보하는 방식으로 고체 소스 물질을 가열하기가 어렵다. 이러한 문제점은 온도의 불균일성이 고체로부터 방출될 증기의 돌연한 파열을 초래할 수 있는 승화 가능한 고체의 경우에 특히 심각하다. 그 다음 이러한 파열은 시약 운반 시스템에서 압력 섭동을 일으켜 덜 이상적인 증발과 질량 전달을 초래한다. 이러한 이유로 인해, 가열된 고체의 온도 균일성 향상은 고체 소스 물질의 사용에 있어서 근본적으로 해결해야 할 숙제이다. 온도 불균일성의 또 다른 부작용은 수송 라인과 밸브 내에서와 같이 프로세스 시스템의 원하지 않는 장소에서의 증기의 응축 발생에 있다.
고체 소스 물질의 사용에 있어서 또 다른 문제점은 느슨하게 포장된 고체에서의 불량한 열전도에 있다. 많은 경우에, 고체 소스 물질은 초기에 미립자, 과립, 분말 혹은 다른 불연속한 형태로 제공된다. 이러한 불연속한 형태에 있어서, 물질의 표면 대 체적비는 극히 높을 수 있으며, 입자 내에서 열의 고체 전도는 입자간 열전달을 실행하기에 적합할 수 있지만, 입자들 사이의 틈새의 공극은 입자 전체 체적 내에서 한정하는 열전달 저항을 나타낸다. 이에 따라, 고체 물질의 벌크 밀도는 도전성 열 운반을 행할 것이다.
고체 소스 물질의 사용에 직면하는 또 다른 문제점은 공급 용기 내의 고체 물질의 레벨 감지에 있다. 레벨 감지는 소스 물질의 휘발과 공급 용기로부터 증기의 운반의 프로세스 모니터링 및 제어에 바람직할 수 있다. 공급 용기는 고온 환경에 혹은 용기 벽으로부터 용기 내에 담긴 고체 소스 물질로의 열전도를 용이하게 하기 위해 가열 부품이 장치될 수 있기 때문에, 상기 용기는 레벨 감지 계측 패키지를 설치할 수 없게 만드는 이용 가능한 공간 혹은 체적 제한에 의해 제약을 받을 수 있다. 심지어 이러한 경우가 아니더라도, 레벨 검지 계측 패키지는 그 내부에서 용기와 고체 물질의 가열로 초래될 온도와 양립할 수 없는 것과 관련한 온도 제약을 받을 수 있다.
고체 소스 물질의 사용과 관련한 또 다른 문제점은 공급 용기의 세척과 재사용과 관련한 문제이다. 용기 내의 고체의 휘발은 휘발 작동이 완료된 이후에 벽 표면으로부터 바람직하게 제거되어야 할, 용기의 내부 벽 상에 고체의 침전을 초래한다. 용기의 재사용을 위해 이러한 고체의 제거는 매우 시간 소모적이고, 노동 집약적이면서 비용이 많이 들 수 있다. 또한, 세척 공정 자체는 사용해야 할 세척제와 관련한 독성, 자연성 등의 추가적인 위험을 자초할 수 있다.
이러한 이유로, 당업자는 (ⅰ) 가열될 고체 내의 공극의 원인이 될 수 있는 가열된 물질의 온도 불균등성과 열전도 저항의 부작용을 최소화하고, (ⅱ) 휘발 작동을 행할 때 공급 용기 내의 고체 물질의 레벨 혹은 양의 모니터링을 조절하고, 그리고 (ⅲ) 휘발 작동을 완료한 이후 공급 용기의 윤내기 및 재사용을 용이하게 하는 방식으로 고체 소스 물질의 사용을 편리하게 하는 해결책을 계속 찾아왔다.
저압 가스와 증기의 운반과 관련하여 고려할 경우, 유체 저장 및 운반 시스템의 부품들 가로지르고 유체의 유동 경로를 따른 압력 강하는 심각한 문제일 수 있다.
예컨대, 반도체 장치의 제조에 있어서, 이온 주입, 화학 증착, 에칭, 클리닝 작업 등과 같은 응용을 위한 저압 유체 시약의 사용이 일반적이다.
이러한 응용에 따른 저압 유체 저장 및 운반 시스템의 예로서, 미국 특허 제5,518,528호에는 예컨대, 약 700torr 미만의 감압 레벨의 저압에서 가스가 저장되고 분배되는 물리적 흡착제를 기초한 유체 저장 및 분배 시스템이 개시되어 있다.
또 다른 예로서, 미국 특허 제6,089,027호, 제6,101,816호, 제6,343,476호에는 용기의 내부 볼륨 내에 유체 압력 조절기가 배치되어 있는 용기에 유체가 담기고 분배 조립체를 통해 반도체 툴과 결합된 유동 회로로 유체를 배출하도록 작동하는 저장 및 분배 시스템이 개시되어 있다. 이러한 시스템에서, 유체는 유체 압력 조절기의 설정점 압력의 적절한 선택에 의해 감압 레벨에서 사용하기 위해 분배될 수 있다.
이러한 응용에 수반되는 한정된 압력 구동력으로 인해, 저압 유체 시약의 유동은 과도한 압력 강하 특성을 갖는 시스템 부품에 의해 구속된다. 이러한 상황은 분배된 유체를 사용하는 만든 생산물뿐만 아니라 하류 유체 소모 공정에 잠재적으로 심각한 부작용을 수반한다.
또한, 유체가 물리적 흡착제 매체에 저장되어 있는 용기로부터 유체의 분배에 있어서, 유체 공급 용기와 관련한 부품에서의 과도한 압력 강하의 존재는 용기로부터 유체의 높은 활용성을 얻기 위한 능력에 심각한 제약을 부과한다. 이러한 이유는 유체가 고갈됨에 따라 유체의 압력은 더 이상의 유체 분배가 불가능하게 되는 최종 레벨까지 저하된다. 그 다음 용기 내의 유체의 잔량은 이용할 수 없는 "힐(heel) 혹은 잔류물을 구성한다.
예컨대, 전술한 미국 특허 제5,518,528호에 개시되 타입의 특정한 용기는 아르신 등의 가스가 흡착제 상에 저장될 수 있다. 후속한 사용에 있어서, 이러한 가스는 10 내지 20torr의 압력까지 탈착 및 분배되고, 그 후 시스템은 충분하게 높은 유량으로 가스를 분배할 수 없게 된다. 분배를 위해 사용한 시스템 부품에서의 감압을 감소시킬 수 있는 경우, 분배는 한층 더 저압으로 계속 떨어질 수 있다. 특정의 예로서, 2torr의 압력으로 연속한 분배 작동의 하강을 얻는 것이 가능할 경우, 그 결과로 생긴 용기로부터의 유체 활용 증가는 예컨대, 약 10% 만큼 현저하게 될 수 있다.
이러한 이유로, 당업자는 유체 분배 시스템 부품과 유체 회로 내의 압력 강하의 부작용을 최소화시키는 방식으로 예시적으로 전술한 바와 같은 응용에서 저압 유체의 운반을 용이하게 만들 해결책을 계속 찾아왔다.
본 발명은 시약의 고체 소스로부터 시약을 운반하기 위한 시스템과, 소스 시약의 패키징과, 소스 시약의 저장 및 분배를 위한 컨테이너를 포함하는 물질 저장 및 분배 시스템과, 저압 유체 예컨대, 반도체 장치의 제조용 가스 혹은 증기의 운반에 유용한 높은 컨덕턴스 밸브와, 그리고 이러한 밸브를 사용하는 시스템과 방법에 관한 것이다.
하나의 태양에 있어서, 본 발명은 시약의 고체 소스로부터 시약의 운반을 위한 시스템에 관한 것으로, 이 시스템은 가열과 고체 소스 물질의 휘발에 의해 고체 소스 물질로부터 증기의 발생을 위해 그 구조체의 적어도 일부에 의해 감금된 상태로 고체 소스 물질을 보유하도록 배치된 구조체와, 휘발을 위해 고체 소스 물질을 가열하도록 배치된 열원와, 시스템으로부터 증기를 배출하도록 배치된 증기 분배 조립체를 포함한다.
또 다른 태양에 따르면, 본 발명은 시약의 고체 소스로부터 시약의 운반을 위한 방법에 관한 것으로, 이 방법은 보유 구조체의 적어도 일부에 의해 감금된 상태로 고체 소스 물질을 보유하는 단계와, 고체 소스 물질의 휘발에 의해 고체 소스 물질로부터 증기를 발생시키도록 고체 소스 물질을 가열시키는 단계와, 증기를 회수하는 단계를 포함한다.
또 다른 태양에 따른 본 발명은 저압 유체의 운반에 유용한 동시에 우수한 특징의 밸브 유동 계수를 지닌 밸브와, 이러한 밸브를 사용하기 위한 시스템과 방법에 관한 것이다.
하나의 태양에 있어서, 본 발명은 내부에 밸브 챔버를 형성하는 밸브 본체를 포함하는 높은 컨덕턴스 밸브에 관한 것으로, 밸브 본체 안팎으로 각각의 유체 유입과 유출을 위해 밸브 챔버와 연통하는 입구 통로와 밸브 챔버와 연통하는 출구 통로와, 밸브 요소 및 밸브 챔버 내의 완전 개방 위치와 완전 폐쇄 위치 사이에서 이 밸브 요소의 운동을 허용하는 액추에이터 조립체를 포함하며, 입구 통로와 출구 통로는 밸브 챔버와 함께 밸브 요소가 개방 위치에 있을 때 밸브 본체를 통한 유체 유동을 허용하며, 입구 및 출구 통로는 실질적으로 수직으로 되어 있다.
본 발명의 또 다른 태양은 유체 용기에 결합된 본 발명의 밸브를 포함하는 유체 운반 시스템에 관한 것이다.
본 발명의 또 다른 태양은 반도체 제조 툴에 결합된 본 발명의 밸브를 포함하는 반도체 제조용 시스템에 관한 것이다.
본 발명의 또 다른 태양은 본 발명의 밸브를 사용하는 방법에 관한 것으로, 이 방법은 밸브를 유체와 유체 제어 관계로 배치하는 단계와, 상기 공정에 의해 요구되는 속도로 유체를 유체 소모 공정으로 분배하기 위해 밸브를 선택적으로 개방하는 단계를 포함한다.
본 발명의 또 다른 태양은 본 발명의 유체 운반 시스템을 사용하는 방법에 관한 것으로서, 이 방법은 용기 내에 시약을 제공하는 단계와, 상기 공정에 의해 요구되는 속도로 시약을 용기로부터 유체 소모 공정으로 분배하기 위해 밸브를 선택적으로 개방하는 단계를 포함한다.
본 발명의 다른 태양, 특징 및 실시예들은 아래의 상세한 설명과 첨부된 청구의 범위를 통해 더욱 명백해질 것이다.
도 1은 본 발명의 하나의 실시예에 따라 고체 소스 물질로부터 시약을 운반하기 위한 시스템의 일부를 절단하여 개략적으로 도시한 정면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따라 고체 소스 물질로부터 시약을 운반하기 위한 시스템의 일부를 절단하여 개략적으로 도시한 정면도이다.
도 3은 저장 및 분배 용기에서 고체 소스 물질의 증기를 물리적 흡착 매체 상에 증착시키기 위한 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 4는 흡착된 소스 물질이 탈착되어 하류 유체를 이용하는 공정 시스템에서 사용되는 후속한 분배 모드에 있는 도 3의 저장 및 분배 용기를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 5는 고체 소스 물질이 그 위에 피복될 코어 본체를 포함하는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 소스 시약 제품을 도시한 사시도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따라 고체 소스 물질을 이용하는 운반 시스템을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따라 고체 소스 물질을 이용하는 시약 운반 시스템을 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에서 고체 소스 물질을 이용하는 시약 운반 시스템을 도시한 도면이다.
도 9는 가열 삽입부뿐만 아니라 가열 삽입부의 외측면 상의 가열 재킷의 내부 위치 설정을 수용하는 본 발명의 또 다른 태양에 따른 환상의 시약 분배 용기를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 10은 각각의 트레이가 고체 소스 물질로 피복 혹은 그것을 포함하고 있는 일련의 수평 트레이들이 적층되어 있는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 시약 운반 용기를 부분 절단하여 도시한 입면도이다.
도 11은 다공성 튜브 및/또는 다공성 링과 결합된 내부 유체 수집 매니폴드와 합체되어 있는 본 발명의 또 다른 태양에 따른 시약 운반 용기를 부분 절단하여 도시한 사시도이다.
도 12는 본 발명의 또 다른 태양에 따른 고체 휘발 기술을 보여주기 위해 수 평으로 배향된 시약 운반 용기를 도시한 도면이다.
도 13은 버퍼 영역에 특징이 있는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 시약 운반 시스템을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 14는 본 발명의 또 다른 실시예에서 또 다른 태양에 따른, 상응하게 형성된 가열 재킷으로 삽입된 시약 운반 용기를 도시한 사시도이다.
도 15는 용기로부터 휘발된 고체 증기의 배출용의 다공성 수집 튜브에 결합된 수집 매니폴드 부재에 특징이 있고, 관련된 모니터링 및 제어 부품을 도시하는 본 발명의 또 다른 태양에 따른 시약 운반 용기를 부분 절단하여 도시한 사시도이다.
도 16은 가늘고 긴 지지 부재가 고체 소스 물질로 피복되어 있고, 그 결과로 생긴 피복 제품이 가열된 영역을 통해 병진 이동되어 유체 활용 설비용 증기를 형성하도록 고체 소스 물질을 휘발시키는 그러한 지지 부재를 절단하여 개략적으로 도시한 전방 입면도이다.
도 17은 혼합 상태로 있는 흡착제와 높은 열전도성 입자 덩어리를 개략적으로 도시한 도면으로, 입자 덩어리는 고체 소스 물질의 휘발 에너지 조정에 의해 영향을 받고 고체 소스 물질의 표면 필름 상의 코팅을 도시하기 위해 흡착제와 높은 열전도성 입자를 부분적으로 단면으로 도시한 도면이다.
도 18은 고체 소스 물질을 휘발시키고 증기를 이용하는 공정에 사용하기 위한 증기를 형성하기 위해 가열된 영역을 통해 고체 소스 물질의 입자를 병진 이동시키기 위한 컨베이어 시스템을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 19는 기판 입자 상에 피복된 고체 소스 물질로부터 증기를 발생시키기 위해 그리고 그 결과로 생긴 증기를 하류 유체 활용 설비에서 사용하기 위한 유동상 베드 시스템을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 20은 다양한 모니터링 및 제어 부품들과 결합된 고체 소스 물질을 사용하는 증기 발생 시스템을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 21은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 고체 소스 시약 운반 패키지를 부분 절단하여 도시한 입면도이다.
도 22는 안전 및 개봉 확인 특징을 부여하도록 주름진 외피막 내에 감싸여 있는 고체 소스 시약 운반 패키지를 도시한 입면도이다.
도 23은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 소스 시약 공급 패키지의 다양한 위치에서 경과한 시간(분)의 함수로 나타낸 온도(℃)와 열 플럭스 센서의 입력값(볼트 DC)의 그래프이다.
도 24는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 고체 소스 시약 운반 패키지를 부분 절단하여 도시한 입면도이다.
도 25는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 높은 컨덕턴스 밸브를 도시한 사시도이다.
도 26은 도 25의 높은 컨덕턴스 밸브의 평면도이다.
도 27은 도 25의 높은 컨덕턴스 밸브의 전방 입면도이다.
도 28은 도 27의 높은 컨덕턴스 밸브의 A-A선을 따라 절취하여 도시한 입면도이다.
도 29는 반도체 제조용 툴로 유체를 운반하기 위한 유동 회로와 유체 연통 상태로 배치된 본 발명의 높은 컨덕턴스 밸브를 반도체 제조용 툴의 유체 수요에 반응하여 가열하도록 배치된 가열 재킷과 합체시킨 고체 소스 시약 저장 및 분배 용기를 개략적으로 도시한 도면이다.
본 발명은 시약의 고체 소스로부터 시약을 운반하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다.
특별한 태양에 있어서, 본 발명은 저융점과 현저한 증기압으로 인해 유리하게 승화로 복종되는 디카보란, 옥타디카보란, 인듐 클로라이드 등과 같은 고체 소스를 포함한, 반도체 제조용 고체 소스 물질의 휘발을 위해 유리하게 이용된다.
많은 경우, 고체 소스 물질로부터 저압 증기의 생산은 높은 컨덕턴스 유동 회로 및 부품을 필요로 할 것이기 때문에 휘발된 시약의 이송률(delivery rate)은 이러한 휘발된 시약을 이용하는 하류 프로세싱 시스템의 요구에 만족할 정도로 상응한다. 이러한 관점에서, 특히 유리한 높은 컨덕턴스 흐름 제어 밸브가 도 25 내지 도 29에 도시되어 있고, 이하에 상세하게 기술될 것이다.
도면을 참조하면, 도 1은 본 발명의 하나의 실시예에 따라 고체 소스 물질로부터 시약을 운반하기 위한 시스템(10)의 일부를 절단하여 개략적으로 도시한 정면도이다.
시약 운반 시스템(10)은 용기의 하측 부분에서 고체 소스 물질(30) 덩어리가 내부에 자리하게 될 밀폐된 내부 볼륨(14)을 형성하는 플로어(32), 측벽(34) 및 상 측 벽(36)을 구비한 용기(12)를 포함한다.
상기 용기(12)의 내부 볼륨(14)은 일련의 채널 개구(18)가 그 내부에 구비되어 있는 다공성의 플레이트 부재(16)를 포함하며, 이 개구는 플레이트 부재의 하측면에서 그것의 상측면으로 연장한다. 플레이트 부재(16)에는 또한 상호 연결되어 있지만 채널 개구(18)와 연통되어 있지 않은 구멍(20)이 마련되어 있다. 플레이트 부재(16)는 그것의 중심 영역에서 일실시예에 따라 접철식 관상 조립체로서 형성되어 있는 샤프트(22)에 연결되어 있다.
도 1에 도시된 시스템의 일실시예에 있어서, 접철식 샤프트(22)의 둘레에는 나선형으로 연장한 편향 스프링(24)이 외접하고 있다. 상기 샤프트(22)와 스프링(24)은 그 상단부들이 상측 용기(12)의 상측벽(36)에 고정되어 있고, 그 하단부들은 플레이트 부재(16)의 중심 영역에 고정되어 있다. 이러한 구조에 의해 스프링(24)은 플레이트 부재(16)의 상측면 상에 압축력을 가하고 플레이트 부재를 하방향으로 강제하기 때문에 그 스프링은 고체 소스 물질(30) 덩어리의 상측면과의 접촉 상태를 유지하고 그 위에서 압축 가능하게 압박된다.
고체 소스 물질 덩어리는 예컨대, 과립, 분말과 같이 임의의 적절한 형태일 수 있거나 혹은 적절한 크기로 된 입자로서 소스 물질의 표면 대 체적비를 최대화시키기 위한 다른 불연속적 형태일 수 있다. 또 다른 실시예에서, 고체 소스 물질 덩어리는 예컨대, 초기에 고체 볼륨인 그 물질을 가열한 후에 소스 물질의 액체 덩어리의 응고에 의해 형성된 바와 같은 단일 모놀리식 블록 형태일 수 있다. 소스 물질의 모놀리식 블록은 높은 표면 대 체적 비를 갖지 않지만, 고체 소스 물질의 대응하는 미립화된 덩어리의 벌크 볼륨 전체를 통한 열전달을 방해할 수 있는 공극이 없을 수도 있다. 고체 소스 물질의 가열은 마이크로파 가열이나 혹은 고체 소스 물질 상에 다른 방식의 열에너지 충격에 의해 실시될 수 있다.
도 1에 도시된 실시예에 따른 시스템의 플레이트 부재(16)는 가열되기 때문에, 소스 물질(30)의 상측면에 반하여 압축 가능하게 지탱될 때 고온 플레이트 부재는 그것과 접촉 상태로 있는 소스 물질이 휘발하도록 만들고 그 다음 그 결과로 생긴 증기를 플레이트 부재의 채널 개구(18)를 통해 용기의 상측 내부 체적으로 유동하도록 해준다.
플레이트 부재(16)와 그것과 결합된 고체 소스 물질의 가열은 임의의 적절한 방식으로 실행될 수 있다. 다양한 적절한 열전달 매체, 예컨대 가스 혹은 액체가 적절한 형태일 수 있는 열전달 유체를 사용한 이러한 가열을 실행하기 위해 여러 가지 타입의 열전달 구조를 사용할 수 있다. 본 발명의 일실시예에 있어서, 샤프트(22)는 중공이며, 중공의 내부 통로는 용기의 상측 벽(36) 상에 장착된 유체 저장조와 펌프 조립체(76)와 연통 상태로 있다. 저장조와 펌프 조립체(76) 내의 액체는 그 조립체의 저장조에서 열교환기(82)로 향하는 라인(86)을 통과함으로써 가열되며, 이 열교환기 내에 있는 액체는 고체 소스 물질의 휘발을 실행하기 위해 적절한 온도로 가열되고 가열된 액체는 열교환기로부터 저장조와 펌프 조립체(76) 내의 저장조로 복귀한다. 그 다음 액체는 저장조와 펌프 조립체의 펌프에 의해 샤프트(22)의 내부의 중공의 통로로 펌핑되고 고온의 액체는 이 통로부터 플레이트 부재의 내부 구멍(20)으로 유동하며, 구멍을 통해 순환하여 상기 조립체(76) 내의 펌 프의 작동에 의해 그 저장조로 복귀한다. 저장조로 향한 열전달 액체의 이러한 복귀 유동에 있어서, 샤프트(22)의 내부는 압력 강하와 저장조와 펌프 조립체(76) 내의 펌프에 의해 제공된 구동력 하에서 복귀를 가능케 해주는 적절한 크기의 복귀 유동 통로를 적절하게 포함할 것이다.
이러한 방식으로, 플레이트 부재(16)를 통한 연속 흐름은 유지되기 때문에 플레이트 부재의 온도는 편향 스프링(24)의 관성 하에서 플레이트 부재가 하방향으로 강제될 때 플레이트에 근접한 고체 소스 물질을 휘발시키기에 충분하다.
휘발된 고체 소스 물질은 그 다음 플레이트 부재 채널 개구를 통해 유동하며, 상측 벽(36)의 상측면 상에 위치한 높은 컨덕턴스 밸브(54)에 상측 벽(36)을 통해 결합된 배출 튜브(52)로 연결되어 있는 필터(50)에 화살표 M으로 표시된 방향으로 상방향으로 유동한다. 상기 필터(50)는 고체 소스 물질 용기의 선택적으로 포함된 특징부이며, 미립자를 제거거나 그렇지 않으면 증기 유로에서 유동 제어를 제공할 필요가 없을 경우 생략할 수 있다. 높은 컨덕턴스 밸브(54)는 배출용 부속품(60)이 연결되어 있는 밸브 본체(56)를 포함한다. 상기 밸브(54)는 도시된 실시예의 경우 핸드 액추에이터(58)를 포함하지만, 용기 내의 고체 소스 물질로부터 유도되는 증기의 분배를 위한 밸브(54)를 선택적으로 개방하기 위해 자동 액추에이터와 혹은 다른 제어 장치와 함께 다양한 형태로 배치될 수 있다는 것에 주목해야 한다.
본 발명의 광범위한 실시에 유리한 동시에 특히 적합한 높은 컨덕턴스 밸브가 도 25 내지 도 29에 도시되어 있고, 이하에 상세하게 기술될 것이다.
도시된 구조에 있어서, 고체 소스 물질이 승화하고 그 덩어리(30)가 점진적으로 작아짐에 따라 스프링(24)의 편향력은 플레이트 부재를 소스 물질과 접촉 상태로 유지한다. 고체 소스 물질의 레벨 감지는 고체 소스 물질의 벌크 체적의 상측면과 접촉 상태로 있는 플레이트 부재의 레벨의 표시하는 출력을 제공하고 이에 따라 소스 물질 증기의 발생을 위한 용기 내에 잔존하는 고체 소스 물질의 양을 반영하는 출력을 생성하는 전기 접점, 혹은 자석, 광학 센서나 다른 센서를 사용함으로써 전술한 구조에 의해 실행될 수 있다.
플레이트 부재가 가열될 수 있고 또 플레이트 부재가 소스 물질로부터 증기상을 고갈시킴에 따라 하방향으로 강제될 수 있는 도 1에 도시된 실시예에 따른 시스템의 또 다른 구조에 있어서, 저장조와 펌프 조립체(76)는 가열되어 접철식 샤프트(22)의 중공의 통로로 저장조와 펌프 조립체(76)의 펌프에 의해 펌핑되는 유압 유체의 마스터 저장조(78)에 결합될 수 있다. 가열된 유압 유체는 그 다음 플레이트 부재(16)의 구멍(20)을 통해 유동하며 그와 동시에 압축되어 접철식 샤프트(22)가 하방향으로 확장함에 따라 플레이트 부재를 하방향으로 강제시키기 위해 플레이트 부재 상에 유압 압력을 가한다. 이러한 방식으로, 고체 소스 물질의 상측면과 가열된 플레이트 부재(16)의 접촉은 유지된다.
본 발명의 특정의 실시예에서 플레이트 부재(16)를 고체 소스 물질의 상측면과 접촉 상태로 유지시키기 위해 다양한 변형된 혹은 추가의 힘 메커니즘을 이용할 수 있다. 예컨대, 모멘텀의 전달은 플레이트 부재와 접착하여 그 부재로부터 멀어지게 유동하는 열전달 유체의 모멘텀 변화에 의해 플레이트 부재에 부여될 수 있 다. 추가적으로, 하방향으로 강제되는 힘은 플레이트 부재(16)의 중량에 의해 존재하게 되고 이에 따라 플레이트 부재의 중량은 용기 내의 고체 소스 물질의 덩어리와 빈틈없는 접촉 상태를 유지하는 것을 보조하기 위해 선택될 수 있다. 추가적인 중량은 플레이트 부재를 고체 소스 물질과 접촉 상태로 유지하는 힘을 증가시키기 위해 플레이트 부재에 추가될 수 있다. 또 다른 힘 메커니즘으로는 가속장(중력장, 전기장 등)의 부과로 인한 플레이트 덩어리의 가속을 사용하는 것이 있다.
도 1에 도시된 실시예의 몇몇 용례에서는 고체 소스 물질 덩어리에 압력을 가하는 부재를 간단히 만듦으로써 플레이트 부재(16)에 어떠한 직접 가열 없이 그리고 용기에 가열을 행하는 플레이트 부재(16)를 이용하는 것이 또한 유리할 수 있다. 예컨대, 플레이트 부재(16)와 접철식 샤프트(22)가 알루미늄과 같은 높은 전도성 재질로 만들어졌을 경우, 용기 벽으로부터 나온 열의 전도는 플레이트 부재로 열을 실어 나르기에 충분할 수 있으며, 이 플레이트로부터 열은 고체 소스 물질 표면으로 전달된다. 용의 벽의 상대적인 가열과 플레이트 부재의 가열은 플레이트 부재의 온도가 고체 소스 물질로부터 유도된 증기의 응축을 회피하기 위해 필요하듯이 용기 벽 온도 이하가 되는 것을 보장하도록 수행되어야 한다.
일반적으로, 용기는 증기가 그것의 발생에 후속하여 응축되지는 않도록 보장하기 위해 외부적으로 가열된다. 이를 위해, 용기에는 증기 공간 가열 재킷(39)뿐만 아니라 점진적인 증기 분배 작업 동안 고체 소스 물질에 의해 접촉되는 용기의 일부를 따라 외부적으로 외접하는 가열 재킷(38, 40, 42)이 제공될 수 있다. 이러한 외접하는 가열 재킷(38, 40, 42)의 구성은 유체가 포스트 내에서 격리되는 충격 흡수식 구조 내의 접철식 포스트 내측의 공압 혹은 유압 압력의 모니터링에 의한 레벨 표시를 허용하며, 유체의 압력은 소스 물질이 점진적으로 고갈함에 따라 포스트가 길어질 때 감소한다. 각각의 가열 재킷은 이해를 돕기 위해 관련되는 전기 배선과 전원 공급 장치를 도시 생략하여 개략적인 형태로 도시되어 있다는 것으로 이해해야 할 것이다.
상측 가열 재킷(38)은 "A"로 표시된 상측 가열 영역의 경계를 정하기 위해 용기(12)의 측벽(34)을 에워싼다. 중간 가열 재킷(40)은 영역 "A" 아래의 용기 측벽(34)을 에워싸며 중간 가열 영역 "B"의 경계를 정한다. 하측 가열 재킷(42)은 하측 가열 영역 "C"의 경계를 정하기 위해 용기(12)의 측벽(34)을 에워싼다. 각각의 가열 재킷은 동력 공급 장치 같은 적절한 전압 인가 부품에 결합될 수 있기 때문에 재킷들 중 대응하는 하나의 재킷은 측벽을 통해 고체 소스 물질로 전도성 열전달에 의해 관련한 영역의 가열하기 위해 작동된다.
이러한 형태로, 상측 히터(38)는 영역 "A"에 고체 소스 물질이 존재할 때 작동하며, 중간 히터(40)는 영역 "A"가 아니라 영역 "B"에 고체 소스 물질이 존재할 때 작동하며, 하측 히터(42)는 영역 "A" 또는 영역 "B"도 아닌 영역 "C"에 고체 소스 물질이 존재할 때 작동한다. 그 결과로 인해 해당하는 영역에서의 고체 소스 물질의 가열은 고체로부터 발생한 증기가 전술한 바와 같이 플레이트 부재(16) 내의 채널 개구(18)를 통해 관통하도록 해주며 유체 분배를 위해 높은 컨덕턴스 유동 제어 밸브(54)와 필터(50)를 통과한다.
이러한 방식으로, 가열은 고체 물질의 작은 섹션을 목표로 정한다. 특정 영 역을 가열하기 위해 이러한 목표를 정하는 것은 또한 예컨대, 상향 컨베이어의 기계식 급송기 유닛에 의해 고체를 고정식 다공성 혹은 천공된 플레이트 부재에 반하여 상방향으로 밀어 움직임으로써 실행될 수 있다. 그 대안으로, 고체 소스 물질은 자체적으로 노 혹은 오븐 등의 가열 영역으로 자체가 병진 이동하는 용기 내에 배치될 수도 있다. 이러한 변형례의 구조에 따르면, 단지 하나의 가열 영역만이 필요하게 된다. 그러나 고체 소스 물질의 휘발을 위해 한 개 혹은 복수 개의 가열 영역을 필요로 하는 것과는 상관없이 고체 물질에 인접한 임의의 가열 영역은 증기의 응축과 하류 영역에서 고체의 원하지 않는 고체의 재침착을 피하기 위해 고체 물질의 하류의 영역보다 더 냉각되어야 한다는 것에 주목해야 한다.
유체의 분배에 있어서, 소스 고체로부터 나온 증기는 밸브(54)와 배출용 부속품(60)을 통해 그 내부에 유체 제어 유닛(64)을 포함하고 있는 유체 부출 라인(62)으로 유동한다. 유동 제어 유닛(64)은 예컨대, 질량 유동 컨트롤러, 온도와 압력 센서, 유동 제어 밸브, 유체 압력 조절기, 제한식 유동 오리피스 요소 등과 같은 분배용 유동 회로에 사용되는 부품을 대략 대표하는 것이다.
분배된 유체는 그 다음 분배 라인(62)을 따라 예컨대, 반도체 제조용 툴 혹은 분배된 유체를 사용하는 다른 설비를 포함할 수 있는 처리 설비(66)로 유동한다. 처리 설비(66) 내에서 유체를 이용함으로써 라인(68)을 따라 유출물 경감 콤플렉스(70)로 배출되는 유출물을 생성할 수 있는데, 상기 콤플렉스에서는 유출물이 그것에 안전을 부여하거나 그렇지 않으면 라인(72) 내에서의 방출에 적합하도록 경감된다.
용기(12)는 고체 소스 물질이 완전히 고갈될 때 사용되지 않고 있는 것으로 변경될 수 있다. 그 다음 샤프트(22)는 플레이트 부재가 용기의 측벽(34) 상의 고체 충전 포트(44)의 높이 보다 높게 되도록 수축될 수 있다. 고체 충전 포트는 그 다음 개방되고 고체 소스 물질로 용기를 재충전할 수 있으며, 충전 포트(44)의 재밀봉 이후에 용기는 고체 소스 물질로부터 유도되는 유체의 분배를 위한 본래의 서비스로 되돌아 갈 수 있다. 또 다른 변형례로서, 용기(12)의 상측 벽(36)은 용기의 잔여부로부터 제거 가능하게 구성될 수 있으며, 이것에 의해 이러한 상측 커버는 용기 내부 체적을 새로운 고체 소스 물질로 다시 로딩하기 위해 제거될 수 있다. 이를 위해, 상측 커버는 측벽(34)의 상단부에서 대응하는 플랜지 부재와 협동 가능하게 정합할 수 있는, 예컨대 각각의 플랜지가 상측 커버의 이러한 제거를 용이하게 하기 위해 볼트와 너트 조립체 등의 탈착 가능한 파스너 혹은 커플링 부재에 의해 체결되는 그러한 플랜지 부재로 제작될 수 있다.
서비스로부터 철수되자마자, 휘발 작동의 결과로서, 용기는 용기를 새로운 고체 소스 물질로 재충전함으로써 회수 작업을 하도록 용기를 반환시키기 위해 적절한 세척 및 재생 작업에 노출될 수 있다. 이러한 과도적인 세척과 재충전 작업을 위한 정지 시간의 최소화는 이전의 고체 재고가 휘발된 후 새로운 고체 재고로 채워진 용기로 낙하되는 일회용 라이너의 사용에 의해 실행되며, 원래의 충전량의 고체 소스 물질을 이전에 포함하고 있는 일회용 라이너는 용기로부터 간단히 제거되어 폐기된다. 이러한 일회용 라이너는 본 발명의 범주에 속하지 않는 별도의 실시 형태이다.
따라서 라이너를 사용하는 것은 용기의 재충전을 용이하게 해준다. 많은 경우, 고체 소스 물질이 연장된 시간 주기 동안 가열된 이후, 비휘발성 찌꺼기가 형성될 수 있다. 이러한 찌꺼기가 고체 소스 물질을 유지하고 있는 용기의 내측 벽 표면 상에 존재할 때 그것을 제거하기가 매우 어렵다. 따라서 일회용 라이너 혹은 백의 사용은 고체 소스 용기의 재생 가능성을 현저하게 향상시킬 수 있다.
용기는 실제로 제조업자 혹은 판매업자에 의해 밀폐된 상태로 사용자에게 공급될 수 있으며, 비록 용기는 밸브와 분배 라인에 연결되어 있지만 재생하기 위해 제조업자에게 되돌아 갈수 있도록 폐쇄된 상태로 남아 있을 수 있다. 그 다음, 제조업자는 세척을 위해 용기를 개봉할 수 있다. 만약 라이너 혹은 백을 사용하면, 제조업자는 용기를 간단히 열고, 백을 제거 및 폐기하며, 소정의 충전량의 고체 소스 물질을 담고 있는 새로운 백이나 빈 상태로 용기에 설치되는 백을 삽입하고, 그 다음 고체 소스 물질로 충전할 수 있다.
또 다른 변형례로서, 일회용이 아닌 라이너를 쉽게 세척할 수 있는 재질로 형성할 있으며, 이것에 의해 라이너 백을 폐기하는 대신에 소정 체적의 세척액 속으로 간단히 배치할 수 있어 침적한 고체 등은 용해되거나 또는 재사용을 위해 백을 재생하도록 세척액에 의해 화학적으로 반응한다.
일회용 혹은 재활 가능한 라이너는 고체 소스 물질이 소망하는 증기를 형성하기 위해 받아야 하는 양호한 구조적 강도와 고온의 휘발 조건 하에서의 특성 유지력을 지닌 예컨대, 폴리아미드, 폴리설폰 등의 폴리머와 같은 임의의 적절한 구성 재질로 형성될 수 있다.
본 발명의 시스템의 고체 소스 물질 용기에는 용기 내의 고체 소스 물질의 재고를 표시해주는 출력을 제공하기 위해 레벨 센서가 마련될 수 있다. 일실시예에서, 상기 레벨 센서는 공지의 체적의 불활성 가스로 채워진 용기를 맥동시키기 위한 유동 회로와 함께 용기에 결합된 불활성 가스 공급 장치를 포함하며, 압력 변환기는 고체 소스 물질 용기의 내부 볼륨 압력을 측정하여 용기 내에 남아 있는 고체 화학물의 양을 표시해주는 반응 신호를 생성하기 위해 배치되어 있다.
그 대안으로, 고체 소스 용기의 내부 볼륨의 압력을 주어진 값으로 상승시키기 위해 주입되는 불활성 가스의 양은 얼마나 많은 고체 화학물이 용기 내에 잔류하는가와 동일한 정보를 제공한다. 이러한 경우, 고체 소스 용기로 들어가는 불활성 가스를 계량하기 위해 질량 유동 컨트롤러를 사용할 수 있다.
이러한 각각의 레벨 감지 장치에 있어서, 레벨 시험 조작은 용기에 의해 정상적인 조작에 도움이 되는 유체 이용 프로세스로부터 용기가 분리될 때 행해진다. 이러한 목적을 위해, 고체 소스 용기는 그것이 정상적인 분배 작동 동안 레벨 검출 시험을 수용하기 위해 간단히 벗겨지도록 작동될 수 있다. 하류 유체를 이용하는 프로세스에 증기 공급을 중지하지 않고 이러한 시험을 가능케 하기 위해, 상기 시스템은 서지 탱크 혹은 유지 볼륨을 갖도록 구성하여 고체 소스 용기의 오프-스트림 레벨 검출 시험 동안 보충하는 양만큼의 증기를 공급할 수 있다.
또 다른 변형례에 따른 구조에 있어서, 만약 고체 소스 물질이 증기 분배 작동에서 그 물질의 융점 온도로 가열될 경우, 공급 용기에서 액화된 소스 물질의 액체 레벨을 감지하여 용기 내의 고체 소스 물질(액화된 형태)의 양을 나타내는 출력 을 제공하기 위해 플로트 스위치(float switch)를 사용할 수 있다.
또 다른 변형례에 따른 구조에 따르면, 용기에 잔존하는 고체 소스 물질(혹은 액화시 액체 물질)의 재고량 검출은 공급 용기로부터 나온 증기의 흐름을 조절하기 위해 이용하는 유동 컨트롤러로부터의 유량 데이터를 합계하도록 작동하는 유동 합계 수단을 사용하여 수행할 수 있다.
또 다른 변형례에 따른 구조에 있어서, 고체 소스 용기는 플레이트 부재(16)의 위치를 검출하는 레벨 센서를 수용하여 용기에 존재하여 휘발과 분배되도록 잔류하는 고체 소스 물질의 량을 나타내는 출력을 제공하도록 제조될 수 있다. 일실시예에서, 이러한 센서는 플레이트 부재(16)가 스위치를 통하게 하였을 때 맞물리게 되는 고체 소스 용기의 벽 내의 하나 이상의 레벨 스위치를 포함한다. 또 다른 실시예에서, 레벨 센서는 예컨대, 고체 소스 물질 용기의 커버 내에 장착되고 소정의 배치에 있는 검출기로 반사되는 광 비임을 발생시키도록 배치되어 상기 검출기가 용기의 내부 볼륨 내의 플레이트 부재의 위치에 상호 관계가 있는 신호를 출력할 수 있도록 해주는 레이저를 포함한다. 이러한 배치에 의해, 용기 내의 고체 소스 물질의 레벨이 모니터 될 수 있고, 예컨대, 중앙 처리 장치(CPU)에 저장된 데이터의 형태의 출력 및/또는 고체 소스 물질의 용기 내용물이 고갈되어 용기를 교환할 필요가 생겨 새로운 용기로 대체될 때 시각 및/또는 가청 알람 형태의 출력이 발생될 수 있다.
용기 내의 고체 소스 물질의 재교를 모니터하기 위해 사용할 수 있는 또 다른 접근법으로서, 증기 발생 시스템은 고체로부터 유도된 증기가 샤프트(22)를 통 한 유동을 허용하도록 구성 및 배치될 수 있으며, 포스트는 다음에 높은 컨덕턴스 유동 제어 밸브(56)와 연통한다. 이러한 실시예에서는 샤프트(22) 내의 열전달 유체가 존재하게 않게 된다. 이러한 구조는 압력에 의해 내부 볼륨(14)을 모니터할 수 있도록 해준다. 만약 내부 볼륨(14)이 누설로부터 자유로울 경우, 이러한 볼륨 내의 압력은 고체를 이용하고 플레이트 부재(16)를 하방향으로 밀어 움직임에 따라 감소할 것이다. 그 다음 대응하는 압력 신호는 증기 분배 작동 동안 임의의 주어진 시간에서 용기 내부 볼륨 내의 고체 레벨을 표시하기 위해 사용할 수 있다.
고체 소스 물질을 담고 있는 용기는 예컨대, 마이크로파 가열, 적외선 가열 등의 임의의 적절한 방법, 복사 가열, 전도 가열, 대류 가열, 전기 저항 가열 등의 다른 모드로 가열될 수 있다. 반도체 제품의 제조를 위한 시약으로서 고체 소스 물질로부터의 증기를 발생시키는 응용에 있어서, 반도체 제조용 툴로부터 멀리 떨어져 용기를 가열하는 것일 유리할 수 있기 때문에 새로운 고체 소스 용기가 증기 분배를 위해 설치될 때 그 용기는 이미 그것이 설치될 때의 예정된 상승 온도로 된다. 이러한 용기의 "온도에 기초한" 설치는 작동 가능한 "가동 시간"의 높은 백분율을 유지하는 것은 생산 설비의 경제적인 실행 가능성에 중요한 반도체 제조에서 시동 및 전이 시간을 최소화시키는 데 유리할 수 있다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따라 고체 소스 물질로부터 시약을 운반하기 위한 시스템(100)의 일부를 절단하여 개략적으로 도시한 정면도이다.
이 시스템(100)은 그 내부에 베드 혹은 단일 덩어리로서 소정 량의 고체 소스 물질(106)이 자리하게 될 밀폐부를 형성하는 용기(102)를 포함한다. 이 실시예 에 따르면, 채널형 플레이트 부재(108)는 용기의 상측 벽 상에 장착된 나사 형성 칼라(126)에 맞물린 나사 형성 컨베이어 스크류(128)의 하단부 상에 장착된다.
이러한 실시예에서, 컨베이어 스크류(128)는 구동 유닛(130)의 구동 기어(132)에 의해 아래로 향하는 방식으로 가동식으로 구동된다. 구동 유닛(130)은 구동 기어(132)의 회전과 관련하여 역전될 수 있기 때문에 컨베이어 스크류는 양방향 화살표(R)로 표시된 수직 상방향과 수직 하방향 중 하나로 구동될 수 있다. 분배 작동 동안, 컨베이어 스크류는 플레이트 부재 상의 압력을 유지하기 위해 하방향으로 구동된다.
고체 소스 물질(106)은 임의의 적절한 방식으로 (도 2에 도시 생략된 가열 수단에 의해) 동시에 가열되기 때문에 증기는 화살표(P)로 표시된 방향으로 용기를 빠져나가도록 야기되어 필터(112), 높은 컨덕턴스 유동 제어 밸브(110), 및 그 내부에 유체 제어 유닛(116)이 구비되어 있는 유체 배출 라인(114)을 통해 유동한다. 고체 소스 물질로부터 유도된 증기는 유체 배출 라인(114)로부터 그 내부에서 사용하기 위한 하류 처리 설비(118)로 유입된다.
이러한 이용은 폐기 유출물 스트림을 발생할 수 있고, 이러한 스트림은 처리 설비(118)로부터 그것을 처리하기 위한 경감 설비(122)로 라인(120)을 따라 유동하고, 이에 따라 배출 라인(124)을 따라 시스템으로부터 최종적으로 정화된 유출물을 배출시키게 된다.
용기(102) 내의 고체 소스 물질의 재고는 분배 동안 컨베이어 스크류(128)가 모니터링 유닛(138)과 맞물리고 기어(136)의 회전에 따라 제어 신호가 모니터링 유 닛(138)에 의해 발생하여 신호 전송 라인(140)을 따라 CPU(142)로 통하도록 되어 있는 도 2에 도시된 간단한 장치에 의해 모니터될 수 있다. 상기 CPU는 예컨대, 도시된 바와 같이 재고 정보를 그래프 및/또는 축어적인 포맷으로 출력하는 모니터(144)에 연결되어 있는 범용 프로그램 가능한 컴퓨터 등의 임의의 적절한 타입일 수 있다.
도 3은 저장 및 분배 용기에서 고체 소스 물질의 증기를 물리적 흡착 매체 상에 증착시키기 위한 구조를 개략적으로 도시한 도면이다. 본 발명에 의해 제안된 또 다른 변형례로서, 물리적 흡착 매체 및/또는 고체 소스 물질은 고체 소스 물질을 휘발시키기 위한 높은 표면적과 높은 열 전도성을 제공하기 위해 예컨대, 금속 비드와 같은 높은 표면적/높은 열 컨덕턴스 매체에 피복된다. 이러한 배치로 인해, 고체 소스 물질의 경량으로 포장된 분말 혹은 모놀리식 블록의 결함이 극복된다.
이러한 배치에 있어서, 고체 소스 물질(182)은 공급 용기(180)에 담겨 있으며, 이 공급 용기에는 고체 소스 물질의 승화를 행하기에 충분한 열에너지(Q1)를 입력하기 위해 이 용기와 결합된 가열 재킷(184)이 구비되어 있다. 그 결과로 생긴 고체 소스 물질 증기는 그 다음 라인(186)에 의해 활성 탄소, 분자체 등의 물리적인 흡착제(196) 베드를 포함하는 저장 및 분배 용기(194)의 입구 포트(190)로 유동한다. 흡착제는 고체 소스 물질 증기에 흡착 친화력을 나타내도록 선택되며, 그에 따라 흡착 물질은 고체 소스 물질 증기를 흡수하고 그것을 흡착 상태에 있도록 존 속시킨다.
용기(194)에는 도시된 바와 같이 전술한 입구 포트(190), 분배 포트(200) 및 핸드 휠 액추에이터(198)를 포함하는 밸브 헤드(192)가 설치되어 있다.
도 4는 흡착된 소스 물질이 탈착되어 하류 유체를 이용하는 공정 시스템에서 사용되는 후속한 분배 모드에 있는 도 3의 저장 및 분배 용기(194)를 개략적으로 도시한 도면이다.
도시된 바와 같이, 용기(194)는 흡착된 고체 소스 물질 증기로 적재된 흡착제를 담고 있는 용기에 열 입력(Q2)을 공급하기 위해 배치된 가열 재킷 내에 자리하며, 여기서 열 플럭스(Q2)는 흡착제로부터 흡수된 증기의 탈착을 유발하기에 충분한 크기이다. 밸브 헤드(192)의 밸브는 분배 포트(200)에서 나온 유체의 분배과, 유동 회로와 모니터링 및 제어 부품을 개략적으로 나타내는 유동 제어 유닛(204)을 포함하는 라인(202)을 따라 유체를 사용하는 유체 활용 설비(206)로의 유체 유동을 행하기 위해 핸들 휠(198)의 수동 운동에 의해 개방된다. 이러한 용도는 처리 및 최종적으로 정화된 유출물의 라인(212)으로의 배출을 위한 유출물 처리 설비(210)로 라인(208)을 따라 유동하는 유출물 스트림의 발생을 초래할 수 있다.
도 5는 고체 소스 물질(216)이 그 위에 피복될 코어 본체(220)를 포함하는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 소스 시약 제품(216)을 도시한 사시도이다. 이러한 제품은 도 3 및 도 4를 참조하여 설명한 바와 같은 흡착 매체 대신에 사용할 수 있으며, 이로 인해 복수 개의 고체 소스 물질이 피복된 제품이 저장 및 분배 용 기 내에 자리할 수 있고, 고체 소스 물질 코팅으로부터 증기를 유리시키기 위해 용기 내에서 원위치에서 선택적으로 가열된다.
이러한 목적을 위한 코어 본체는 임의의 적절한 크기, 형상 및 형태로 될 수 있다. 도 5에 도시된 막대 모양의 형상 대신에, 코어 본체는 구형, 링 혹은 토로이달 형상, 입방체, 나선형, 평탄한 리본 형상, 그물 형상, 바늘, 원뿔 모양 혹은 가열과 코어 본체 상에 피복되어 있는 고체 소스 물질로부터 증기의 릴리스에 순응할 수 있는 다른 임의의 기하학적 형상 혹은 비기하적 형상 혹은 모양일 수 있다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따라 고체 소스 물질을 이용하는 운반 시스템(250)을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 6의 시스템에 있어서, 고체 소스 물질의 공급 용기(256)는 개략적으로 도시된 기계식으로 교반하는 임펠러(262)가 설치되어 있는 용해화 탱크(260)의 라인(258)을 따라 고체 소스 물질을 급송하도록 배치되어 있다. 용해화 탱크(260)에는 용매 공급 용기(264)로부터 나온 라인(266)을 따라 용해화 탱크(260) 내에서 얻어지는 혼합 상태 하에서 고체 소스 물질을 쉽게 분해시키기에 효과적인 용매가 동시에 급송된다.
상기 용매는 관심 대상의 고체 소스 물질에 대한 용해도 데이터와 이러한 용매에 대한 휘발성 데이터를 기초하여 쉽게 선택될 수 있다. 따라서 상기 용매는 용해화 탱크(260) 내의 고체 소스 물질을 용해화시키며, 그 결과로 생긴 용액은 탱크(260)로부터 라인(268)을 따라 어떠한 고체가 시스템 내에서 전방으로 유동하는 것을 방지하는 여과 혹은 스크린 유닛(270)으로 유동하게 된다. 어떤 고체가 존재할 경우 그 고체는 혼합과 후속한 재용매화를 위해 라인(272)을 따라 탱크(260)로 수집 및 재순환 된다. 상기 유닛(270)은 그 대신에 원심분리기, 정화기, 침강 그릇, 혹은 고체가 존재할 경우 용해화 탱크(260)로 재순환을 위해 고체를 분리시키는 다른 분리 장치를 포함할 수 있다.
그 결과로 생긴 고체가 없는 용액은 그 다음 본 실시예에서 가열 재킷(254)이 장치되어 있는 저장 및 분배 용기(252)로 라인(274)을 따라 유동한다. 상기 용기(252)는 흡착제 입자 등의 지지 물질 베드 및/또는 예컨대 링, 플레이크, 디스크, 실린더, 입방체, 피라미드, 시트, 로드의 형태 혹은 다른 형태의 비흡착제 매체로 채워질 수 있고, 이러한 매체는 아래에 기술하는 것과 같이 후속하는 가열 조작을 용이하게 하기 위해 높은 특정의 가열 혹은 열 전도성을 지닌 물질을 포함할 수 있다.
고체 소스 물질을 포함하는 용액이 내부에 흡착제 혹은 다른 매체를 포함하는 용기(276)의 내부 볼륨으로 침착될 경우, 용기(276)는 고체 소스 물질 용액의 용매가 용기 내에 (예컨대, 흡착제 물질 혹은 다른 지지부의 세공 상에 그리고 그 내에 혹은 용기 벽 상에) 고체 소스 물질을 방치시키도록 증발되는 온도에서 가열 재킷(254)의 작용에 의해 가열된다. 증발된 용매는 용기(276)로부터 용매를 액체 형태로 응축시키기 위해 냉각기/응축기 유닛(280)을 통한 유동용 라인(278)으로 유동하게 된다. 그 결과로 생긴 액체 용매는 그 후에 고체 소스 물질의 신선한 용액의 보충에 재사용하기 위해 용매 공급 용기(264)로 재순환 라인을 따라 유동한다.
일단 모든 용매가 증발되어 시스템 내에서 재순환되었다면, 나머지 고체 소 스 물질이 용기 내에 잔류하게 된다. 그 다음 용기는 용기 내에서 고체 소스 물질을 휘발시키기 위해 다시 가열되어 그 결과로 생긴 증기는 라인(282)을 따라 용기 밖으로 유출하여 유체 활용 설비(284)로 흐른다.
제1 단계에서 용매를 분리하고 제2 단계에 고체 소스 물질을 휘발시키기 위한 각각의 가열 단계를 수용하기 위해, 라인(278, 282)은 후속하는 가열 단계 동안 각각의 용매와 고체 유도 증기를 적절한 라인으로 안내하기 위해 적절하게 밸브로 조절된다.
상기 설비(284)에서 고체 소스 물질 증기의 이용은 유출물을 필요로 하는 처리를 생기게 할 수 있으며, 이러한 상황은 정화된 최종 유출물이 라인(290)을 따라 그곳으로부터 배출될 처리 설비(288)로 유출물을 전달하는 유출물 라인(286)을 제공함으로써 수용된다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따라 고체 소스 물질(308)을 이용하는 시약 운반 시스템(300)을 도시한 도면이다.
도 7의 시스템에 있어서, 고체 소스 물질을 담고 있는 용기(302)는 고체 소스 물질(308)의 백(336)을 수용한다. 백(336)의 상측 자유단은 용기(302)의 상단부 위로 접히고 용기용 커버(304)에 의해 정위치 유지된다. 상기 용기(302)는 용기와 용기의 내부 볼륨(338) 내의 백을 가열하기 위해 선택적으로 작동할 수 있는 가열 재킷(310)에 의해 에워싸여 있다.
커버(304)에는 가열 유닛(318)이 장착되어 있으며, 이 유닛은 백(336)에 담긴 고체 소스 물질(308) 베드 상의 IR 광선(G)과 충돌하는 커버 하면의 적외선 가 열 램프(320)을 포함한다. IR 방사선을 사용하는 대신에, 증기를 발생시키기 위해 매우 선택적인 고체 소스 물질의 가열을 위한 간섭성 광 복사의 소스로서 레이저를 사용할 수 있다. 가열을 행하기 위해 사용한 특별한 방식에 상관없이, 가열의 결과로 생긴 고체 소스 물질은 백 내에서 헤드공간(306)을 통해 상승하고, 필터(332), 높은 컨덕턴스 유동 밸브(330), 배출용 부속품(360)을 통해 유동 제어 유닛(364)을 포함하는 배출 유동 라인(362)으로 통과하는 증기를 발생시킨다. 그 후, 분배된 고체 소스 물질 증기는 이용 설비(366)로 유동하고, 라인(368)을 따라 그로부터 나온 폐기 유출물은 라인(372)을 따라 시스템으로부터 배출되는 처리 유출물을 생산하기 위한 처리 설비로 흐른다.
용기(302)는 그 용기의 커버 상에 위치하는 포트(312)를 구비하다. 진공 펌프(316)에 결합된 진공 라인(314)은 고체 소스 물질의 증기를 발생시키도록 가열하기 이전에 용기로부터 가스의 배기를 실행하기 위해 포트(312)에 연결될 수 있다. 그 대안으로, 유동은 운반 가스 혹은 다른 유체를 용기 속으로 유동시켜 고체 소스 물질 증기의 생산으로 용이하게 하기 위해 라인(314)에서 역류할 수 있다. 이러한 임의의 운반 가스 혹은 추가 유체는 고체 소스 물질의 승화를 보조하기 위해 감지 가능 열을 용기로 주입하기 위해 가열될 수 있다.
도 7에 도시된 시스템의 백(336)은 폴리머, 금속, 수지 피복된 직물 패브릭 등의 임의의 적절한 재질로 구성될 수 있다. 양호한 실시예에 있어서, 백은 도 7의 시스템의 작동에서 고체 소스 물질 상으로 충돌한 IR 복사선을 반사하도록 알루미늄화 혹은 금속화된 필름 물질로 형성된다. 상기 백은 전술한 바와 같이 폐기되 거나 그렇지 않으면 예컨대, 고체 침착물 및 다른 잔류물을 백의 시트 혹은 필름 물질로부터 제거하기 위해 적절한 시간 주기 동안 적절한 세척 용액에서 침지시킴으로써 세척 및 재생 조작을 받을 수 있는 일회용 혹은 재활용 가능한 라이너로 구성될 수 있다.
또 다른 혹은 선택적인 특징으로서, 백 내의 고체 소스 물질은 백과 측벽 사이의 공간으로 아르곤, 질소 혹은 다른 적절한 가스를 맥동시키는 방법에 의해 교반 혹은 흔들릴 수 있기 때문에 백은 백 내의 고체 소스 물질을 혼합하고 고체 소스 물질로부터 증기의 발생을 최대화시키도록 변형된다. 이를 위해, 가스 공급부(342)는 가스 공급 라인(346)에 의해 가역 펌프(340)와 결합할 수 있다. 펌프(340)는 왕복 운동을 하는 방식으로 작동하기 때문에 가스는 용기의 백과 용기 측벽 사이에서 라인(348)을 따라 분사된 다음 이러한 가스를 배출 라인(350)을 따라 펌프로부터의 방출을 위해 용기 밖으로 펌핑시킴으로써 전술한 공간(백과 측벽 사이)으로부터 인출된다. 이러한 방법으로, 백은 반복적이고 교번하는 압축 및 흡입에 노출되고 이에 따라 백 내용물은 고체 소스 물질로부터의 증기의 발생을 최대화시키기 위해 연속하여 혼합된다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에서 고체 소스 물질을 이용하는 시약 운반 시스템(400)을 도시한 도면이다.
도 8의 시스템은 고체 소스 물질 입자의 베드(404)를 담고 있는 용기(402)를 포함한다. 여러 가지의 변형례들 중 하나에 따르면, 용기는 그 내부에 그것의 구동 조립체(414)와 결합된 혼합 스크류(406)가 배치될 수 있다. 구동 조립체는 예 컨대, 그 종축을 중심으로 혼합 스크류(406)을 회전시키기 위해 모터 및 이와 관련한 기어를 포함할 수 있기 때문에 용기 내의 고체 소스 물질은 용기의 작동으로 연속하여 혼합되고, 열은 증기의 발생을 최대화시키고 고체 물질 입자의 배드 내에 열적 불연속성을 방지하기 위해 가열 재킷(448)로부터 입력된다.
그 대안으로 혹은 추가적으로, 용기(402)의 내부에는 고체 소스 입자의 배드에서의 고체 전도를 최대화시키기 위해 수직으로 연장하는 열 전달 핀 조립체(408) 및/또는 수평으로 연장하는 열 전달 핀 조립체(410)를 배치할 수 있다.
용기(402) 내의 고세 소스 입자의 휘발로부터 발생된 증기는 용기(402)로의 재순환을 위한 재순환 루프(424)로 증기를 배출하는 재순환 펌프(422)의 관성 하에서 라인(420)을 따라 용기로부터 배출되며, 유동의 일부는 재순환 루프(424)로부터 추출되고 압력 센서(442), 질량 유동 컨트롤러(444) 및 온도 센서(446)를 포함하는 라인(440)을 따라 반도체 제조용 툴(450)로 유동한다.
상기 재순환 루프(424)에는 불활성 가스 공급부(430)로부터 공급된 캐리어 가스가 제공되며, 이 루프로부터 불활성 혹은 다른 캐리어 가스는 라인(432)을 따라 이러한 캐리어 가스의 유체 압력 조절용 조절기(434)로 유동하며, 라인(436)을 따라 재순환 루프로 배출된다.
재순환 루프(424)로의 분사 이후에, 캐리어 가스는 용기 내의 고체 소스 물질의 온도를 실질적으로 균일하게 유지하도록 그것을 가열을 위한 인라인 히터(416)로 유입하며, 그 다음 캐리어 가스는 용기(402)를 통해 유동한다.
재순환 루프(424) 내의 펌프(422)는 재순환 루프로의 캐리어 가스의 분사와 함께 질량 유동 컨트롤러(444) 이전의 압력 헤드로 만들며, 이는 질량 유동 컨트롤러를 통해 저압의 순수 증기가 툴로 운반될 경우 질량 유동 컨트롤러를 더 효과적으로 작동하도록 해준다. 질량 유동 컨트롤러가 개방될 때, 재순환 루프(424) 내의 압력은 저하될 것이며, 이에 따라 더 많은 캐리어 가스를 끌어당기게 된다. 이것은 질량 유동 컨트롤러 이전의 압력을 일정한 압력으로 유지하는 경향이 있을 수있다.
상기 재순환 루프(424)는 도시된 바와 같이 캐리어 가스 입구 앞에서 그 내부에 역지 밸브(426)가 마련될 수 있다. 질량 유동 컨트롤러(444) 대신에, 상기 시스템은 재순환 루프(424) 내의 압력을 제어함으로써 소스 화학물의 유동을 제어하도록 간단한 오리피스를 대안으로 사용할 수 있다.
도 8의 시스템은 용기(402)로 다시 재순환되는 라인(420)으로 용기로부터 방출된 운반 가스/화학 혼합물의 주요 부분으로 작동한다. 이것은 운반 가스가 예컨대, 디카보란과 같은 화학 성분의 평형의 증기압과 동일하지 않을 경우 거의 동일한 화학 성분을 함유하게 되는 것을 확실하게 해준다.
용기(402)의 출구에 있는 온도 센스(412)와 라인(440) 내의 압력 센서는 라인(440)으로부터 툴(450)로 주입될 소스 고체 화학물 유동의 예정된 온도와 압력을 획득하기 위해 인라인 히터(416)와 가열 재킷(448)의 가열을 조절하는 역할을 하는 모니터링 및 제어 방법으로 일체화될 수 있다.
도 9는 가열 삽입부(476)뿐만 아니라 가열 삽입부의 외측면 상의 가열 재킷(466)의 내부 위치 설정을 수용하는 본 발명의 또 다른 태양에 따른 환상의 시약 분배 용기(460)를 개략적으로 도시한 사시도이다.
환상의 용기(460)는 용기의 환상의 내측벽(462)에 의해 형성된 내부 공동(464)을 구비하는 환상의 형상이다. 용기의 포트 혹은 증기 배출 통로는 도면의 간략화를 위해 도 9에는 도시 생략되어 있다. 상기 용기는 소정 투입량의 고체 소스 물질을 담고 있으며, 내부 공동(464)은 삽입 유닛이 용기(460)의 삽입부에 의한 전기 저항식 가열을 실행하기 위해 전력 공급 장치로 플러그식 연결을 가능하도록 해주는 전력 코드(478)를 구비할 수 있는, 대응하는 형상의 가열 삽입부(476)를 수용할 수 있는 모양으로 되어 있다.
따라서 가열 삽입부(476)는 도 9에 도시된 도면에서 용기(460)의 공동(464) 속으로 상방향으로 삽입된다. 용기 공동에는 가열 삽입부의 상측면 상에 상보적인 형상의 표시 요소(480)와 협동 가능하게 정합하는 표시 커플링(470)이 마련되어 있다. 따라서 이러한 상보적인 정합 구조체(470, 480)는 가열 삽입부와 용기가 용기의 삽입부에 의한 가열이 개시되기 이전에 적절하게 위치 설정될 수 있도록 확실하게 해준다. 하나의 실시예에 있어서, 정합 구조체(470, 480)는 가열 삽입부가 기록 요소(480)와 기록 커플링이 서로 맞물리지 않으면 작동하는 것을 방지하도록 배치될 수 있다.
용기(460)는 그것의외측면 적용된 외부 가열 재킷(466)을 구비할 수 있으며, 이것에 의해 환형 벽은 용기 내의 고체 소스 물질로부터의 증기를 발생시키도록 가장 효과적으로 가열된다.
도 10은 각각의 트레이가 고체 소스 물질로 피복 혹은 그것을 포함하고 있는 일련의 수평 트레이들(510, 512)이 적층되어 있는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 시약 운반 용기(500)를 부분 절단하여 도시한 입면도이다.
도시된 바와 같이 상기 용기(500)는 원통형의 외주벽(502)을 구비하며, 용기를 분배 유동 회로에 연결하기 위한 적절한 배출용 부속품(506)과 결합된 분배 밸브(504)가 장치되어 있다. 용기는 그것의 내부 볼륨에 고체 소스 물질로 피복되거나 그렇지 않으면 그것을 포함하는 적층된 트레이(510, 512)의 어레이가 담겨 있다. 예시된 실시예의 트레이에는 그 위에 적층된 트레이 어레이를 제공하기 위해 인접하게 위치 설정된 트레이 상의 돌출부와 정합하는 돌출부가 마련되어 있다. 적층된 트레이 어레이는 임의의 적절한 구성 재질로 형성될 수 있지만, 예컨대 알루미늄, 구리, 니켈 등과 같이 높은 열전도성의 재질로 형성되는 것이 바람직하다.
상기 용기(502)는 전기 가열 테이프(520)에 의해 가열되며, 이 테이프는 테이프의 가열과 이것에 의한 용기의 가열을 실행하기 위해 도시된 바와 같이 용기 위로 직렬로 감기고 동력 공급 장치 혹은 다른 전기 에너지의 공급원과 결합시키도록 자유단(522)로부터 연장하는 전기 저항 가열 와이어(526, 528)를 구비하는 자유단(522) 내에서 연장이 종결된다. 그 결과, 용기는 가열되고 그 내부의 트레이는 용기로부터 분배하도록 증기를 발생시키기 위해 트레이 상에 혹은 트레이 내의 고체 소스 물질로 열을 효과적으로 전도시킨다. 또 다른 변형례로서, 용기(502)는 이것과의 친밀한 열전달 접촉에서 용기와 적절하게 접착되는 성형 가열 재킷에 의해 가열될 수 있다.
도 11은 다공성 튜브(570) 및/또는 다공성 링(568)과 결합된 내부 유체 수집 매니폴드(566)와 합체되어 있는 본 발명의 또 다른 태양에 따른 시약 운반 용기(552)를 부분 절단하여 도시한 사시도이다.
도 11의 시스템(550)은 일반적으로 원형 형상의 용기(552)를 포함하며, 상측 벽(560) 상에는 다공성 튜브(570)와 다공성 링(568)에 차례로 연결되어 있는 원통형의 내부 용기로서 형성된 매니폴드(566)에 튜브(564)를 연결함으로써 결합되는 분배 밸브(562)가 장착되어 있다. 다공성 튜브와 링 부재의 목적은 고체 소스 물질을 가열하자마자 그 물질로부터 나온 증기 유입물을 수용하는데 있다. 고체 소스물질(554)은 다공성 튜브와 링 부재를 그 내부에서 에워싸는 용기의 내부 볼륨 내에 포함된다.
이러한 실시예에서, 열전쌍(590)은 고체 소스 물질 베드 내에 배치되고, 그것의 전체 높이를 따라 베드의 온도를 모니터링하기 위해 그 전장으로 이격 배치된 센서(592, 594, 596, 598)들을 제공하기 때문에 가열(도 11에 도시 생략된 수단에 의해)은 소스 물질로부터 소망하는 증기 발생의 레벨을 제공하기 위해 필요한 만큼 조절될 수 있다. 상기 열전쌍(590)은 밀봉부(580)에서 용기의 상측 벽(560)을 관통하며 증기 발생 작동의 모니터링과 제어를 보조하기 위해 적절한 제어기/기록기 장치에 결합되는 외측 부분(582) 내에서 연장이 종결된다.
도 12는 본 발명의 또 다른 태양에 따른 고체 휘발 기술을 보여주기 위해 수평으로 배향된 시약 운반 용기(600)를 개략적으로 도시한 도면이다. 이 용기(600)는 가열 재킷(610) 내에 싸여 있고 용기의 상측 벽(602) 상에는 분배 밸브(604)가 구비되어 있으며, 배출용 부속품(606)은 도시된 바와 같이 분배 라인(608)과 결합 하도록 배치되어 있다.
도 12의 실시예에 있어서 용기를 수평으로 배향하는 것은 중력으로 하여금 용기 벽의 하측 부분을 고체 소스 물질과 접촉하는 위치에 유지시키도록 해주기 때문에 유리하다. 이러한 벽 부분과 접촉 상태로 있는 물질은 휘발하기 때문에, 증기는 벽으로부터 소멸해버리고 그 다음 이러한 수평 배향에서 용기의 하측 분분에서 벽과 접촉하게 되는 고체로 대체된다. 또 다른 변형례로서, 도 12에 도시된 용기는 용기 내의 고체 소스 물질이 연속적으로 교반 및 혼합되는 것을 보장하여 용기 내의 고체 물질의 열적 균질성을 보장하기 위해 화살표 B로 표시된 회전 방향에서 그것의 수평으로 정렬된 종방향 축(A-A)을 중심으로 회전하도록 배치될 수 있다. 이러한 회전 모드에서, 용기는 회전 부재를 수반하는 유체 기밀한 밀봉을 실행하기 위한 공지된 형태의 적절한 회전 밀봉과 커플링을 이용할 수 있다.
도 13은 버퍼 영역에 특징이 있는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 시약 운반 시스템(620)을 개략적으로 도시한 도면이다.
이 시스템(620)은 질량 유동 컨트롤러, 밸브, 오리피스, 센서 등과 시스템의 작동에 필요하거나 소망하는 것과 같은 부품을 개략적으로 대표하는 유동 제어 유닛(694)을 포함하는 분배 라인(688)으로 고체 소스 물질 증기의 분배를 위해 배치된 분배 밸브 헤드(686)가 장치되어 있는 가열 재킷(624) 내의 용기(622)를 포함한다. 유체 제어 유닛(694)로부터, 고체 소스물질로부터 유도된 증기는 라인(698)을 따라 예컨대, 반도체 처리용 툴 등의 증기 활용 유닛으로 유동한다.
도 13의 시스템(620)은 도관(690)에 의해 분배 라인(688)으로 연결되어 있는 완충 용기(692)를 포함한다. 도관과 분배 라인은 분배된 증기의 양이 이러한 완충 작용에 적절할 때 분배 작업 동안 완충 용기(692)로 증기의 유동을 실행하는데 필요로 하는 것과 같이 배치될 수 있다. 완충 용기는 물론 유체 형태에서 증기를 유지하고 완충 용기에서 증기의 응축 및 응고를 방지하기 위해 적절하게 절연 및/또는 가열된다.
이러한 방법으로, 상기 소스 물질 증기의 완충량은 완충 용기 내에 축적되고 분배 라인(688) 내의 증기 재고가 낮거나 그렇지 않고 보충이 필요할 때 분배 라인(688)으로 되돌아가도록 유동시키기 위해 이용될 수 있다. 분배 라인(688)으로 완충 체적 증기의 분배는 용기(622) 내의 증기 발생 및/또는 증기 활용 유닛(698)에서의 증기 소모의 적절한 검출 및 모니터링에 의해 제어 가능하게 배치될 수 있다.
도 14는 본 발명의 또 다른 실시예에서 또 다른 태양에 따른, 상응하게 형성된 가열 재킷(710)으로 삽입된 시약 운반 용기(702)를 도시한 사시도이다.
도 14에 도시된 시스템(700)은 고체 소스 물질의 휘발을 그 내부에서 보유시키는 용기를 포함한다. 상기 용기(702)는 도시된 바와 같이 용기 벽 상에 있는 분배 밸브(704), 열전쌍 혹은 다른 온도 감지 요소(706, 708)를 포함한다.
용기(702)는 화살표 G로 표시된 방향을 따라 가열 재킷(710)으로 하강하는 것으로 도시되어 있다. 가열 재킷(710)은 용기를 수용하기 위해 그 내부에 공동(716)을 형성한다. 상기 재킷은 용기와 정합하도록 형성되며 이를 위해 가열 재킷은 용기 외측면과 합체할 수 있는 성형된 삽입물을 구비할 수 있다. 가열 재킷 은 재킷이 공동으로 용기의 삽입을 용이하게 만들도록 수동으로 개봉될 수 있는 이음매를 포함한다. 용기가 재킷 내에 위치 설정된 이 후에, 예컨대 Velcro(등록상표) 훅과 루프 파스너 요소 등과 같은 상보적으로 정합하는 덮개 요소(720, 722)는 재킷 내의 용기를 위치적으로 구속하기 위해 맞물린다.
재킷은 도시된 바와 같은 열전쌍 혹은 다른 온도 감지 요소(712, 722), 또는 증기 발생과 분배 작업 동안 용기 내의 고체 소스 물질의 휘발을 위한 적절한 레벨에서 용기의 재킷에 의한 가열을 유지하기 위해 용기 벽 상의 요소(706, 708)와 협동하는 모니터링 요소를 구비할 수 있다.
가열 재킷(710)은 전선(730)에 의해 적절한 동력 공급 장치에 연결되어 있는 가열 제어기 유닛(726)에 와이어(724)로 결합된 것으로 도시되어 있다. 가열 제어기 유닛(726)은 소망의 지속 시간 혹은 간격의 가열 사이클 프로그램을 실행하도록 미리 설정될 수 있는 프로그램 가능한 유닛이며, 이러한 유닛은 증기 발생을 위한 고체 소스 물질의 매우 효율적인 휘발을 실행하기 위해 다른 센서, 시스템 내의 모니터링 및 제어 장비와 일체로 될 수 있다.
도 15는 용기로부터 증기의 배출용 다공성 수집 튜브에 결합된 수집 매니폴드 부재에 특징이 있고, 관련된 모니터링 및 제어 부품을 도시하는 본 발명의 또 다른 태양에 따른 시약 운반 용기(802)를 포함하는 시스템(800)을 부분 절단하여 도시한 사시도이다.
도 15의 시스템은 매니폴드 커버(804)와 정합하는 원통형 형상의 용기(802)를 포함한다. 매니폴드 커버(804)는 중공의 내부 볼륨을 형성하고 그것의 상측 면(810) 상에 장착된 분배 밸브(812)를 구비하며, 이 분배 밸브(812)에는 용기 내에 담긴 고체 소스 물질(806)로부터 유도된 증기의 배출을 위한 분배 라인(820), 예컨대 도시된 바와 같이 특별한 형태의 라인에 연결된 것으로 도시된 분배용 부속품(816)이 결합되어 있다.
상기 용기(802)는 매니폴드 커버(804)와 결합된 다공성 튜브(808)에 특징이 있기 때문에 (도 15에 도시 생략된 가열 수단에 의해) 용기 내의 고체 소스 물질(806)을 가열하자마자 증기는 다공성 튜브의 벽을 통해 유동하며, 밸브(812)가 유동물을 배출하기 위해 개방될 때 용기로부터 후속 배출을 위해 매니폴드 커버(804)의 중공의 내부 볼륨으로 유입하도록 화살표 I로 표시된 방향을 따라 상방향으로 유동한다.
상기 용기(802)는 또한 이 용기가 고체 소스 물질로 충전되고 그 후 밀봉되도록 해주는 충전 포트(822)에 특징이 있다. 상기 용기에는 신호 전송 라인(828)에 의해 압력 변환기(PT)(830)에 연결된 다음 신호 전달 라인(832)에 의해 CPU(834)에 연결되는 압력 센서(826)가 장치되어 있다. CPU(834)는 그 다음 용기 내의 압력을 표시하는 데이터를 시각적으로 디스플레이하기 위해 케이블(836)에 의해 모니터(838)에 연결되어 있다. 그 대안으로, 상기 센서(826)는 온도 센서일 수 있고, 압력 변환기(830)는 온도 변환기로 대체될 수 있다.
다공성 튜브(808)는 도시된 바와 같이 전기 저항 가열 와이어(840)에 의해 다공성 튜브에 적절한 전기 입력을 공급하여 그것을 소망하는 온도로 가열하는 기능을 하는 가열 제어기(842)에 연결될 수 있다. 가열 제어기에는 (도 15에서 도시 생략된 전원으로부터) 적절하게 동력이 공급되고, 시스템의 통합된 모니터링 및 제어를 가능케 하기 위해 신호 전송 라인(844)에 의해 CPU(834)에 연결되어 있다.
따라서 다공성 튜브(808)는 용기 내의 고체 소스 물질을 휘발시키기 위해 적절한 온도로 가열되고, 이러한 튜브의 내부 통로를 통해 매니폴드 커버(804)의 수집 매니폴드로 그 결과로 생긴 증기의 유동을 야기한다.
또 다른 작동 모드에서, 가열 제어기에 의한 다공성 튜브(808)의 가열은, 직접 승화와 반대로 용해되기 쉬울 경우 고체 소스 물질이 다공성 튜브(808)의 벽을 통한 액체의 증발 유동을 야기하도록 용해될 수 있고 그 다음 다공성 튜브가 중공의 튜브(808)의 내부 통로 내의 액체를 증기로 유출시키기 위해 저항식 가열 와이어(840)를 매개로 충분한 크기의 에너지 입력으로 맥동될 수 있도록 실행될 수 있다. 그 다음 압력 센서(826)는 용기 내의 소스 물질의 재고를 압력 센스에 의해 검출된 그것의 증기압의 함수로서 측정하기 위해 그 결과로 생긴 압력을 검출하도록 사용될 수 있기 때문에, 고체 소스 물질의 재고는 모니터링 되고 작동 사이클 중 적절한 시점에서 용기(802)를 바꾸거나 혹은 작동을 종료한다.
도 16은 가늘고 긴 지지 부재(906)가 고체 소스 물질로 피복되어 있고, 그 결과로 생긴 피복 제품이 가열된 영역(900)을 통해 병진 이동되어 유체 활용 설비(932)용 증기를 형성하도록 고체 소스 물질을 휘발시키는 그러한 지지 부재를 절단하여 개략적으로 도시한 전방 입면도이다.
가열된 영역(900)은 내부 볼륨(904)을 에워싸는 밀폐체(902)를 포함한다. 가열된 영역은 예컨대, 노, 오븐, 고온 박스, 열 챔버 등과 같은 임의의 적절한 타 입일 수 있다.
이러한 시스템에서 가늘고 긴 지지 부재(906)는 예컨대, 테이프, 웹, 시트, 필라멘트, 와이어 혹은 고체 소스 물질 입자의 분말 코팅으로 피복되어 있는 다른 기판 제품일 수 있다. 다음의 설명에서 지지 부재(906)는 각각의 상측 표면(907)과 하측 표면(909)을 구비하는 테이프로 채택될 수 있다.
상기 지지 부재는 분말 저장소(914)로부터 라인(922)을 따라 헤드로 공급된 분말을 분사하기 위해 배치된 스프레이 헤드(924)와 분말 저장소(914)로부터 라인(916)을 따라 헤드로 공급된 분말을 분사하기 위해 배치된 스프레이 헤드(920)를 포함하는 스프레이드 어레이를 통해 병진 이동된다. 이를 위해, 분말은 피복된 테이프가 헤드 영역(900)을 통해 병진 이동할 때 테이프의 상측 표면(907) 상의 고체 소스 물질의 코팅(911)과 테이프의 하측 표면(909) 상의 고체 소스 물질의 코팅(913)이 휘발될 때 증기가 그로부터 발생되게 될 고체 소스 물질의 미립자 형상이다(열 주입은 가열된 영역의 내부 볼륨으로 열 입력 화살표 Q를 이용하여 개략적으로 도시되어 있음).
그 결과로서, 고체 소스 물질의 코팅으로부터 유도되는 증기는 가열된 영역(900)의 내부 볼륨 내에 수집되고, 예컨대 반도제 제조 설비를 포함할 수 있는 하류 유체 활용 설비(932)로 배출 라인(930)을 따라 통과한다.
따라서 테이프(906)의 대응하는 상측 표면과 하측 표면 상의 코팅은 가열된 영역(900) 내에서의 휘발에 의해 제거되고 그 결과로 생긴 코팅되지 않은 상태로 복귀한 테이프는 시스템의 화살표 X로 표시된 방향으로 시스템 밖으로 병진 이동된 다. 테이프는 코팅 및 가열된 휘발 영역을 통해 처리되는 별개의 길이의 웹 혹은 시트 원료 물질일 수 있거나 혹은 그 대안으로 테이프는 테이프가 도 16에 개략적으로 도시된 바와 같이 시스템을 통과한 후 코팅 영역으로 복귀하고 고체 소스 물질 분말로 다시 피복되도록 무한 루프로 형성될 수 있다.
코팅 작동을 용이하게 하기 위해, 고체 소스 물질 분말은 그것이 가열된 영역(900)으로 유입하기 이전에 기판 제품 상에서 분말의 코팅막에 일관성과 구조적 강도를 부여하기 위해 휘발성 바인더 혹은 캐리어 혹은 다른 매트릭스 물질로 조제될 수 있다. 그 대안으로, 기판 제품은 고체 소스 물질 분말이 접착하게 될 고유의 낮은 접착성을 지닌 물질로 구성될 수 있다. 또 다른 변형례로서, 기판 제품은 기판 제품 표면에 고체 소스 물질 분말의 접착성을 용이하게 하기 위해 낮은 접착성의 폴리머 혹은 다른 접착제 매체로 피복될 수 있다.
도 17은 혼합 상태로 있는 흡착제 입자와 높은 열전도성 입자 덩어리(1000)를 개략적으로 도시한 도면으로, 입자 덩어리는 고체 소스 물질의 휘발 에너지 조정에 의해 영향을 받고(화살표 1010으로 표시) 고체 소스 물질의 표면 필름 상의 코팅을 도시하기 위해 흡착제와 높은 열전도성 입자를 부분적으로 단면으로 도시한 도면이다. 이러한 덩어리(1000)의 흡착제 입자(1002)는 예컨대, 박막 형태로 그 위에 고체 소스 물질의 코팅(1004)을 구비한다. 상기 덩어리(1000)의 높은 열 전도성 입자(1006)는 또한 예컨대, 박막 형태로 그 위에 고체 소스 물질의 코팅(1008)을 구비한다.
이러한 구성에 의해, 덩어리(1000) 내의 흡착제 입자와 높은 열 전도성 물질 은 고체 소스 물질의 높은 표면적 대 체적량을 제공하며, 이는 고체 소스 물질이 흡착제의 다공성뿐만 아니라 흡착제와 높은 열 전도성 입자의 표면 상에서 박막 형태로 있기 때문에 매우 효과적인 방식으로 용이하게 휘발된다.
덩어리(1000) 내의 입자는 예컨대, 롤러 코터 기술, 스프레이, 딥핑, 유동상 코팅 등의 임의의 적절한 방법, 혹은 입자에 코팅을 부여하기 위한 다른 임의의 방법으로 피복될 수 있다. 흡착제는 예컨대, 활성 탄소 흡착제, 분자체, 규조토, 점토 타입의 흡착제, 매크로 망상조직 수지, 실리카, 알루미나 등의 임의의 적절한 타입일 수 있다. 덩어리 내의 높은 열전도성 입자는 임의의 높은 전도성 물질일 수 있지만 예컨대, 니켈, 스테인레스강, 티탄 등 금속 혹은 높은 열전도성 세라믹으로 형성되는 것이 바람직하다.
도 18은 고체 소스 물질을 휘발시키고 증기를 이용하는 공정에 사용하기 위한 증기를 형성하기 위해 가열된 영역(1022)을 통해 고체 소스 물질의 입자(1030)를 병진 이동시키기 위한 컨베이어 시스템(1020)을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 18에 도시된 바와 같이, 입자(1030)를 포함하는 공급 용기(1026)는 그것의 주요면 상에 플랩, 국자 혹은 다른 픽업 구조체가 장치되어 있는 컨베이어(1024)에 의해 입자를 픽업하기 위한 저장소를 형성한다. 이 컨베이어(1024)는 가열된 영역(1022)을 통해 화살표(1032)로 표시된 방향으로 병진 이동하며, 컨베이어에 의해 운반된 입자(1050)는 증기를 발생하도록 이러한 영역에서 적어도 부분적으로 휘발된다. 증기는 후속 사용을 위해 라인(1060)을 따라 가열된 영역(1022)으로부터 배출된다.
부분적으로 휘발된 입자(1052)는 컨베이어에 의해 수지 챔버(1054)로 운반된다. 이 수집 챔버(1054)는 입자가 가열된 영역(1022)을 통한 재순환 통로에 의해 실질적으로 완전히 휘발되도록 입자의 재순환용 공급 용기(1026)에 급송 관계 배치될 수 있다.
그 대안으로, 도 18의 시스템의 입자는 예컨대, 고체 소스 물질로 피복되었던 본 명세서에서 도 17을 참조로 설명한 타입의 기판 입자일 수 있다.
도 19는 기판 입자 상에 피복된 고체 소스 물질로부터 증기를 발생시키기 위해 그리고 그 결과로 생긴 증기를 하류 유체 활용 설비(1134)에서 사용하기 위한 유동상 베드 시스템(1100)을 개략적으로 도시한 도면이다.
상기 시스템(1100)은 스크린 지지부(1108) 위에서 그 내부에 유동상(1106) 입자를 구비하는 내부 볼륨(1104)을 에워싸는 유동상 용기(1102)를 포함한다. 스크린 지지부(1108) 아래에서 용기의 하측 충만 공간(1110) 내에 가스 분배기(1112)가 위치하고 있다. 가스 분배기(1112)는 유동화 가스 예컨대, 정화 및 압축을 위한 유입 라인(1118) 내에서 수집된 다음 라인(1114)을 따라 용기(1102)로 유동하는 공기의 소스(1116)로 가스 급송 라인(1114)에 의해 접합되어 있다.
용기(1102)는 공급 호퍼(1120)와 고체를 공급할 수 있는 상태로 결합되어 있으며, 이 호퍼로부터 고체 소스 물질로 피복된 입자가 유동상 베드(1106)로 슈우트(1122)내에서 유동한다. 테이크-오프 슈우트(1124)는 수집 호퍼(1126)에 연결된 베드의 반대편 상에 마련되고 이 호프로부터 소모한 고체를 처리, 재생 혹은 다른 처분을 위해 라인(1128)으로 제거할 수 있다.
휘발에 적합한 고온에서 작동된 유동상 내에서 발생할 때 휘발된 고체 소스 물질로부터 유도되는 증기는 라인(1132)을 따라 유체 베드 용기부터 배출되고 그 내부에서 유체 활용 설비(1134)로 흐른다.
도 19에 도시된 구조에 의해, 고체 소스 물질로 피복된 입자의 고온 유동상 내에서의 잔류 시간은 열 효과적인 방식으로 증기 발생을 최대화시키기 위해 제어될 수 있다.
도 20은 다양한 모니터링 및 제어 부품들과 결합된 고체 소스 물질을 사용하는 증기 발생 시스템(1200)을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 20에 도시된 바와 같이, 증기 발생 시스템(1200)은 플로어(1202), 커버(1206) 및 그 내부에 폐쇄된 내부 볼륨(1212)을 형성하는 외접 측벽(1204)을 구비하는 증기 발생 용기(1201)를 포함한다. 이러한 내부 볼륨(1212)에는 고체 소스 물질의 가열(가열 수단은 도 20에서 도시 생략)로 인해 예컨대, 액체이거나 반고체 형태로 있을 수 있는 소정 량의 초기 고체 소스 물질(1218)이 담겨 있다. 고체 소스 물질(1218)은 도시된 바와 같이 샤프트(1214)의 하단부에 고정된 다공성 플레이트 부재(1216)에 의해 위에 덮여 있다.
도 20에 도시된 구조에 있어서, 샤프트(1214)는 높은 컨덕턴스 유동 제어 밸브(1260)에서 라인(1264)로 증기를 배출하기 위해 그 밸브(1260)를 관통하는 증기의 흐름을 수용할 수 있도록 중공일 수 있다. 증기는 라인(1264)을 따라 유동 컨트롤러(1266)로 유동하며, 이 제어기로부터 증기는 라인(1270)을 따라 유동 합계 수단(1272)으로 유동한 후 라인(1274)을 따라 유체 활용 설비 혹은 프로세스 툴로 유동하게 된다. 상기 유동 컨트롤러(1266)는 예컨대, 유동 제어 밸브, 질량 유동 컨트롤러, 제한식 유동 오리피스 요소, 유체 압력 조절기 등을 포함한 임의의 적절한 형태일 수 있다.
유동 합계 수단은 용기(1201)로부터 유동되는 증기의 누적량을 측정하고 그것에 의해 용기 내에 잔류하는 소스 화학물의 양의 표시하는 출력을 제공하기 위해 사용할 수 있다. 이 합계 수단은 용기 내의 소스 화학물의 고갈에 접근할 때 그리고 용기를 새로운 소스 화학물로 재충전하거나 그렇지 않으면 소스 화학물을 포함하는 새로운 용기로 교환시킬 필요가 있을 때 신호 예컨대, 가청 및/또는 시각 알람을 출력하기 위해 배치될 수 있다.
합계 수단에 추가하여, 용기(1201) 내의 소스 화학물의 레벨은 도 20에 도시된 시스템에서 다양한 방법으로 결정될 수 있다. 상기 시스템은 예컨대, 용기(1201)와 유체 연통 상태로 결합된 측면 챔버(1246)를 구비할 수 있으며, 이 챔버 내에서 소스 물질(1248)은 가열 재킷(1250)에 의해 측면 챔버로 공급된 열에 의해 액체 혹은 유동 가능한 반고체로 유지된다. 플로트 센서(float sensor)는 측면 챔버에 배치되어 측면 챔버 내의 소스 화학 물질의 레벨을 모니터링 하기 위해 신호를 플로트 센서로부터 CPU로의 전송을 가능케 해주도록 신호 전송 라인(1254)에 의해 중앙 처리 장치(CPU)(1240)에 작동 가능하게 연결되어 있다.
CPU는 예컨대, 범용 프로그램 가능한 컴퓨터, 마이크로프로세서 유닛, 프로그램 가능한 논리 제어기와 같은 임의의 적절한 타입일 수 있다. 내부의 소스 화학물의 레벨을 보여주는 용기(1201)의 그래픽 표현 등의 시각 데이터의 그래픽 출 력을 위해 신호 전송 라인(1242)에 의해 CPU(1240)에는 출력 디스프레이(1244)가 출력 관계로 연결되어 있다.
용기(1201) 내의 소스 화학물의 레벨 모니터링을 위한 또 다른 방식으로서, 용기의 커버(1206)는 그 밑면에 장착된 레이저 신호를 발하는 레이저 신호 발생기(1208)를 구비할 수 있다. 발생기(1208)로부터 나온 레이저 신호는 플레이트 부재(1216)의 상측 표면 상에 충돌하며 커버(1206)의 아래쪽 표면 상의 광전자 검출기(1210)로 반사된다. 상기 광전자 검출기(1210)는 소스 화학물의 레벨의 모니터링, 모니터(1244) 상에 레벨의 그래픽 표시 출력 및/또는 그 레벨의 데이터 로그 유지 및 용기(1201) 내의 소스 화학물 소모가 접근하고 있다는 것을 표시하는 출력을 제공하기 위해 검출기에서 플레이트 부재의 상측면까지의 간격을 표시하는 출력 신호를 신호 전송 라인(1256)을 따라 CPU(1240)로 반응적으로 전송한다.
용기(1201)의 소스 화학물의 레벨 감지의 또 다른 변형례로서, 용기에는 용기의 측벽(1204) 내에 장착되고 신호 전송 라인(1230)에 의해 CPU(1240)으로 작동 가능하게 연결될 때 일련의 수직으로 이격된 근접 스위치(1221, 1222, 1223, 1224, 1225)가 장치될 수 있다. 각각의 근접 스위치는 플레이트 부재(1216)의 접촉 혹은 근접에 의해 작동하기 때문에 플레이트 부재(1216)가 용기로부터 증기의 분배 동안 점진적으로 하강함에 따라, 그것은 조작자에게 용기 내의 플레이트 부재의 위치 정도를 제공할 수 있도록 해주는 출력은 모니터링 및 출력하기 위해 CPU로 이러한 위치의 표시하는 대응 신호를 전송하도록 연속하는 하측 스위치들 각각을 작동시킨다. 이것은 그 다음 용기를 새로운 소스 화학물로 재충전하기 위해 혹은 새로운 용기와 교환하기 위해 시기적절한 작동을 취할 수 있도록 해준다.
이 시스템(1200)은 또한 용기가 하류 유체 활용 공정에서 증기를 활동적으로 분배하지 않을 때 용기 내의 소스 화학물 레벨을 결정하기 위한 동적 시험 조립체를 포함한다. 예컨대, 질소, 헬륨, 아르곤 등의 불활성 가스의 소스(1276)는 공급 라인(1278)에 의해 펌프(1280)에 연결되며, 이 펌프는 내부에 질량 유동 컨트롤러(1282)를 포함하는 급송 라인(1290)으로 불활성 가스의 둥근 덩어리를 주입하는 기능을 하기 때문에 불활성 가스는 그 다음 용기(1201)의 내부 볼륨(1212)으로 분사된다. 압력 변환기(1220)는 용기의 커버(1206) 상에 장착괴고, 신호 전송 라인(1262)에 의해 CPU(1240)에 연결된다.
작동시, 펌프(1280)는 소스(1276)로부터 나온 공지된 체적의 불활성 가스로 용기(1201)를 맥동(분사)시키기 위해 작동한다. 압력 변환기(1220)는 그 다음 용기 내에 얼마나 많은 소스 화학 물질이 남아 있는 것과 관련되는 동시에 희망에 따라 CPU(1240)에 의해 알고리즘으로 결정 및 출력될 수 있는 용기 내의 이용 가능한 개방 체적을 결정하기 위해 사용될 수 있다.
그 대안으로, 상기 시스템은 용기(1201) 내의 압력(변환기(1220)로 측정한 압력)을 특정 압력으로 상승시키는데 필요한 소스(1276)에서 나온 불활성 가스의 체적이 결정되고, 불활성 가스의 체적이 용기 내에 잔류하는 소스 화학물의 양을 결정하기 위해 CPU(1240)로 입력될 수 있도록 배치될 수 있다.
마지막 두 단락에서 설명한 레벨 결정 방법 중 하나에 있어서, 그 결정은 용기가 분배 모드에서 증기를 활동적으로 공급하지 않을 때 행해진다. 이러한 목적 을 위해, 불활성 가스의 주입은 오프-라인 상태로 있는 용기(1201)를 이용하여 실행된다. 이것은 동적 레벨 결정을 실행할 때 밸브(1260)를 차단하기 위해 유동 제어 밸브(1260)와 제어 가능한 관계로 작동 가능하게 연결된 CPU에 의해 관리된 사이클 타이머 프로그램에 의해 행해질 수 있다. 상기 배출 라인(1274)에는 활동적인 분배 작동 중에 과잉 체적의 증기 추출을 위해 그 라인과 연통 상태로 있는 서지 탱크 혹은 다른 잔류액 용기(도 20에 도시 생략)가 설치될 수 있기 때문에 동적 레벨 시험 중에 밸브(1260)는 차단되고 잔류액 용기로부터 나온 증기는 하류 유체 활용 공정으로 공급되어 이에 따라 증기 분배 작동의 연속성을 유지시키게 된다. 잔류액 용기는 적절한 밸브 매니폴드 집배, 바이패스 라인, 혹은 이러한 작동을 실행하기 위한 다른 유동 회로에 의해 배출 라인(1274)과 결합될 수 있다.
따라서 본 발명은 고체 소스 물질로부터 증기를 운반하기 위해 효과적이면서 신뢰성 있는 장치와 방법을 제공하고, 분배 작동의 모니터링과 제어를 포함한 다양한 실시 태양으로 실시될 수 있어 증기는 안전하고 효과적인 방법으로 유체 활용 설비 혹은 공정으로 공급될 수 있다는 것에 주목해야 한다.
또 다른 태양에 있어서, 고체 소스 시약 운반 시스템은 고체 소스 물질이 보유되어 있는 밀폐된 내부 볼륨을 형성하는 용기를 포함한다. 이 용기에는 밸브 조립체에 탈착 가능하게 고정될 수 있는 알루미늄 등의 높은 열 전도성 물질의 블록에 의해 에워싸이게 되는 용기의 상단부에 밸브 조립체가 장치되어 있다. 상기 블록은 밸브 둘레의 덮개 블록 구조를 형성하도록 서로 협동 가능하게 정합되는 구성 부품들로 분리될 수 있다.
예컨대, 하나의 실시예에서의 블록은 밸브 조립체와 열전도식 접촉 상태로 밸브 조립체를 에워싸는 2개의 절반 섹션으로 형성되기 때문에 이 블록은 밸브 조립체에서 고체 소스 시약 증기의 응축을 피하기 위해 가열시 열적으로 열을 밸브로 전도한다.
블록의 각 부품들은 임의의 적절한 방식으로 서로 결합될 수 있다. 예컨대, 블록은 개방되고 밸브 헤드 조립체 둘레로 끼워지게 되도록 서로에 대해 힌지식으로 결합되는 절반부로서 형성될 수 있고, 절반 섹션들이 서로 정합하고 절절한 체결 구조체에 의해 정위치에 체결될 수 있도록 차후에 폐쇄된다.
이러한 체결 구조는 커플링 요소, 잠금 구조체, 래치, 키 형성 구조체 등을 포함하는 임의의 적절한 타입일 수 있다. 블록에는 이 블록을 통해 밸브 조립체 내의 밸브로부터 관련한 유체 회로까지 소스 시약 증기의 유동을 허용하기 위해 그것을 관통하는 통로가 설치될 수 있다. 상기 유동 회로는 그 다음 분배된 증기를 이용하게 될 하류 프로세스 설비와 결합될 수 있다.
이러한 목적을 위해, 블록에는 밸브 조립체에서 밸브의 포트와 정합 가능하게 맞물리고 관련한 유동 회로 예컨대, 예컨대 블록과 맞물리는 부속품이 구비된 배출 도관과 블록의 결합을 허용하는 부속품, 커플링 등이 설치될 수 있다.
상기 블록은 복사열, 적절한 전력 공급 장치와 결합될 때 블록 자체의 저항열, 블록의 가열을 유발하는 블록 상의 마이크로파 혹은 초음파 에너지 충돌, 블록을 고온으로 가열하기 위해 작동 가능하게 배치된 가열 재킷으로 블록의 재킷 가열, 혹은 고체 소스 시약 분배 시스템의 밸브 조립체의 밸브 통로에 열을 전도하여 밸브의 통로와 관련한 유동 회로 내에서 소스 시약 증기의 응축을 방지하기 위해 블록의 온도를 상승시킬 수 있는 다른 적절한 가열 장치를 포함하는 임의의 적절한 가열 장치에 의해 가열될 수 있다.
또 다른 태양에 있어서, 본 발명은 운반 시스템의 용기를 폐쇄시키는 역할을 하는 플랜지를 포함하는 고체 소스 시약 운바 시스템에 관한 것으로, 이 시스템 내에서 플랜지는 결합 해제를 위해 비표준형 스크류드라이브 등의 특정 공구를 필요로 하는 비표준형 나사에 의해 시약 공급 용기에 고정된다. 이러한 방법으로, 시약 운반 시스템은 개방 방지 혹은 개봉 여부를 확인할 수 있는 특징을 제공한다.
또 다른 실시예에 있어서, 플랜지를 용기에 고정시키기 위해 사용한 나사는 그 위로 부착된 레벨을 구비하기 때문에 나사 아래로 어떠한 기계적 파스너의 접근하려는 시도를 하기 위해서는 반드시 그 라벨이 파괴되어야 한다. 이러한 구조는 용기에 대한 어떠한 접근하려는 시도 혹은 승인되지 않은 접근을 쉽게 감지할 수 있도록 해준다.
또 다른 실시예에 따르면, 고체 소스 시약 운반 시스템은 고체 소스 물질을 보관하는 폐쇄형 볼륨을 형성하는 용기를 포함하며, 이 시스템의 용기는 용기 상에 예컨대, 박형, 원통형, 저항식 히터 혹은 다른 소형 히터 등의 카트리지형 히터를 사용할 수 있도록 채택되어 있다. 예컨대, 하나 이상의 예컨대, 3개 혹은 4개의 히터를 소스 물질이 용기 내에서 가열될 때 용기로부터 나온 고체 소스 증기의 유동을 제어하기 위해 사용되는 용기와 관련한 밸브 내에 혹은 그 근처에 배치될 수 있다. 밸브는 높은 컨덕턴스 특징을 지닐 수 있고, 고체 소스 시약이 그 내부에 저장되고 그로부터 고체 소스 시약의 증기가 용기의 분배 작동 동안 용기로부터 분배되는 내부 폐쇄형 볼륨을 용기와 함께 형성하기 위해 사용되는 플랜지 혹은 다른 폐쇄형 부재 상에 장착될 수 있다.
전술한 바와 같은 밸브를 에워싸는 전도성 블록에 특징이 있는 고체 소스 시약 운반 패키지의 일실시예에 있어서, 상기 블록에는 블록을 가열하고 그것에 의해 밀폐된 밸브를 가열하기 위해 저항식 가열 요소를 삽입할 수 있는 천공 구멍 혹은 보어가 마련될 수 있다. 추가적으로 혹은 그 대안으로, 용기 자체는 히터가 용기 벽 내에서 혹은 그것에 인접하게 사용될 수 있도록 구성될 수 있다.
예컨대, 용기의 벽은 그 내부에 형성된 벽 포켓을 수용하기에 그리고 용기 벽을 가열시켜 내부에 있는 고체 소스 시약 물질을 가열하기 위해 열이 용기로 전도되도록 포켓 속으로 선택적으로 삽입될 수 있는 전술한 히터를 수용하기에 충분하게 두껍게 만들어질 수 있다. 이러한 용도의 용기는 알루미늄 혹은 알루미늄 합금 등의 전도성 물질로 형성될 수 있다.
도 21은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 고체 소스 시약 운반 패키지(1300)를 부분 절단하여 도시한 입면도이다.
고체 소스 시약 운반 패키지(1300)는 원주를 따라 연장하는 원통형 측벽(1304)과 상측 플랜지 폐쇄형 부재(1310)와 함께 고체 소스 시약(1374)을 보관하는 밀폐된 볼륨(1372)을 형성하는 플로어(1306)를 구비하는 고체 소스 시약 용기(1302)를 포함한다. 비록 도 21에는 도시의 간략화를 위해 고체 소스 시약 물질이 용기 내에 충전된 물질 덩어리로서 제공되는 것으로 도시되어 있지만, 상기 물 질은 지지체 상에 혹은 고체 소스 시약으로부터의 증기의 발생을 용이하게 하는 다른 관련된 구조체 상에 제공될 수 있다는 것에 주목해야 한다. 하나의 특히 양호한 실시예에서, 고체 소스 시약 물질은 용기의 내부 볼륨 내에서 블록 혹은 모놀리식 블록이나 혹은 패킹 본체의 형태 중 하나로 다공성 금속 매체에 의해 지지된다.
상측 플랜지 밀폐체 부재(1310)는 측벽(1302) 내에서 대응하는 나사 형성 통로와 맞물리는 각각의 기계적 파스너(1312, 1314)를 그 내부에 수용하는 나사 형성 통로가 그 내부에 마련되어 있다. 이러한 방식으로, 상측 플랜지 밀폐체 부재(1301)는 기계적으로 채워져 용기 측벽에 고정된다.
개봉 방지 특징으로서, 기계식 파스너(1312, 1314)의 헤드 부분은 그것을 뽑기 위해 비표준형 스크류 드라이버를 필요로 하도록 형성될 수 있거나 또는 다른 비표준형 공구의 사용을 필요로 하는 전술한 다른 방법으로 형성될 수 있기 때문에 패키지의 개봉 방지 특징이 향상된다.
추가의 특징으로서, 접착제 라벨(1316, 1318)은 기계식 파스너의 헤드부분 위로 배치될 수 있으며, 이것에 의해 패키지의 내용물에 접근하려는 어떠한 승인되지 않은 시도는 라벨의 밀봉의 파손에 의해 검출될 것이다.
상측 플랜지 밀폐 부재(1310)는 블록(1340) 내에서 에워싸인 밸브 조립체(1360)와 연통 상태로 중앙 개구를 그 내부에 구비한다. 이 블록(1340)은 절반 섹션(1342, 1344)들로 형성되어 있다. 각각의 절반 섹션들은 스템(1346)에서 협동 가능하게 정합하며 도 21에 도시된 바와 같이 블록의 전방면 상의 파스너(1348)에 의해 서로 결합되어 있다. 상기 블록(1340)은 블록의 배면 상에서 밸브 조립 체(1360)를 블록과 열적 접촉 상태로 맞물리게 하기 위해 조가비 방식으로 블록 섹션들이 개폐되도록 힌지식 연결되어 있는 절반 섹션으로 형성될 수 있다.
상기 블록(1340)은 그 내부에 밸브 조립체의 밸브 챔버(도시 생략)와 연통하는 통로가 제공될 수 있으며, 밸브 조립체 내의 밸브 스템(1362)에 연결된 밸브 요소(도시한 것과 동일하지 않음)는 고체 소스 시약 증기의 분배 혹은 억제를 위해 각각 완전히 개방된 위치와 완전히 폐쇄된 위치 사이에서 밸브 핸드 휠(1364)의 회전에 의해 병진 이동될 수 있다.
따라서 밸브 조립체는 예컨대, 하류 반도체 제조용 툴과 결합될 수 있는 유동 회로의 일부로서 배출 라인(1370)에 결합하기 위해 부속품(1368)이 배치되어 있는 포트에서 연장이 종결되는 블록 내의 배출 통로와 연통할 수 있다.
고체 소스 시약 용기(1302)를 가열하기 위해, 이러한 용기의 측벽(1304)은 도시된 바와 같이 그 내부에 각각의 히터(1326, 1330)의 삽입을 수용하기 위해 포켓(1320, 1322)으로 형성되어 있다. 히터(1326)는 벽 개구에 배치되고 그 히터와 근접한 용기 벽의 저항 가열을 실행하기 위해 적절한 전력 공급 장치를 구비한 전선(1328)에 연결되어 있는 전기 저항 히터이다. 이와 유사한 방식으로, 벽 개구(1322)는 와이어(1328)에 에너지를 공급하는 전력 공급 장치와 동일할 수 있는 전기 동력 공급 장치에 전기 와이어(1332)에 의해 결합된 히터(1330)를 포함한다.
도시된 실시예에 있어서, 블록(134)은 또한 블록의 전기 저항식 가열을 실행하기 위해 각각 적절한 전력 공급 장치에 전기 와이어(1352, 1358)에 의해 결합되어 있는 히터(1350)가 내부에 삽입을 수용하도록 블록의 각 절반 섹션에 구멍이 뚫 린 통로에 의해 가열된다. 그 다음 이러한 블록의 가열은 밸브 조립체(1360)와 관련한 유동 통로를 가열하며, 이것에 의해 이러한 통로 내의 소스 시약 증기의 응축아 방지된다.
비록 용기 측벽에는 2개의 히터가 구비되어 있고 블록(1340)에도 2개의 히터가 구비되어 있는 것으로 도시되어 있지만, 본 발명의 특정 실시예에서는 소스 시약의 증발, 증기압 및 휘발 특성과, 고체 소스 시약 운반 패키지가 사용되는 주위 온도 조건에 따라 더 많거나 작은 수의 히터를 사용할 수 있다는 것에 주목해야 한다.
도 22는 안전 및 개봉 확인 특징을 부여하도록 주름진 외피막(1382) 내에 감싸여 있는 고체 소스 시약 운반 패키지(1380)를 도시한 입면도이다.
고체 소스 시약 증기의 운반에 있어서 하나의 재발하는 문제점은 고체 소스 시약 물질의 소모가 가까워질 때와 새로운 고체 소스 시약 운반 패키지가 프로세스 시스템으로 주입될 필요가 있을 때를 결정하기 어렵다는 데 있다. 이에 따라 본 발명은 추가적인 태양에서 증발기 컨테이너에 잔류하는 고체 소스 시약의 레벨을 쉽게 결정할 수 있는 실시예를 제공한다.
하나의 실시예에 있어서, 소스 용기 내의 소스 시약 물질의 레벨은 압력 측정에 의해 모니터링 된다. 이러한 방법에서, 고체 소스 물질은 가열된 진공 게이지, 압력계 및 압력을 모니터링하고 공급 용기 내의 고체 소스 물질의 재고를 표시하는 출력을 발생하기 위한 능력을 제공하는 변환기를 사용하여 그것의 증기압을 증가시키기 위해 가열된다.
게이지는 정상 상태의 시스템의 현 공정 온도에서 증기압을 모니터하기 위해 증발기 패키지의 출구에 설치될 수 있다. 일단 물질이 증발기 용기로부터 분배되면, 압력이 제공된 압력 모니터링 부품으로 측정 가능한 것이라고 가정할 경우 이용 가능한 압력은 정상 상태의 값으로 감소할 것이다. 따라서 분배된 증기의 상이한 유량에 대해, 상이한 정상 상태의 압력 값은 특정 온도에서 얻어질 수 있다. 증발기 온도가 증가함에 따라 정상 상태의 압력 값은 증가할 것이다. 사용자는 통상적으로 불변 혹은 일정한 온도 레벨에서 증발기를 사용한다. 따라서 소스 시약 증기의 주어진 유량에서 정상 상태의 압력은 쉽게 결정될 수 있다.
물질이 증발기 용기로부터 고갈됨에 따라, 가열된 증발기 용기와 접촉 상태로 있는 물질의 표면적(예컨대, 고체 소스 물질을 가열된 벽 혹은 용기 내의 가열된 구조체에 접촉시킴으로써)은 감소할 것이다. 정상 상태의 압력은 결과적으로 물질의 레벨이 소모에 접근하기 시작함에 따라 주어진 유량과 온도에서 감소하게 시작할 것이다. 이러한 정상 상태의 압력의 감소는 증발기 용기 내의 잔류 물질의 양과 서로 관련이 있을 수 있다.
예로서, 고체 소스 시약은 B18H22일 수 있다. 이러한 물질은 증발하기 때문에, 소스 시약 증기의 일정한 유량을 유지하기 위해 증발기 용기 온도를 점진적으로 증가시킬 필요가 있다. 이것은 물질이 증발함에 따라 감소하는 소스 물질에 기인한다. 이것은 전체 표면적에서의 감소 혹은 고체 소스 시약 물질의 이성질화 혹은 분해 등과 같은 어떤 다양한 원인들에 의해 발생할 수 있다. 증발기 용기 내 에 잔류하는 물질의 양, 용기 온도 및 증발기 용기 상의 유동 제어 밸브의 하류에 있는 예정된 유량 혹은 예정된 압력을 유지하는 데 요구되는 제어 밸브의 개방률 특성 사이의 기능적인 관계를 시험적으로 결정하는 것이 가능하다.
또 다른 실시예에 있어서, 증발기 용기 내에 잔류하는 소스 시약 물질의 양은 증발기 용기를 특정한 시간에 걸쳐 예정된 양의 열에너지로 충전시킴으로써 결정된다. 상기 시스템이 그것의 평형 증기압에 도달하게 되는 속도는 그 다음 증발기 용기 내에 잔류하는 물질의 양과 상호 관련이 있을 수 있다. 따라서 평형 압력에 도달한 비율을 증발기 용기 내에 잔류하는 물질의 양과 관련시키기 위해 실험적인 관계가 확립될 수 있다.
증발기 용기와 상측 플랜지 폐쇄 부재는 소스 시약 물질을 가열시켜 외부 사용 장소로 분배하기에 충분한 시약 증기를 발생시키도록 하는 임의의 적절한 물질로 형성될 수 있다.
도 21에 도시된 일반형의 고체 소스 시약 운반 패키지의 일실시예에 있어서, 용기는 소스 시약 물질의 가열을 위해 높은 열전도성을 제공도록 알루미늄으로 형성되며, 밸브 조립체 내의 유동 제어 밸브와 상측 플랜지 폐쇄 부재는 또한 스테인레스강으로 형성된다. 이러한 시스템에 있어서, 용기는 단열될 수 있고 단지 밸브만 가열될 수 있다. 밸브만을 가열하는 것은 밸브 온도가 용기 내의 고체 소스 시약 물질의 온도보다 항시 더 높게 되는 것을 보장해준다. 소스 시약 용기를 이러한 알루미늄으로 제작함으로써 용기 내용물의 양호한 열적 균질성을 보장해준다. 스테인레스강 상측 플랜지 폐쇄 부재는 열전달에 대한 약간의 저항을 제공하고 소 스 시약 용기가 밸브 조립체보다 더 낮은 온도가 되도록 보장하기 때문에 고체는 용기 내에서 응축되지 않는다. 가열은 도 21에 도시된 형태의 블록에 의해 밸브에서 입력될 수 있어 열은 스테인레스강 플랜지 폐쇄 부재를 통해 소스 시약 용기의 잔여부로 전도된다.
또 다른 태양에 있어서, 본 발명은 B14 및 B18H22 등의 고체 소스 시약과 약간의 인듐 및 안티몬 소스의 고체 소스 시약의 매운 낮은 증기압(실온에서의 증기압)과 관련한 문제점을 안고 있다. 이러한 매우 낮은 증기압의 결과로, 이들 물질은 이들 증기의 운반을 가능케 하도록 가열되어야 하지만 필요한 증기량을 발생하기 위한 충분한 열을 제공하는 것이 곤란하게 된다.
이러한 예에서, 본 발명은 소스 시약 고체가 용해하게 될 용매의 사용하는 것을 고려할 수 있으며, 이러한 사용은 용매가 증발할 때 낮은 증기압 고체의 상승된 증발률을 제공한다. 상기 용매는 또한 낮은 증기압 고체를 용매와 낮은 증기압 고체가 순간적으로 증발하게 되는 사용 장소로 운반하기 위해 사용될 수 있다.
낮은 증기압 고체를 분해하기 위해 용매를 사용하는 데 있어서, 무기(고체와 반응하지 않는) 용매뿐만 아니라 유기 용매를 포함한 임의의 적절한 용매가 고체의 증발률을 증가시키기 위해 사용될 수 있다. 그 다음 고체의 증기는 용매로부터 추출되어 사용 장소로 유동할 수 있다. 그 대안으로, 용해된 고체를 포함하는 용매는 용매/소스 시약 혼합물이 갑자기 흘러나오게 되는 증발기로 유동될 수 있고, 그 결과로 생긴 증기는 예컨대, 소스 시약 증기에 의해 제거 가능한 침전물을 담고 있 는 프로세스 시스템 챔버의 세척을 위해 추가의 공정에서 바람직하게 사용된다.
또 다른 관점에서, 본 발명은 전술한 물질이 소스 시약 공급 용기에서 소모에 접근하고 있을 때를 결정하기 위해 고체 소스 시약을 모니터링하는 기술을 제공한다. 이러한 관점에서, 열 플럭스 센서는 소스 시약 용기 내에 잔류하는 잔류 고체 화학물을 결정하기 위해 사용된다. 이 화학물은 사용 중에 가열되어 증발하기 때문에 열 플럭스의 측정은 소스 시약 공급 용기 내에 잔류하는 소스 시약의 레벨을 모니터하기 위해 이용할 수 있다.
적절한 열 플럭스 센서는 쉽게 상업적으로 입수 가능하다. 일실시예에 있어서, 열 플럭스 센서는 센서 요소를 통해 열 플럭스에 비례하는 전압을 발생하는 박막 열전기 변환기이며, 전압은 실제 열 플럭스와 직접 상호 관계가 있다. 이러한 타입의 열 플럭스 센서는 Omega Engineering, Inc.(코네티컷주 스템포드 소재)에서 모델명 HFS-3과 모델명 HFS-4 박막 열 플럭스 센서로 시판하고 있는 되는 것일 수 있다.
소스 시약 공급 용기 상에 열 플럭스를 설치함으로써, 열 플럭스는 언제든지 모니터될 수 있다. 정상 상태 작동 동안, 열 플럭스는 전형적으로 비교적 작은 값을 가질 것이며, 특히 공급 용기가 소망하는 바에 따라 단열될 경우 용기로부터의 열 손실이 최소로 된다. 그러나 화학물이 고갈됨에 따라, 시간의 함수로서 공급 용기에 가해지는 필요한 열 부하는 분배를 위해 증기를 발생하도록 적절한 레벨로 유지하기 위해 물질이 덜 존재하기 때문에 감소하게 될 것이다. 보다 중요하게는, 열 손실은 컨테이너 내의 고체 화학물의 표면에서 발생할 것이기 때문에 고체 화학 물이 증발함에 따라 열은 고체의 표면에서 손실되어 이러한 영역을 약간 더 차게 만든다. 잔존하는 환경이 더 고온으로 될 것이기 때문에, 고체 표면으로 유도열 흐름이 존재하고 이러한 플럭스는 열 플럭스 센서를 사용하여 측정 및 모니터 된다.
하나의 특정의 구조에 있어서, 이러한 여러 가징의 열 플럭스 센서는 공급 용기의 수직축을 따라 배치되며, 이것에 의해 용기 내의 화학물 레벨은 시간의 경과에 따라 면밀하게 모니터될 수 있다. 화학물의 레벨이 고갈함에 따라, 열 플럭스 센서는 화학물의 레벨에서 열 플럭스의 변화를 검출할 것이다. 분배 작동의 대부분 동안 열 플럭스 센서는 정상 상태에서 기능하여 소스 컨테이너로부터 주변 환경으로의 대류에 의해 열손실을 측정할 것이다.
또 다른 관점에서의 본 발명은 실온에 근접하거나 혹은 그 보다 낮은 온도에서 시약 증기를 운반하기 위해 실제 냉각을 활용하는 고체 소스 시약 운반 패키지를 제공한다. 이러한 접근법은 예컨대, 크세논 디플루오르화물을 임플란트 소스 챔버로 운반하기 위해 이용될 수 있다. 25℃에서, XeF2는 적절한 크기의 운반 라인, 예컨대 내경이 1인치 미만의 라인을 사용하여 분당 수 표준 세제곱센티미터(scam) 이내의 유량을 가능케 하도록 충분한 증기압을 갖는다. 그러나 XeF2로 충전된 공급 용기는 단지 수 분과 같이 상대적으로 짧은 시간 주기 동안 충분한 유동을 운반할 수 있다. 상기 물질이 운반될 때 고체 소스 시약의 표면은 전술한 바와 같이 물질을 증발로 인해 냉각될 수 있다. 이러한 문제점을 극복하기 위해, 실제 적으로 냉각된 공급 용기는 공정의 요구 조건에 따라 20℃ 내지 30℃의 온도를 유지하기 위해 사용될 수 있다. 운반 라인의 열 추적을 위한 필요성을 없애기 위해 용기는 운반 라인의 온도보다 약간 더 낮은 온도에서 유지될 수 있다. 이러한 방식으로, 소스 시약 물질은 운반 라인 내에서 물질이 침전되지 않고 충분하게 높은 유량으로 운반될 수 있다.
실질적인 냉각을 사용하여 운반될 수 있는 다양한 화학물이 존재한다. 본질적으로, 이러한 접근법은 약 10℃ 내지 약 50℃ 사이의 온도에서 수용 가능한 흐름을 유지하기 위해 충분한 증기압을 갖는 임의의 화학물에 응용할 수 있다.
보텍스 쿨러(vortex cooler)는 고온에서 공급 용기를 신속하게 냉각시키기 위해 사용될 수 있다. 예컨대, 옥타테카보란의 운반을 위해 사용되는 공급 용기는 93℃ 내지 115℃ 사이에 작동할 것이다. 사용 후 공급 용기를 제거하기 위해, 공급 용기는 오퍼레이터가 취급할 수 있도록 충분히 냉각되어야 하며, 보텍스 쿨러는 용기의 온도를 취급할 수 있는 상태로 줄이기 위해 사용될 수 있다.
도 23은 밸브 표면 온도(곡선 A), 하측 용기의 표면 온도(곡선 B), 주변 온도(곡선 C), 열 플럭스 센서에 의해 모니터된 온도(곡선 D), 상측 공급 용기의 표면 온도(곡선 E), 용기 본체와 플랜지 폐쇄 부재 사이에 배치된 알루미늄 어댑터의 표면 온도(곡선 F) 및 공급 용기 밸브와 공급 용기 본체 사이의 온도차(곡선 G)를 포함하는, 소스 시약 공급 패키지의 다양한 위치에서 경과한 시간(분)의 함수로 나타낸 온도(℃)와 열 플럭스 센서의 입력값(볼트 DC)의 그래프이다. 도 23에 도시된 데이터를 생성하기 위해 사용한 보텍스 쿨러는 간단한 개념 검증 시험 장치에서 어떠한 화학물도 담고 있지 않는 공급 용기의 실제 냉각을 위해 배치된 Exair 모델 3204 Vortex Cooler로 하였다.
도 23에 도시된 데이터는 용기 본체 상에서 1개의 루프 제어를 갖는 공급 용기를 사용하여 획득하였다. 밸브와 용기 본체 섹션으로 병렬 회로 장치에 상이한 와트수를 인가하였다. 공급 용기의 베이스에서 나온 열을 일정한 속도로 제거하기 위해 Exair 모델 3204 Vortex Cooler를 조작하였다. 이러한 시험에서, 50psig의 압력을 냉각기 입구에 인가하였다. 이러한 압력 레벨은 보텍스 쿨러 장치의 제조업자에 의해 공급된 기준 물질로 평가했을 때, 약 0℃에서 약 2 표준 세제곱피트(scfm)의 질소(약 40와트 냉각과 일치)와 일치하였다.
또 다른 관점에서의 본 발명은 프로세싱 운전 중에 고체 소스 시약이 소모되는 상황 혹은 공급 용기의 소모 예측이 부정확하게 결정되고 상황 및 공급 용기가 영구적으로 서비스 중단되고 새로운 시약 공급 용기로 대체되어 고체 소스 시약의 낭비를 초래하게 되는 상황을 회피하는 공급 용기 내에서 고체 소스 시약의 양을 모니터링하기 위한 추가의 장치를 제공한다.
측정한 중량에서 컨테이너의 용기 중량을 뺌으로써 그 내부에 담긴 고체 소스 시약의 양을 결정하기 위해 소스 용기의 간단한 계량은, 일단 설치되면 소스 용기가 그것을 계량하기 어려운 가열된 밀폐체 내에서 통상적으로 잔류하기 때문에 이러한 문제점의 해결책은 아니다.
본 발명은 센서 헤드를 고체 소스 시약 물질과 접촉 상태로 용기의 폐쇄된 볼륨 내에 배치하여 용기 내에 직접 장착되는 소형 중간 적외선 센서를 사용함으로 써 이러한 문제점을 극복한다. 이 센서는 예컨대, 적외선 스펙트럼의 2㎛ 내지 14㎛ 파장 범위에서 작동할 수 있는 임의의 적절한 타입일 수 있다. 이러한 목적에 알맞은 양호한 센서는 적외선 분광 분석(attenuated total reflectance(ATR)) 샘플링을 이용하는 인라인 중간 범위 적외선(MIR) 센서인 Wilks Enterpise, Inc.(코네티컷주 사우스 노르웍 소재)에서 상업적으로 입수할 수 있는 센서를 포함한다.
ATR 샘플링에 있어서, 복사선 빔은 빔 내의 에너지를 각각의 반사로 표면을 약간 넘어 연장하도록 하여 적외선 전달 광학 요소 아래로 내부적으로 반사되기 때문에 샘플이 반사면과 접촉 상태로 될 때 적외선 에너지는 샘플이 흡수하는 파장에서 흡수된다.
보다 구체적으로 말하면, 연속한 소스로부터의 적외선 복사선은 소스 물질로 피복된 적외선 흡착 표면 상에서 튀어 오른다. 고체 소스 물질은 광학 표면 상에 놓이거나 이러한 표면 상에서 박막으로 응축된다. 광의 일부는 이 박막에 의해 흡수된다. 고체 소스 물질의 두께가 줄어들 때(고체가 분배를 위한 증기를 생성하도록 증발할 때) 적외선 신호는 증가한다. 더 이상의 물질이 남지 않게 될 때 종료점에 도달하며, 이러한 종료점은 시간 종속 곡선으로부터 용이하게 결정될 수 있다. 종료점에서, 증발기 용기를 교체하고 완전 충전된 고체 소스 시약 물질을 담고 있는 새로운 용기를 도입할 시간이라는 것을 표시로서의 신호가 사용자에게 전송될 수 있다.
중간 범위의 적외선 센서를 이용하는 또 다른 실시예에서, 소스 시약 물질을 흡수하는 IR 영역으로의 검출을 제한하기 위해 IR 필터가 사용된다.
또 다른 실시예에 따르면, 고체 물질과 원하지 않는 분해 부산물을 별도로 모니터하여 사용자로 하여금 구성물의 변경을 경고하도록 적외선 영역의 하나 이상의 대역을 모니터한다.
또 다른 실시예에 있어서, 적외선 흡수 표면 상의 물질은 용기에 물리적인 진동 혹은 기계적인 충격이 가해지는 것을 포함하여 시약 공급 용기의 운송 및/또는 설치 동안 흡착 표면으로부터의 맞물림 해제를 방지하기 위해 망사로 에워 싸여있다.
또 다른 실시예에 따르면, 중간 범위의 적외선 센서는 이온 액체 저장 매체 내에 용해된 물질의 양을 측정하기 위해 사용되며, 여기서 소스 시약은 이러한 매체 내에 용해된 상태로 있으며, 소스 시약은 분배 조건 하에서 이온 액체 저장 매체로부터 분리되고 소스 시약 공급 용기로부터 흘러나온다.
또 다른 실시예에 따른 본 발명은 고체 XeF2 소스 물질을 사용하여 이온 임플란트 시스템으로 크세논 디플루오르화물의 운반을 제공한다. 본 발명의 이러한 실시예는 작동 중에 오염되고 효과적인 성능을 유지하기 위해 세척을 필요로 하는 이온 임플란터에 관한 것이다. 고체 XeF2 소스 물질과 관련한 특정의 문제점은 이러한 용기가 제곱인치 당 1500 파운드(psi) 이상의 우발적인 과압에 견딜 수 있는 요구 조건을 포함한 이온 임플란트 시스템의 가스 박스에 맞는 용기 규격을 충족시키면서 세척을 달성하기 위해 충분한 화학물을 운반하는 데 있다.
본 발명은 금속 폼 인서트(들)가 억지 끼워 맞춤 형태로 바람직하게 제공되 어 있는 고체 소스 물질을 위한 캐리어 구조로서 알루미늄 폼 인서트(들)가 그 내부에 있는 알루미늄으로 제작된 소스 시약 용기를 제공함으로써 이러한 문제점을 해결한다. 알루미늄 폼은 높은 효율의 열전달과 고체 소스 물질의 후속한 승화를 얻기 위해 열적 에너지를 용기의 내부 볼륨의 내측 영역으로 전달할 수 있는 높은 표면적의 지지 구조체를 생성한다.
알루미늄 대신에, 고체 시약 공급 용기와 폼 인서트(들)는 알루미늄이 아닌 물질, 예컨대 스테인레스강, 니켈, 황동 등과 같은 적절한 전도성과 열 커패시티 특징을 갖는 금속으로 제작될 수 있다. 폼 인서트(들) 대신에, 높은 표면적의 전도성 지지 구조체는 내부에 금속 섬유, 금속 구, 일련의 트레이(예컨대, 적층된 어레이로 구성)의 패킹 혹은 제품 혹은 매체의 다른 패킹에 의해 소스 영역 용기의 내부 볼륨 내에 제공될 수 있다. 패킹은 바람직하게 높은 표면적, 높은 공극 체적, 양호한 열 특성, 및 양호한 구조적 강도를 갖는다. 패킹 매체로 구를 사용할 때, 이 구는 걸맞게 중실, 외형을 갖거나, 케이지 모양으로 될 수 있고, 입방체, 실린더 등과 같은 구가 아닌 다른 기하학적 형상을 사용할 수 있으며, 특정의 실시예에서 이러한 패킹 매체 제품은 금속 폼으로 형성될 수 있다.
내부 볼륨 내의 복수 개의 트레이를 포함하는 증발기와 비교함으로써, 금속 폼, 섬유 등의 사용은 용량과 및 충전의 용이성에 있어서 장점을 제공한다. 평탄한 트레이와 플레이트 구조체에 관하여, 3차원 다공성 네트워크는 현저하게 더 큰 고체 소스 시약 저장 능력을 제공한다. 더욱이, 트레이와 플레이트 구조체는 동시에 그리고 천천히 지루한 공정으로 하나의 레벨로 고체 소스 시약으로 로딩되어야 하는 반면에, 과립 혹은 미립자 형태의 고체 소스 시약 물질은 3차원 폼 네트워크로 주입되고 간단하게 정위치로 진동될 수 있으며, 이것에 의해 미세한 분할된 고체는 다공성 매트릭스를 통해 분산된다.
이온 임플란트의 가스 박스 내에 고체 소스 시야 공급 용기의 배치에서 높은 레벨의 안전으로 우발적인 과압 특성을 수용하기 위해 일실시예에 따른 고체 소스 시약 공급 용기는 알루미늄에 익스플로젼 접합(explosion bonding)된 스테인레스강 융합 플랜지 부재로 제조된다. 이러한 구조는 알루미늄-강철 변이를 제공하여, 소정의 조립체 내에서 강철의 강도 장점이 그 구조체의 상측 부분에서 구현되도록 해주고 그리고 알루미늄의 열전도 장점이 구조체의 다른 곳에서 사용되도록 해준다.
또 다른 실시예에서, 익스플로젼 접합은 강철 상측 부분을 갖는 구조체를 만들도록 사용되며, 상측 부분에서 스크류-인 상측 폐쇄 부재에 대해 스크류-온으로 나사가 형성될 수 있고 이것에 의해 강철의 구조적 강도가 고체 소스 시약 공급 용기의 상측 부분에 사용되도록 해주고 알루미늄의 높은 전도성이 고체 소스 시약 공급 용기의 하측 부분에 사용되도록 해준다. 익스플로젼 접합은 상업적으로 인수할 수 있는 공정이며, 본 발명의 광범위한 실시에 속하는 고체 소스 시약 공급 용기를 제작하는 데 유리하게 사용될 수 있다.
많은 예에서, 고체 소스 시약 용기와 다공성 폼 인서트(들) 혹은 그 내부에 담긴 다른 다공성 매체는 다른 비유체를 기초한 화학물을 수용하기에 적절할 수 있는 것과 같이 용기와 그 내측 구조의 화학적 저항을 더 향상시키기 위해 표면 처리 혹은 피복될 수 있다. 예컨대, 용기와 다공성 매체에는 폴리머 코팅이 마련될 수 있거나 혹은 알루미늄과 같은 물질로 형성될 경우 양극 산화 혹은 패시베이션 처리에 노출될 수 있다.
지지 매체로서 고체 폼을 사용하는 것은 광범위한 고체 소스 물질의 저장과 운반을 용이하게 해준다. 이러한 목적을 위한 고체 소스 물질은 주어진 용례에서 특정의 다공성 매체와 고체 소스 물질에 적합한 바와 같이 미세하게 분할된 형태로 제공되어 진동, 교반, 용액 석출, 혹은 다른 혼합 모드에 의해 폼 물질 내에서 분산될 수 있다.
따라서 본 발명은 양호한 실시예에서 1500psi 이상의 압력에 견디도록 제작되는 고체 플루오르 화학물용 고체 소스 시약 운반 패키지를 고려할 수 있다. 이러한 패키지의 용기는 임의의 적절한 크기, 예컨대 직경이 3-8 인치이고 높이가 10-25 인치로 될 수 있다. 일실시예에 있어서, 용기의 직경은 4인치이고 높이는 13인치이고 60cm3을 초과하는 내부 볼륨 용량을 갖는다. 이러한 실시예에서 용기는 억지 끼워 맞춤된 알루미늄 폼 인서트와 함께 알루미늄으로 형성되고, 밸브와 상측 폐쇄 플랜지 부재는 스테인레스강으로 형성된다. 이러한 패키지에서 밸브는 >2.65의 밸브 컨덕턴스(Cv)를 갖는 수동 밸브이며, 이것은 1시간의 주기 동안 분당 15 표준 세제곱센티미터의 최대 유량을 제공한다.
이러한 고체 소스 시약 운반 패키지는 용기의 내부 볼륨에 다공성 매체를 제공함으로써 증발식 냉각과 표면적 응집을 겪게 되도록 고체 소스 시약의 자화율을 실질적으로 감소시킨다. 알루미늄 폼은 양호한 삽입 매체 물질이며, 1인치 당 5개 의 유공(ppi)의 폼 물질이 매우 유리하다.
하나의 실시예에 따른 패키지는 도 21에 도시된 바와 같이 볼트 파스너에 의해 용기의 측벽에 체결되어 있는 상측 플랜지 폐쇄 부재를 포함한다. 그 대안으로, 상측 플랜지 폐쇄 부재는 상측 부분에서는 상측 플랜지 폐쇄 부재에 그리고 하측 부분에서는 용기의 플로어에 고착되어 있는 측벽의 전장을 종방향으로 통과하는 볼트에 의해 측벽에 볼트식 고정될 수 있다. 이러한 실시예에서, 플로어는 별도의 부재로서 제조될 수 있고, 상측 밀폐 부재와 하측 플로어는 각각 그것과 측벽의 인접한 단부 표면 사이에서 개스킷, O형 링 혹은 다른 밀봉 요소를 구비할 수 있다.
또 다른 실시예에서 상측 플랜지 폐쇄 부재는 용기의 외측 나사 형성 표면, 선택적으로 누설 방지 밀봉부를 형성하도록 사용되는 O형 링 혹은 개스킷 밀봉과 나사식 맞물림을 위해 그것의 내면에 나사가 형성된 캡으로 형성될 수 있다. 또 다른 변형례로서, 상측 폐쇄 부재는 선택적으로 O형 링 혹은 개스킷 밀봉 요소와 함께 스크류-인 캡과 불 플러그 구조체를 포함할 수 있다.
또 다른 실시예에서 상측 폐쇄 부재는 알루미늄 용기에 익스플로젼 접합된 스테인레스강 플랜지 부재이다.
도 24는 밀폐된 내부 볼륨(1404)을 형성하는 용기(1402)를 포함하는 고체 소스 시약 운반 패키지(1400)를 부분 절단하여 도시한 입면도이다. 내부 볼륨(1404) 내에는 수직으로 적층된 다공성 금속 퍽(1406, 1408, 1410, 1412, 1414)의 어레이가 배치되어 있으며, 이들 퍽들은 내부 볼륨(1404) 속으로 억지 끼워 맞춤 된다. 상측 퍽(1412, 1414)은 그 내부에 통로(1420)를 형성하는 중앙 보어(1416)를 구비 한다.
용기(1402)는 소스 시약 증기의 발생을 행하기 위해 용기와 그 내부의 다공성 금속 인서트로 열전달하기 좋은 열전도성을 제공하도록 선택된 알루미늄 등의 금속으로 형성될 수 있다. 예컨대, 스테인레스강으로 형성될 수 있는 하측 플랜지(1422)가 용기(1402)에 익스플로젼 접합된다. 이러한 하측 플랜지(1422)에는 너트(1432, 1436, 1438, 1440)가 결합될 볼트(도 24에는 도시 생략)에 의해 상측 플랜지(1424)가 볼트식 체결된다. 상측 플랜지(1424)는 그것에 결합된 부속품(1426)과, 고체 소스 시약 공급 용기에 증기 분배 라인의 커플링을 수용하기 위해 그 부속품에 결합된 플랜지(1430)를 구비한다.
이러한 용기 내의 다공성 금속 인서트는 금속 인서트의 구멍 내에서 그 내부에 분산된 미세하게 분할된 고체 소스 시약을 구비한다. 금속 폼 제품의 작은 구멍에 고체 소스 시약을 합체시킴으로써, 폼 제품으로 전달된 열은 대단히 효과적인 방법으로 고체 소스 시약으로부터 증기를 발생시킬 것이다.
따라서 본 발명은 크세논 디플루오르화물의 운반에 특히 유용한 효과적인 고체 소스 시약 운반 패키지를 제공한다. 크세논 디플루오르화물은 분자량이 169.29이고 대략 135℃의 융점을 흰색의 무색 결정체 분말이다. 크세논 디플루오르화물의 승화에 수반되는 엔탈피 변화는 몰 당 약 13.315 kcal이거나 달리 말해서 XeF2 증기의 10sccm 유동에 대해 분당 약 6cal이다.
고체 소스 시약으로서 크세논 디플루오르화물의 패킹에 사용하기에 양호한 금속 폼은 용기의 내경과 대략 동일한 내경을 지닌 퍽 혹은 디스크의 형태로 인치당 5개의 구멍, 세제곱센티미터당 0.189g의 밀도, 약 4와트/mK의 열 전도성, 약 3.3cm2/cm3의 표면적을 갖는 알루미늄 폼을 포함하며, 이것에 의해 디스크들은 용기의 내부 볼륨에 적층된 디스크 어레이를 형성하기 위해 서로의 상부에서 억지 끼워 맞춤될 수 있다.
하나의 양호한 실시예에 있어서, 크세논 디플루오르화물 고체 소스 시약 운반 패키지는 그 내부에 알루미늄 폼 인서트(들)를 지닌 용기를 포함하며, 그 인서트(들)는 용기의 상측 부분에서 블록 가열하고 용기의 하측 부분에서 실제 냉각하여 표면 냉각과 고체 소스 시약의 응집에 대항하도록 하는 하나 이상의 퍽을 포함한다. 실제 냉각 용량은 용기의 하측 부분에 결합된 보덱스 냉각 유닛에 의해 제공될 수 있다. 이러한 패키지는 이러한 도펀트의 이온 주입으로 초래되는 예컨대 붕소, 비소, 인 등의 침전물을 제거하기 위해 마이크로일렉트로닉 장치 이온 임플란트 프로세스 챔버 등의 챔버를 세척하도록 크세논 디플루오르화물 증기를 분배하기 사용될 수 있다.
소스 시약 운반 패키지로부터 분배된 크세논 디플루오르화물은 예정된 작동 기간이 지난 후 혹은 그렇지 않으면 챔버의 세척을 필요로 하는 정도로 도펀트 종의 침전이 전술한 챔버 내에 축적된 이후 이온 임플란트 프로세스 챔버를 매우 효과적으로 세척하기 위해 예컨대, 아르곤 등의 운반 가스를 이용하여 플라즈마 발생에 노출될 수 있다.
미국 특허 제5,581,528; 제6,089,027; 제6,101,816; 제6,343,476호에 개시된 특허는 본 명세서에서 참조를 위해 합체되어 있다.
본 발명은 낮은 압력 유체의 운반에 유용한 높은 컨덕턴스 값의 제공과 관련이 있다. 본 발명의 밸브는 저압 응용에서 유체 운반에 사용하였던 종래의 통상적인 밸브에 비해 현저하게 증가한 값으로 된 유동 계수를 갖는다.
양호하게는, 본 발명의 밸브는 230psig 이하의 작동 압력과 -28℃ 내지 150℃ 범위의 작동 온도를 수용하도록 구성 및 배치되어 있다.
본 발명의 또 다른 태양은 물질 공급 용기에 부착된 본 발명의 높은 컨덕턴스 밸브를 포함하는 물질 운반 시스템에 관한 것이다. 일실시예에 따르면, 물질 공급 용기는 유체 또는 그 대안으로 가열되거나 그렇지 않으면 분배용 유체를 형성하도록 용기 내에 처리될 고체등과 같이 반도체 제조에 사용하기 위한 물질을 담고 있다. 이러한 장치에 의해 분배될 수 있는 시약의 특정한 예로는 한정하려는 의도는 아니지만 유기 금속 시약, 엣치 시약, 클리닝 시약, 포토레지스트 선구 물질 및 도펀트를 들 수 있다.
본 발명의 또 다른 태양은 이온 주입, 화학 증착, 에칭, 클리닝 등에 응용하기 위해 예컨대, 반도체 제조용 툴과 같은 반도체 제조 설비에서 운반된 물질을 활용하기 위한 장치와 결합된, 본 발명에 따른 물질 운반 시스템을 포함하는 반도체 장치의 제조용 시스템에 관한 것이다.
본 발명의 밸브는 컴팩트하다는 특징이 있는데, 예컨대 밸브 본체의 총 체적(여기서, 총 체적은 밸브 챔버의 공극 체적과 밸브 본체 내의 연결 통로의 공극 체적을 더한 전체 체적)이 4 내지 20 세제곱 인치이다.
밸브 본체의 일실시예에 있어서, 총 체적의 15 내지 35%는 밸브 챔버(즉, 밸브를 개폐하기 위해 밸브 요소가 이동할 수 있는 챔버)가 차지한다. 밸브 본체의 총 체적이 1 내지 10 세제곱 인치 범위 속하는 양호한 실시예에 있어서, 밸브 챔버는 1.5 내지 3.5 세제곱 인치의 체적을 차지한다. 밸브 본체 내의 입구 통로는 그것의 밸브 챔버와의 교차점에서 밸브 본체의 표면에서 개방하는 입구 통로까지 측정하였을 때 0.15 내지 0.45세제곱 인치를 차지할 수 있고, 밸브 본체 내의 출구 통로는 그것의 밸브 챔버와의 교차점에서 밸브 본체의 표면에서 개방하는 출구 통로까지 측정하였을 때 0.05 내지 0.45세제곱 인치를 차지할 수 있다.
이러한 본 발명의 컴팩트 밸브에서, 하나의 양호한 실시예는 0.75 내지 1.25, 바람직하게는 0.80 내지 1.15, 더 바람직하게는 0.90 내지 1.10, 가장 바람직하게는 0.95 내지 1.05인 출구 통로의 직경 대 입구 통로의 직경 비율을 제공한다.
또 다른 태양에 따르면, 양호한 실시예에 있어서의 출구 통로의 길이 대 입구 통로의 길이의 비율은 0.20 내지 1.5, 보다 양호하게는 0.3 내지 1.2, 가장 양호하게는 0.35 내지 1.0 범위이다.
따라서 본 발명의 밸브는 작은 체적의 밸브(본 명세서에서는 밸브 본체의 총 체적이 20 세제곱 인치 미만인 밸브를 지칭)이며, 그것의 내부에 상대적으로 큰 내부 개방 체적을 지닌다. 예컨대, 밸브의 개방 체적(즉, 입구 통로, 출구 통로 및 밸브 챔버의 개개의 체적을 합계한 체적)은 밸브 본체의 총 체적의 25 내지 45% 범 위이고, 보다 양호하게는 밸브 본체의 총 체적의 30 내지 40% 범위일 수 있다.
본 발명의 밸브는 높은 컨덕턴스에 특징이 있으며, 양호하게는 2보다 큰 유동 계수, 보다 양호하게는 적어도 2.5의 유동 계수를 갖는다.
특정한 예로서, 약 2.7 내지 2.9의 참조하여 후술하는 타입의 밸브는 약 2.7 내지 2.9 차수의 유동 계수를 갖는다. 이것은 약 0.2 내지 0.35 차수의 유동 계수를 갖는 저압 유체를 분배하기 위해 종래의 실시예에 활용된 밸브와 대조적이다.
일반적인 밸브 작동을 고려하면, 유체 유동 제어 밸브는 밸브 본체 및 가동 밸브 요소를 포함하는 밸브 챔버를 통한 유체의 유동을 제한하기 위해 밸브 하우징 내에서의 밸브 요소의 위치의 변경을 이용하여 유량을 제어함으로써 유체 흐름을 제어할 수 있다. 유체 유동 제어 밸브는 밸브 입구의 유체 압력과 밸브 출구의 유체 압력 사이의 특정한 압력차를 부과함으로써 교대로 혹은 추가적으로 유체 유동을 제어할 수 있기 때문에, 밸브 개구의 주어진 오리피스 크기에 있어서 증가한 압력차는 일반적으로 유량 증가에 영향을 미칠 것이다.
밸브 용량의 지표로 가끔 언급되는 밸브의 유동 계수는 밸브의 유량과 압력차 특징과 관련이 있다. 유동 계수는 상이한 밸브의 상대적인 성능을 평가할 수 있도록 해주며, 이러한 2개의 변수(즉, 유량과 압력 강하) 중 하나를 알 때 유량 혹은 압력 차이를 결정할 수 있도록 해준다.
본 명세서에서 사용된 바와 같이, 밸브 유동 계수(Cv)라는 용어는 밸브를 가로질러 제곱 인치 당 1파운드의 압력 강하를 생기게 하는, 70℉의 온도에서 물에 대해 분당 겔론으로 표현한 유량을 언급한다. 밸브 유동 계수의 단위는 따라서 특정되고, Cv의 값은 이후에 치수 단위 없이 언급될 것이다.
본 발명의 밸브를 참조하기 위해 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 높은 컨덕턴스라는 용어는 Cv의 값이 적어도 2인 것을 의미한다.
본 발명의 밸브는 심지어 매우 낮은 유체 압력, 예컨대 0.005 내지 10torr 차수의 압력으로 떨어지는 높은 유량으로 저압 유체 분배를 가능케 하여 해당 분야의 기술에서 상당한 진보를 가져왔다.
본 발명의 높은 컨덕턴스 밸브는 광범위한 유체 유동의 어떠한 응용에도 활용할 수 있다.
하나의 양호한 실시예에 따르면, 밸브는 소스 화합물을 담고 있는 용기로부 터 이 화합물의 유동을 위한 분배 제어 밸브로서 사용된다. 소스 화학물은 임의의 적절할 형태일 수 있다. 하나의 특정한 실시예에 있어서, 소스 화학물은 반도체 제조 작업에 사용하기 위한 증기의 소스로서 사용된 휘발 가능한 고체 형태이다. 또 다른 특정한 실시예에 있어서, 소스 화학물은 하류 가스 소모 설비에서 사용된 증기의 발생을 위한 액체 소스일 수 있다. 또 다른 특정한 실시예에서, 소스 화학물은 미립자로 된 물리적 흡착제 매체의 베드 상에 흡착 가능하게 유지되어 있는 기체상의 시약이며, 이 매체로부터 가스는 외주 사용 장소로 유동하도록 분배 조건 하에서 탈착된다. 또 다른 특정의 실시예에 있어서, 소스 화학물은 조절기의 설정점이 예컨대, 미국 특허 제6,101,816호에 보다 구체적으로 설명된 바와 같이 유체 의 저압 분배를 가능하게 해주는 용기 내측에 유체 압력 조절기가 설치되어 있는 용기 내에서 고압으로 유지되는 유체이다.
본 발명의 밸브는 내부에 밸브 챔버를 형성하는 밸브 본체를 포함한다. 입구 통로는 밸브 본체로 유체를 유동시키기 위해 밸브 챔버와 연통하며, 출구 통로는 밸브 본체에서 멀어지게 유체를 유동시키기 위해 밸브 챔버와 연통한다. 밸브는 밸브 요소와, 밸브 챔버 내의 완전 개방 위치와 완전 폐쇄 위치 사이에서 상기 밸브 요소의 운동을 허용하는 액추에이터 조립체를 포함한다. 입구 통로와 출구 통로는 밸브 챔버와 함께 밸브 요소가 개방된 위치에 있을 때 밸브 본체를 통한 유체 유동을 허용한다. 밸브의 입구 및 출구 통로는 서로에 대해 실질적으로 수직이다.
밸브 본체 내의 입구 및 출구 유체 유동 통로 각각은 일반적으로 직선형인 것에 바람직한 특징이 있으며, 서로에 대해 직각으로 정렬되어 각각의 입구 및 출구 통로 중심선의 교차점은 90°의 사이각을 형성한다.
밸브 본체 내의 입구 및 출구 통로는 임의의 적절한 형상과 단면 형태를 가질 수 있지만, 각각의 경우에 통로의 종방향 중심선을 교차하는 원형 단면적을 갖는 일반적으로 원통형이 바람직하다. 각각의 통로들은 서로에 대해 직경을 달리한 단면 구조를 가질 수 있지만, 유동 통로의 길이를 따른 어떤 치수적인 변화는 밸브 유동 컨덕턴스를 현저하게 감소시키곤 하는 어떤 유체역학적 효과를 피하기 위해 걸맞게 가늘다.
각각의 입구 및 출구 통로는 밸브 본체 내의 밸브 챔버에서 그 연장이 각각 종결한다. 밸브 챔버는 밸브의 폐쇄 위치에서 입부 통로의 폐쇄를 위해 다이어프램과 스템 조립체를 포함하도록 적절한 크기로 되어 있다. 밸브 스템은 밸브 본체의 외부로 연장하고, 핸들, 핸드 휠, 자동 액추에이터, 혹은 각각의 완전 개방 위치와 완전 폐쇄 위치 사이에서 밸브 챔버 내의 밸브 요소를 움직이기 위한 다른 장치 혹은 부속 조립체 등의 작동 구조체에 고착되어 있다.
하나의 실시예에서, 액추에이터는 밸브를 수동으로 작동시키도록 맞물린 사용자의 손에 의한 파지력 향상을 위해 성형 혹은 직물로 구성된 표면으로 형성될 수 있는 핸들이다.
도면을 참조하면, 도 25는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 높은 컨덕턴스 밸브를 도시한 사시도이다.
높은 컨덕턴스 밸브(1510)는 내부에 배출 통로(1518)를 형성하는 배출 부속품(16)이 배치되어 있는 포트 개구(1514)를 지닌 밸브 본체(1512)를 포함한다.
도시된 실시예의 밸브 본체(1512)는 주요 평탄한 측면(1515)과 부 평탄한 가장자리 면(1517)이 8개의 측면의 블록 구조를 형성하는 블록 모양의 구조를 구비한다. 밸브 본체는 임의의 적절한 형태일 수 있고, 직사각형의 평행 육면체, 원통, 입방체 혹은 다른 적절한 형상으로 될 수 있다.
도 25의 실시예에 있어서, 밸브 스템(도 25에 도시 생략)은 밸브 본체의 상방향 외측으로 연장하며, 밸브를 통한 유체의 유동을 위해 밸브를 폐쇄 혹은 개방시키도록 수동으로 파지할 수 있고 시계 방향 혹은 반시계 방향으로 회전할 수 있는 핸들(1520)에 의해 맞물린다.
밸브 본체(1512)는 유체의 분배 응용에 적절한 임의의 적절한 물질로 형성될 수 있다. 하나의 양호한 실시예에 있어서, 밸브 본체는 316L 스테인레스강 재질의 한 개의 기계 가공된 블록이다. 다른 특정의 실시예에 있어서, 밸브 본체는 알루미늄, 하스텔로이(hastelloy), 니켈, 탄소강, 혹은 밸브에 의해 분배되는 시약과 온도, 압력 및 밸브의 작동에 수반되는 다른 공정 조건에 적절한 다른 임의의 적절한 구성 재질로 형성될 수 있다.
밸브는 밸브에 밸브를 사용하게 될 특정의 최종 용도를 수용하는 작동 압력 범위와 작동 온도 범위를 제공하는 물질로 구성된다. 본 발명의 일실시예에서, 밸브는 세제곱 인치 게이지 당 230 파운드(psig) 이하의 작동 압력 범위와 -28℃ 내지 150℃의 작동 온도 범위를 갖는다.
배출용 부속품(1516)은 유동 회로나 유체 분배 시스템의 다른 부품에 결합하기 위해 알맞은 임의의 적절한 타입일 수 있다. 본 발명의 하나의 실시예에 따른 배출용 부속품은 수형 VCR 부속품이다. 핸들(1520)은 중합체 물질, 금속, 세라믹, 복합 물질 등의 임의의 적절한 구성 물질, 예컨대 폴리에스터 물질로 형성될 수 있다.
도 26은 도 25의 높은 컨덕턴스 밸브(1510)의 평면도로서 핸들(1520), 밸브 본체에 고정된 수형 VCR 부속품(1516)으로 이루어진 전체 구성이 도시되어 있다.
도 27은 도 25 및 도 26의 높은 컨덕턴스 밸브(1510)를 더 상세히 도시한 전방 입면도이다.
도 27에 도시된 바와 같이, 튜브 스터브(1522)는 밸브 본체(1512)의 바닥면 에 고착되어 있다. 튜브 스터브는 도 28을 참조하여 이하에 더욱 상세히 설명된 바와 같이 밸브 내의 입구 통로와 동일 축상에 있다. 튜브 스터브(1522)는 용접, 납땜 혹은 다른 적절한 결합 방법 혹은 기술로 밸브 본체에 고착될 수 있다.
하나의 실시예에서, 튜브 스터브(1522)는 도면에서 도면 부호 1527로 점선으로 도시된 바와 같이 플랜지 요소(1526)에 의해 에워싸여 있다. 이러한 플랜지는 분배 작업 동안 튜브 스터브(1522)의 개구(1524)로 유체를 유동시키도록 밸브를 작동 가능하게 위치 설정하기 위해 정합하는 플랜지 혹은 다른 협동하는 구조체에 밸브의 연결을 위한 커플링 구조를 제공하도록 사용될 수 있다. 플랜지(26)는 용접, 납땜 혹은 다른 방법에 의해 밸브 본체(1512)에 결합될 수 있다.
또 다른 실시예에 있어서, 이러한 플랜지는 단편의 금속 원료로부터 밸브 본체와 함께 기계 가공될 수 있다. 이러한 단일의 기계 가공된 구조에 있어서, 튜브 스터브는 생략되며 입구 통로는 플랜지를 통해 밸브 본체로 기계 가공될 수 있다.
도 28은 도 27의 A-A선을 따라 절취한 도 25 내지 도 27의 밸브(10)를 도시한 입면도이다.
도 28에 도시된 바와 같이, 튜브 스터브(1522)는 밸브 본체(1512)의 바닥면에 고착되며, 밸브 본체의 입구 통로 세그먼트(1552, 1550)와 연통하는 내부 통로(1524)를 형성한다. 전술한 바와 같이, 통로 섹션(1550, 1552) 사이에 약간의 내경 차이가 있는 것이 바람직하며, 유체 유동을 과도하게 방해하지 않는다. 도시된 실시예에서, 통로 세그먼트(1550)는 통로 세그먼트(1552)보다 직경이 약간 더 크며, 후자의 직경은 튜브 스터브(1522)의 입구 통로의 직경과 일치하게 약 0.37이 다. 양호하게는, 통로 세그먼트(1550)의 직경 대 통로 세그먼트(1552)의 직경의 비율은 0.995 내지 1.005의 범위에 속한다.
통로 세그먼트(1550, 1552)에 의해 형성된 입구 통로는 밸브 챔버(1536)와 잠재적으로 연통한다. 밸브 챔버(1536)는 밸브 본체(1512) 내에서 캐비티로서 형성되어 있다. 밸브 챔버(36)는 또한 출구 통로(1534)와 연통하고, 이 출구 통로(1534)의 직경은 특정한 실시예에 있어서 수형 VCR 부속품(1516)의 동일한 직경의 보어와 정합하는 것과 같이 약 0.37인치이다. 양호하게는 출구 통로(1534)의 직경 대 VCR 부속품(1516)의 보어의 직경 비율은 0.995 내지 1.005의 범위에 속한다.
도 28에 도시된 바와 같이, 통로 세그먼트(1550, 1552)에 의해 형성된 입구 통로는 출구 통로(1534)(그리고 출구 통로(1534)와 동일 축상에 있는 VCR 부속품(1516)의 관련한 배출 통로(1518))의 종방향 중심선(X-X)에 수직인 종방향 중심선(Y-Y)을 갖는다. 본 발명에 따르면, 밸브의 입구 통로는 밸브의 출구 통로에 대해 수직이거나 "실질적으로 수직"이다. 상기 용어 "실질적으로 수직"이다는 것은 5도 이내로 수직이다는 것을 의미한다.
밸브 챔버(1536)에 있어서, 밸브는 도 28에 도시된 위치에서 유동을 위해 밸브를 폐쇄하도록 다이어프램/스템 부속 조립체(1542)와 협동 가능하게 정합하는 개스킷(1540)을 포함한다. 다이어프램/스템 부속 조립체(1542)는 보닛(1544)과 액추에이터 베어링 조립체(1546)에 결합되고, 밸브 본체(1512)의 상면으로부터 상방향으로 연장하고 핸들(1520)에 의해 맞물린 밸브 스템(1533)을 포함한다.
핸들(1520)은 이 핸들의 나사 형서 개구(1532) 내의 핸들 세트 스크류(1530)에 의해 밸브 스템(1533)에 고착되어 있다. 세트 스크류는 밸브의 수동 작동을 위한 위치에 핸들을 유지시키고, 이것에 의해 다이어프램/스템 부속 조립체(1542)는 밸브 챔버(1536)의 완전 개방 위치와 완전 폐쇄 위치 사이에서 병진 이동한다.
따라서 도면에 도면 부호 1528로 도시된 위치에서 다이어프램/스템 부속 조립체(1542)와 관련한 개스킷은 튜브 스터브(1522)의 입구 통로 세그먼트(1550, 1552)와 내부 통로(1524) 상에서 밀봉 작동을 유지하는 것을 알 수 있다. 유체를 분배하고자 희망할 때, 핸들(1520)은 입구 통로의 상단부로부터 다이어프램/스템 부속 조립체를 후퇴시키고 밸브 본체의 입구 통로 세그먼트(1552, 1550)와 밸브 챔버(1536)를 통해 출구 통로(1532)로 유체의 흐름을 허용하도록 종축(Y-Y)을 중심으로 적절하게 회전된다. 이 출구 통로(1532)는 유동 회로, 매니폴드 집배 혹은 다른 분배된 유체의 유동 또는 사용 장소로 후속 유동을 위해 수형 VCR 부속품(1516)의 배출 통로(1518)와 연통한다.
분배 작동에 있어서, 유체는 밸브 본체를 통해 수직 상방향으로 유동하기 때문에 유체는 밸브 챔버(1536)로 유입하고, 배출 통로(1518)와 연통하는 출구 통로(1534) 내의 밸브 본체로부터 유출하도록 수평 방향으로 방향을 고친다.
밸브 본체를 통한 유체의 이러한 "직각 방향 유동"은 종래 기술의 유체 분배 밸브를 통한 측방향 유동과 관련하여 예상하지 못할 정도로 우수하다. 전술한 바와 같이, 본 발명의 밸브는 특정 실시예에서 약 2.7 내지 2.9의 밸브 유동 계수(Cv) 를 가질 수 있다. 이것은 낮은 크기, 예컨대 약 0.2 내지 0.3의 유동 계수를 지니면서 통상적인 좌우 흐름이 밸브 본체를 통한 일어나는 대응하는 종래 기술의 밸브의 성능에 비해 현저하게 대조적이다.
상기 밸브(1510)는 그것을 사용하는 최종 응용에 맞는 임의의 적절한 크기일 수 있다. 하나의 실시예에서, 밸브 본체(1512)와 관련한 핸들(1520)의 전체 높이(H + K)는 약 3.2인치이며, 밸브 본체 자체의 높이(H)는 약 2인치이다. 이러한 실시예에서 밸브 본체(1512)는 그것의 주요면에 대해 일반적으로 정사각형 형상을 지니며, 각 측면의 치수는 약 1.875인치(W)이다. 이렇게 도시된 밸브에서, 수형 VCR 부속품(1516)의 유체 배출 통로(1518)는 0.37인치의 내경을 지닐 수 있고, 튜브 스터브(1522)의 직경(D1), 입구 통로 세그먼트(1552)의 직경(D1), 입구 통로 세그먼트(1550)의 직경(D2), 출구 통로(1534)의 직경(D3) 및 유체 배출 통로(1518)의 직경(D4)은 서로에 대해 10% 이내에 있는 것이 바람직하다.
본 발명의 높은 컨덕턴스 밸브는 종래에 사용한 유동 제어 밸브에 비해 크기와 관련하여 우수하다는 점에서 해당 분야에서 상당히 진보한 것이다. 본 발명의 밸브는 낮은 유체 압력 관리 하의 높은 유량에서 유체 분울을 허용하며, 고도의 가스 활용이 요구되는 유체 저장과 분배 용기에 적용하는 데 있어서 특히 유리하다.
도 29는 반도체 제조용 툴로 유체를 운반하기 위한 유동 회로와 유체 연통 상태로 배치된 본 발명의 높은 컨덕턴스 밸브(1510)를 반도체 제조용 툴의 유체 수요에 반응하여 가열하도록 배치된 가열 재킷과 합체시킨 고체 소스 시약 저장 및 분배 용기(1570)를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 29에 도시된 바와 같이, 높은 컨덕턴스 밸브(1510)는 수동 작동식 핸들(1520)과 결합되어 있는 밸브 본체(1512)를 포함하다. 배출용 부속품(16)은 유체의 분배용 출구를 제공하는 것으로 도시되어 있다. 이 밸브(1510)는 적절한 고체 소스 시약, 예컨대 디카보란 혹은 옥타디카보란 등을 담고 있는 고체 소스 시약 저장 및 분배 용기(1570)의 목부에 결합되어 있다. 용기(1570)의 하측 부분은 전선(1574, 1576)에 의해 히터 컨트롤러 유닛(1578)에 연결된 전기 저항식 가열 재킷으로서 예시적으로 도시되어 있는 가열 재킷(1572) 내에 배치되어 있다. 히터 컨트롤러 유닛(1578)은 파워 코드(1580)에 의해 적절한 전원(도시 생략)에 연결되어 있고, 용기(1570) 내의 고체를 휘발시키기 위해 소망하는 레벨의 가열을 제공하는 전기 입력을 와이어(1574, 1576)를 경유하여 가열 재킷(1572)으로 전달하도록 선택적으로 조절 가능하다.
배출용 부속품(1516)은 라인(1582, 1586)과 유동 제어 유닛(1584)에 의해 개략적으로 도시된 유동 회로에 결합되어 있는 것으로 도시되어 있다. 개략적으로 도시된 유동 제어 유닛은 용기(1570)로부터 유체 시약을 분배하는 실시에서 필수적이거나 요구될 수 있는 바와 같이 질량 유동 컨트롤러, 압력 변환기, 서지 탱크, 펌프, 압축기, 유동 제어 밸브 등과 같은 임의의 적절한 유동 계측기, 센서, 기동 유체 구동기 등을 대표한다.
유체 회로의 라인(1586)은 예컨대, 이온 주입 툴, 화학 증착용 툴, 포토레지스트 엣칭 툴, 혹은 용기에서 나온 유체로 공급되는 것이 바람직할 수 있는 다른 유체 활용 유닛을 포함할 수 있는 반도체 제조용 공구(1588)에 연결되어 있다.
도 29에 개략적으로 도시된 실시예는 범용 프로그램 가능한 컴퓨터, 마이크로프로세서, 프로그램 가능한 논리 제어기 등을 포함할 수 있는 중앙 처리 장치(CPU)(1592)를 포함한다. CPU는 신호 전송 라인(1590)을 매개로 유동 제어 유닛(1584)과 결합되고, 신호 전송 라인(1596)을 경유하여 반도체 툴(1588)과 결합되어 있다. 따라서 CPU는 유동 회로 내의 유동 제어 유닛(1584)으로부터 입력을 수용하도록 배치되어 있다. 유동 제어 유닛(1584)은 예컨대, 반도체 툴(1588)로 유체의 유동을 나타내는 신호 전송 라인(1590)의 신호를 CPU로 전송하는 유동 회로 내에 유체 모니터링 장치를 포함할 수 있다. CPU는 그 다음 신호 전송 라인(1594)을 매개로 히터 컨트롤러 유닛(1578)에 결합된다.
반도체 툴(1588)은 또한 반도체 툴에 의해 요구되는 유체의 양과 상호 관련이 있는 툴의 하나 이상의 파라미터의 변화를 나타내는 신호를 신호 전송 라인(1596)을 매개로 CPU(1592)로 출력하도록 배치되어 있다.
따라서 유도 제어 유닛(1584) 혹은 반도체 툴(1588) 중 하나 또는 양자가 유동 회로를 통해 상기 툴로 더 많은 유체를 유동시킬 필요가 있다는 것을 나타내는 신호를 라인(1590 혹은 1596)을 따라 CPU(1592)로 출력할 경우, CPU는 가열 재킷(1572)에 의해, 예컨대 가열 재킷으로 전기 입력을 증가시킴으로써 신호가 용기(1570)의 가열 레벨의 증가를 유발하도록 신호를 신호 전송 라인(1594)을 따라 히터 컨트롤러 유닛(1578)로 대응하게 전송한다.
도 29의 시스템의 밸브(1510)는 높은 컨덕턴스 유동 밸브이며, 용기(70)로부 터 유체의 분배는 반도체 툴이 저압 상태에서 작동하여 상당한 비율에서 유체의 유동을 유지할 필요가 있다하더라도 고도의 효율적인 방식으로 실행될 수 있다.
이상에서 본 발명은 본 발명의 특정의 태양, 특징 및 예시적인 실시예를 참조하여 설명되었지만, 본 발명의 유용성은 이것에만 한정되지 않고 본 명세서의 개시 내용을 기초하여 본 발명의 분야의 당업자들이 암시할 수 있는 것과 같이 수많은 다른 변화, 수정 및 변형례로 확장 및 포함할 수 있다는 것에 주목해야 한다.
Claims (340)
- 시약의 고체 소스로부터 시약의 운반을 위한 시스템으로서,가열과 고체 소스 물질의 휘발에 의해 고체 소스 물질로부터 증기의 발생을 위해 구조체의 적어도 일부에 의해 감금된 상태로 고체 소스 물질을 보유하도록 배치된 구조체와, 상기 휘발을 위해 고체 소스 물질을 가열하도록 배치된 열원과, 상기 시스템으로부터 증기를 배출하도록 배치된 증기 분배 조립체를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 구조체는 상기 고체 소스 물질이 보유되는, 폐쇄된 내부 볼륨을 형성하는 용기를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 고체 소스 물질은 고체 소스 물질을 압축 가능하게 내려누르도록 배치된 플레이트 부재에 의해 폐쇄된 내부 볼륨에 감금된 상태로 보유되는 것인 시약 운반 시스템.
- 제3항에 있어서, 상기 플레이트 부재는 용기의 폐쇄된 내부 볼륨 내에서 병진 이동 가능하고, 고체 소스 물질이 점진적으로 휘발함에 따라 고체 소스 물질을 압축하게 내려누르는 것을 유지하도록 배치되는 것인 시약 운반 시스템.
- 제4항에 있어서, 상기 플레이트 부재는 고체 소스 물질을 압축하게 내려누르는 것을 유지하도록 스프링 편향되는 것인 시약 운반 시스템.
- 제4항에 있어서, 상기 용기의 폐쇄된 내부 볼륨 내에 플레이트 부재가 결합되어 있는 확장 가능한 샤프트를 더 포함하며, 상기 플레이트 부재는 고체 소스 물질을 압축하게 내려누르는 것을 유지하도록 샤프트의 확장으로 병진 이동 가능한 것인 시약 운반 시스템.
- 제6항에 있어서, 상기 확장 가능한 샤프트는 고체 소스 물질의 점진적인 휘발과 함께 샤프트의 확장을 행하기 위해 그 내부에 압축된 유체가 있는 내부 통로를 구비하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제6항에 있어서, 상기 플레이트 부재는 작은 구멍을 그 내부에 구비하며, 확장 가능한 샤프트는 상기 내부의 구멍과 연통하는 내부 급송 및 배출 통로를 구비하고, 상기 시스템은 열교환기로부터 샤프트 내의 내부 급송 통로를 통해 플레이트 부재의 구멍으로 열교환 매체의 유동과, 상기 구멍으로부터 샤프트 내의 내부 배출 통로를 통해 열교환기로 열교환 매체의 유동을 위한 확장 가능한 샤프트의 내부 통로와 유체 연통하는 상태로 결합된 열교환기를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제3항에 있어서, 상기 플레이트 부재는 용기의 증기 수집 영역으로 증기의 통과를 위한 복수 개의 유동 통로를 그 내부에 구비하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 열원은 용기와 가열 가능한 관계로 배치된 하나 이상의 가열 재킷을 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제10항에 있어서, 상기 열원은 용기의 독립된 영역에 가열 가능한 관계로 각각 배치된 복수 개의 가열 재킷을 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 용기는 제거시 용기의 밀폐된 내부 볼륨으로 고체 소스 물질의 주입을 허용하는 제거 가능한 요소를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제12항에 있어서, 상기 제거 가능한 요소는 용기 포트 커버를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제12항에 있어서, 상기 제거 가능한 요소는 용기 커버를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제3항에 있어서, 고체 소스 물질을 압축하게 내려누르는 것을 유지하도록 플레이트 부재 상에 유압을 가하도록 배치된 유체 공급 조립체를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 고체 소스 물질을 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제16항에 있어서, 상기 고체 소스 물질은 디카보란, 옥타디카보란, 인듐 클로라이드로 이루어진 그룹으로부터 선택된 물질을 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제16항에 있어서, 상기 고체 소스 물질은 불연속 형태로 되어 있는 것인 시약 운반 시스템.
- 제16항에 있어서, 상기 고체 소스 물질은 단일 모놀리식 형태로 되어 있는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 열원은 고체 소스 물질에 열에너지를 인가하도록 배치되어 있는 것인 시약 운반 시스템.
- 제20항에 있어서, 상기 열에너지는 마이크로파 열에너지와 적외선 열에너지로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 열원은 고체 소스 물질을 전도 가능하게 가열하도록 배치되어 있는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 열원은 상기 감금 구조체의 가열을 위한 가열 재킷을 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 열원은 열전달 매체를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 고체 소스 물질의 휘발은 상기 시스템 내에 보유된 고체 소스 물질 레벨의 감소에 영향을 미치며, 상기 시스템은 고체 소스 물질의 레벨을 표시하도록 배치된 레벨 검출 조립체를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제25항에 있어서, 상기 레벨 검출 조립체는 전기, 자기 혹은 광학 레벨 센서를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제25항에 있어서, 상기 시스템은 고체 소스 물질을 압축하게 내려누르도록 배치된 플레이트 부재를 포함하며, 상기 레벨 검출 조립체는 고체 소스 물질의 레벨의 상기 표시를 제공하도록 플레이트 부재의 위치를 검출하도록 배치된 하나 이상의 센서를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제27항에 있어서, 상기 레벨 검출 조립체는 광전자 검출 조립체를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제28항에 있어서, 상기 광전자 검출 조립체는 레이저 공급원과, 이 레이저 공급원으로부터 반사된 레이저 신호를 검출하도록 배치된 검출기를 구비하는 센서를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제27항에 있어서, 상기 레벨 검출 조립체는 상기 구조체 내의 일련의 스위치들을 포함하며, 상기 스위치 각각은 고체 소스 물질이 점진적으로 휘발됨에 따라 상기 플레이트 부재에 접촉한 상태로 혹은 인접한 상태로 순차적으로 작동되는 것인 시약 운반 시스템.
- 제25항에 있어서, 상기 구조체는 고체 소스 물질이 보유되어 있는 밀폐된 내부 볼륨을 형성하는 용기를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제31항에 있어서, 상기 레벨 검출 조립체는 압축 가스의 소스, 상기 소스로부터 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨으로 압축 가스를 분사하도록 배치된 가스 인젝터, 압축 가스를 분사하자마자 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨 내의 압력을 검출하고 고체 소스 물질의 상기 레벨을 표시하는 출력을 반응적으로 발생하도록 배치된 압력 센서를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제31항에 있어서, 상기 레벨 검출 조립체는 상기 시스템으로부터 배출된 증기를 모니터하고 시스템 내의 고체 소스 물질의 레벨을 표시하는 출력을 반응적으로 발생하도록 배치된 증기 유동 합계 수단을 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제4항에 있어서, 고체 소스 물질이 점진적으로 휘발함에 따라 고체 소스 물질을 압축하게 내려누르는 것을 유지하도록 플레이트 부재에 힘을 가하기 위해 배치된 힘 인가 조립체를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제34항에 있어서, 상기 힘 인가 조립체는 플레이트 부재에 모멘텀을 가하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 열원과의 열적 결합으로 고체 소스 물질을 병진 이동시키기 위한 가동 조립체를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제36항에 있어서, 상기 열원은 노 혹은 오븐을 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제36항에 있어서, 상기 가동 조립체는 기계적인 급송 유닛을 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 증기 분배 조립체는 유동 회로를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제39항에 있어서, 상기 유동 회로는 질량 유동 컨트롤러, 온도 및 압력 센서, 유동 제어 밸브, 유체 압력 조절기 및 제한된 유동 오리피스 요소로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 유동 회로 부품을 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 증기 분배 조립체는 유체 활용 설비에 결합되어 있는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 증기 분배 조립체는 반도체 제조용 툴에 결합되어 있는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨은 고체 소스 물질을 유지하는 제거 가능한 라이너를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제43항에 있어서, 상기 라이너는 용기의 밀폐된 내부 볼륨으로 삽입 가능한 드롭-인 조립체로서 고체 소스 물질이 패키징되어 있는 것인 시약 운반 시스템.
- 제43항에 있어서, 상기 라이너는 중합체 물질로 형성되는 것인 시약 운반 시스템.
- 제43항에 있어서, 상기 라이너는 금속 혹은 금속화 필름 물질로 형성되는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 액체 볼륨을 형성하도록 고체 소스 물질의 액화를 생성하는 열원의 장치와, 액체 볼륨의 레벨을 감지하고 분배에 이용 가능한 증기를 나타내는 출력을 생성하도록 배치된 플로트 스위치를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 용기 내에 존재하는 증기의 압력을 감지하고 용기 내의 고체 소스 물질의 양을 나타내는 출력을 반응적으로 발생시키도록 배치된 압력 모니터를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 증기가 시스템으로부터 배출할 때 고체 소스 물질의 양을 모니터하고 고체 소스 물질의 양을 나타내는 출력을 반응적으로 발생하도록 배치된 고체 소스 물질 모니터링 조립체를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제49항에 있어서, 상기 출력은 시각 혹은 청각 알람을 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 열원은 복사 가열, 전도 가열, 대류 가열 및 전기 가열로 이루어진 그룹에서 선택된 가열 모드 중 하나 이상을 포함하는 가열 방식에 의해 고체 소스 물질을 가열하도록 구성 및 배치되는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 열원은 마이크로파 가열 및 적외선 가열로 이루어진 그룹에서 선택된 가열 모드 중 하나 이상을 포함하는 가열 방식에 의해 고체 소스 물질을 가열하기 위해 구성 및 배치되는 것인 시약 운반 시스템.
- 제3항에 있어서, 플레이트 부재가 고체 소스 물질을 압축하게 내려누르는 것을 유지하기 위해 플레이트 부재를 병진 이동시키도록 배치된 가동 구동 조립체를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨은 고체 소스 물질 혹은 이 물질의 증기가 침전될 지지 매체를 담고 있는 것인 시약 운반 시스템.
- 제54항에 있어서, 상기 지지 매체는 물리적 흡착 물질로 된 입자를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제54항에 있어서, 상기 지지 매체는 열전도성 물질로 된 입자를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제56항에 있어서, 상기 열전도성 물질의 입자는 금속 비드를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제54항에 있어서, 상기 지지 매체는 구형, 링, 토로이달 형상, 입방체, 나선형, 리본 형상, 그물 형상, 바늘, 원뿔 모양으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 형상을 갖는 것인 시약 운반 시스템.
- 제16항에 있어서, 상기 고체 소스 물질은 승화 가능한 고체를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 용기를 고체 소스 물질 용액을 수용하도록 배치하고, 열원을 고체 소스 물질 용액을 가열하여 용매 매체를 휘발시키도록 배치하고, 증기 분배 조립체를 용기로부터 휘발된 용매 매체를 배출하여 용기 내에 고체 소스 물질을 침전시키도록 배치하고, 열원을 상기 휘발을 위해 고체 소스 물질을 그 위에서 가열시키도록 배치함으로써, 상기 용기는 고체 소스 물질 용액을 형성하기 위해 용매 매체 내의 고체 소스 물질을 용해화하도록 배치된 용해화제 조립체에 결합되는 것 인 시약 운반 시스템.
- 제60항에 있어서, 상기 용기는 고체 소스 물질이 용기 내에서 침전하게 될 지지 매체를 담고 있는 것인 시약 운반 시스템.
- 제60항에 있어서, 휘발된 용매 매체를 응축시키고 응축된 용매 매체를 용매화제 조립체로 재순환시키도록 배치된 회수 유닛을 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제60항에 있어서, 상기 용매화제 조립체는 상기 용매 매체의 소스와 상기 고체 물질의 소스에 수용 가능한 관계로 배치된 혼합 탱크를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 열원은 상기 증기를 발생시키도록 고체 소스 물질의 선택적인 가열을 위해 간섭성 광 복사의 소스를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 용기를 통해 유체를 유동시키도록 배치된 펌프를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제43항에 있어서, 라이너 내의 내용물을 혼합시키기 위해 라이너를 반복적으 로 이동시키도록 배치된 교반 조립체를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제66항에 있어서, 상기 교반 조립체는 라이너 상에 교번하는 흡입 및 압력을 가하도록 배치된 역전 펌프를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨 내의 기계적 믹서를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 증기 분배 조립체에 의해 용기로 다시 배출된 증기를 재순환시키도록 배치된 재순환 루프를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨 내에 전도성 열전달 부재를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제69항에 있어서, 상기 재순환 루프는 펌프를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제69항에 있어서, 재순환 루프로 불활성 가스를 유동시키도록 배치된 불활성 가스의 소스를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제69항에 있어서, 상기 재순환 루프를 관통하여 유동하는 유체를 가열하기 위해 재순환 루프 내의 히터를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제69항에 있어서, 재순환 루프에 유체 연통 상태로 결합된 배출 라인을 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제74항에 있어서, 배출 라인 내의 질량 유동 컨트롤러를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제69항에 있어서, 재순환 루프 내의 역지 밸브를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제74항에 있어서, 배출 라인 내의 유동 제어 오리피스를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제74항에 있어서, 상기 재순환 루프와 배출 라인은 재순환 루프를 통해 증기 분배 조립체로부터 배출된 유체의 대부분의 유동과 배출 라인으로 배출된 유체의 적은 일부의 유동을 위해 배치되어 있는 것인 시약 운반 시스템.
- 제78항에 있어서, 증기 분배 조립체로부터 배출된 증기가 예정된 온도와 압 력을 갖도록 열원을 조절하기 위해 배치된 온도와 압력 반응 모니터링 및 제어 서브시스템을 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 열원은 용기의 적어도 일부에 알맞게 정합 가능한 가열 재킷을 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제80항에 있어서, 상기 가열 재킷과 용기 각각은 서로에 대해 예정된 배치로 있는 가열 재킷과 용기의 표시를 위한 상보적으로 정합 가능한 맞물림 요소를 구비하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨은 환형의 형상을 갖는 것인 시약 운반 시스템.
- 제81항에 있어서, 상기 정합 가능한 맞물림 요소는 열원이 작동할 수 있기 이전에 맞물림을 필요로 하도록 배치되는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨 내에 트레이 어레이를 더 포함하며, 고체 소스 물질은 어레이 내의 트레이 상에 혹은 트레이에 의해 포함되는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 열원은 용기 둘레에서 외접 가능하게 에워싼 가열 테이프를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨 내의 유체 수집 매니폴드를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제86항에 있어서, 상기 유체 수집 매니폴드와 결합된 다공성 튜브 및/또는 다공성 링을 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 용기의 밀폐된 내부 볼륨 내의 영역을 걸쳐 이격된 온도 센서 어레이를 더 포함하며, 상기 어레이는 상기 영역의 온도를 모니터하여 상기 영역의 온도를 나타나는 출력을 반응적으로 발생하도록 배치되어 있는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 용기는 수평으로 배치되는 배향을 갖는 것인 시약 운반 시스템.
- 제89항에 있어서, 상기 용기는 수평 축을 중심으로 회전하도록 배치되는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 증기 분배 조립체는 배출 라인에 연결되고, 버퍼 저장 챔버는 상기 배출 라인에 유동 관계로 결합되고, 버퍼 저장 챔버 하류의 배출 라인 내의 증기의 예정된 유동을 유지하도록 상 버퍼 저장 챔버로부터 분배하기 위해 상기 증기의 완충량을 담도록 배치되어 있는 것인 시약 운반 시스템.
- 제91항에 있어서, 상기 버퍼 저장 챔버 하류의 배출 라인은 증기 활용 설비에 증기 공급 관계로 결합되어 있는 것인 시약 운반 시스템.
- 제92항에 있어서, 상기 증기 활용 설비는 반도체 제조용 툴을 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제2항에 있어서, 용기의 밀폐된 내부 볼륨 내의 유체 수집 매니폴드와, 유체 수집 매니폴드에 결합된 다공성 수집 튜브를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제94항에 있어서, 상기 열원은 다공성 수집 튜브의 가열을 위해 배치되는 것인 시약 운반 시스템.
- 제95항에 있어서, 상기 열원은 다공성 수집 튜브의 내부 통로 속으로 액화된 고체 소스 물질의 발산을 가능케 하는 온도로 다공성 수집 튜브를 가열하고, 후속하여 다공성 수집 튜브의 상기 내부 통로 내의 액화된 고체 소스 물질을 증발시키 기 위해 다공성 수지 튜브의 가열을 증가시키도록 배치되어 있는 것인 시약 운반 시스템.
- 제96항에 있어서, 액화된 고체 소스 물질의 증발에 후속하여 용기의 밀폐된 내부 볼륨 내의 압력을 결정하고, 상기 용기 내의 고체 소스 물질의 양을 나타내는 출력을 반응적으로 발생시키도록 배치된 압력 센서를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 구조체는 고체 소스 물질이 그 위에 침전될 지지부를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제98항에 있어서, 상기 지지부는 테이프, 웹, 시트, 필라멘트 혹은 와이어의 형태로 되어 있는 것인 시약 운반 시스템.
- 제98항에 있어서, 상기 열원은 상기 휘발을 위해 고체 소스 물질을 내려누르는 구조체가 통과하여 병진 이동하게 될 가열 챔버를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제100항에 있어서, 상기 증기 분배 조립체는 가열 챔버에 결합되어 그로부터 증기를 배출하도록 배치된 배출 라인을 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제98항에 있어서, 고체 소스 물질을 상기 지지부 상에 침전시키도록 배치된 침전 조립체를 더 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제102항에 있어서, 상기 침전 조립체는 고체 소스 물질을 지지부 상에 분사 침전시키도록 배치된 스프레이 헤드를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제103항에 있어서, 상기 지지부는 상기 고체 소스 물질이 들러붙는 점성 있는 표면을 구비하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 고체 소스 물질은 흡착제 입자와 높은 열 전도성 입자 혼합물 상에 피복되는 것인 시약 운반 시스템.
- 제105항에 있어서, 상기 흡착제 입자는 활성 탄소 흡착제, 분자체, 규조토, 점토 타입의 흡착제, 매크로 망상조직 수지, 실리카, 알루미나로 이루어진 그룹으로부터 선택된 흡착제를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제105항에 있어서, 높은 열전도성 입자는 금속 혹은 세라믹으로 형성된 입자를 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 구조체는 유동상을 포함하는 것인 시약 운반 시스템.
- 시약의 고체 소스로부터 시약의 운반을 위한 방법으로서,보유 구조체의 적어도 일부에 의해 감금된 상태로 고체 소스 물질을 보유하는 단계와, 고체 소스 물질의 휘발에 의해 고체 소스 물질로부터 증기를 발생시키도록 고체 소스 물질을 가열시키는 단계와, 상기 증기를 회수하는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 보류 구조체는 상기 고체 소스 물질이 보유되는, 폐쇄된 내부 볼륨을 형성하는 용기를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 상기 고체 소스 물질을 폐쇄된 내부 볼륨에 감금된 상태로 보유시키기 위해 플레이트 부재를 고체 소스 물질을 압축 가능하게 내려누르도록 하는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제111항에 있어서, 고체 소스 물질이 점진적으로 휘발함에 따라 고체 소스 물질을 압축하게 내려누르는 것을 유지하도록 용기의 폐쇄된 내부 볼륨 내에서 상기 플레이트 부재를 이동시키는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제112항에 있어서, 고체 소스 물질을 압축하게 내려누르는 것을 유지하도록 상기 플레이트 부재를 스프링 편향시키는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제112항에 있어서, 상기 용기의 폐쇄된 내부 볼륨 내에 플레이트 부재가 결합되어 있는 확장 가능한 샤프트를 제공하는 단계를 더 포함하며, 상기 플레이트 부재는 고체 소스 물질을 압축하게 내려누르는 것을 유지하도록 샤프트의 확장으로 병진 이동 가능한 것인 시약 운반 방법.
- 제114항에 있어서, 상기 확장 가능한 샤프트는 내부 통로를 구비하며, 고체 소스 물질의 점진적인 휘발을 이용하여 샤프트의 확장을 행하기 위해 그 내부에 압축된 유체를 제공하는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제114항에 있어서, 상기 플레이트 부재는 작은 구멍을 그 내부에 구비하며, 확장 가능한 샤프트는 상기 내부의 구멍과 연통하는 내부 급송 및 배출 통로를 구비하고, 열교환기로부터 샤프트 내의 내부 급송 통로를 통해 플레이트 부재의 구멍으로 열교환 매체의 유동과, 상기 구멍으로부터 샤프트 내의 내부 배출 통로를 통해 열교환기로 열교환 매체의 유동을 위한 확장 가능한 샤프트의 내부 통로와 유체 연통하는 상태로 열교환기를 결합하는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제111항에 있어서, 상기 플레이트 부재는 용기의 증기 수집 영역으로 증기의 통과를 위한 복수 개의 유동 통로를 그 내부에 구비하는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 상기 가열은 하나 이상의 가열 재킷을 용기와 가열 가능한 관계로 배치하는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제118항에 있어서, 상기 가열은 용기의 독립된 영역에 가열 가능한 관계로 각각 복수 개의 가열 재킷을 배치하는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 상기 용기는 제거시 용기의 밀폐된 내부 볼륨으로 고체 소스 물질의 주입을 허용하는 제가 가능한 요소를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제120항에 있어서, 상기 제거 가능한 요소는 용기 포트 커버를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제120항에 있어서, 상기 제거 가능한 요소는 용기 커버를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제111항에 있어서, 고체 소스 물질을 압축하게 내려누르는 것을 유지하도록 플레이트 부재 상에 유압을 가하도록 유체 공급 조립체를 배치하는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 고체 소스 물질을 분말 형태로 사용하는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 고체 소스 물질은 디카보란, 옥타디카보란, 인듐 클로라이드로 이루어진 그룹으로부터 선택된 물질을 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 고체 소스 물질을 불연속 형태로 사용하는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 고체 소스 물질을 단일 모놀리식 형태로 사용하는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 고체 소스 물질에 열에너지를 인가하는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제128항에 있어서, 상기 열에너지는 마이크로파 열에너지와 적외선 열에너지로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 가열은 전도식 가열을 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 가열은 상기 보유 구조체의 가열을 위한 가열 재킷을 사용하는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 가열은 열전달 매체의 사용을 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 고체 소스 물질의 휘발은 고체 소스 물질 레벨의 감소에 영향을 미치며, 상기 방법은 고체 소스 물질의 레벨의 표시를 제공하도록 레벨 검출 조립체를 사용하는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제133항에 있어서, 상기 레벨 검출 조립체는 전기, 자기 혹은 광학 레벨 센서를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제134항에 있어서, 고체 소스 물질을 압축하게 내려누르도록 플레이트 부재를 배치하는 단계와, 고체 소스 물질의 레벨의 상기 표시를 제공하도록 플레이트 부재의 위치를 검출하는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제135항에 있어서, 상기 레버 검출 조립체는 광전자 검출 조립체를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제136항에 있어서, 상기 광전자 검출 조립체는 레이저 공급원과, 이 레이저 공급원으로부터 반사된 레이저 신호를 검출하도록 배치된 검출기를 구비하는 센서를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제135항에 있어서, 상기 레벨 검출 조립체는 상기 구조체 내의 일련의 스위치들을 포함하면, 상기 스위치 각각은 고체 소스 물질이 점진적으로 휘발할 때 상기 플레이트 부재에 접촉한 상태로 혹은 인접한 상태로 순차적으로 작동시키는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제133항에 있어서, 상기 보유 구조체는 고체 소스 물질이 보류되어 있는 밀폐된 내부 볼륨을 형성하는 용기를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제139항에 있어서, 상기 레벨 검출 조립체는 압축 가스의 소스를 포함하며, 상기 소스로부터 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨으로 압축 가스를 분사하는 단계와, 압축 가스를 분사하자마자 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨 내의 압력을 검출하고 고체 소스 물지의 상기 레벨을 표시하는 출력을 반응적으로 발생하도록 압력 센서를 사용하는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제139항에 있어서, 상기 레벨 검출 조립체는 회수된 증기를 모니터하고 고체 소스 물질의 레벨을 표시하는 출력을 반응적으로 발생하도록 배치된 증기 유동 합계 수단을 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제112항에 있어서, 고체 소스 물질이 점진적으로 휘발할 때 고체 소스 물질을 압축하게 내려누르는 것을 유지하도록 플레이트 부재에 힘을 부과하기 위해 힘 인가 조립체를 배치하는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제142항에 있어서, 상기 힘 인가 조립체는 플레이트 부재에 모멘텀을 부과하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 가열을 행하기 위해 열원와의 열적 맞물림으로 고체 소스 물질을 병진 이동시키기 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제144항에 있어서, 상기 가열은 노 혹은 오븐의 사용을 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제144항에 있어서, 상기 병진 이동은 기계적인 급송 유닛의 사용을 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 회수 증기는 유동 회로를 관통하는 것인 시약 운반 방법.
- 제147항에 있어서, 상기 유동 회로는 질량 유동 컨트롤러, 온도 및 압력 센서, 유동 제어 밸브, 유체 압력 조절기 및 제한된 유동 오리피스 요소로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 유동 회로 부품을 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 회수된 증기는 유체 활용 설비로 유동하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 회수된 증기는 반도체 제조용 툴로 유동하는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨은 고체 소스 물질을 유지하는 제거 가능한 라이너를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제151항에 있어서, 상기 라이너는 용기의 밀폐된 내부 볼륨으로 삽입 가능한 드롭-인 조립체로서 고체 소스 물질로 포장되어 있는 것인 시약 운반 방법.
- 제151항에 있어서, 상기 라이너는 중합체 물질로 형성되는 것인 시약 운반 방법.
- 제151항에 있어서, 상기 라이너는 금속 혹은 금속화 필름 물질로 형성되는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 고체 소스 물질의 상기 가열은 액체 볼륨을 형성하도록 고체 소스 물질을 액화시키며, 액체 볼륨의 레벨을 감지하고 분배에 이용 가능한 증기를 나타내는 출력을 생성하는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 용기 내에 존재하는 증기의 압력을 감지하고 용기 내의 고체 소스 물질의 양을 나타내는 출력을 반응적으로 발생하는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 증기가 회수될 때 용기 내의 고체 소스 물질의 양을 모니터하고 고체 소스 물질의 잔류량을 나타내는 출력을 반응적으로 발생하는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제157항에 있어서, 상기 출력은 시각 혹은 청각 알람을 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 가열은 복사 가열, 전도 가열, 대류 가열 및 전기 가열로 이루어진 그룹에서 선택된 가열 모드 중 하나 이상을 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 가열은 마이크로파 가열 및 적외선 가열로 이루어진 그룹에서 선택된 가열 모드 중 하나 이상을 포함하는 가열 방식을 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제111항에 있어서, 플레이트 부재의 고체 소스 물질을 압축하게 내려누르는 것을 유지하도록 플레이트 부재를 병진 이동시키는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨은 고체 소스 물질 혹은 그것의 증기가 침전될 지지 매체를 담고 있는 것인 시약 운반 방법.
- 제162항에 있어서, 상기 지지 매체는 물리적 흡착 물질로 된 입자를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제162항에 있어서, 상기 지지 매체는 열전도성 물질로 된 입자를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제164항에 있어서, 상기 열전도성 물질의 입자는 금속 비드를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제162항에 있어서, 상기 지지 매체는 구형, 링, 토로이달 형상, 입방체, 나선형, 리본 형상, 그물 형상, 바늘, 원뿔 모양으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 형상을 갖는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 고체 소스 물질은 승화 가능한 고체를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 고체 소스 물질 용액을 형성하기 위해 용매 매체 내의 고체 소스 물질을 용해화하는 단계와, 용매 매체를 휘발시키도록 용기 내의 고체 소스 물질 용액을 가열하는 단계와, 용기 내에 고체 소스 물질을 침전시키고 상기 휘발을 위해 고체 소스 물질을 그 위에서 가열시키도록 용기로부터 휘발된 용매 매체를 배출하는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제168항에 있어서, 상기 용기는 고체 소스 물질이 용기 내에서 침전하게 될 지지 매체를 담고 있는 것인 시약 운반 방법.
- 제168항에 있어서, 휘발된 용매 매체를 응축시키고 응축된 용매 매체를 용매화제 조립체로 재순환시키는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제168항에 있어서, 상기 용매화 단계는 상기 용매 매체와 상기 고체 소스 물질을 혼합하는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 가열은 상기 증기를 발생시키도록 고체 소스 물질의 선택적인 가열을 위해 간섭성 광 복사 소스의 사용에 의해 실행되는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 용기를 통해 유체를 펌핑하는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제151항에 있어서, 라이너 내의 내용물을 혼합시키기 위해 라이너를 반복적으로 이동시키는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제174항에 있어서, 라이너를 반복적으로 이동시키는 단계는 라이너 상에 교번하는 흡입 및 압력을 부과하도록 역전 펌프를 작동시키는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨 내의 기계적 믹서를 제공하는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 회수된 증기를 용기로 다시 재순환시키는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨 내의 전도성 열전달 부재를 제공하는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제177항에 있어서, 상기 재순환 단계는 펌프를 포함하는 재순환 루프의 사용을 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제179항에 있어서, 재순환 루프로 불활성 가스를 유동시키는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제179항에 있어서, 상기 재순환 루프를 관통하여 유동하는 유체를 가열하기 위해 재순환 루프 내에 히터를 배치하는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제179항에 있어서, 재순환 루프에 유체 연통 상태로 배출 라인을 연결하는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제182항에 있어서, 배출 라인 내에 질량 유동 컨트롤러를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제179항에 있어서, 재순환 루프 내에 역지 밸브를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제182항에 있어서, 배출 라인 내의 유동 제어 오리피스를 배치하는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제182항에 있어서, 재순환 루프를 통해 회수된 유체의 대부분을 유동시키는 단계와 회수된 유체의 적은 일부를 배출 라인으로 유동시키는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제186항에 있어서, 회수된 증기가 예정된 온도와 압력을 갖도록 상기 가열 단계를 조절하는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 상기 가열은 용기의 적어도 일부에 알맞게 정합 가능한 가열 재킷에 의해 전도되는 것인 시약 운반 방법.
- 제188항에 있어서, 상기 가열 재킷과 용기 각각은 서로에 대해 예정된 배치로 있는 가열 재킷과 용기의 표시를 위한 상보적으로 정합 가능한 맞물림 요소를 구비하는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨은 환형의 형상을 갖는 것인 시약 운반 방법.
- 제189항에 있어서, 상기 정합 가능한 맞물림 요소는 가열을 행할 수 있기 이전에 맞물림을 필요로 하도록 배치되는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨 내에 트레이 어레이를 배치하는 단계를 더 포함하며, 고체 소스 물질은 어레이 내의 트레이 상에 혹은 그것에 의해 포함되는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 상기 가열은 용기를 중심으로 외접 가능하게 에워싼 가열 테이프에 의해 실행되는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 상기 용기의 밀폐된 내부 볼륨 내의 유체 수집 매니폴드에서 유체를 수집하는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제194항에 있어서, 다공성 튜브 및/또는 다공성 링이 상기 유체 수집 매니폴드와 결합되어 있는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 용기의 밀폐된 내부 볼륨 내의 영역을 걸쳐 이격된 온도 센서 어레이를 배치하는 단계를 더 포함하며, 상기 어레이는 상기 영역의 온도를 모니터하여 상기 영역의 온도를 나타나는 출력을 반응적으로 발생하도록 배치되어 있는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 상기 용기는 수평으로 배치되는 배향을 갖는 것인 시약 운반 방법.
- 제197항에 있어서, 상기 용기는 수평 축을 중심으로 회전하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 회수된 증기는 배출 라인으로 유동하고, 버퍼 저장 챔버는 상기 배출 라인에 유동 관계로 결합되고, 버퍼 저장 챔버 하류의 배출 라인 내의 증기의 예정된 유동을 유지하도록 상 버퍼 저장 챔버로부터 분배하기 위해 상기 증기의 완충량을 담도록 배치되어 있는 것인 시약 운반 방법.
- 제199항에 있어서, 상기 버퍼 저장 챔버 하류의 배출 라인은 증기 활용 설비 에 증기 공급 관계로 결합되는 것인 시약 운반 방법.
- 제200항에 있어서, 상기 증기 활용 설비는 반도체 제조용 툴을 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제110항에 있어서, 용기의 밀폐된 내부 볼륨 내의 유체 수집 매니폴드와, 유체 수집 매니폴드에 결합된 다공성 수집 튜브를 제공하는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제202항에 있어서, 다공성 수집 튜브를 가열하는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제203항에 있어서, 상기 다공성 수집 튜브는 다공성 수집 튜브의 내부 통로 속으로 액화된 고체 소스 물질의 발산을 가능케 하고 후속하여 다공성 수집 튜브의 상기 내부 통로 내의 액화된 고체 소스 물질을 증발시키기 위해 다공성 수지 튜브의 가열을 증가시키는 온도로 가열되는 것인 시약 운반 방법.
- 제204항에 있어서, 액화된 고체 소스 물질의 증발에 후속하여 용기의 밀폐된 내부 볼륨 내의 압력을 결정하고, 상기 용기 내의 고체 소스 물질의 양을 나타내는 출력을 반응적으로 발생시키는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 고체 소스 물질을 지지부 상에 침전시키는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제206항에 있어서, 상기 지지부는 테이프, 웹, 시트, 필라멘트 혹은 와이어의 형태로 되어 있는 것인 시약 운반 방법.
- 제206항에 있어서, 상기 휘발을 위해 고체 소스 물질을 내려누르는 지지부를 병진 이동시키는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제208항에 있어서, 가열 챔버로부터 회수된 증기를 배출하는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제206항에 있어서, 고체 소스 물질을 상기 지지부 상에 침전시키는 단계를 더 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제210항에 있어서, 상기 침전 단계는 고체 소스 물질을 지지부 상에 분사시키는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제211항에 있어서, 상기 지지부는 상기 고체 소스 물질이 들러붙는 점성 있 는 표면을 구비하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 상기 고체 소스 물질은 흡착제 입자와 높은 열 전도성 입자 혼합물 상에 피복되는 것인 시약 운반 방법.
- 제213항에 있어서, 상기 흡착제 입자는 활성 탄소 흡착제, 분자체, 규조토, 점토 타입의 흡착제, 매크로 망상조직 수지, 실리카, 알루미나로 이루어진 그룹으로부터 선택된 흡착제를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제213항에 있어서, 높은 열전도성 입자는 금속 혹은 세라믹으로 형성된 입자를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 제109항에 있어서, 유동상에서 고체 소스 물질의 가열을 행하는 단계를 포함하는 것인 시약 운반 방법.
- 고체 소스 시약 운반 시스템으로서,고체 소스 물질을 그 내부에 보유하도록 채택되는 밀폐된 내부 볼륨을 형성하는 용기와, 분배 작동 동안 고체 소스 물질로부터 유도되는 증기를 분배하기 위해 내부 볼륨과 유체 연통 상태로 결합되어 완전 개방 위치와 완전 폐쇄 위치 사이에서 병진 이동 가능한 밸브 요소를 포함하는 밸브 조립체와, 밸브 조립체에 탈착 식으로 체결 가능하고 가열시 열을 밸브 조립체로 전달하고 분배된 증기가 상기 밸브 조립체 내에서 고화되는 것을 방지하는데 효과적인 열전도성 블록을 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제217항에 있어서, 상기 블록은 금속으로 형성되는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제218항에 있어서, 상기 금속은 알루미늄 혹은 알루미늄 합금을 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제217항에 있어서, 상기 블록은 서로에 대해 협동 가능하게 정합하는 부품을 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제220항에 있어서, 서로 협동 가능하게 정합된 부품을 보유하도록 채택되는 체결 구조체를 더 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제221항에 있어서, 상기 체결 구조체는 커플링 요소, 잠금 구조체, 래치, 키 형성 구조체 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제217항에 있어서, 상기 블록은 밸브 조립체로의 체결을 위해 개방되도록 힌지식으로 연결되고 폐쇄된 위치에 블록을 유지하기 위한 구조체를 잠금으로써 상기 밸브 조립체를 중심으로 폐쇄 가능하고 블록 절반부를 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제217항에 있어서, 상기 블록은 그 내부에 분배 조작 동안 블록 밖으로 상기 배출된 증기의 유동을 위한 통로를 포함하는 통로를 구비하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제224항에 있어서, 상기 통로는 블록의 외부로 돌출하도록 밸브 조립체의 밸브 스템을 위한 통로를 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제224항에 있어서, 상기 분배된 증기 통로는 블록의 면에서 그 연장이 종결되고 그것에 유동 회로의 부착을 위한 부속품이 결합되어 있는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제226항에 있어서, 상기 유동 회로는 분배된 증기를 이용하는 프로세스 설비에 결합되어 있는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제217항에 있어서, 블록을 가열하기 위해 배치된 히터를 더 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제228항에 있어서, 상기 히터는 방사 히터, 저항 히터, 마이크로파 히터, 초음파 히터 및 재킷 히터로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 고체 소스 시약 운반 시스템으로서,고체 소스 물질을 그 내부에 보유하도록 채택되는 밀폐된 내부 볼륨을 형성하는 용기와, 밀폐된 내부 볼륨을 형성하도록 용기에 체결된 플랜지 덮개 부재와, 분배 작동 동안 고체 소스 물질로부터 유도되는 증기를 분배하기 위해 내부 볼륨과 유체 연통 상태로 결합되어 완전 개방 위치와 완전 폐쇄 위치 사이에서 병진 이동 가능한 밸브 요소를 포함하는 밸브 조립체를 포함하며, 상기 플랜지 덮개 부재는 이 플랜지 덮개 부재를 용기로부터 제거하기 위해 기계식 파스너 요소의 맞물림 해제용 비표준 공구를 필요로 하는 기계적 파스너 요소에 의해 용기에 체결되어 있는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제230항에 있어서, 상기 기계식 파스너 요소는 플랜지 덮개 부재를 용기로부터 제거하기 위해 그것의 맞물림 해제용 비표준형 스크류드라이버를 필요로 하는 스크류 파스너를 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제230항에 있어서, 상기 기계식 파스너 요소는 기계식 파스너 요소로의 접근을 얻기 위해 반드시 파손되어야 하는 라벨로 입혀져 있는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제217항에 있어서, 상기 블록은 그 내부에 통로를 포함하며, 저항식 가열 요소는 상기 통로 내에 제거 가능하게 배치되어 있는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제217항에 있어서, 상기 용기는 그 내부에 통로를 포함하며, 저항식 가열 요소는 상기 통로 내에 제거 가능하게 배치되어 있는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 고체 소스 시약 운반 시스템으로서,고체 소스 물질을 그 내부에 보유하도록 채택되는 밀폐된 내부 볼륨을 형성하는 용기와, 밀폐된 내부 볼륨을 형성하도록 용기에 체결된 플랜지 덮개 부재와, 분배 작동 동안 고체 소스 물질로부터 유도되는 증기를 분배하기 위해 내부 볼륨과 유체 연통 상태로 결합되어 완전 개방 위치와 완전 폐쇄 위치 사이에서 병진 이동 가능한 밸브 요소를 포함하는 밸브 조립체를 포함하며, 상기 용기는 하나 이상의 통로를 그 내부에 둘러싸고 있는 벽과 상기 통로 내에 제거 가능하게 배치된 가열 요소를 포함하는 것인 고체 소스 시 약 운반 시스템.
- 제235항에 있어서, 상기 하나 이상의 통로는 벽의 외측면과 연통하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제235항에 있어서, 상기 용기는 알루미늄 혹은 알루미늄 합금으로 형성되어 있는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 고체 소스 시약 운반 시스템으로서,고체 소스 물질을 그 내부에 보유하도록 채택되는 밀폐된 내부 볼륨을 형성하는 용기와, 분배 작동 동안 고체 소스 물질로부터 유도되는 증기를 분배하기 위해 내부 볼륨과 유체 연통 상태로 결합되어 완전 개방 위치와 완전 폐쇄 위치 사이에서 병진 이동 가능한 밸브 요소를 포함하는 밸브 조립체와, 상기 고체 소스 물질을 지지하도록 채택되는 내부 볼륨 내의 금속 폼 물질을 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제238항에 있어서, 상기 금속 폼 물질을 하나 이상의 금속 폼 본체를 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제239항에 있어서, 상기 하나 이상의 금속 폼 본체는 디스크 형상의 복수 개 의 금속 폼 본체를 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제240항에 있어서, 상기 용기는 원통형의 형상이며, 상기 금속 폼 본체는 상기 금속 폼 본체가 용기의 내측면과 접촉 상태로 용기 내에 강제로 끼워질 수 있도록 용기의 내경과 충분하게 유사한 직경을 지니는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제241항에 있어서, 상기 금속 폼 본체는 알루미늄으로 형성되는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제242항에 있어서, 상기 용기는 알루미늄으로 형성되는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제240항에 있어서, 상기 금속 폼 본체는 용기 내에 적층된 어레이로 있는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제244항에 있어서, 상기 적층된 어레이의 상측 금속 폼 본체는 그 내부에 중앙 개구를 구비하여 그것의 상측 부분에서 상기 어레이의 중앙 통로를 형성하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제238항에 있어서, 상기 용기에 체결된 플랜 덮개 부재를 더 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제246항에 있어서, 상기 플랜지 덮개 부재를 스테인레스강으로 형성되며, 상기 용기는 알루미늄 혹은 알루미늄 합금으로 형성되며, 플랜지 덮개 부재는 용기에 익스플로젼 접합되는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제246항에 있어서, 상기 플랜지 덮개 부재는 기계식 파스너에 의해 용기에 체결되는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제246항에 있어서, 상기 용기는 측벽과 플로어를 포함하며, 플랜지 덮개 부재와 플로어 각각은 용기 측벽을 통해 연장하는 기계식 파스너에 의해 측벽에 체결되고 플랜지 덮개 부재와 플로어 각각에 체결되는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제249항에 있어서, 상기 기계식 파스너는 측벽을 통해 연장하고 플랜지 덮개 부재와 플로어의 외측면에서 너트와 맞물리는 볼트를 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 고체 소스 시약 운반 시스템으로서,고체 소스 물질을 그 내부에 보유하도록 채택되는 밀폐된 내부 볼륨을 형성하는 용기와, 분배 작동 동안 고체 소스 물질로부터 유도되는 증기를 분배하기 위해 내부 볼륨과 유체 연통 상태로 결합되어 완전 개방 위치와 완전 폐쇄 위치 사이에서 병진 이동 가능한 밸브 요소를 포함하는 밸브 조립체를 포함하며, 상기 시스템은 수축 포장 필름 물질로 수축 포장되는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 고체 소스 시약 운반 시스템으로서,고체 소스 물질을 그 내부에 보유하도록 채택되는 밀폐된 내부 볼륨을 형성하는 용기와, 분배 작동 동안 고체 소스 물질로부터 유도되는 증기를 분배하기 위해 내부 볼륨과 유체 연통 상태로 결합되어 완전 개방 위치와 완전 폐쇄 위치 사이에서 병진 이동 가능한 밸브 요소를 포함하는 밸브 조립체와, 히터와 압축 센서를 포함하는 고체 소스 물질 모니터링 조립체를 포함하며, 상기 히터는 고체 소스 물질의 증기 압력을 증가시키기 위해 용기 내에 고체 소스 물질을 가열시키도록 배치되어 있고, 상기 압력 센서는 증기압의 증가를 검출하여 용기 내의 상기 고체 소스 물질의 재고를 나타내는 출력을 반응적으로 발생하도록 배치되어 있는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 고체 소스 시약 운반 시스템으로서,고체 소스 물질을 그 내부에 보유하도록 채택되는 밀폐된 내부 볼륨을 형성 하는 용기와, 분배 작동 동안 고체 소스 물질로부터 유도되는 증기를 분배하기 위해 내부 볼륨과 유체 연통 상태로 결합되어 완전 개방 위치와 완전 폐쇄 위치 사이에서 병진 이동 가능한 밸브 요소를 포함하는 밸브 조립체와, 히터와 압축 센서를 포함하는 고체 소스 물질 모니터링 조립체와, 정상 상태의 분배 작동 동안 용기의 압력을 모니터하고 용기 내의 상기 고체 소스 물질의 재고를 나타내는 출력을 반응적으로 발생하도록 채택되는 압력 센서를 포함하는 고체 소스 물질 모니터링 조립체를 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제253항에 있어서, 용기는 B18H22 고체 소스 물질을 담고 있는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 고체 소스 시약으로부터 유도되는 증기를 수반하는 분배 작동을 행하는 방법으로서,고체 소스 시약을 담고 있는 제1 공급 용기로부터 증기를 분배하는 단계와, 상기 증기의 예정된 유량 혹은 상기 분배에 후속한 상기 증기의 예정된 압력을 유지하기 위해 용기 온도와 상기 증기의 운반 비율을 조절하는 유량 제어 밸브의 개방 특성의 정도를 모니터링하는 단계와, 상기 용기 온도와 유량 제어 밸브의 개방 특성의 정도로부터 상기 제1 공급 용기 내의 고체 소스 시약의 재고를 결정하는 단 계를 포함하는 것인 분배 작동 방법.
- 제255항에 있어서, 제1 공급 용기 내의 고체 소스 시약의 재고가 예정된 정도로 떨어질 때 제1 공급 용기로부터의 증기 분배를 종료하는 단계와, 고체 소스 시약을 담고 있는 제2 공급 용기로부터 증기 분배를 시작하는 단계를 포함하는 것인 분배 작동 방법.
- 고체 소스 시약 운반 시스템으로서,고체 소스 물질을 그 내부에 보유하도록 채택되는 밀폐된 내부 볼륨을 형성하는 용기와, 분배 작동 동안 고체 소스 물질로부터 유도되는 증기를 분배하기 위해 내부 볼륨과 유체 연통 상태로 결합되어 완전 개방 위치와 완전 폐쇄 위치 사이에서 병진 이동 가능한 밸브 요소를 포함하는 밸브 조립체와, 예정된 시간 주기 동안 용기로 예정된 열에너지를 입력하도록 채택된 히터와 시스템이 평형 증기압으로 접근하는 속도를 결정하고 용기 내의 상기 고체 소스 물질의 재고를 나타내는 출력을 반응적으로 발생하도록 채택되는 모니터를 포함하는 고체 소스 물질 모니터링 조립체를 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 고체 소스 시약으로부터 유도되는 증기를 수반하는 분배 작동을 행하는 방법 으로서,고체 소스 시약을 담고 있는 제1 공급 용기로부터 증기를 분배하는 단계와, 예정된 시간 주기 동안 용기에 예정된 열에너지를 입력하는 단계와, 상기 입력 동안 고체 소스 시약이 평형 증기압으로 접근하는 속도를 결정하는 단계와, 제1 공급 용기 내의 상기 고체 소스 물질의 재고를 나타내는 출력을 반응적으로 발생하는 단계를 포함하는 것인 분배 작동 방법.
- 제258항에 있어서, 제1 공급 용기 내의 고체 소스 시약의 재고가 예정된 정도로 떨어질 때 제1 공급 용기로부터의 증기 분배를 종료하는 단계와, 고체 소스 시약을 담고 있는 제2 공급 용기로부터 증기 분배를 시작하는 단계를 포함하는 것인 분배 작동 방법.
- 낮은 증기압의 고체의 증발 속도를 증가시키는 방법으로서,용액을 형성하도록 상기 낮은 증기압의 고체를 용매 매체에 용해시키는 단계와, 상기 용액으로부터 낮은 증기압의 고체의 증기를 추출하는 단계를 포함하는 것인 증발 속도 증가 방법.
- 제260항에 있어서, 낮은 증기압의 고체는 수소화붕소를 포함하는 것인 증발 속도 증가 방법.
- 제261항에 있어서, 수소화붕소는 B14 수소화물을 포함하는 것인 증발 속도 증가 방법.
- 제261항에 있어서, 수소화붕소는 B18 수소화물을 포함하는 것인 증발 속도 증가 방법.
- 제261항에 있어서, 수소화붕소는 B18H22를 포함하는 것인 증발 속도 증가 방법.
- 낮은 증기압의 고체의 증발 속도를 증가시키는 방법으로서,용액을 형성하도록 상기 낮은 증기압의 고체를 용매 매체에 용해시키는 단계와, 상기 낮은 증기압의 고체의 증기를 발생시키도록 상기 용액을 플래쉬 증발하는 단계를 포함하는 것인 증발 속도 증가 방법.
- 제265항에 있어서, 낮은 증기압 고체의 증기는 사용 장소로 수송되는 것인 증발 속도 증가 방법.
- 고체 소스 시약 운반 시스템으로서,고체 소스 물질을 그 내부에 보유하도록 채택되는 밀폐된 내부 볼륨을 형성하는 용기와, 분배 작동 동안 고체 소스 물질로부터 유도되는 증기를 분배하기 위해 내부 볼륨과 유체 연통 상태로 결합되어 완전 개방 위치와 완전 폐쇄 위치 사이에서 병진 이동 가능한 밸브 요소를 포함하는 밸브 조립체와, 용기 내의 고체 소스 물질로의 열 플럭스 변화를 검출하고 용기 내의 상기 고체 소스 물질의 재고를 나타내는 출력을 반응적으로 발생하도록 배치된 하나 이상의 열 플럭스 센서를 구비하는 고체 소스 물질 모니터링 조립체를 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제267항에 있어서, 상기 열 플럭스 센서는 박막 열전기 변환기를 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제267항에 있어서, 복수 개의 열 플럭스 센서는 용기 상에 장착되는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 고체 소스 시약으로부터 유도되는 증기를 수반하는 분배 작동을 행하는 방법으로서,고체 소스 시약을 담고 있는 제1 공급 용기로부터 증기를 분배하는 단계와, 용기 내의 고체 소스 물질로의 열 플럭스를 모니터하고 용기 내의 상기 고체 소스 물질의 재고를 나타내는 출력을 반응적으로 발생하는 단계를 포함하는 것인 분배 작동 방법.
- 제270항에 있어서, 제1 공급 용기 내의 고체 소스 시약의 재고가 예정된 정도로 떨어질 때 제1 공급 용기로부터의 증기 분배를 종료하는 단계와, 고체 소스 시약을 담고 있는 제2 공급 용기로부터 증기 분배를 시작하는 단계를 포함하는 것인 분배 작동 방법.
- 고체 소스 시약 운반 시스템으로서,고체 소스 물질을 그 내부에 보유하도록 채택되는 밀폐된 내부 볼륨을 형성하는 용기와, 분배 작동 동안 고체 소스 물질로부터 유도되는 증기를 분배하기 위해 내부 볼륨과 유체 연통 상태로 결합되어 완전 개방 위치와 완전 폐쇄 위치 사이에서 병진 이동 가능한 밸브 요소를 포함하는 밸브 조립체와, 상기 용기 내의 고체 소스 물질과, 용기의 하측 부분을 냉각하기 위해 채택된 냉각기를 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제272항에 있어서, 상기 냉각기는 보텍스 쿨러인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제272항에 있어서, 용기 내의 고체 소스 물질은 크세논 디플루오르화물을 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제272항에 있어서, 용기 내의 고체 소스 물질은 옥타디카보란을 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 고체 소스 시약 운반 시스템으로서,고체 소스 물질을 그 내부에 보유하도록 채택되는 밀폐된 내부 볼륨을 형성하는 용기와, 분배 작동 동안 고체 소스 물질로부터 유도되는 증기를 분배하기 위해 내부 볼륨과 유체 연통 상태로 결합되어 완전 개방 위치와 완전 폐쇄 위치 사이에서 병진 이동 가능한 밸브 요소를 포함하는 밸브 조립체와, 적외선 복사를 상기 고체 소스 물질에 충돌시켜 용기 내의 상기 고체 소스 물질의 재고를 나타내는 출력을 반응적으로 발생시키기 위해 용기 내의 고체 소스물질과 접촉 상태로 내부 볼륨 내에 장착된 중간 적외선 센서를 구비하는 고체 소스 물질 모니터링 조립체를 포함하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제276항에 있어서, 상기 중간 적외선 센서는 적외선 분광 분석(attenuated total reflectance(ATR)) 샘플링을 이용하여 2㎛ 내지 4㎛의 스펙트럼 범위의 적외선 파장에서 작동하는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제276항에 있어서, 상기 중간 적외선 센서는 소스 시약 물질이 이러한 복사선을 흡수하게 될 적외선 영역의 검출을 한정하도록 채택된 적외선 필터를 포함하 는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제276항에 있어서, 상기 중간 적외선 센서는 소시 시약 물질과 용기 내의 원하지 않는 분해 부산물을 따로따로 모니터하기 위해 적외선 영역에서 2개 이상의 대역을 모니터하도록 채택되어 있는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 제276항에 있어서, 중간 적외선 센서와 접촉 상태로 있는 소스 시약 물질은 센서로부터의 맞물림 해제를 방지하도록 위치 설정 가능하게 고정되어 있는 것인 고체 소스 시약 운반 시스템.
- 시약 저장 및 분배 시스템으로서,이온 액체 저장 매체 내에 저장된 시약을 담고 있는 용기와, 적어도 시스템의 분배 작동 동안 그 내부에 재고 상태로 있는 상기 시약의 양을 측정하기 위해 용기 내에 배치된 중간 범위의 적외선 센서를 포함하는 것인 시약 저장 및 분배 시스템.
- 이온 주입 장치용 고체 소스 시약 세척 시스템으로서,고체 XeF2가 그 위에 분산되어 있는 지지 물질을 담고 있는 용기와, XeF2 증기를 발생하기 위해 상기 금속 폼 물질의 온도를 조절하도록 채택된 열 컨트롤러 와, 용기를 상기 이온 주입 장치와 결합시키는 동시에 상기 이온 주입 장치의 세척을 위해 상기 용기로부터 상기 이온 주입 장치로 XeF2 증기를 유동시키도록 채택된 유체 회로를 포함하는 것인 고체 소스 시약 세척 시스템.
- 제282항에 있어서, 상기 지지 물질은 금속 폼 물질인 고체 소스 시약 세척 시스템.
- 제282항에 있어서, 상기 지지 물질은 금속 섬유(metal wool) 패킹을 포함하는 것인 고체 소스 시약 세척 시스템.
- 제282항에 있어서, 상기 지지 물질은 금속 구체 패킹을 포함하는 것인 고체 소스 시약 세척 시스템.
- 제285항에 있어서, 상기 금속 구체는 금속 폼 물질을 형성하는 것인 고체 소스 시약 세척 시스템.
- 제282항에 있어서, 상기 지지 물질은 알루미늄 폼을 포함하는 것인 고체 소스 시약 세척 시스템.
- 프로세스 툴로부터 침전물을 제거하기 위해 그 툴을 세척하는 방법으로서,상기 침전물은 붕소, 비소 및 인 중 하나 이상을 포함하며, 상기 방법은 고체 크세논 디플루오르화물로부터 세척 증기를 발생시키는 단계와, 프로세스 툴로부터 상기 침전물을 적어도 부분적으로 제거하기에 충분한 시간 동안 상기 침전물을 상기 세척 증기와 접촉시키는 단계를 포함하는 것인 프로세스 툴 세척 방법.
- 제288항에 있어서, 상기 침전물은 이온 주입 공정에 의해 발생되는 것인 프로세스 툴 세척 방법.
- 제288항에 있어서, 상기 세척 증기는 플라스마 처리를 받게 되는 것인 프로세스 툴 세척 방법.
- 내부에 밸브 챔버를 형성하는 밸브 본체를 포함하는 높은 컨덕턴스 밸브로서,밸브 본체 안팎으로 각각의 유체 유입과 유출을 위해 밸브 챔버와 연통하는 입구 통로와 밸브 챔버와 연통하는 출구 통로와, 밸브 요소 및 밸브 챔버 내의 완전 개방 위치와 완전 폐쇄 위치 사이에서 이 밸브 요소의 운동을 허용하는 액추에이터 조립체를 포함하며,상기 입구 통로와 출구 통로는 밸브 챔버와 함께 밸브 요소가 개방 위치에 있을 때 밸브 본체를 통한 유체 유동을 허용하며, 입구 및 출구 통로는 실질적으로 수직으로 되는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 상기 밸브 본체는 블록 모양의 형상을 갖는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제292항에 있어서, 상기 밸브 본체는 대개 직사각형의 평행사변형 형상을 갖는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 상기 밸브 요소는 하나 이상의 다이어프램 요소와 결합되는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 상기 밸브 요소와 액추에이터 조립체는 밸브 본체로부터 외부로 연장하는 밸브 스템을 포함하며, 핸들이 상기 밸브 스템에 체결되어 있는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 상기 밸브 본체는 밸브를 유체 공급부에 결합하기 위한 플랜지에 접합 혹은 그 플랜지를 포함하는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 밸브 본체 내의 출구 통로는 수형 VCR 부속품과 연통하는 폐쇄 흐름으로 결합되어 있는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 밸브 본체는 직사각형의 블록 모양의 형상이며, 입구 통로는 밸브 본체의 바닥 면으로부터 밸브 챔버로 상방향으로 수직으로 연장하며, 출구 통로는 밸브 챔버로부터 밸브 본체의 측면으로 수평으로 연장하는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 2.5 초과의 밸브 유동 계수를 갖는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 약 2.7 내지 2.9 범위의 밸브 유동 계수를 갖는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 상기 밸브는 230 psig 이하의 작동 압력과 -28℃ 내지 150℃ 범위의 작동 온도를 수용하도록 구성되어 있는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 상기 밸브 본체는 4 내지 20 세제곱 인치 범위의 총체적을 갖는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 상기 밸브 본체는 밸브 챔버가 총체적의 15 내지 35%를 차지하도록 되어 있는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 상기 밸브 본체는 7 내지 10 세제곱 인치 범위의 총체적을 갖는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 상기 밸브 챔버는 상기 밸브 본체 내에서 1.5 내지 3.5 세제곱 인치의 체적을 차지하는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 밸브 본체의 입구 통로는 밸브 챔버와의 교차점에서 밸브 본체의 표면에 있는 입구 통로 개구까지 측정했을 때 0.15 내지 0.45 세제곱 인치의 체적을 갖는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 밸브 본체의 입구 통로는 밸브 챔버와의 교차점에서 밸브 본체의 표면에 있는 입구 통로 개구까지 측정했을 때 0.05 내지 0.45 세제곱 인치 범위의 체적을 갖는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 출구 통로의 직경 대 입구 통로의 직경 비율은 0.75 내지 1.25의 범위인 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 출구 통로의 직경 대 입구 통로의 직경 비율은 0.80 내지 1.15의 범위인 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 출구 통로의 직경 대 입구 통로의 직경 비율은 0.90 내지 1.10의 범위인 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 출구 통로의 직경 대 입구 통로의 직경 비율은 0.95 내지 1.05의 범위인 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 출구 통로의 길이 대 입구 통로의 길이 비율은 0.20 내지 1.5의 범위인 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 출구 통로의 길이 대 입구 통로의 길이 비율은 0.3 내지 1.2의 범위인 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 출구 통로의 길이 대 입구 통로의 길이 비율은 0.35 내지 1.0의 범위인 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 밸브 본체의 내부에서 밸브 본체의 총체적의 25 내지 45% 범위의 입구 통로, 출구 통로 및 밸브 챔버의 개방 체적을 갖는 것인 높은 컨덕턴 스 밸브.
- 제291항에 있어서, 밸브 본체의 내부에서 밸브 본체의 총체적의 30 내지 40% 범위의 입구 통로, 출구 통로 및 밸브 챔버의 개방 체적을 갖는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 입구 통로와 출구 통로는 각각 밸브 본체 내에서 직선으로 배치되며, 입구 및 출구 통로의 중심선의 교차점은 90°의 사이각을 형성하는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 상기 밸브 요소와 액추에이터 조립체는 다이어프램과 스템 조립체를 포함하는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제318항에 있어서, 상기 다이어프램과 스템 조립체는 밸브 스템에 작동 부재를 체결시킨 상태로 밸브 본체의 외부로 연장하는 밸브 스템을 포함하는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제319항에 있어서, 상기 작동 부재는 핸들, 수동 휠 및 자동 액추에이터로 이루어진 그룹에서 선택된 부재를 포함하는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 상기 밸브 본체는 스테인레스강, 알루미늄, 하스텔로이(hastelloy), 니켈, 탄소강으로 이루어진 그룹에서 선택된 물질로 형성되는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 제291항에 있어서, 입구 통로와 출구 통로의 직경은 서로에 대해 10% 내에 속하는 것인 높은 컨덕턴스 밸브.
- 유체 용기에 결합된 제291항에 따른 밸브를 포함하는 것인 유체 운반 시스템.
- 제323항에 있어서, 상기 유체 용기는 반도체 제조에 사용하기 위한 시약을 담고 있는 것인 유체 운반 시스템.
- 제324항에 있어서, 상기 시약은 유기 금속 시약, 엣치 시약, 클리닝 시약, 포토레지스트 선구 물질 및 도펀트로 이루어진 그룹에서 선택되는 것인 유체 운반 시스템.
- 제324항에 있어서, 상기 시약은 디카보란, 옥타디카보란을 포함하는 것인 유체 운반 시스템.
- 제323항에 있어서, 용기의 가열을 위해 배치된 히터를 더 포함하는 것인 유체 운반 시스템.
- 제323항에 있어서, 상기 유체 용기는 (Ⅰ) 증발 가능한 고체, (Ⅱ) 증기 발생용 액체, (Ⅲ) 미립자로 된 물리적 흡착제 매체의 베드 상에 흡착 가능하게 보유된 가스, 및 (Ⅳ) 용기 내에 압축된 상태로 유지된 유체로 이루어지 그룹에서 선택된 소스 화학물을 담고 있으며, 용기는 용기로부터의 유체의 저압 분배를 가능하게 해주는 설정점을 지닌 내부 유체 압력 조절기를 포함하는 것인 유체 운반 시스템.
- 반도체 제조용 툴에 결합된 제291항의 밸브를 포함하는 것인 반도체 제조용 시스템.
- 제329항에 있어서, 반도체 제조 툴은 이온 주입 툴, 화학 증착용 툴 및 포토레지스트 엣칭 툴로 이루어진 그룹에서 선택된 툴을 포함하는 것인 반도체 제조용 시스템.
- 반도체 제조용 툴에 결합된 제323항의 유체 운반 시스템을 포함하는 반도체 제조용 시스템.
- 제331항에 있어서, 상기 반도체 제조용 툴은 이온 주입 툴, 화학 증착용 툴 및 포토레지스트 엣칭 툴로 이루어진 그룹에서 선택된 툴을 포함하는 것인 반도체 제조용 시스템.
- 제291항의 밸브를 사용하는 방법으로서, 밸브를 유체와 유체 제어 관계로 배치하는 단계와, 상기 공정에 의해 요구되는 속도로 유체를 유체 소모 공정으로 분배하기 위해 밸브를 선택적으로 개방하는 단계를 포함하는 것인 밸브 사용 방법.
- 제333항에 있어서, 상기 유체는 20torr 미만의 압력으로 있는 것인 밸브 사용 방법.
- 제334항에 있어서, 상기 유체는 고체 소스 물질의 휘발에 의해 생성되는 것인 밸브 사용 방법.
- 제333항에 있어서, 상기 유체는 0.005 내지 10torr의 범위의 압력으로 있는 것인 밸브 사용 방법.
- 제323항의 유체 운반 시스템을 사용하는 방법으로, 용기 내에 시약을 제공하는 단계와, 상기 공정에 의해 요구되는 속도로 시약을 용기로부터 시약 소모 공정으로 분배하기 위해 밸브를 선택적으로 개방하는 단계를 포함하는 것인 유체 운반 시스템의 사용 방법.
- 제337항에 있어서, 상기 시약은 20torr 미만의 압력으로 있는 것인 유체 운반 시스템의 사용 방법.
- 제337항에 있어서, 상기 시약은 용기 내에 휘발되는 고체 소스 물질이며, 증기는 용기로부터 분배되는 것인 유체 운반 시스템의 사용 방법.
- 제337항에 있어서, 상기 유체는 0.005 내지 10torr의 범위의 압력으로 있는 것인 유체 운반 시스템의 사용 방법.
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101140369B1 (ko) * | 2010-03-26 | 2012-05-03 | 최선규 | 이플루오르화크세논을 이용한 기판 가공장치 및 다이싱 방법 |
| KR101149450B1 (ko) * | 2008-06-24 | 2012-05-25 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 증착원, 성막 장치 및 성막 방법 |
Families Citing this family (104)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7300038B2 (en) | 2002-07-23 | 2007-11-27 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method and apparatus to help promote contact of gas with vaporized material |
| US6921062B2 (en) | 2002-07-23 | 2005-07-26 | Advanced Technology Materials, Inc. | Vaporizer delivery ampoule |
| EP1793187B1 (en) * | 2004-09-21 | 2011-11-23 | Vives Joan Iglesias | Method and machine for the sintering and/or drying of powder materials using infrared radiation |
| US7955797B2 (en) | 2004-10-25 | 2011-06-07 | Advanced Technology Materials, Inc. | Fluid storage and dispensing system including dynamic fluid monitoring of fluid storage and dispensing vessel |
| US7819981B2 (en) * | 2004-10-26 | 2010-10-26 | Advanced Technology Materials, Inc. | Methods for cleaning ion implanter components |
| FR2878453B1 (fr) * | 2004-11-30 | 2007-03-16 | Centre Nat Rech Scient Cnrse | Dispositif de fourniture de vapeurs d'un precurseur solide a un appareil de traitement |
| GB2432371B (en) * | 2005-11-17 | 2011-06-15 | Epichem Ltd | Improved bubbler for the transportation of substances by a carrier gas |
| US20080241805A1 (en) * | 2006-08-31 | 2008-10-02 | Q-Track Corporation | System and method for simulated dosimetry using a real time locating system |
| US8524321B2 (en) * | 2007-01-29 | 2013-09-03 | Praxair Technology, Inc. | Reagent dispensing apparatus and delivery method |
| JP5011013B2 (ja) * | 2007-07-24 | 2012-08-29 | 大陽日酸株式会社 | 二フッ化キセノンガス供給装置 |
| JP5141141B2 (ja) * | 2007-08-23 | 2013-02-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 気化器、気化器を用いた原料ガス供給システム及びこれを用いた成膜装置 |
| US20090078253A1 (en) * | 2007-09-20 | 2009-03-26 | Fan Bao | Herbal and aromatherapy vaporizer |
| US9034105B2 (en) | 2008-01-10 | 2015-05-19 | American Air Liquide, Inc. | Solid precursor sublimator |
| CN101939079B (zh) * | 2008-02-05 | 2013-06-12 | 应用材料公司 | 用于处理来自制程的可燃性废气的系统及方法 |
| CN101939713B (zh) * | 2008-02-05 | 2013-05-22 | 应用材料公司 | 运作电子装置制造系统的方法与设备 |
| TWI494975B (zh) | 2008-02-11 | 2015-08-01 | Advanced Tech Materials | 在半導體處理系統中離子源之清洗 |
| US8137468B2 (en) | 2008-03-17 | 2012-03-20 | Applied Materials, Inc. | Heated valve manifold for ampoule |
| US8282788B2 (en) * | 2009-05-18 | 2012-10-09 | Bing-Nan Lee | Extraction apparatus and method of extracting essential oils, essence, and pigments from odorous raw material by microwave heating under sub-critical conditions |
| CN101642723B (zh) * | 2009-09-02 | 2012-01-25 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 温度可控溶剂蒸气压梯度仪 |
| US9297071B2 (en) | 2009-11-02 | 2016-03-29 | Sigma-Aldrich Co. Llc | Solid precursor delivery assemblies and related methods |
| WO2011060444A2 (en) * | 2009-11-16 | 2011-05-19 | Fei Company | Gas delivery for beam processing systems |
| US20110232588A1 (en) * | 2010-03-26 | 2011-09-29 | Msp Corporation | Integrated system for vapor generation and thin film deposition |
| TW201200614A (en) * | 2010-06-29 | 2012-01-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Coating device |
| CN102312200B (zh) * | 2010-06-30 | 2014-04-23 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 蒸镀机 |
| TW201202454A (en) * | 2010-07-07 | 2012-01-16 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Processing apparatus for smoothing film material and evaporation deposition device with same |
| US8869792B1 (en) | 2010-07-22 | 2014-10-28 | Chung Ju Lee | Portable vaporizer |
| US20120028408A1 (en) * | 2010-07-30 | 2012-02-02 | Christopher Baker | Distributor heater |
| JP2012190828A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-10-04 | Air Liquide Japan Ltd | 固体材料ガスの供給装置および供給方法 |
| EP2807439B1 (en) * | 2012-01-27 | 2017-08-23 | Carrier Corporation | Evaporator and liquid distributor |
| US20140373930A1 (en) * | 2012-02-03 | 2014-12-25 | Tetra Laval Holdings & Finance S.A. | Liquid processing system with secondary sub-systems for reducing product losses and water consumption |
| US8894770B2 (en) * | 2012-03-14 | 2014-11-25 | Andritz Iggesund Tools Inc. | Process and apparatus to treat metal surfaces |
| US9598766B2 (en) | 2012-05-27 | 2017-03-21 | Air Products And Chemicals, Inc. | Vessel with filter |
| KR20200124780A (ko) | 2012-05-31 | 2020-11-03 | 엔테그리스, 아이엔씨. | 배취식 침착을 위한 고 물질 플럭스를 갖는 유체의 소스 시약-기반 수송 |
| KR101398640B1 (ko) * | 2012-11-05 | 2014-05-27 | 한국표준과학연구원 | 고온 보관 장치 |
| JP5837869B2 (ja) * | 2012-12-06 | 2015-12-24 | 株式会社フジキン | 原料気化供給装置 |
| WO2014134298A1 (en) * | 2013-02-27 | 2014-09-04 | Nol-Tec Systems, Inc. | System for utilizing multiple vessels for continuous injection of material into a convey line |
| KR102077803B1 (ko) * | 2013-05-21 | 2020-02-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착원 및 유기층 증착 장치 |
| WO2015027099A1 (en) | 2013-08-21 | 2015-02-26 | Nol-Tec Systems, Inc. | Dispensing assembly with continuous loss of weight feed control |
| JP6111171B2 (ja) * | 2013-09-02 | 2017-04-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜方法及び成膜装置 |
| TWI684754B (zh) * | 2014-03-06 | 2020-02-11 | 愛爾蘭商愛克斯崔里斯環球公司 | 吸入性取樣系統之改良技術 |
| US10392700B2 (en) * | 2014-04-21 | 2019-08-27 | Entegris, Inc. | Solid vaporizer |
| US10502136B2 (en) * | 2014-10-06 | 2019-12-10 | Bha Altair, Llc | Filtration system for use in a gas turbine engine assembly and method of assembling thereof |
| CN104544764B (zh) * | 2014-11-30 | 2017-03-01 | 东莞市联洲知识产权运营管理有限公司 | 一种制鞋烘道 |
| US10675854B2 (en) * | 2015-01-16 | 2020-06-09 | Raytheon Technologies Corporation | Additive processing apparatus and method |
| EP3295075A4 (en) * | 2015-05-12 | 2019-03-20 | Entegris, Inc. | VALVE ARRANGEMENTS AND LIQUID STORAGE AND PACKING THEREFORE |
| MY190445A (en) | 2015-08-21 | 2022-04-21 | Flisom Ag | Homogeneous linear evaporation source |
| TWI624554B (zh) * | 2015-08-21 | 2018-05-21 | 弗里松股份有限公司 | 蒸發源 |
| CN105056421B (zh) * | 2015-09-09 | 2018-07-17 | 大同裕隆环保有限责任公司 | 失效自检式化学氧自救器 |
| CN105180674A (zh) * | 2015-09-30 | 2015-12-23 | 山东泰行环保科技有限公司 | 散热器的抽真空充气系统 |
| US10044338B2 (en) * | 2015-10-15 | 2018-08-07 | Lam Research Corporation | Mutually induced filters |
| EP3368651A4 (en) * | 2015-10-27 | 2019-06-05 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | TRANSPORTATION OF A PERMANENT ORGANIC CONNECTION |
| US9446742B1 (en) | 2015-11-10 | 2016-09-20 | NuVinAir, LLC | Apparatus and system for air-borne cleaning of surfaces |
| US11535205B2 (en) | 2015-11-10 | 2022-12-27 | NuVinAir, LLC | Apparatus and systems with timer for air-borne cleaning of surfaces |
| USD1032817S1 (en) | 2016-03-08 | 2024-06-25 | NuVinAir, LLC | Apparatus for releasing a gaseous cleaning agent |
| US10207878B1 (en) | 2016-03-31 | 2019-02-19 | Nol-Tec Systems, Inc. | Pneumatic conveying system utilizing a pressured hopper with intermittent volumetric feed control |
| CN108699688B (zh) * | 2016-04-26 | 2020-04-24 | 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司 | 前体供应系统和前体供应方法 |
| US10072962B2 (en) | 2016-07-05 | 2018-09-11 | Ecolab Usa Inc. | Liquid out-of-product alarm system and method |
| KR102001553B1 (ko) * | 2016-10-20 | 2019-07-17 | (주)플렉센스 | 바이오센서 |
| CA2988904C (en) | 2016-12-21 | 2020-05-05 | Viavi Solutions Inc. | Hybrid colored metallic pigment |
| CA3111745C (en) * | 2016-12-21 | 2023-04-04 | Viavi Solutions Inc. | Particles having a vapor deposited colorant |
| KR102344996B1 (ko) * | 2017-08-18 | 2021-12-30 | 삼성전자주식회사 | 전구체 공급 유닛, 기판 처리 장치 및 그를 이용한 반도체 소자의 제조방법 |
| US10179318B1 (en) * | 2017-09-20 | 2019-01-15 | Airgas, Inc. | Method for generating formaldehyde monomer vapor |
| US10112165B1 (en) * | 2017-09-20 | 2018-10-30 | Airgas, Inc. | Apparatus for generating formaldehyde monomer vapor |
| JP7137921B2 (ja) * | 2017-11-07 | 2022-09-15 | 株式会社堀場エステック | 気化システム及び気化システム用プログラム |
| DE102017126126A1 (de) * | 2017-11-08 | 2019-05-09 | Aixtron Se | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines Dampfes durch die Verwendung von in einem Regelmodus gewonnenen Steuerdaten |
| US12152807B2 (en) * | 2018-02-12 | 2024-11-26 | Noritake Co., Limited | Liquid atomizing apparatus |
| JP2019151894A (ja) * | 2018-03-05 | 2019-09-12 | 東芝メモリ株式会社 | 気化装置および気化ガス供給ユニット |
| US10307783B1 (en) * | 2018-05-15 | 2019-06-04 | The Procter & Gamble Company | Microfluidic cartridge and microfluidic delivery device comprising the same |
| US11535931B2 (en) | 2018-06-26 | 2022-12-27 | Kokusai Electric Corporation | Method of manufacturing semiconductor device, method of managing parts, and recording medium |
| US11274367B2 (en) | 2018-07-24 | 2022-03-15 | Lintec Co., Ltd. | Vaporizer |
| JP6694093B2 (ja) * | 2018-07-24 | 2020-05-13 | 株式会社リンテック | 気化器 |
| US11634812B2 (en) * | 2018-08-16 | 2023-04-25 | Asm Ip Holding B.V. | Solid source sublimator |
| WO2020097052A1 (en) * | 2018-11-05 | 2020-05-14 | Juul Labs, Inc. | Cartridges for vaporizer devices |
| FR3088078B1 (fr) * | 2018-11-06 | 2021-02-26 | Riber | Dispositif d'evaporation pour systeme d'evaporation sous vide, appareil et procede de depot d'un film de matiere |
| CN109718720B (zh) * | 2018-11-21 | 2021-08-06 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种低压气体氛围模拟装置 |
| CN109621868B (zh) * | 2018-12-13 | 2020-12-04 | 滨州富创科技服务有限公司 | 一种摆动型氯化氢生产装置 |
| JP6901153B2 (ja) | 2019-02-07 | 2021-07-14 | 株式会社高純度化学研究所 | 薄膜形成用金属ハロゲン化合物の固体気化供給システム。 |
| JP6887688B2 (ja) * | 2019-02-07 | 2021-06-16 | 株式会社高純度化学研究所 | 蒸発原料用容器、及びその蒸発原料用容器を用いた固体気化供給システム |
| US11404290B2 (en) | 2019-04-05 | 2022-08-02 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for pulse gas delivery |
| JP7240993B2 (ja) * | 2019-08-27 | 2023-03-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 原料ガス供給システム及び原料ガス供給方法 |
| KR20220057608A (ko) * | 2019-09-18 | 2022-05-09 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 원료 가스 공급 시스템 및 원료 가스 공급 방법 |
| CN114402093A (zh) * | 2019-09-24 | 2022-04-26 | 东京毅力科创株式会社 | 原料供给装置和原料供给方法 |
| TWI846960B (zh) | 2019-10-04 | 2024-07-01 | 法商液態空氣喬治斯克勞帝方法研究開發股份有限公司 | 低揮發性前驅物的供應系統 |
| US20210123134A1 (en) | 2019-10-24 | 2021-04-29 | Entegris, Inc. | Sublimation ampoule with level sensing |
| JP7516742B2 (ja) * | 2019-11-05 | 2024-07-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板を処理する装置、処理ガスを濃縮する装置、及び基板を処理する方法 |
| KR102641135B1 (ko) * | 2019-12-16 | 2024-02-28 | 가부시키가이샤 후지킨 | 기화 공급 방법 및 기화 공급 장치 |
| CN111203155B (zh) * | 2020-01-16 | 2024-08-20 | 天津大学 | 用于制备固体气相反应物的二级加温前处理系统 |
| KR102319130B1 (ko) * | 2020-03-11 | 2021-10-29 | 티오에스주식회사 | 가변 온도조절 장치를 구비한 금속-산화물 전자빔 증발원 |
| JP7478028B2 (ja) * | 2020-05-27 | 2024-05-02 | 大陽日酸株式会社 | 固体材料供給装置 |
| CN113930738B (zh) * | 2020-06-29 | 2023-09-12 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种真空镀膜用的金属蒸汽调制装置及其调制方法 |
| CN111733392A (zh) * | 2020-07-01 | 2020-10-02 | 中国科学院化学研究所 | 一种气相团簇反应装置、反应系统与方法 |
| KR20220008420A (ko) | 2020-07-13 | 2022-01-21 | 삼성전자주식회사 | 가스 공급 장치 |
| TWI745063B (zh) * | 2020-08-31 | 2021-11-01 | 七宇實業股份有限公司 | 以低動力控制大流量之氣體安全裝置 |
| EP3991833A1 (en) * | 2020-10-30 | 2022-05-04 | Hysilabs, SAS | System for on-demand production of hydrogen from a carrier fluid and disposal of solid byproducts |
| US11834740B2 (en) * | 2020-11-10 | 2023-12-05 | Applied Materials, Inc. | Apparatus, system, and method for generating gas for use in a process chamber |
| KR20220097268A (ko) * | 2020-12-31 | 2022-07-07 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 전구체 물질의 효율적인 기화를 위한 용기 및 이를 사용하는 방법 |
| DE102021110400A1 (de) * | 2021-04-23 | 2022-10-27 | Krones Aktiengesellschaft | Leimdampfabsaugvorrichtung für eine Etikettiermaschine, Heißleimwerk mit der Leimdampfabsaugvorrichtung und Heißleimverfahren |
| US11584990B2 (en) | 2021-07-02 | 2023-02-21 | Applied Materials, Inc. | Bottom fed sublimation bed for high saturation efficiency in semiconductor applications |
| CN114320799B (zh) * | 2021-12-06 | 2024-11-01 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种固态工质射频离子电推进系统 |
| JP7606491B2 (ja) | 2022-07-07 | 2024-12-25 | 大陽日酸株式会社 | 固体材料容器、固体材料供給装置、及び固体材料供給方法 |
| CN115415224B (zh) * | 2022-09-01 | 2024-03-22 | 山西华青环保股份有限公司 | 一种耐压耐热磷酸法活性炭酸洗装置 |
| CN116237018A (zh) * | 2023-03-16 | 2023-06-09 | 中国辐射防护研究院 | 一种气载放射性碘核级活性炭的制备方法 |
| CN117568782A (zh) * | 2023-10-30 | 2024-02-20 | 研微(江苏)半导体科技有限公司 | 化学反应源供应系统及半导体加工装置 |
| CN118144120B (zh) * | 2024-05-09 | 2024-07-12 | 四川领先微晶玻璃有限公司 | 一种微晶玻璃防自伤毛刺清理装置 |
Family Cites Families (69)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2721064A (en) * | 1951-10-03 | 1955-10-18 | Hugo O Reichardt | Carbonating device |
| US2769624A (en) * | 1953-07-16 | 1956-11-06 | Okey S Burnside | Air cleaner and moistener for carburetors |
| US3834682A (en) * | 1972-06-19 | 1974-09-10 | American Hospital Supply Corp | Mixing column for medical humidifier and method of humidifying inhalable gases |
| US4190965A (en) * | 1979-01-15 | 1980-03-04 | Alternative Pioneering Systems, Inc. | Food dehydrator |
| US4600123A (en) * | 1982-12-16 | 1986-07-15 | Rocket Research Company, A Division Of Rockor, Inc. | Propellant augmented pressurized gas dispensing device |
| JPS60244332A (ja) * | 1984-05-21 | 1985-12-04 | Sharp Corp | 凝縮性材料のガス化供給装置 |
| JPH0817804B2 (ja) * | 1987-12-23 | 1996-02-28 | 雪印乳業株式会社 | 殺菌剤気化装置 |
| JP2651530B2 (ja) * | 1988-04-15 | 1997-09-10 | 住友化学工業株式会社 | 気相成長用有機金属化合物供給装置 |
| JPH0269389A (ja) * | 1988-08-31 | 1990-03-08 | Toyo Stauffer Chem Co | 有機金属気相成長法における固体有機金属化合物の飽和蒸気生成方法 |
| EP0420596B1 (en) * | 1989-09-26 | 1996-06-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Gas feeding device and deposition film forming apparatus employing the same |
| JPH04333572A (ja) * | 1991-05-10 | 1992-11-20 | Chodendo Hatsuden Kanren Kiki Zairyo Gijutsu Kenkyu Kumiai | 酸化物超電導体用ｍｏ原料の気化方法 |
| JPH0598445A (ja) * | 1991-07-05 | 1993-04-20 | Chodendo Hatsuden Kanren Kiki Zairyo Gijutsu Kenkyu Kumiai | 有機金属化学気相蒸着用原料容器 |
| US5347460A (en) * | 1992-08-25 | 1994-09-13 | International Business Machines Corporation | Method and system employing optical emission spectroscopy for monitoring and controlling semiconductor fabrication |
| US5370568A (en) * | 1993-03-12 | 1994-12-06 | Harris Corporation | Curing of a tungsten filament in an ion implanter |
| US5607002A (en) * | 1993-04-28 | 1997-03-04 | Advanced Delivery & Chemical Systems, Inc. | Chemical refill system for high purity chemicals |
| FR2727322B1 (fr) * | 1994-11-30 | 1996-12-27 | Kodak Pathe | Procede pour la sublimation d'un materiau solide et dispositif pour la mise en oeuvre du procede |
| JP3609131B2 (ja) * | 1994-12-06 | 2005-01-12 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | イオンドーピング装置のクリーニング方法 |
| JPH1025576A (ja) * | 1996-04-05 | 1998-01-27 | Dowa Mining Co Ltd | Ｃｖｄ成膜法における原料化合物の昇華方法 |
| US5917140A (en) * | 1996-05-21 | 1999-06-29 | Advanced Technology Materials, Inc. | Sorbent-based fluid storage and dispensing vessel with enhanced heat transfer means |
| US6413476B1 (en) * | 1996-12-05 | 2002-07-02 | Mary F. Barnhart | Aromatic diffuser with replaceable cartridge |
| US5943594A (en) * | 1997-04-30 | 1999-08-24 | International Business Machines Corporation | Method for extended ion implanter source lifetime with control mechanism |
| GB9709659D0 (en) * | 1997-05-13 | 1997-07-02 | Surface Tech Sys Ltd | Method and apparatus for etching a workpiece |
| US5851270A (en) * | 1997-05-20 | 1998-12-22 | Advanced Technology Materials, Inc. | Low pressure gas source and dispensing apparatus with enhanced diffusive/extractive means |
| US6534007B1 (en) * | 1997-08-01 | 2003-03-18 | Applied Komatsu Technology, Inc. | Method and apparatus for detecting the endpoint of a chamber cleaning |
| US6143191A (en) * | 1997-11-10 | 2000-11-07 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method for etch fabrication of iridium-based electrode structures |
| US6018065A (en) * | 1997-11-10 | 2000-01-25 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method of fabricating iridium-based materials and structures on substrates, iridium source reagents therefor |
| US6135128A (en) * | 1998-03-27 | 2000-10-24 | Eaton Corporation | Method for in-process cleaning of an ion source |
| US6620256B1 (en) * | 1998-04-28 | 2003-09-16 | Advanced Technology Materials, Inc. | Non-plasma in-situ cleaning of processing chambers using static flow methods |
| US6107634A (en) * | 1998-04-30 | 2000-08-22 | Eaton Corporation | Decaborane vaporizer |
| US6454860B2 (en) * | 1998-10-27 | 2002-09-24 | Applied Materials, Inc. | Deposition reactor having vaporizing, mixing and cleaning capabilities |
| US6259105B1 (en) * | 1999-05-10 | 2001-07-10 | Axcelis Technologies, Inc. | System and method for cleaning silicon-coated surfaces in an ion implanter |
| JP2000350970A (ja) * | 1999-05-10 | 2000-12-19 | Eaton Corp | イオン注入装置における汚染された表面を洗浄するための方法および装置 |
| US6221169B1 (en) * | 1999-05-10 | 2001-04-24 | Axcelis Technologies, Inc. | System and method for cleaning contaminated surfaces in an ion implanter |
| JP3909792B2 (ja) * | 1999-08-20 | 2007-04-25 | パイオニア株式会社 | 化学気相成長法における原料供給装置及び原料供給方法 |
| US6288403B1 (en) * | 1999-10-11 | 2001-09-11 | Axcelis Technologies, Inc. | Decaborane ionizer |
| US6455903B1 (en) * | 2000-01-26 | 2002-09-24 | Advanced Micro Devices, Inc. | Dual threshold voltage MOSFET by local confinement of channel depletion layer using inert ion implantation |
| DE60106675T2 (de) * | 2000-05-31 | 2005-12-01 | Shipley Co., L.L.C., Marlborough | Verdampfer |
| US6841008B1 (en) * | 2000-07-17 | 2005-01-11 | Cypress Semiconductor Corporation | Method for cleaning plasma etch chamber structures |
| US6581915B2 (en) * | 2000-07-27 | 2003-06-24 | The Procter & Gamble Company | Dispensing device for dispensing scents |
| US6780700B2 (en) * | 2000-08-28 | 2004-08-24 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Method of fabricating deep sub-micron CMOS source/drain with MDD and selective CVD silicide |
| US6887337B2 (en) * | 2000-09-19 | 2005-05-03 | Xactix, Inc. | Apparatus for etching semiconductor samples and a source for providing a gas by sublimation thereto |
| JPWO2002050883A1 (ja) * | 2000-12-18 | 2004-04-22 | 住友精密工業株式会社 | 洗浄方法とエッチング方法 |
| US6685803B2 (en) * | 2001-06-22 | 2004-02-03 | Applied Materials, Inc. | Plasma treatment of processing gases |
| US6718126B2 (en) * | 2001-09-14 | 2004-04-06 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for vaporizing solid precursor for CVD or atomic layer deposition |
| US7780785B2 (en) * | 2001-10-26 | 2010-08-24 | Applied Materials, Inc. | Gas delivery apparatus for atomic layer deposition |
| US6620225B2 (en) * | 2002-01-10 | 2003-09-16 | Advanced Technology Materials, Inc. | Adsorbents for low vapor pressure fluid storage and delivery |
| US7601225B2 (en) * | 2002-06-17 | 2009-10-13 | Asm International N.V. | System for controlling the sublimation of reactants |
| JP4486794B2 (ja) * | 2002-06-17 | 2010-06-23 | エーエスエム インターナショナル エヌ．ヴェー． | 固体の先駆物質から蒸気を生成する方法、基板処理システム及び混合物 |
| US7186385B2 (en) * | 2002-07-17 | 2007-03-06 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for providing gas to a processing chamber |
| US6921062B2 (en) * | 2002-07-23 | 2005-07-26 | Advanced Technology Materials, Inc. | Vaporizer delivery ampoule |
| US7300038B2 (en) * | 2002-07-23 | 2007-11-27 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method and apparatus to help promote contact of gas with vaporized material |
| US6915592B2 (en) * | 2002-07-29 | 2005-07-12 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for generating gas to a processing chamber |
| US6841141B2 (en) * | 2002-09-26 | 2005-01-11 | Advanced Technology Materials, Inc. | System for in-situ generation of fluorine radicals and/or fluorine-containing interhalogen (XFn) compounds for use in cleaning semiconductor processing chambers |
| US7296458B2 (en) * | 2002-10-17 | 2007-11-20 | Advanced Technology Materials, Inc | Nickel-coated free-standing silicon carbide structure for sensing fluoro or halogen species in semiconductor processing systems, and processes of making and using same |
| US7080545B2 (en) * | 2002-10-17 | 2006-07-25 | Advanced Technology Materials, Inc. | Apparatus and process for sensing fluoro species in semiconductor processing systems |
| US7228724B2 (en) * | 2002-10-17 | 2007-06-12 | Advanced Technology Materials, Inc. | Apparatus and process for sensing target gas species in semiconductor processing systems |
| US6908846B2 (en) * | 2002-10-24 | 2005-06-21 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for detecting endpoint during plasma etching of thin films |
| US6779378B2 (en) * | 2002-10-30 | 2004-08-24 | Asm International N.V. | Method of monitoring evaporation rate of source material in a container |
| US7098143B2 (en) * | 2003-04-25 | 2006-08-29 | Texas Instruments Incorporated | Etching method using an at least semi-solid media |
| JP4374487B2 (ja) * | 2003-06-06 | 2009-12-02 | 株式会社Ｓｅｎ | イオン源装置およびそのクリーニング最適化方法 |
| AU2004287485A1 (en) * | 2003-11-05 | 2005-05-19 | Santarus, Inc. | Combination of proton pump inhibitor and sleep aid |
| US7190512B2 (en) * | 2004-04-29 | 2007-03-13 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Optical properties restoration apparatus, the restoration method, and an optical system used in the apparatus |
| US20050260354A1 (en) * | 2004-05-20 | 2005-11-24 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | In-situ process chamber preparation methods for plasma ion implantation systems |
| US20050279384A1 (en) * | 2004-06-17 | 2005-12-22 | Guidotti Emmanuel P | Method and processing system for controlling a chamber cleaning process |
| US7819981B2 (en) * | 2004-10-26 | 2010-10-26 | Advanced Technology Materials, Inc. | Methods for cleaning ion implanter components |
| US20060115590A1 (en) * | 2004-11-29 | 2006-06-01 | Tokyo Electron Limited; International Business Machines Corporation | Method and system for performing in-situ cleaning of a deposition system |
| WO2007055600A2 (en) * | 2005-11-14 | 2007-05-18 | Hiddenhook Limited | Support assembly |
| US20070194470A1 (en) * | 2006-02-17 | 2007-08-23 | Aviza Technology, Inc. | Direct liquid injector device |
| US20080142039A1 (en) * | 2006-12-13 | 2008-06-19 | Advanced Technology Materials, Inc. | Removal of nitride deposits |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101149450B1 (ko) * | 2008-06-24 | 2012-05-25 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 증착원, 성막 장치 및 성막 방법 |
| KR101140369B1 (ko) * | 2010-03-26 | 2012-05-03 | 최선규 | 이플루오르화크세논을 이용한 기판 가공장치 및 다이싱 방법 |
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