KR20030029872A - 고형 제초제 조성물의 제조 방법 - Google Patents

고형 제초제 조성물의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 a) 설포닐우레아 또는 그의 농업적으로 유용한 염으로 이루어진 군으로부터의 제초제, b) 임의적인 1종 이상의 다른 제초제, c) 임의적인 독성완화제 및 d) 1종 이상의 조성물 보조제를 함유하는 고형 제초제 조성물의 제조 방법에 관한 것이다. 분산액은 물에서 제조하며, 설포닐우레아 a), 임의적인 1종 이상의 다른 제초제 b), 임의적인 독성완화제 c) 및 1종 이상의 조성물 보조제 d)로 이루어진다. 현탁액에 산 또는 염기를 첨가하여 pH 값을 6.5 내지 8로 조절한 후, 건조시켜 고형 조성물을 수득한다.

Description

고형 제초제 조성물의 제조 방법{Method for Producing a Solid Herbicide Formulation}
본 발명은 설포닐우레아, 임의적인 다른 제초제, 임의적인 독성완화제, 및 조성물 보조제를 기재로 한 고형 제초 조성물의 제조 방법에 관한 것이다.
제초 활성 설포닐우레아는 예를 들어 EP 제388,873호, EP 제559,814호, EP 제291,851호 및 DE 제4,007,683호 및 문헌[Conference Proceedings, "Fluorine in Agriculture", January 9-11 1995, Manchester, Chapter "New Fluoro Intermediates for Herbicidal Sulfonylureas"]으로부터 종래 당업계에 공지되어 있다.
이 일반적인 물질의 군에는 또한 본 발명에 따른 고형 조성물에 특히 바람직한 설포닐우레아인 화학식 Ia의 트리토설푸론이 포함된다.
설포닐우레아 기재 조성물은 예를 들어 EP-A 제0,859,548호 및 EP-A 제0,955,809호에 개시되어 있다.
설포닐우레아를 포함하는 조성물은 불리한 조건 하에서 시간이 지남에 따라 활성 성분이 분해될 수 있기 때문에 활성 성분의 안정성에 있어서 문제가 있는 것으로 문헌에 공지되어 있다. 이러한 경우 목적하는 제초 활성이 중단된다. 분해되는 경향은 또한 등록 요건에 있어서도 문제가 되는데, 이는 조성물 중의 식물보호제의 안정성에 대한 특정한 최소 요건이 등록에 규정되어 있기 때문이다.
JP-A 제62/084004호에는 설포닐우레아 포함 조성물에 탄산칼슘 및 트리폴리포스페이트를 사용하는 것이 기술되어 있다.
JP-A 제63/023806호에는 고형 설포닐우레아 포함 조성물의 제조에 특정 캐리어 및 식물성 오일을 사용하여 문제를 해결하는 것이 기술되어 있다. JP-A 제08/104603호에는 에폭시화된 천연 오일을 사용할 경우의 유사한 효과에 대해 기술되어 있다. 상기 출원은 모두 보조제로서 작용하는 상기 물질의 개선된 안정성 뿐만 아니라 이들 물질의 활성향상효과를 달성하기 위해 식물성 오일을 고형 조성물에 혼입시키는 것을 공통된 특징으로 한다.
액체 조성물(일반적으로는 현탁농축액; EP-A 제313,317호 및 EP-A 제554,015호를 참조할 것)에 식물성 오일을 혼입할 경우 유사한 효과가 달성된다.
화학식 Ia의 트리토설푸론의 분해 경향성은 예를 들어 활성 성분의 함량이 감소된다는 점 또는 예를 들어 화학식 A의 2-아미노-4-메톡시-6-트리플루오로메틸트리아진(AMTT)과 같은 분해 생성물이 증가한다는 점으로부터 인지할 수 있다.
EP-A 제0,124,295호에는 pH가 6 내지 10인 카르복실산 또는 무기산의 농업적으로 유용한 염을 활성 성분의 수현탁액에 첨가함으로써 특정 설포닐우레아의 안정한 수성 조성물을 수득할 수 있음이 개시되어 있다. EP-A 제0,124,295호에는 오로지 수성 조성물만이 기술되어 있다.
본 발명의 목적은 종래의 고형 조성물에 비해 보관 수명이 크게 개선된, 설포닐우레아를 활성 성분으로 갖는 고형 조성물의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명자들은 상기 목적이 설포닐우레아 또는 그의 농업적으로 유용한 염으로 이루어진 군으로부터의 제초제 a)를 임의적인 1종 이상의 다른 제초제 b), 임의적인 독성완화제 c) 및 1종 이상의 조성물 보조제 d)와 함께 물에 현탁시켜 현탁액을 생성하고, 현탁액에 산 또는 염기를 첨가하여 pH 6.5 내지 8로 조정하고, 건조시켜 고형 조성물을 생성하는 것을 포함하는,
a) 설포닐우레아,
b) 임의적인 1종 이상의 다른 제초제,
c) 임의적인 독성완화제,
d) 1종 이상의 조성물 보조제를 포함하는 고형 제초 조성물의 제조 방법에 의해 달성될 수 있음을 발견하였다.
적합한 설포닐우레아 a)는 일반적으로 구조 단위
,
특히 구조 단위
또는 구조 단위
를 함유하는 화합물이다.
사용되는 바람직한 설포닐우레아는 화학식 I의 설포닐우레아 또는 그의 농업적으로 유용한 염이다.
식 중,
R1은 페닐, 벤질, 1H-피라졸-5-일, 피리딘-2-일, 티오펜-3-일 및 이미다조[1,2-a]피리딘-3-일로 이루어진 군으로부터 선택된 N-(C1-C4-알킬)-N-(C1-C4-알킬설포닐)아미노 또는 방향족 또는 헤테로방향족 고리이며, 방향족 고리에는 임의로 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-할로알콕시, C1-C4-알콕시-C1-C4-알킬, 카르복실, C1-C4-알콕시카르보닐, 3-옥세타닐옥시카르보닐, 아미노카르보닐, C1-C4-알킬아미노카르보닐, 디-(C1-C4-알킬)아미노카르보닐, C1-C4-알킬설포닐, 포르밀아미노, C1-C4-알킬카르보닐아미노, (C1-C4-알킬카르보닐아미노)-C1-C4-알킬, C1-C4-알킬설포닐아미노, (C1-C4-알킬설포닐아미노)-C1-C4-알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체가 부착되어 있을 수 있고,
R2는 수소 또는 메틸이고,
R3및 R4는 서로 독립적으로 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-할로알콕시, 아미노, C1-C4-알킬아미노, 디-(C1-C4-알킬)아미노이고,
Z는 N, CH를 의미한다.
특히 바람직한 화학식 I의 설포닐우레아는
ACC 322140,
아미노설푸론,
아짐설푸론 (N-[[(4,6-디메톡시-2-피리미디닐)아미노]카르보닐]-1-메틸-4-(2-메틸-2H-테트라졸-5-일)-1H-피라졸-5-설폰아미드),
벤설푸론-메틸 (메틸 2-[[[[[(4,6-디메톡시-2-피리미디닐)-아미노]-카르보닐]아미노]설포닐]메틸]벤조에이트),
에틸 2-[[[[(4-클로로-6-메톡시-2-피리미디닐)-아미노]카르보닐]아미노]설포닐]벤조에이트(클로리무론-에틸),
2-클로로-N-[[(4-메톡시-6-메틸-1,3,5-트리아진-2-일)아미노]카르보닐]벤젠설폰아미드 (클로로설푸론),
클로로설폭심,
시노설푸론,
시클로설파무론,
에타메트설푸론-메틸 (메틸 2-[[[[[4-에톡시-6-(메틸아미노)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]아미노]설포닐]벤조에이트),
에톡시설푸론,
플라자설푸론,
플루피르설푸론 (메틸 2-[[[[(4,6-디메톡시-2-피리미디닐)-아미노]-카르보닐]아미노]설포닐]-6-(트리플루오로메틸)-3-피리딘카르복실레이트),
할로설푸론-메틸,
이마조설푸론,
메틸 2-[[[[(4-메톡시-6-메틸-1,3,5-트리아진-2-일)아미노]-카르보닐]아미노]설포닐]벤조에이트 (메트설푸론-메틸),
니코설푸론 (2-[[[[(4,6-디메톡시-2-피리미디닐)아미노]카르보닐]아미노]설포닐]-N,N-디메틸-3-피리딘카르복사미드),
옥사설푸론,
프리미설푸론 (메틸 2-[[[[[4,6-비스(디플루오로메톡시)-2-피리미디닐]아미노]카르보닐]아미노]설포닐]벤조에이트),
프로설푸론,
피라조설푸론-에틸 (에틸 5-[[[[(4,6-디메톡시-2-피리미디닐)-아미노]카르보닐]아미노]설포닐]-1-메틸-1H-피라졸-4-카르복실레이트),
림설푸론 (N-[[(4,6-디메톡시-2-피리미디닐아미노]카르보닐]-3-(에틸설포닐)-2-피리딘설폰아미드),
설포설푸론,
설포메투론-메틸 (메틸 2-[[[[(4,6-디메틸-2-피리미디닐)-아미노]카르보닐]아미노]설포닐]벤조에이트),
티펜설푸론-메틸 (메틸-3-[[[[(4-메톡시-6-메틸-1,3,5-트리아진-2-일)아미노]카르보닐]아미노]설포닐]-2-티오펜카르복실레이트),
2-(2-클로로에톡시)-N-[[(4-메톡시-6-메틸-1,3,5-트리아진-2-일)-아미노]카르보닐]벤젠설폰아미드 (트리아설푸론),
트리베누론-메틸 (메틸 2-[[[[N-(4-메톡시-6-메틸-1,3,5-트리아진-2-일)-N-메틸아미노]카르보닐]아미노]설포닐]벤조에이트),
트리플루설푸론-메틸 (메틸 2-[[[[[4-(디메틸아미노)-6-(2,2,2-트리플루오로에톡시)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]아미노]설포닐]-3-메틸벤조에이트) 및
화학식 Ia의 트리토설푸론 (N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)벤젠설폰아미드),
및 화학식 Ia'의 트리토설푸론의 소듐염 (N-[[[4-메톡시-6-(트리플루오로메틸)-1,3,5-트리아진-2-일]아미노]카르보닐]-2-(트리플루오로메틸)벤젠설폰아미드, 모노소듐염)이다.
트리토설푸론 및 트리토설푸론의 소듐염이 특히 바람직하다.
설포닐우레아 a) 및 그의 농업적으로 유용한 염의 양은 고형 조성물을 기준으로 0.5 내지 85 중량％, 바람직하게는 25 내지 75 중량％이다.
본 발명에 따른 방법은 1종 이상의 다른 제초제 b)를 동시에 사용하거나 또는 사용하지 않고 실시할 수 있다. 적합한 제초제 b)의 예는 시니돈-에틸, 플로라술람, 플루카르바존, 프로카르바존, 벤타존, 디캄바, MCPA, 메코프로프-P, 클레폭시딤, 시클옥시딤 및 이들의 농업적으로 유용한 염이다.
시니돈-에틸, 플루카르바존, 프로카르바존 및 디캄바가 특히 바람직하다.
제초제 b)의 동시 사용은 임의적이다. 제초제 b)를 동시에 사용할 경우, 제초제 b) 또는 이들의 농업적으로 유용한 염의 양은 고형 조성물을 기준으로 0.5 내지 75 중량％이다.
본 발명에 따른 방법은 독성완화제 c)를 동시에 사용하거나 또는 사용하지 않고 실시할 수 있다. 적합한 독성완화제 c)의 예는 클로퀸토세트, 클로퀸토세트-멕실, 디시클로논, 푸릴라졸, 펜클로라졸, 펜클로라졸-에틸, 메펜피르, 메펜피르-디에틸, 이속사디펜, 이속사디펜-에틸 및 이들의 농업적으로 유용한 염이다.
디시클로논, 이속사디펜 및 이속사디펜-에틸이 특히 바람직하다.
독성완화제 c)의 동시 사용은 임의적이다. 독성완화제 c)를 동시에 사용할 경우, 독성완화제 c) 또는 이들의 농업적으로 유용한 염의 양은 고형 조성물을 기준으로 0.5 내지 50 중량％이다.
상기 성분 a), b) 및 c) 외에, 조성물 보조제를 또한 15 내지 99.5 중량％의 양으로 본 발명에 따른 방법에 동시 사용할 수 있다.
본원에 적합한 계면활성제는 방향족 설폰산, 예를 들면 리그노설폰산, 페놀설폰산, 나프탈렌설폰산 및 디부틸나프탈렌설폰산과 같은 설폰산 및 지방산의 알칼리 금속염, 알칼리 토금속염 또는 암모늄염; 알킬 폴리글리코사이드, 설폰화 나프탈렌의 축합물 및 그의 포름알데히드와의 유도체, 나프탈렌의 축합물 또는 나프탈렌설폰산과 페놀 및 포름알데히드의 축합물, 페놀의 축합물 또는 페놀설폰산과 포름알데히드의 축합물, 페놀과 포름알데히드 및 소듐 설파이트의 축합물, 폴리옥시에틸렌 옥틸페닐 에테르, 에톡시화 이소옥틸-, 옥틸- 또는 노닐페놀, 트리부틸페닐 폴리글리콜 에테르, 알킬아릴 폴리에테르 알코올, 이소트리데실 알코올, 지방 알코올/에틸렌 옥사이드 축합물, 에톡시화 캐스터 오일, 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르, 에톡시화 트리아릴페놀, 인산화 트리아릴페놀 에톡실레이트의 염, 폴리옥시프로필렌 알킬 에테르, 라우릴 알코올 폴리글리콜 에테르 아세테이트, 소르비톨 에스테르, 리그닌-설파이트 폐액 또는 메틸셀룰로오스, 또는 이들의 혼합물이다.
계면활성제를 동시에 사용할 경우, 계면활성제의 양은 일반적으로 고형 혼합물의 총 중량을 기준으로 0.5 내지 50 중량％의 범위이다.
적합한 캐리어는 예를 들어 실리카, 실리카 겔, 실리케이트, 활석, 고령토, 아타클레이(attaclay), 석회암, 백악, 뢰스(loess), 클레이(clay), 백운석, 규조토류, 황산칼슘, 황산마그네슘, 산화마그네슘, 분쇄된 합성 재료, 황산암모늄, 인산암모늄, 질산암모늄, 티오우레아 및 우레아와 같은 비료, 곡류 가루, 나무껍질 가루, 목재 가루 및 견과류의 껍질 가루와 같은 식물성 원료 생성물, 셀룰로오스 분말, 아타풀지트(attapulgite), 몬모릴로나이트(montmorillonite), 운모, 질석, 합성 실리카 및 합성 칼슘 실리케이트 또는 이들의 혼합물이다.
추가적인 첨가제로서
폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐 알코올, 부분가수분해 폴리비닐 아세테이트, 카르복실메틸셀룰로오스, 전분, 비닐피롤리돈/비닐 아세테이트 공중합체 및 폴리비닐 아세테이트, 또는 이들의 혼합물과 같은 결합제,
실리콘 에멀젼, 장쇄 알코올, 인 에스테르, 아세틸렌디올, 지방산 또는 유기불소 화합물과 같은 소포제,
에틸렌디아민테트라아세트산(EDTA)의 염, 트리니트릴로트리아세트산의 염 또는 폴리인산의 염, 또는 이들의 혼합물과 같은 착화제를 통상적인 양 그대로 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 방법에서, 설포닐우레아 a), 임의적인 1종 이상의 제초제 b), 임의적인 독성완화제 c) 및 1종 이상의 조성물 보조제 d)를 물에 현탁시켜 현탁액을 생성하고, 현탁액에 산 또는 염기를 첨가하여 pH 6.5 내지 8로 조절하고, 건조시켜 고형 조성물을 생성한다.
현탁액은 교반 용기에서 성분들을 교반하고 혼합물을 비드 밀(bead mill)로 연마하여 제조한다.
생성된 현탁액에 산 또는 염기를 첨가하여 pH 6.5 내지 8로 조절한다. 현탁액을 pH 6.5 내지 7.5, 특히 바람직하게는 pH 6.8 내지 7.2로 조절하는 것이 바람직하다.
적합한 산은 예를 들어 황산, 염산 또는 p-톨루엔설폰산과 같은 유기산 및 무기산이다.
적합한 염기는 알칼리 금속 수산화물, 알칼리 토금속 수산화물, 암모니아 및 아민이다. NaOH가 바람직하게 사용된다.
고형 조성물은 생성된 현탁액으로부터 복수의 방법으로 제조할 수 있다.
상기 고형 조성물의 바람직한 제조 방법은 분무-건조 및 유동층 응집이다.
유동층 과립화(FBG)가 특히 적합하다. 고형 조성물의 목적하는 조성에 따라, 제형의 모든 성분을 포함하는 현탁액을 FBG 장치에서 분무하고 응집시킨다.
일반적으로, 과립을 유동층 과립화 동안에 충분히 건조시킨다. 그러나, 과립화 단계 후 동일한 건조기 또는 별개의 건조기에서의 별개의 건조 단계를 실시하는 것이 유리할 수 있다. 과립화/건조 후, 생성물을 냉각시키고 스크리닝한다.
적합한 과립화 액체는 물이다. 무기 염, 비이온 계면활성제, 음이온 계면활성제의 수용액, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐 알코올, 카르복시메틸셀룰로오스, 전분, 비닐피롤리딘/비닐 아세테이트 공중합체, 설탕, 덱스트린 또는 폴리에틸렌 글리콜과 같은 결합제의 용액도 또한 적합하다.
본 발명에 따른 방법으로 제조한 고형 조성물은 분말, 과립, 브리키트(briquette), 정제 및 유사한 조성물 변체로 제조할 수 있다. 분말 외에 과립이 특히 바람직하다. 분말은 수용성 또는 수분산성 분말 형태일 수 있다. 과립은 분무 적용 또는 직접 적용 용도의 수용성 또는 수분산성 과립 형태일 수 있으며, 이것은 살포용 과립으로 공지되어 있다. 과립의 평균 입자 크기는 일반적으로 200 ㎛ 내지 2 mm이다.
생성된 과립 조성물은 찬 물에 쉽게 용해되거나 또는 분산될 수 있는 무분진성, 자유-유동성, 비응집성(non-caking) 생성물이다.
이들의 특성으로 인해, 생성물은 보다 많은 양으로 용이하게 포장할 수 있다. 이들은 플라스틱, 종이 또는 라미네이트로 제조된 가방 또는 부대와 같은 용기 또는 판지 상자 또는 다른 화물 용기에 취급할 수 있다. 사용자에게 더 노출되지 않는 것을 방지하기 위해, 예를 들어 폴리비닐 알코올 필름으로 제조된 가방과 같은 수용성 필름 가방에 생성물을 포장하고, 이 필름 가방을 직접 분무 탱크에 위치시켜 필름 가방이 용해되도록 할 수 있다. 이러한 수용성 필름에 사용할 수 있는 재료는 특히 폴리비닐 알코올, 또는 메틸셀룰로오스, 메틸히드록시프로필셀룰로오스 또는 카르복시메틸셀룰로오스와 같은 셀룰로오스 유도체이다. 생성물은 목적하는 용도에 알맞은 양으로 분할되기 때문에 더 이상 사용자와 접촉하지 않는다. 수용성 가방은 바람직하게는 폴리에틸렌 필름, 폴리에틸렌/종이 라미네이트 또는 알루미늄 호일과 같이 증기에 대해 불투과성인 외피로 포장된다.
본 발명에 따른 방법으로 제조한 고형 조성물은 보관 안정성이 있다. 공인 기관에 의해 규정된 보관 시험에 의거, 본 발명에 따른 방법으로 제조한 고형 조성물을 54℃에서 14일 동안 보관한다. 활성 성분 함량의 감소는 예를 들어 트리토설푸론의 경우 높은 감도로 측정가능한 분해 생성물 AMTT의 함량의 증가로 측정할 수 있다.
이하 표는 실시예에서 사용한 성분들을 예시한다.
명칭 화학명 공급처
타몰(Tamol, 등록상표) NH 나프탈렌설폰산/포름알데히드 축합물 바스프 아게(BASF AG)
우폭산(Ufoxane, 등록상표) 3A 리그노설폰산나트륨 보레가르드(Borregaard)
안티샤우미텔 SRE (antischaummittel SRE, 등록상표) 실리콘 오일 에멀젼 바커-케미 (Wacker-Chemie)
레악스(Reax, 등록상표) 88 A 리그노설폰산 나트륨 베스트바코(Westvaco)
<방법예>
<실시예 1>
증류수 1100 g,
안티샤우미텔 SRE 7.6 g,
레악스 88 A 212.5 g 및
공업용 트리토설푸론 653 g
으로 이루어진 혼합물을 혼합하고, 혼합물을 비드 밀에서 분쇄하였다. 생성된 현탁액을 수산화나트륨 수용액(농도 25％)을 사용하여 목적하는 pH 5.1, 6, 7, 8 및 9로 조절하였다. 그 후에, 현탁액을 페트리 디쉬에 적용하고, 진공 건조 오븐에서 건조 온도 70℃로 건조시켰다. 스크레이퍼(scraper)를 이용하여 건조된 코팅물을 페트리 디쉬로부터 벗겨내고, 0.5 mm 체에 통과시켰다. 0.1 mm 체를 이용하여 미분말을 분리하였다. 수득한 생성물을 활성 성분의 안정성에 대하여 시험하였다.
<실시예 2>
공업용 트리토설푸론 203.2 g,
공업용 플루카르바존-소듐 122.3 g,
안티샤우미텔 SRE 4 g,
타몰 NH 55.1 g,
우폭산 3A 110.2 g, 및
증류수 650 g
으로 이루어진 혼합물을 혼합하고, 비드 밀에서 분쇄하였다. 생성된 현탁액을 수산화나트륨 수용액(농도 25％)을 이용하여 목적하는 pH 6.5 및 7.0으로 조절하였다. 그 후에, 현탁액을 페트리 디쉬에 적용하고, 진공 건조 오븐에서 건조 온도 70℃로 건조시켰다. 스크레이퍼를 이용하여 건조된 코팅물을 페트리 디쉬로부터 벗겨내고, 0.5 mm 체에 통과시켰다. 0.1 mm 체를 이용하여 미분말을 분리하였다. 수득한 생성물을 활성 성분의 안정성에 대하여 시험하였다.
<실시예 3>
트리토설푸론 101.6 g,
공업용 디캄바 528.6 g,
안티샤우미텔 SRE 6.4 g,
레악스 88A 102.7 g, 및
증류수 637.9 g
으로 이루어진 혼합물을 교반 용기에서 혼합하였다. 먼저, 물 및 레악스 88A를 도입하고, 디캄바를 용기에 충전하였다. 수산화나트륨 수용액(농도 25％)의 첨가에 의해, 디캄바를 반응시켜 용액을 생성하였다. 그 후에, 남아있는 구성 성분들을 혼합하고, 헌탁액을 비드 밀에서 분쇄하였다.
생성된 현탁액을 수산화나트륨 수용액(농도 25 ％)을 이용하여 목적하는 pH 6, 7, 8 및 9로 조절하였다. 그 후에, 현탁액을 페트리 디쉬에 적용하고, 진공 건조 오븐에서 건조 온도 70℃로 건조시켰다. 스크레이퍼를 이용하여 건조된 코팅물을 페트리 디쉬로부터 벗겨내고, 0.5 mm 체에 통과시켰다. 0.2 mm 체를 이용하여 미분말을 분리하였다. 수득한 생성물을 활성 성분의 안정성에 대하여 시험하였다.
<시험 방법>
조성물의 활성 성분 함량 및 AMTT 함량은 모두 정량적 HPLC로 측정하였다. 보관 안정성을 시험하기 위해, 실시예 1 내지 3에 따른 시험 조성물의 시료를 치밀하게 밀봉된 54℃의 유리 용기에서 14일 동안 보관하였다. 그 후에, 시료를 분석하고, 보관 시작에서의 비교 값 (영 값(zero value))과 비교하였다. 활성 성분 함량은 각각 영 값을 기준으로 한 상대량(백분율)으로서 나타내었다. 보관 실험은 CIPAC MT 46법에 따라 실시하였다. 생성물의 보관 수명은 승온에서의 단기간 보관으로 평가하였다.
실시예 1 제조 보관 특이사항
현탁액의 pH 활성 성분 농도, 중량％ 14일, 54℃, 중량％
5.1 트리토설푸론AMTT 74.20.03 99.3 (상대량)0.249
6 트리토설푸론AMTT 72.30.03 99.9 (상대량)0.250
7 트리토설푸론AMTT 71.70.033 100.8 (상대량)0.178
8 트리토설푸론AMTT 67.50.026 100.5 (상대량)0.056 현탁액이 고점성이었음
9 트리토설푸론AMTT 72.40.035 97.7 (상대량)0.234 현탁액이 고점성이었음
실시예 3 제조 보관 특이사항
현탁액의 pH 활성 성분 농도, 중량％ 14일, 54℃, 중량％
6.5 트리토설푸론AMTT플루카르바존-소듐 40.50.02524.1 98.8 (상대량)0.16498.8 (상대량)
7.0 트리토설푸론AMTT플루카르바존-소듐 41.10.01924.3 100 (상대량)0.06599.5 (상대량)
실시예 4 제조 보관 특이사항
현탁액의 pH 활성 성분 농도, 중량％ 14일, 54℃, 중량％
6 트리토설푸론AMTT디캄바 11.90.00960.4 91.3 (상대량)0.470100 (상대량)
7 트리토설푸론AMTT디캄바 11.90.00758.7 99.7 (상대량)0.011100 (상대량)
8 트리토설푸론AMTT디캄바 11.30.00758.5 98.8 (상대량)0.007100 (상대량) 현탁액이 고점성으로 변화하였음
9 트리토설푸론AMTT디캄바 10.40.00658.0 102.6 (상대량)0.007101.9 (상대량) 현탁액이 고점성으로 변화하였음
표 2 내지 4의 데이터는 본 발명에 따른 방법으로 제조한 고형 조성물이 현탁액의 pH가 6보다 높을 경우 보관 안정성이 있다는 것을 명백하게 보여준다. pH 8에서는, 현탁액이 고점성으로 변하여 더 이상의 가공이 어려웠다.

Claims (12)

  1. 설포닐우레아 또는 그의 농업적으로 유용한 염으로 이루어진 군으로부터의 제초제 a)를 임의적인 1종 이상의 다른 제초제 b), 임의적인 독성완화제 c) 및 1종 이상의 조성물 보조제 d)와 함께 물에 현탁시켜 현탁액을 생성하고, 현탁액에 산 또는 염기를 첨가하여 pH 6.5 내지 8로 조정하고, 건조시켜 고형 제초 조성물을 생성하는 것을 포함하는,
    a) 설포닐우레아,
    b) 임의적인 1종 이상의 다른 제초제,
    c) 임의적인 독성완화제,
    d) 1종 이상의 조성물 보조제를 포함하는 고형 제초 조성물의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 사용되는 제초제 a)가 화학식 I의 설포닐우레아 또는 그의 농업적으로 유용한 염인 방법.
    <화학식 I>
    식 중,
    R1은 페닐, 벤질, 1H-피라졸-5-일, 피리딘-2-일, 티오펜-3-일 및이미다조[1,2-a]피리딘-3-일로 이루어진 군으로부터 선택된 N-(C1-C4-알킬)-N-(C1-C4-알킬설포닐)아미노 또는 방향족 또는 헤테로방향족 고리이며, 방향족 고리에는 임의로 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-할로알콕시, C1-C4-알콕시-C1-C4-알킬, 카르복실, C1-C4-알콕시카르보닐, 3-옥세타닐옥시카르보닐, 아미노카르보닐, C1-C4-알킬아미노카르보닐, 디-(C1-C4-알킬)아미노카르보닐, C1-C4-알킬설포닐, 포르밀아미노, C1-C4-알킬카르보닐아미노, (C1-C4-알킬카르보닐아미노)-C1-C4-알킬, C1-C4-알킬설포닐아미노, (C1-C4-알킬설포닐아미노)-C1-C4-알킬로 이루어진 군으로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체가 부착되어 있을 수 있고,
    R2는 수소 또는 메틸이고,
    R3및 R4는 서로 독립적으로 할로겐, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-할로알콕시, 아미노, C1-C4-알킬아미노, 디-(C1-C4-알킬)아미노이고,
    Z는 N, CH를 의미한다.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 사용되는 제초제 a)가 트리토설푸론, 벤설푸론-메틸, 클로리무론-에틸, 클로로설푸론, 시노설푸론, 할로설푸론-메틸, 에타메트설푸론-메틸, 플라자설푸론, 이마조설푸론, 메트설푸론-메틸, 니코설푸론, 프리미설푸론-메틸, 피라조설푸론-에틸, 림설푸론, 설포메투론-메틸, 티펜설푸론-메틸, 트리아설푸론, 트리베누론-메틸, 트리플루설푸론-메틸, 프로설푸론, 에톡시설푸론, 아짐설푸론, 옥사설푸론, 설포설푸론, 요도설푸론, 포람설푸론, 트리플옥시설푸론, 아미도설푸론, 메조설푸론, 플루피르설푸론-메틸, 요도설푸론-메틸, 및 이들의 농업적으로 유용한 염으로 이루어진 군으로부터 선택된 설포닐우레아인 방법.
  4. 제3항에 있어서, 사용되는 제초제 a)가 트리토설푸론 또는 그의 농업적으로 유용한 염들 중 하나인 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 시니돈-에틸, 플로라술람, 플루카르바존, 프로카르바존, 벤타존, 디캄바, MCPA, 메코프로프-P, 클레폭시딤, 시클옥시딤 및 이들의 농업적으로 유용한 염으로 이루어진 군으로부터 선택된 제초제 b)가 사용되는 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 클로퀸토세트, 클로퀸토세트-멕실, 디시클로논, 푸릴라졸, 펜클로라졸, 펜클로라졸-에틸, 메펜피르, 메펜피르-디에틸, 이속사디펜, 이속사디펜-에틸 및 이들의 농업적으로 유용한 염으로 이루어진 군으로부터 선택된 독성완화제 c)가 사용되는 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 사용되는 조성물 보조제 d)가 고형 캐리어인 방법.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 사용되는 조성물 보조제 d)가 계면활성제인 방법.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    설포닐우레아 a) 0.5 내지 85 중량％,
    제초제 b) 0 내지 75 중량％,
    독성완화제 c) 0 내지 50 중량％ 및
    조성물 보조제(들) d) 15 내지 99.5 중량％가 사용되는 방법.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 현탁액을 pH 6.5 내지 7.5로 조절하는 방법.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 현탁액을 pH 6.8 내지 7.2로 조절하는 방법.
  12. 유해 식물의 억제를 위한 제1항의 고형 제초 조성물의 용도.
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