JP6694093B2 - 気化器 - Google Patents
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Description
一方、液体原料では、流量制御された液体原料を気化器に導入し、気化器内部で噴霧ガスによってこれを霧化した後、これを加熱によって気化させることになるが、原料がガスの場合に比べて圧力変動が大きい。均一な膜を安定的に作成するためには、このような圧力変動を出来る限り抑制する必要がある。
このような半導体成膜工程で、最新の半導体成膜工程では、キャリアガスを使用しない場合が増えている。このような噴霧ガスやキャリアガスを使用しない気化工程では、後述する理由で噴霧ガスやキャリアガスを使用する場合より圧力変動は著しく大きくなる。
しかし、噴霧器を使用しない最新の方法では、液体原料は細い導入管から滴下され、大粒の液滴のまま気化室に導入される。導入された液滴は、加熱された気化室の内壁に次々と接触し瞬間的に気化される。そのため、気化室の内壁に突沸が次々発生し、気化器の内部圧(気化室の内圧)は大幅に変動する。この変動は成膜装置に供給される原料ガスの粗密となって現れる。これは成膜装置に対して致命的であり、均一な成膜が妨げられる。これが噴霧器を使用しない場合の気化工程における大きな問題となっている。
内部に気化空間5を有する容器本体10と、
前記気化空間5内に設けられ、加熱されている多孔質部材30と、
外部から気化空間5に挿通され、液体原料Lを多孔質部材30に供給する導入管40と、
多孔質部材30にて気化されて生成した原料ガスGを気化空間5から外部に排出するガス排出路7とで構成された気化器1であって、
前記導入管40の出口41が多孔質部材30に接触するように配置され、
前記導入管40の出口41の近傍の側面に微小貫通孔45が穿設されていることを特徴とする。
多孔質部材30の表面に導入管40の出口41が挿入される凹部34が形成されていることを特徴とする。
多孔質部材30が、金属焼結体、セラミックス、金属網積層体又は金属繊維不織布の焼結体で構成されていることを特徴とする。
多孔質部材30が、複数の多孔質板30a・30bの積層体で構成されていることを特徴とする。
多孔質部材30が、複数の多孔質板30a・30bの積層体で構成され、導入管40の出口41側の多孔質板30aに凹部34を形成するための貫通孔34aが設けられ、前記出口41から遠い方の多孔質板30bは平板状に構成されていることを特徴とする。
内部に気化空間5を有する容器本体10と、
前記気化空間5内に設けられ、加熱されている多孔質部材30と、
外部から気化空間5に挿通され、液体原料Lを多孔質部材30に供給する導入管40と、
多孔質部材30にて気化されて生成した原料ガスGを気化空間5から外部に排出するガス排出路7とで構成された気化器1であって、
前記導入管40の出口41が多孔質部材30に接触するように配置され、
前記導入管40の出口41の端面42に至る切欠48が前記出口41の近傍に設けられていることを特徴とする。
そして、導入管40の出口41に一致する点の周囲において、多孔質部材30の表面から液体原料Lが徐々に連続的に蒸発する。これにより気化器1内での圧力変動が大幅に抑制される。
台部23の上面とアウターブロック11の収納穴12の天井面との間には空間が設けられており、この空間を気化空間5とする。また、収納穴12の内周面と台部23との外周面との間に全周にわたって隙間が設けられており、この隙間をガス排出路7の一部を構成するガス排出隙間17とする。
なお、アウターブロック11のヒータ50aで気化空間5内の温度を気化可能な温度に十分に保てる場合は、インナーブロック21のヒータ50bは省略される。逆に、インナーブロック21のヒータ50bで気化空間5内の温度を気化可能な温度に十分に保てる場合は、アウターブロック11のヒータ50aは省略される。
これら多孔質部材30の粒子31の間に設けられた隙間38は互いに連通し(いわゆる、連続気泡型)、且つ多孔質部材30の表面(更には後述する凹部34の内周面と底面)に無数に開口している。厚みは気化空間5の高さ(台部23から収納穴12の天井面までの高さ)より薄く、最大の大きさは台部23の上面全体を覆う大きさである。勿論、浸透した液体原料Lの気化を妨げないのであれば、台部23の上面より小さくてもよい。
最上層の多孔質板30aはそれ以下の多孔質板30bに比べて目詰まりしやすいので、目詰まりを生じた場合には最上層の多孔質板30aだけを交換するようにすればよい。
この導入管40は、全体を1本の毛細管で構成してもよいし、図2、図3のように先端部分の側面に微小貫通孔45を設けてもよい。図では4個の微小貫通孔45が設けられている。
図2の場合では、導入管40は、その先端部分に微小貫通孔45が設けられており、図11の場合は切欠48が設けられており、その出口41は多孔質部材30の上面に接するように設けられている。液体原料Lは加熱により反応生成物が発生しにくいものが選ばれる。
多孔質部材30はインナーブロック21の台部23の上面に固定され、上記のように設定温度に保たれているので、多孔質部材30に浸透した液体原料Lは多孔質部材30にて加熱される。加熱された液体原料Lは、導入管40の周囲にて多孔質部材30の表面に露出している隙間38から突沸なく順次静的に気化して行く。その結果、気化空間5内の圧力変動は極めて小さくなり、安定的な気化が行われる。気化した原料ガスGは、アウターブロック11とインナーブロック21との間のガス排出隙間17、ガス導入孔25、センター穴24、及びガス排出孔26で構成されるガス排出路7を通って次工程に送られる。これにより高精度な成膜が可能となる。
勿論、両ヒータ50a・50bは、熱電対60a・60bにより、熱管理されているので、最初の場合でも両ヒータ50a・50bを併用してもよい。
図11に示す切欠48は微小貫通孔45と同じで、出口41に反応生成物が堆積しても切欠48の、反応生成物堆積高さ以上の部分で開口しており、この部分から液体原料Lが静的に流下し直ちにこれに浸透する。
この場合は、上記のように仮に導入管40の出口41から多孔質部材30の隙間38にかけての範囲で反応生成物が次第に堆積したとしても、堆積物70と導入管40の出口41との間に液体原料Lが流出するだけの隙間が確保されるので、気化作業を中断することなく進められる。流出した液体原料Lは気化する前に多孔質部材30に吸収され、隙間なしの場合と同様、静定な状態を保ちつつ気化される。
離間距離Hは、通常、0.5mm〜1.0mmの間で設定されるが、最大で出口41から、出口41から垂れ下がった滴の下端までの距離ということになる。この値は液体原料Lの表面張力により一定しないが、この値より小さい値を選定すればよく、実際には上記のような値が選定される。この意味からして上記数値は本発明において重要な意味を持つ。
なお、この場合において、最上層(及びこれを含む上層)の多孔質板30aが、下層の多孔質板30bより粗に形成されている場合、最上層(及びこれを含む上層)の多孔質板30aへの液体原料Lの浸透速度が速くなり、上記突沸をより良く抑制できるようになる。
なおこの場合において、多孔質部材30が複数の多孔質板30a・30bで構成され、凹部34用の貫通孔34aが形成されている多孔質板30aと、凹部34用の貫通孔34aが形成されていない平板状の多孔質板30bの内の最上層の多孔質板を上記のように粗に形成したものを用い、平板状の多孔質板30bの内の最上層の多孔質板より下の多孔質板を上記のように密にした場合、粗な部分に液体原料Lの浸透速度が速くなり、上記同様突沸をより良く抑制できるようになる。
Claims (6)
- 内部に気化空間を有する容器本体と、
前記気化空間内に設けられ、加熱されている多孔質部材と、
外部から気化空間に挿通され、液体原料を多孔質部材に供給する導入管と、
多孔質部材にて気化されて生成した原料ガスを気化空間から外部に排出するガス排出路とで構成された気化器であって、
前記導入管の出口が多孔質部材に接触するように配置され、
前記導入管の出口の近傍の側面に微小貫通孔が穿設されていることを特徴とする気化器。
- 多孔質部材の表面に導入管の出口が挿入される凹部が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の気化器。
- 多孔質部材が、金属焼結体、セラミックス、金属網積層体又は金属繊維不織布の焼結体のいずれか1で構成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の気化器。
- 多孔質部材が、複数の多孔質板の積層体で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の気化器。
- 多孔質部材が、複数の多孔質板の積層体で構成され、導入管の出口側の多孔質板に凹部を形成するための貫通孔が設けられ、前記出口から遠い方の多孔質板は平板状に構成されていることを特徴とする請求項2に記載の気化器。
- 内部に気化空間を有する容器本体と、
前記気化空間内に設けられ、加熱されている多孔質部材と、
外部から気化空間に挿通され、液体原料を多孔質部材に供給する導入管と、
多孔質部材にて気化されて生成した原料ガスを気化空間から外部に排出するガス排出路とで構成された気化器であって、
前記導入管の出口が多孔質部材に接触するように配置され、
前記導入管の出口の端面に至る切欠が前記出口の近傍に設けられていることを特徴とする気化器。
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