KR20060130063A - 초미세 층을 갖는 금속 표면을 코팅하는 방법 - Google Patents
초미세 층을 갖는 금속 표면을 코팅하는 방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 강철로 이루어진 금속 스트립 같은 움직이는 기판을 계속하여 코팅하는 방법에 관한 것으로, 100~100nm 두께의 초미세 막으로 형성된 코팅은 기판 위에 깔리고:
- 나노 입자의 산화물을 포함하는 용액으로,
- 제어된 pH의 상태로,
- 상기 기판은 120℃ 이상의 온도이고,
- 침전물의 전체 지속시간이 5초보다 작은 데, 바람직하게 1초보다 작으며.
"순화제"라고 불리는 적어도 하나의 화학적 첨가제가 상기 용액에 투입되고 상기 순화제는 필요한 변경을 가하여 상기 코팅의 형성을 제한하는 효과를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅 방법이다.
순화제, 초미세 층, 강철 스트립, 연속 코팅, 나노입자
Description
본 발명은 산화물 나노입자로 된 초미세 층의 침전물 반작용에 영향을 주는 화학적 첨가제를 이용하여 국제 특허 출원 WO-A-03/048403에 기술된 방법의 개선에 관한 것이다. 그러한 화합물의 첨가는 상기 특허 출원에서보다 더 작은 두께 즉, 100nm보다 더 작은 두께의 층을 얻는다.
국제 특허 출원 WO-A-03/048403에 기술된 방법은 이미 칠해진 금속 스트립(조각)의 생산 단가를 줄이려는 글로벌 프로젝트의 일환이다. 이에 관련해서, 야금가는 도금(전기 도통) 라인의 끝에 래커칠을 하는 과정을 집어넣기를 바란다.
이러한 결과를 얻는 데 있어 어려운 점은 스트립에 대해 도금과 페인트 처리 사이에 빠른 변환 처리를 하는 것이 어렵다. 상기 방법은 역시 크롬산 염에 따라 선택적으로 처리하는 것으로 고려되어 왔다.
도금 및 스피닝(spinning) 후에 스트립의 나머지 열의 이용에 따라, 이 방법은 일하는 데 어떤 외부 에너지 입력을 요하지 않는다.
설치 면에서, 그것은 아연 통을 따라 하강 부분에서 바람직하게 실행된다. 실질적인 관점에서, 냉각을 물 증기의 분사로 완료하는 탈염된 물 탱크에 설치될 수 있다. 여기 고려되는 소형 침전 시스템은 통이나 스프레이 시스템(물의 파도, 분사로 뿌림) 이다. 이렇게 어느 정도 변경함으로써 새로운 장비의 투자가 제한된다.
제 1 개론: 초미세 층
제안된 방법으로 제조된 통상 100nm 보다 작은 초미세 층은 오직 저농도의 입자, 낮은 스트립 온도 또는 둘 다를 갖는 용액에 대해 고려될 수 있다. 나노입자의 고농도 및/또는 고온의 용액에 대한 이런 유형의 침전물을 만들 수 있는 가능성은 간단한 인-라인 적용의 방법에는 매우 유용하다.
더욱이, 산화물의 양호한 내부 응집과 금속에 완벽히 붙은 침전물을 얻는 데 이물질이 아주 중요하다. 실로, 저농도의 용액에 대해 떠도는 나노 입자가 서로 얼마간 이격되어 휘발유가 증발할 때 거의 바르게 모이지 않는다.
그러나 중간 및 고농도의 용액의 이용으로 야기된 한 가지 문제는 도 1에 도시되듯이 산화물 침전물의 표면 위에 부서지기 쉬운 "리브(ribs)"의 그물망을 형성하는 과도한 두께의 형성이다. 이것은 도 2에 도시되듯이 잠입 동안에 야기된 용액과 증기 위상 사이에 우선하는 침전을 초래한다 이것은 통(도 2a) 안에 발생된 샘플 위와 뿌려서(도 2b) 볼 수 있고, 계속되는 페인트 접착은 해롭다.
아연 또는 알루미늄으로 된 제 1층의 건조전에 SiO2, Al2O3 또는 Li2SiO가 개별로 혹은 혼합하여 이루어진 산화 층을 형성하도록 용해된 실리카 및/또는 알루미늄을 포함하는 수용액이 스트립의 표면 위에 분해되도록, 자료 JP-A-63 072887호는 부식에 대해 우수한 저항과 양호한 기계적인 저항을 보여주는 핫 디핑(hot dipping)에 의해 강철 스트립을 만드는 방법을 보여 준다. 그러나, 6가 크롬이 없었던 이전의 출원 WO-A-03/048403의 방법과 대비하여, 부식에 대한 저항과 산화 층의 부착을 증가시키기 위해 크롬산 염의 막이 역시 산화물층 위에 형성된다. 이것은 나노 입자의 양호한 부착이 일정하지 않다는 것을 보여 준다.
자료 JP-A-62 166667호는 스트립의 깊은 회색 탈색을 방지할 목적으로 아연 혹은 아연-알루미늄 합금으로 된 층으로 핫 디핑(hot dipping)해서 코팅된 강철 스트립의 표면 위에 산화물층을 형성하는 방법을 기술한다. 하나 또는 여러 산화물 ZrO2, Cr2O3, Al2O3, Y203, CeO2, ZrBiO4 및 Sb2O3를 포함하는 용액은 침전 후에 스트립 위에 분쇄되어 그것의 온도가 1~100mg/m2의 범위의 농도로 100℃ 보다 크거나 같다. 산화 막의 형성으로 강철 스트립의 막대한 열로 물이 증발된다. 다음에 크롬산 염의 막이 상기 산화층 위에 형성된다. 침전물의 양호한 부착에 이것이 아주 중요하지만 층의 두께의 체크는 고려되거나 기술되지 않는다. 이러한 생략에 대해 크롬산 염의 층을 보상하는 것 같다.
제 2 개론: 온도에 따른 용액의 안정성
스트립이 통에 빠질 때, 그것은 그의 열을 콜레이드 용액에 전달한다. 후자의 과열을 피하여 역으로 통에 영향을 주기 위해, 외부 순환과열 교환기에 의해 과도한 에너지를 분명히 제거한다. 사실, 이런 장비의 출현에도 불구하고 통이 역으로 영향받는다는 것을 안다. 금속-용액 인터페이스에 남아 있는 과도한 열은 이런 책임이 있고 용액의 침전을 초래한다.
통을 제대로 만족스럽게 사용하기 위해서는 휘발유가 끓기까지 용액을 제대로 사용하는 방법을 찾는 것이 절대로 필요하다.
제 3 개론: 기동을 위한 더 넓은 극한
시간이 지남에 따라 일정한 온도를 유지하도록 하기 위해 스프레이의 제방 또는 콜로이드 용액을 포함하는 탱크를 선행하는 냉각 장치의 적용이 가능하다. 기판 상에서 나노 입자의 침전물의 일정한 두께를 보증하기 위해 이러한 파라미터의 제어가 필요하다.
그러나, 통의 제어와 떨어져서 동일 위치에 놓인 차가운 스트립 처리에 비해 경쟁적이기 위하여, 온도의 정밀함에 대한 필요성을 대두시키는 것은 바람직하다. 이렇게, 사용자에게 제한을 두지 않도록, 이런 방법은 온도 레벨에 대한 비교적 높은 수준의 비일정성(uncertainty)으로 기능할 수 있어야 한다.
콜드 방법과 비교하여 이것 같은 "잠입 침전물(immersion deposit)" 처리의 다른 단점은, 기판온도의 변화에 영향받는 데 부가하여, 그것이 스트립 두께의 변화에 민감하다는 것이다. 사실, 주어진 온도에서 주어진 물질에 대해 저장된 열 에너지의 양은 평면 제품의 경우에 두께 때문에 몸체 체적의 함수이다. 사실, 도금 라인 상에 다른 두께의 강철 스트립이 처리될 수 있다.
발명의 목적
본 발명의 목적은 금속을 산화물 바람직하게 실리콘, 티타늄, 지르코늄, 세륨, 이트륨 또는 안티몬의 초미세 보호막으로 코팅하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 통으로의 스트립의 입장온도에 대해 최대 유연성의 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 층의 가볍거나 무거운 무게와 더불어 두께에 의해 침전물의 재생산성을 보장하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 야금가(metallurgist)의 요구조건을 만족하는 용액의 유용한 수명을 보장하는 것이다.
발명의 주요 구성요소
본 발명의 제1 특징은 강철로 이루어진 금속 스트립 같은 움직이는 기판을 계속하여 코팅하는 방법에 관한 것으로, 100~100nm 두께의 초미세 막으로 형성된 코팅은 기판 위에 깔려는 바:
- 나노 입자의 산화물을 포함하는 용액으로,
- 제어된 pH의 상태로,
- 상기 기판은 120℃ 이상의 온도이고,
- 침전물의 전체 지속시간이 5초보다 작은 데, 바람직하게 1초보다 작다.
"순화제(refiner)"라고 불리는 적어도 하나의 화학적 첨가제가 상기 용액에 투입되고 상기 순화제는 필요한 변경을 가하여 상기 코팅의 형성을 제한하는 효과를 갖는 데에 특징이 있다.
발명과 관련하여, 코팅될 기판은 순 금속, 바람직하게 강철, 알루미늄, 아연 또는 구리; 혹은 제2 금속으로 코팅된 제1 금속, 바람직하게 아연, 알루미늄, 주석 또는 이것들 중에 적어도 두 개의 합금의 층으로 코팅된 강철 스트립이다.
나노입자는 산화물, 바람직하게 SiO2, TiO2, ZrO2, Al2O3, CeO2, Sb2O5, Y2O3, ZnO, SnO2 또는 이러한 산화물의 혼합물을 포함하고, 소수성(疏水性)으로 1과 100nm 사이의 크기로, 0.1과 10% 사이 바람직하게 0.1과 1% 사이 함유량의 용액 속에 있다.
순환제의 농도는 용액의 리터당 1~20g(g/L)이고, 바람직하게 5~10g/L이다.
특히, 실리카 나노입자의 침전에 사용된 순화제는 카테친과 그의 유도체, 불화수소산, 붕산, 붕산염, 나트륨과 탄산칼슘과 탄화수소, 물에 녹는 암모니아 수산화물과 아민을 포함하는 화합물의 그룹에서 선택된다. 주석 또는 주석 산화물로 된 나노 입자의 침전물에 사용된 순화제는 붕산염, 탄산칼륨과 탄화수소, 물에 녹는 암모니아 수산화물과 아민을 포함하는 화합물의 그룹에서 선택된다. 세륨과 지르코늄 산화물로 된 나노입자의 침전물에 사용된 순화제는 불화수소산, 붕산과 카르복실산과 바람직하게 의산, 초산, 아스코르빈산과 구연산을 포함하는 화합물의 그룹에서 선택된다.
본 발명에 따라서, 용액의 불안정화 없이 가능한 한 입자를 재반응하도록 하고 용액의 덩어리를 피하기 위해 입자에 최대 전하를 주도록, 용액과 접촉할 때 금속 기판의 표면을 산화물로 세척하도록 용액의 pH를 조절한다.
특히, SiO2, SnO2, TiO2, ZnO 또는 Sb2O5의 나노 입자에 따라, 용액의 pH는 알칼리성이고, 바람직하게 9~13 사이이다. ZrO2, CeO2, SiO2, 또는 Sb2O5의 나노 입자에 따라, 용액의 pH는 산성이고, 바람직하게는 1과 5 사이이다.
장점으로서, 용액이 시간이 지나도 안정하도록 나노 입자의 혼합물에 따른 용액의 pH가 조절된다. 바람직하게, 아연, 알루미늄, 철, 주석, 크롬, 니켈 또는 구리의 성분을 포함하는 기판의 표면층의 경우에, pH는 알칼리성 또는 산성으로 선택된다.
본 발명의 제1 바람직한 실시예에 따라, 제어된 시간 동안 용액을 포함하는 탱크에 기판을 넣어서 침전이 얻어진다.
본 발명의 제2 바람직한 실시예에 따라, 침전물은 노즐 즉, 용액의 작은 방울을 뿌리는 기구에 의해 기판 위로 용액을 뿌려서 얻어진다.
본 발명의 제3 바람직한 실시예에 따라, 침전물은 기판 위에 용액을 롤러(roller)에 의해 놓으므로 발생한다.
장점으로 스트립과 접촉하는 용액은 100℃ 이하 바람직하게 80℃ 이하의 온도를 유지한다.
다른 장점으로, 침전 초기에 기판의 온도가 125℃보다 높고 250℃보다 낮다.
기판이 이미 처리되기 전에 금속 코팅을 한다면, 침전 초기의 기판 온도는 바람직하게 125℃보다 높고 코팅 금속의 용해점 보다 30~100℃ 만큼 더 낮다.
기판이 잠입에 의한 도금처럼 잠입에 의해 발생된 금속 코팅을 한다면, 침전물은 기판이 냉각되기 전에 금속 코팅의 침전 바로 후에 바람직하게 얻어진다.
바람직하게, 침전하는 동안 제거될 고 레벨의 산화하기 쉬운 기판의 경우에 기판은 질소 또는 아르곤 같은 중성 가스에 의해 공기와 과도한 접촉에서 보호된다.
다시 바람직하게, 용액을 노즐로 뿌리는 경우에 뿌려진 길이 혹은 용액의 침전의 경우에 침전은 잠입의 깊이를 변경함으로써 제한된다.
본 발명에 따라, 용액은 수용액이거나 상기 나노입자를 효과적으로 살포할 수 있는 다른 어떤 솔벤트를 포함한다.
장점으로서, 형성하는 동안에 미끄러짐을 개선하거나/하고 부식에 대한 저항 및/또는 기판 또는 페인팅으로의 부착의 개선에 대한 에이전트가 용액에 추가된다.
유기물과 강한 연결을 형성하는 능력의 유기 실래인 또는 카르복실 산에 따른 용액 또는 물로 이전의 처리 후에 코팅된 기판이 세정되는 방법이 제공될 수 있다.
바람직하게, 발명의 방법은 다음 수단을 포함한다.
-계속 pH를 측정하여 조절,
-반작용의 잉여 제품의 제거와 용액의 보충을 보장,
-표면 위에 동요를 피하기 위해 통의 동종의 혼합물을 보장.
바람직한 실시예에 따라. 스트립과 통의 온도, 스트립이 통에 남는 시간, 통의 나노입자 농도와 통의 pH는 제어된다. 필요하다면, 스트립 온도, 뿌리는 시간의 기간, 뿌려진 용액의 나노입자의 농도, 뿌리는 흐름과 pH는 동일하게 제어된다.
본 발명의 제2 특징은 강철 스트립을 코팅하는 설비에 관한 것으로, 핫 디핑 또는 분사스프레이로 얻어진 제1 코팅층 위에 제2 코팅층을 얻는 장치를 포함하고, 상기 방법을 구현함으로써, 상기 설비는 제1 코팅층의 스피닝과 응고 동작을 하는 소자 뒤에 위치하고, 상기 제2 코팅층은 제1 코팅층이 응고되는 온도보다 적어도 100℃만큼 더 낮은 온도에서 상기 제2 코팅층이 본 설비로 얻어지는 데에 특징이 있다.
본 발명의 제3 특징은 평평한 또는 긴 야금 제품, 바람직하게 상기 방법에 의해 초미세 보호층으로 코팅된 스트립, 전선, 또는 튜브에 관한 것으로, 상기 보호층은 나노입자의 산화물, 바람직하게 Al2O3, Y2O3, SiO2, SnO2, TiO2, ZnO, Sb2O5, ZrO2 혹은 CeO2 또는 이러한 산화물의 혼합물을 포함하고, 100nm보다 작은 두께를 갖는 데에 그 특징이 있다.
장점으로서, 본 발명은 상기의 스트립 코팅된 유형의 야금 제품에 관한 것으로, 그것의 두께는 가능하게 외형부문 또는 튜브가 제조되기 전에 초기 두께는 0.15~5mm 사이이다.
도 1은 본 발명에 따라 처리된 표면의 스캐닝 전자 현미경 영상을 도시하고, SiO2 층은 2% 중량의 농도로 침전된다.
도 2a 및 2b는 본 발명의 방법이 구현될 때 각각 통(a) 안 또는 스프레이(b)로 잠재적인 침전 영역을 도시한다
도 3은 본 발명에 따라 구현된, 도금 강철 위에 코팅된 실리카의 두께를 온도에 따라 XPS로 측정한 전개도를 도시한다. 코팅은 SiO2 2%의 용액에 순화제의 효과로 및 효과 없이 이 경우에 나트륨 붕산염(5g/L), 잠입으로 얻어진다.
나노입자의 산화물의 초미세 층을 얻는 원리에 입각한 본 발명은, 상기 층의 두께가 화학 첨가제가 든 통의 개입으로 제한되어 침전물 재반응을 제한하고,이런 이유로 출원인에 의해 "순화제'로 불린다.
침전되는 동안에 침전의 현상과 통의 안정성은 동일한 화학적 원리에 근거한다. 사실, 잠입에 의한 침전은 두 개 마주보는 메카니즘 사이의 경쟁이다. 한쪽 힘은 용액의 안정성을 제공하여 부서질 나노입자 사이를 연결하고 다른 쪽 힘은 침전되게 한다.
가능한 한 이런 현상을 제대로 제어하기 위해, 어떤 특정의 화학 성분을 갖는 화합물이 용액에 유입된다.
이러한 화합물의 역할은 초미세 층의 용해를 촉매 반응하여 무질서한 침전 즉, 예를 들어 산화물의 표면 위의 그물망을 제거한다. 이러한 화합물은 출원인에 의해 "순화제"로 불리고, 이는 그것이 침전층의 무게를 감소시키기 때문이다. 화학적인 견지에서, 그것들은 침전 재반응에 대해 어느 정도 "독성있는(poisonous)" 있다.
재반응을 제한하는 이런 화합물의 발견은 종래 콜드 처리로 얻어진 것과 같거나 더 좋은 침전의 품질을 꾀하도록 한다.
그것은 스트립의 넓은 범위의 온도에서 나노입자의 동종 두께의 침전물을 얻도록 하여, 침전 층의 무게를 효과적으로 제어한다. 그러므로 이러한 유형의 화학물질의 부가는 더 낮은 온도, 120℃ 이하로 침전을 일으킨다.
그들 농도에 따라, 역시 어느 농도의 나노입자에 대해 초미세 두께의 욕조 층으로 얻을 수 있다.
이런 유형의 화합물은 콜로이드 용액의 pH 범위에서 솔벤트에 녹아야한다. 게다가, 서로 연결되는 나노입자의 연결을 깨는 능력의 덕택으로 온도나 pH 또는 양쪽으로 그들은 콜로이드 용액의 안정도 영역을 촉진한다.
가치있기 위해, 이러한 화합물의 효과는 온도에 따라 증가한다.
본 발명에 따라, 미네랄 또는 유기 화학의 유형은 하나 혹은 여러 유형의 나노입자와 연관된다. 이렇게 실리카에 대한 순화제는 지르코늄 산화물에는 맞지 않는다.
실리카 나노입자의 증착에 대해, 가장 효과적인 유형은 주로 카테친, 불화수소산, 붕산 또는 붕산염, 나트륨과 탄산칼슘과 탄화수소, 물에 녹는 암모니아 수산화물과 아민이다.
주석 또는 주석 산화물 붕산염, 탄산칼륨과 탄화수소에 대해, 물에 녹는 암모니아 수산화물과 아민은 바람직하게 사용된다.
마지막으로, 세륨과 지르코늄 산화물에 대해, 불화수소산, 붕산 또는 카르복실산 또는 의산, 초산, 아스코르빈산과 구연산은 바람직하게 사용될 것이다.
증착이 형성되면, 순화제의 효력 아래 모이지 않은 잉여 나노입자와 나머지 순화제 자체는 빨리 세정제로 제거될 수 있다.
환경에 대한 논리를 확신하도록 사용된 화합물이 발암성이 아니라는 것을 강조하는 것 역시 흥미롭다.
Claims (32)
- 강철로 이루어진 금속 스트립 같은 움직이는 기판을 계속하여 코팅하는 방법에서, 100~100nm 두께의 초미세 막으로 형성된 코팅은 기판 위에 깔리고:- 나노 입자의 산화물을 포함하는 용액으로,- 제어된 pH의 상태로,- 상기 기판은 120℃ 이상의 온도이고,- 침전물의 전체 지속시간이 5초보다 작은 데, 바람직하게 1초보다 작으며."순화제(refiner)"라고 불리는 적어도 하나의 화학적 첨가제가 상기 용액에 투입되고 상기 순화제는 필요한 변경을 가하여 상기 코팅의 형성을 제한하는 효과를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅 방법.
- 제1 항에 있어서, 코팅될 기판은 순 금속, 바람직하게 강철, 알루미늄, 아연 또는 구리; 혹은 제2 금속으로 코팅된 제1 금속, 바람직하게 아연, 알루미늄, 주석 또는 이것들 중에 적어도 두 개의 합금의 층으로 코팅된 강철 스트립을 특징으로 하는, 기판 연속 코팅방법.
- 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 나노입자는 산화물, 바람직하게 SiO2, TiO2, ZrO2, Al2O3, CeO2, Sb2O5, Y2O3, ZnO, SnO2 또는 이러한 산화물의 혼합물을 포함하고, 소수성(疏水性)으로 1과 100nm 사이의 크기로, 0.1과 10% 사이 바람직하게 0.1과 1% 사이 함유량의 용액 속에 있는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 1항 내지 3항 중의 어느 한 항에 있어서, B순환제의 농도는 용액의 리터당 1~20g(g/L)이고, 바람직하게 5~10g/L인 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 4항에 있어서, 실리카 나노입자의 침전에 사용된 순화제는 카테친과 그의 유도체, 불화수소산, 붕산, 붕산염, 나트륨과 탄산칼슘과 탄화수소, 물에 녹는 암모니아 수산화물과 아민을 포함하는 화합물의 그룹에서 선택되는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 4항에 있어서, 주석 또는 주석 산화물로 된 나노 입자의 침전물에 사용된 순화제는 붕산염, 탄산칼륨과 탄화수소, 물에 녹는 암모니아 수산화물과 아민을 포함하는 화합물의 그룹에서 선택되는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 4항에 있어서, 세륨과 지르코늄 산화물로 된 나노입자의 침전물에 사용된 순화제는 불화수소산, 붕산과 카르복실산을 포함하는 화합물의 그룹에서 선택되는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 7항에 있어서, 세륨과 지르코늄 산화물로 된 나노입자의 침전물에 사용된 순화제는 의산, 초산, 아스코르빈산과 구연산을 포함하는 화합물의 그룹에서 선택되는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 상기 항 중의 어느 한 항에 있어서, 용액의 불안정화 없이 가능한 한 입자를 재반응하도록 하고 용액의 덩어리를 피하기 위해 입자에 최대 전하를 주도록, 용액과 접촉할 때 금속 기판의 표면을 산화물로 세척하도록 용액의 pH를 조절하는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 9항에 있어서, SiO2, SnO2, TiO2, ZnO 또는 Sb2O5의 나노 입자에 따라, 용액의 pH는 알칼리성이고, 바람직하게 9~13 사이를 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 9항에 있어서, ZrO2, CeO2, SiO2, 또는 Sb2O5의 나노 입자에 따라 용액의 pH는 산성이고, 바람직하게는 1과 5 사이를 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 10항 또는 11항에 있어서, 용액이 시간이 지나도 안정하도록 나노 입자의 혼합물에 따른 용액의 pH가 조절되는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 9항에 있어서, 아연, 알루미늄, 철, 주석, 크롬, 니켈 또는 구리의 성분을 포함하는 기판의 표면층의 경우에, pH는 알칼리성인 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 9항에 있어서, 아연, 알루미늄, 철, 주석, 크롬, 니켈 또는 구리의 성분을 포함하는 기판의 표면층의 경우에, 용액의 pH는 산성인 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 1항에 있어서, 제어된 시간 동안 용액을 포함하는 탱크에 기판을 넣어서 침전이 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 1항에 있어서, 침전물은 노즐 즉, 용액의 작은 방울을 뿌리는 기구에 의해 기판 위로 용액을 뿌려서 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 1항에 있어서, 침전물은 기판 위에 용액을 롤러(roller)에 의해 증착함으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 1항에 있어서, 스트립과 접촉하는 용액은 100℃ 이하 바람직하게 80℃ 이하의 온도를 유지하는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 1항에 있어서, 침전 초기에 기판의 온도가 125℃보다 높고 250℃보다 낮은 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 19항에 있어서, 기판이 이미 처리되기 전에 금속 코팅을 한다면, 침전 초기의 기판 온도는 바람직하게 125℃보다 높고 코팅 금속의 용해점 보다 30~100℃ 만큼 더 낮은 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 20항에 있어서, 기판이 잠입에 의한 도금처럼 잠입에 의해 발생된 금속 코팅을 한다면, 침전물은 기판이 냉각되기 전에 금속 코팅의 침전 바로 후에 바람직하게 얻어지는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 21항에 있어서, 침전하는 동안 제거될 고 레벨의 산화하기 쉬운 기판의 경우에 기판은 질소 또는 아르곤 같은 중성 가스에 의해 공기와 과도한 접촉에서 보호되는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 20항 또는 제 21항에 있어서, 상기 용액을 노즐로 뿌리는 경우에 뿌려진 길이 혹은 용액의 침전의 경우에 침전은 잠입의 깊이를 변경함으로써 시간상 제한되는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 용액은 수용액이거나 상기 나노입자를 효과적으로 살 포할 수 있는 다른 어떤 솔벤트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 1항에 있어서, 형성하는 동안에 미끄러짐을 개선하거나/하고 부식에 대한 저항 및/또는 기판 또는 페인팅으로의 부착의 개선에 대한 에이전트가 용액에 추가되는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 1항에 있어서, 유기물과 강한 연결을 형성하는 능력의 유기 실래인 또는 카르복실 산에 따른 용액 또는 물로 이전의 처리 후에 코팅된 기판이 세정되는 방법이 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 방법은-계속 pH를 측정하여 조절하고,-반작용의 잉여 제품의 제거와 용액의 보충을 보장하고,-표면 위에 동요를 피하기 위해 통의 동종의 혼합물을 보장하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 15항에 있어서, 스트립과 통의 온도, 스트립이 통에 남는 시간, 통의 나노입자 농도와 통의 pH가 제어되는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 제 16항에 있어서, 스트립 온도, 뿌리는 시간의 기간, 뿌려진 용액의 나노입자의 농도, 뿌리는 흐름과 pH는 동일하게 제어되는 것을 특징으로 하는 기판 연속 코팅방법.
- 핫 디핑(hot dipping) 또는 분사 스프레이로 얻어진 제1 코팅층 위에 제2 코팅층을 얻는 장치를 포함하고, 상기 항 중의 어느 한 항에 따른 방법을 구현하므로서, 상기 설비는 제1 코팅층의 스피닝(spinning)과 응고 동작을 하는 소자 뒤에 위치하고, 상기 제2 코팅층은 제1 코팅층이 응고되는 온도보다 적어도 100℃만큼 더 낮은 온도에서 상기 제2 코팅층이 본 설비로 얻어지는 것을 특징으로 하는 강철 스트립 코팅 설비.
- 평평한 또는 긴 야금 제품, 바람직하게 상기 제 1항 내지 29항 중의 하나에 따른 방법에 의해 초미세 보호층으로 코팅된 스트립, 전선, 또는 튜브로, 상기 보호층은 나노입자의 산화물, 바람직하게 Al2O3, Y2O3, SiO2, SnO2, TiO2, ZnO, Sb2O5, ZrO2 혹은 CeO2 또는 이러한 산화물의 혼합물을 포함하고, 100nm보다 작은 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 코팅된 스트립 유형의 야금 제품.
- 제 31항에 있어서, 가능하게 외형부문 또는 튜브가 제조되기 전에 초기 두께는 0.15~5mm 사이의 코팅된 스트립 유형의 야금 제품.
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