KR20030023486A - 피부나 모발의 케어장치 - Google Patents

Abstract

음이온을 이용하여 효과적인 피부의 케어를 할 수 있는 피부케어장치를 제공하는 것을 과제로 한다.

얼굴, 손목, 팔굼치 또는 무릎, 두피 등 피부표면을 손질하는 피부케어장치이다. 이것에 음이온발생장치를 구비하고, 음이온발생장치에 의해 발생한 음이온을 상기 피부 표면의 손질과 관계없이 또는 병행하여 상기 피부 표면에 방출시키도록 구성한다.

Description

피부나 모발의 케어장치{CARE DEVICE FOR SKIN OR HAIR}

본 발명은 피부나 모발의 케어장치에 관한 것이며, 상세하게는 음이온을 피부나 모발 표면에 방출하여 피부나 모발의 손질효과에 더하여 피부나 모발의 케어 후의 감촉을 더욱 좋게 하는 기술에 관한 것이다.

종래의 피부케어장치의 일 예로서의 스팀식 미안기(美顔器)(A)는 예를 들면도 17에 나타낸 바와 같이 구성되어 있다.

이것은 물을 저장하는 보일러(1)와, 보일러(1)와 시일성을 지니고 접속되어 물을 가열 기화시키는 히터(2)와, 보일러(1)와 시일성을 지니고 착탈 가능하게 피착(被着)되는 급수덮개(3)와, 보일러(1)와 시일성을 지니고 접속되는 스팀경로(4)와, 스팀경로(4)의 하류측에 시일성을 지니고 접속되는 스팀방출용 스팀노즐(5)을 구비하고, 제어회로(6)에는 히터(2)와 스팀의 온／오프 전환스위치(7)와, 스팀경로 (4)에 설치한 스팀을 미세화하기 위한 고압방전장치(8)와, 전원공급용 전원코드 (9)가 접속되어 있다.

그리고, 스팀식 미안기(A)를 사용하고 있을 때에는 히터(2)에서 기화된 스팀이 스팀경로(4)를 지나 고압방전장치(8)에서 미세화되고, 스팀노즐(5)에서 미세화된 스팀이 분출되어, 스팀이 피부에 닿아 피부의 케어가 이루어지도록 되어 있다.

또, 종래의 모발케어장치의 일 예로서의 트리트먼트기구(B)는 예를 들면 도 18에 나타낸 바와 같이 구성되어 있다.

이것은 브리슬(10)면에 음이온을 방출하는 이온방출구(11)를 배설하고 있으며, 이온방출구(11)에는 이온노즐(12)이 설치되어 있다. 이온노즐(12)에는 고압리드선(14)을 접속한 이온전극(13)을 내장하고 있으며, 고압리드선(14)은 이온발생회로(15)에 접속되어 있다.

제어회로(16)에는 이온발생회로(15)와, 이온의 온／오프 전환스위치(17)와 전원공급용 전원코드(18)가 접속되어 있다.

그리고, 브리슬(10)로 머리를 빗어 내려 모발 손질을 할 때, 이온방출구(11)에서 모발에 음이온을 방출하도록 되어 있다.

또, 종래의 모발케어장치의 일 예로서의 드라이어(C)는 예를 들면 도 19에 나타낸 바와 같이 구성되어 있다.

이것은 흡입구(19)와 토출구(20)를 구비하고, 손잡이부와 병용한 원통형 풍동(風洞)(21)내에 송풍용 팬(22)과 모터(23)와 정류날개(24)와 히터(25)를 내장하고 있다.

토출구(20)를 갖는 브리슬(26)면에는 음이온을 방출하는 이온방출구(27)를 배설하고 있으며, 이온방출구(27)에는 이온노즐(28)이 설치되어 있다. 이온노즐 (28)에는 고압리드선(29)을 접속한 이온전극(30)을 내장하고 있으며, 고압리드선 (29)은 이온발생회로(31)에 접속되어 있다.

송풍 및 이온의 온／오프 전환스위치(32)에는 이온발생회로(31)와 모터(23)와 히터(25)와 전원공급용 전원코드(33)가 접속되어 있다.

그리고, 브리슬(26)로 머리를 빗어 내리면서 토출구(20)에서 온풍 등을 분사하여 모발을 건조할 때 이온방출구(27)에서 이온을 방출하도록 되어 있다.

그러나, 상기 종래예의 피부케어장치에 있어서는, 음이온을 병용하여 피부케어를 하도록 한 것이 없다. 그러므로, 음이온을 피부에 부착시켜 보습성을 향상시킬 수 없어서 피부케어가 충분하지 않았다.

또, 종래예의 모발케어장치에 있어서는 음이온을 단독 또는 공기와 병용하여방출하도록 되어 있지만, 음이온의 방출과 스팀의 방출을 병용하여 모발을 케어하도록 되어 있지 않다. 그러므로, 음이온과 스팀을 모발에 부착시켜 보습할 수 없어서 모발의 케어가 충분하지 않았다.

본 발명은 전술한 점을 감안하여 이루어진 것으로서, 음이온을 이용하여 효과적인 피부의 케어나 모발의 케어를 할 수 있는 피부나 모발의 케어장치를 제공하는 것을 과제로 하는 것이다.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 청구항 1의 피부케어장치는, 얼굴, 손목, 팔굼치 또는 무릎, 두피 등 인체의 피부표면을 손질하는 피부케어장치에 있어서, 침형(針形)전극에 고전압을 가하여 코로나방전시켜, 음이온을 발생시키는 음이온발생장치를 구비하고, 음이온발생장치에 의해 발생한 음이온을 상기 피부 표면의 손질과 관계없이 또는 병행하여 상기 피부 표면에 방출시키도록 구성한 것을 특징으로 한다.

피부케어를 할 때 음이온발생장치에 의해 발생하는 음이온이 피부에 부착함으로써, 피부의 보습성이 향상되어 촉촉하고 산뜻하고 매끈한 피부 표면의 감촉을 얻을 수 있다. 이러한 감촉이 이 피부케어장치의 스팀, 공기의 방출 또는 자극에 의한 피부 표면의 손질효과에 더하여 얻어지므로, 피부케어 후의 감촉이 더욱 좋아진다.

또 본 발명의 청구항 2의 피부케어장치는, 청구항 1에 있어서, 스팀을 피부 표면에 방출하도록 구성한 것을 특징으로 한다.

스팀을 음이온에 의해 마이너스 대전(帶電)시킴으로써, 피부에의 스팀부착성을 향상하는 동시에, 스팀의 열로 얼굴, 손목, 팔굼치 또는 무릎 등에 있어서의 해당 부위의 피부 표면의 혈행을 촉진시켜, 피부를 활성화시키고 수분을 효율적으로 피부 표면에 접촉 유지시킬 수 있다.

또 본 발명의 청구항 3의 피부케어장치는, 청구항 2에 있어서, 스팀을 방출하는 스팀노즐과, 음이온발생장치에서 발생한 음이온을 방출하는 이온노즐을 병설한 것을 특징으로 한다.

스팀과 음이온의 방출방향을 일치시킴으로써 스팀에 음이온을 효율적으로 대전시킬 수 있다.

또 본 발명의 청구항 4의 피부케어장치는, 청구항 3에 있어서, 탁상 등에 설치되는 하우징내에 스팀발생장치, 스팀의 발생상태와 온도 등을 제어하는 콘트롤회로를 구비하고, 스팀발생장치에서 보내오는 스팀을 방출하는 스팀노즐을 하우징의 외면에 돌출 설치하고, 스팀노즐과 이온노즐을 일체로 형성하는 동시에, 양 노즐의 하우징으로부터의 돌출방향을 조정 가능하게 하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

손질부위 위치에 적합하게 하여 스팀이나 음이온의 방출방향을 맞출 수 있으므로 사용성이 향상된다.

또 본 발명의 청구항 5의 피부케어장치는, 청구항 3에 있어서, 장치의 사용상태에서의 스팀노즐의 위쪽 위치에 이온노즐을 배설한 것을 특징으로 한다.

음이온을 방출하는 이온노즐로부터의 전계분포와 가벼운 스팀은 위쪽을 향하는 성질에 따라 스팀노즐보다 위쪽에 이온노즐을 설치함으로써 스팀에 음이온을 효율적으로 대전시킬 수 있다.

또 본 발명의 청구항 6의 피부케어장치는, 청구항 3에 있어서, 이온노즐의 이온방출구를 스팀노즐의 스팀방출구보다 방출방향 바로 앞쪽에 배설한 것을 특징으로 한다.

습도의 영향을 받는 음이온은 고습도에서는 그 발생량이 감소해버리므로 이온노즐의 이온방출구를, 스팀노즐의 스팀방출구보다 방출방향 바로 앞측에 배설하여 직접 스팀에 접촉하지 않도록 함으로써, 음이온발생량의 저하가 없이 안정되게 방출시킬 수 있게 되어, 스팀에 음이온을 효율적으로 대전시키는 것이 가능해진다.

또 본 발명의 청구항 7의 피부케어장치는, 청구항 2에 있어서, 방전에 의해 스팀을 미세화하는 고압방전장치를 구비한 것을 특징으로 한다.

고압방전으로 스팀을 미세화하여 음이온을 대전시킴으로써, 음이온대전 미립화 스팀은 피부에 의해 침투 흡수되기 쉬워진다. 또, 스팀은 미립화되어 있으므로 스팀입자의 열용량이 작아 피부에 접촉해도 끈적거림 등의 불쾌감을 없앨 수 있다.

또 본 발명의 청구항 8의 피부케어장치는, 청구항 1에 있어서, 초음파 진동, 기계적인 힘 또는 냉온열 등의 자극을 피부면에 부여하는 접촉자를 갖는 프로브를 설치하여, 이 프로브에 음이온을 방출하는 이온방출구를 구비한 것을 특징으로 한다.

음이온발생장치에 의해 발생되는 음이온이 피부에 부착함으로써, 보습성이 향상되어 촉촉하고 산뜻하고 매끈한 피부 표면의 감촉을 얻을 수 있다. 이러한 감촉이 이 피부케어장치의 초음파 진동, 기계적인 힘 또는 냉온열 등의 자극에 의한 피부손질효과에 더하여 얻어지므로, 피부케어 후의 감촉이 더욱 좋아진다.

또 본 발명의 청구항 9의 피부케어장치는, 청구항 8에 있어서, 접촉자의 피부접촉면에 이온방출구를 개구한 것을 특징으로 한다.

항상 피부에 닿는 접촉자의 피부 접촉면에 이온방출구가 있으므로, 더욱 많은 음이온을 확실하게 피부에 부착시킬 수 있다.

또 본 발명의 청구항 10의 피부케어장치는, 청구항 1에 있어서, 족욕수(足浴水)를 넣어 발을 따뜻하게 할 수 있는 조체(槽體)를 구비하여, 이 조체 내면에 음이온을 방출하는 이온방출구를 구비한 것을 특징으로 한다.

조체내의 족욕수에 발을 담가 발에 충분한 수분을 주어 음이온을 조사함으로써, 발에 있어서의 보습성, 감촉적 효과가 향상된다. 또, 조체내의 족욕수를 온수로 함으로써, 발의 혈행을 촉진하여 상기 효과에 더하여 부종, 냉증 등이 해소 가능해져 발을 건강한 상태로 할 수 있다.

또 본 발명의 청구항 11의 피부케어장치는, 청구항 10에 있어서, 족욕수내에 공기를 분출하는 공기분출구를 조체의 바닥판에 설치하여, 이 공기분출구의 상류측의 유로에 음이온발생장치에 의해 발생되는 음이온의 유로를 합류시킨 것을 특징으로 한다.

음이온을 기포로 하여 조체내의 족욕수내에 효율적으로 투입할 수 있으므로, 발을 물 또는 온수에 담근 상태로 음이온효과를 발생시킬 수 있어, 케어시간단축이 가능해진다.

또 본 발명의 청구항 12의 피부케어장치는, 청구항 1에 있어서, 두피에 브리슬로 진동자극을 주도록 구성하고, 브리슬면에 음이온을 방출하는 이온방출구를 구비한 것을 특징으로 한다.

진동 등에 의한 두피 마사지로 두피의 혈행을 촉진하여 두피를 활성화시키는 동시에, 두피에의 음이온조사에 의해 두피에서의 보습성, 감촉적 효과가 향상하여 두피를 건강한 상태로 할 수 있다.

또 본 발명의 청구항 13의 피부케어장치는, 청구항 1에 있어서, 피부에 접촉하여 처리되는 피부를 플러스전위측에 유지하는 하전(荷電)단자부를 구비한 것을 특징으로 한다.

인체를 플러스로 대전함으로써 피부의 음이온 대전포화가 없어지고, 항상 다량의 음이온이 플러스로 대전된 피부에 끌어 당겨지므로 음이온이 피부에 더욱 부착되기 쉬워진다.

또 본 발명의 청구항 14의 피부케어장치는, 청구항 4에 있어서, 피부에 접촉하여 처리되는 피부를 플러스전위측에 유지하는 하전단자부를 구비하고, 이 하전단자부를 손으로 쥐는 하우징부에 배설한 것을 특징으로 한다.

항상 피부에 닿는 외각(外殼)에 하전단자부를 배설함으로써 손질되는 피부를 플러스전위측으로 의식하지 않고 항상 유지할 수 있다.

또 본 발명의 청구항 15의 피부케어장치는, 청구항 4에 있어서, 피부에 접촉하여 처리되는 피부를 플러스전위측에 유지하는 하전단자부를 구비하고, 이 하전단자부와 하우징내의 하전회로부를 하우징에서 꺼내는 것이 가능한 배선코드로 접속한 것을 특징으로 한다.

피부케어장치 본체에서 안전상의 이유 등으로 떨어져서 사용하지 않으면 안되는 경우, 하전단자부를 연출(延出)시킴으로써 무리한 자세로 사용하지 않아도 되어 사용성을 향상시킬 수 있다.

또 본 발명의 청구항 16의 모발케어장치는, 모발을 가열하는 가열판을 가지며, 모발을 가열판으로 가열하여 정발(整髮)하는 모발케어장치에 있어서, 음이온발생장치를 구비하고, 음이온발생장치에서 발생한 이온을 모발을 향해 방출하는 이온방출구를 형성한 것을 특징으로 한다.

모발을 가열함으로써 모발을 정발할 때, 음이온의 방출에 의해 모발의 보습성, 촉감이 향상하여 모발 케어 후의 감촉이 더욱 좋아진다.

또 본 발명의 청구항 17의 모발케어장치는, 청구항 16에 있어서, 모발을 가열하여 정발할 때에 음이온을 방출하는 상태와 모발의 가열과 관계없이 음이온을 방출하는 상태로 전환할 수 있는 전환수단을 형성한 것을 특징으로 한다.

모발을 가열하여 정발할 때에 음이온을 방출하는 상태와 모발을 가열하지 않을 때에도 음이온을 방출하는 상태로 전환하여 사용할 수 있다.

또 본 발명의 청구항 18의 모발케어장치는, 모발을 가열 협지하는 모발케어장치에 있어서, 음이온발생장치를 구비하고, 모발을 가열 협지하는 협지면에 스팀을 방출하는 스팀방출구와, 음이온발생장치에서 발생한 음이온을 방출하는 이온방출구를 개구한 것을 특징으로 한다.

모발을 가열함으로써 모발로부터 방출되는 수분을 스팀가습으로 보충하고, 또한 음이온의 방출에 의해 모발의 보습성, 촉감이 향상하여 모발 케어 후의 감촉이 더욱 좋아진다.

또 본 발명의 청구항 19의 모발케어장치는, 브리슬을 갖는 모발케어장치에 있어서, 음이온발생장치를 구비하고, 공기를 방출하는 공기방출구와, 스팀을 방출하는 스팀방출구와, 음이온발생장치에서 발생한 음이온을 방출하는 이온방출구를 브리슬면에 구비한 것을 특징으로 한다.

모발의 스팀보습, 건조, 세트, 음이온의 조사를 하나의 모발케어장치(브러시 1개)로 할 수 있고, 모발 케어 후의 감촉을 더욱 좋게 할 수 있다.

도 1은 본 발명의 피부케어장치의 일 예의 단면도.

도 2a 및 2b는 음이온발생장치의 구조의 일 예를 나타내고, 도 2a는 개략 원리도이며, 도 2b는 요부 확대도.

도 3a 및 3b는 음이온발생장치의 구조의 다른 예를 나타낸 단면도.

도 4는 음이온발생장치의 구조의 다른 예를 나타낸 원리도.

도 5는 음이온발생장치의 구조의 다른 예를 나타낸 원리도.

도 6은 음이온발생장치의 구조의 다른 예를 나타낸 원리도.

도 7은 본 발명의 피부케어장치의 다른 예의 일부 생략 단면도.

도 8은 본 발명의 피부케어장치의 다른 예의 요부의 일부 절결 정면도.

도 9a 및 9b는 본 발명의 피부케어장치의 다른 예를 나타내고, 도 9a는 평면도이며, 도 9b는 단면도.

도 10a 및 10b는 본 발명의 피부케어장치의 다른 예를 나타내고, 도 10a는 평면도이며, 도 10b는 단면도.

도 11은 본 발명의 피부케어장치의 다른 예의 단면도.

도 12는 본 발명의 피부케어장치의 다른 예의 단면도.

도 13은 본 발명의 피부케어장치의 다른 예의 일부 생략 단면도.

도 14는 본 발명의 피부케어장치의 다른 예의 일부 생략 단면도.

도 15는 본 발명의 모발케어장치의 다른 예의 단면도.

도 16a 및 16b는 본 발명의 모발케어장치의 다른 예를 나타내고, 도 16a는 일부 절결 평면도이며, 도 16b는 단면도.

도 17은 종래예의 스팀식 미안기(美顔器)의 단면도.

도 18은 종래예의 트리트먼트기구의 단면도.

도 19는 종래예의 드라이어의 단면도.

(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)

51 : 스팀노즐52 : 이온방출구

53 : 이온노즐59 : 스팀방출구

(발명의 실시형태)

본 발명의 피부케어장치나 모발케어장치에서는 음이온을 발생시켜 이 음이온을 피부나 모발에 방출하는 것인데, 이 음이온을 발생하는 음이온발생장치의 기구는 다음과 같이 되어 있다.

도 2a 및 2b는 코로나방전을 이용한 방전식 음이온발생기구의 간략도를 나타낸다. 그라운드에 접속한 대향판(34)(예를 들면 SUS304)을 설치하고, 이에 대하여 고압을 유지하는 침형(針形) 이온전극(35)을 음이온의 발생량이 최대가 되는 거리 (x)로 하여 설치한 것이다.

더욱 많은 음이온을 발생시키기 위해서는, 대향판(34)은 실험상 반원통형상이 바람직하다는 결과를 얻었는데, 반드시 반원통형상으로 하지 않아도 된다.

도 3a 및 3b에 자냉(自冷)방사를 이용한 음이온발생기구의 개략을 나타낸다. 이것은 본체(36)에 방사물질(37)(톨머린)을 설치한 것이다. 이 때, 도 3b에 나타낸 바와 같이 본체(36)에 방사물질(38)을 코팅해도 된다.

도 4에 정전분무를 이용한 음이온발생기구의 개략도를 나타낸다. 저수부(貯水部)(39)와 수위방향으로 연출한 송수관(40)을 구비하고, 그라운드 또는 인체에 대하여 고압을 유지하도록 송수관(40)에 고전압을 인가하고 있다.

그리고, 모터(41)에 접속한 스크류(42)에 의해 송수관(40)의 물을 단부(43)까지 항상 밀어 올리고, 단부(43)에서 송수관(40)에 인가한 고전압에 의해 음이온 대전한 분무형의 미세한 물방울을 분무시키도록 되어 있다.

이 때, 송수관(40)내의 송수속도는 미세한 물방울의 발생을 유지할 수 있도록 조정한다. 이 때, 모터(41) 등을 사용하지 않고 모세관현상을 이용하여 송수관 (40)내의 물을 밀어 올려도 된다.

도 5에 수파쇄식(水破碎式) 음이온발생기구의 개략도를 나타낸다. 저수부 (44)내의 물에 접촉 또는 침수한 확산프로펠러(45)를 모터(46)에 접속하여 고속 회전시키고, 물분자가 파쇄함으로써 얻어지는 음이온을 이온방출구(47)에서 방출시키도록 되어 있다. 확산프로펠러(41)의 회전속도는 음이온을 많이 발생 유지할 수 있도록 조정한다.

도 6은 다른 수파쇄식(水破碎式) 음이온발생기구의 개략도를 나타낸다. 저수부(48)의 물을 복수의 펌프(49)로 끌어 들여 고압 방수시켜 방수끼리 충돌 파쇄시킴으로써 음이온을 방출구(50)에서 방출시키도록 되어 있다. 방수끼리 충돌시킴으로써 큰 파쇄력을 얻을 수 있지만, 방수를 벽면에 충돌시키는 파쇄방식으로 해도 된다.

본 발명의 피부케어장치는 상기 음이온발생장치에서 발생한 음이온을 방출하도록 한 것이며, 도 1에 스팀과 음이온을 피부면을 향해 방출하도록 구성한 스팀식 미안기(美顔器)를 나타낸다.

탁상 등에 설치되는 하우징(57)내에는 스팀발생장치 등을 내장하고 있다. 스팀발생장치로서의 보일러(1)에는 물을 저장하고 있으며, 이 물을 히터(2)로 가열 기화시킴으로써 스팀이 발생하도록 되어 있다.

보일러(1)에는 급수덮개(3)가 착탈 가능하게 피착되어 있다. 스팀발생장치에서 발생한 스팀은 스팀경로(4)을 통하여 스팀노즐(51)에 공급되어 스팀노즐(51)로부터 방출하도록 되어 있다.

제어회로(6)에는 히터(2)와 전환스위치(58)와 스팀경로(4)에 설치한 스팀을 미세화하기 위한 고압방전장치(8)와 전원공급용 전원코드(9)가 접속되어 있다. 제어회로(6)는 스팀발생장치, 스팀의 발생상태와 온도 등을 제어하는 기능도 갖고 있다.

스팀을 방출하는 스팀노즐(51)을 하우징(57) 외면에 돌출 배설하고 있으며, 음이온을 방출하는 이온노즐(53)을 스팀노즐(51)에 병설하고 있다. 스팀노즐(51)과 일체로 형성된 이온방출구(52)를 구비하고 있으며, 이온방출구(52)에 이온노즐 (53)을 접속하고 있다.

이온노즐(53)에 내장된 이온전극(54)에 접속되는 고압리드선(55)은 이온발생회로(56)에 접속되고, 이온발생회로(56)는 제어회로(6)에 접속되어 있다. 이온전극(54), 이온발생회로(56) 등으로 구성되는 음이온발생장치에서 발생한 음이온은이온노즐(53)을 통하여 이온방출구(52)에서 방출하도록 되어 있다.

여기서, 이온방출구(52)는 그 장치의 사용상태에서 스팀노즐(51)의 스팀방출구(59)보다 위쪽 위치에 위치하고, 또한 방출방향 바로 앞쪽이 되도록 배설되어 있다.

스팀노즐(51)을 스팀경로(4)에 접속하는 조인트(60)는 탄성체(예를 들면 실리콘고무)로 형성되어 있으며, 조인트(60)를 굴곡함으로써, 스팀노즐(51)이나 이온노즐(53)을 갖는 노즐체(61)의 각도(돌출방향)를 조정 가능하게 하고 있다.

또, 제어회로(6)에 접속된 전환스위치(58)는 스팀, 미세 스팀, 음이온 각각의 온／오프를 할 수 있도록 구성되어 있다.

스팀식 미안기를 사용하고 있을 때에는 히터(2)에서 기화된 스팀이 스팀경로 (4)를 통하여, 필요에 따라 고압방전장치(8)에서 미세화되어, 스팀노즐(51), 스팀방출구(59)를 통해 스팀이 분출되고, 스팀이 피부에 닿아 피부의 케어가 이루어지도록 되어 있다.

그리고, 음이온발생장치에 의해 발생한 음이온이 이온노즐(53)을 통해 이온방출구(52)로부터 방출된다. 이와 같이 피부의 케어를 할 때, 음이온발생장치에 의해 발생하는 음이온이 피부에 부착함으로써, 피부의 보습성이 향상되어 촉촉하고 산뜻하고 매끈한 피부 표면의 감촉을 얻을 수 있다. 이러한 감촉이 이 스팀식 미안기의 스팀 방출에 의한 피부 표면의 손질효과에 더하여 얻어지므로, 피부케어 후의 감촉이 더욱 좋아진다.

또, 스팀과 음이온을 방출하도록 하였으므로, 스팀을 음이온에 의해 마이너스 대전시킴으로써, 피부에의 스팀부착성이 향상되는 동시에, 스팀의 열로 얼굴 등에서의 해당 부위의 피부 표면의 혈행을 촉진시켜, 피부를 활성화시키고 수분을 효율적으로 피부 표면에 접촉 유지시킬 수 있다.

또, 상기와 같이 스팀을 방출하는 스팀노즐(51)과 이온노즐(53)을 병설하면, 스팀과 음이온의 방출방향을 일치시킴으로써 스팀에 음이온을 효율적으로 대전시킬 수 있다.

또, 스팀노즐(51)과 이온노즐(53)을 일체로 형성하는 동시에, 양 노즐(51), (53)의 하우징(57)으로부터의 돌출방향을 조정 가능하게 하고 있으므로, 손질부위 위치에 적합하게 하여, 스팀이나 음이온의 방출방향을 맞출 수 있기 때문에 사용성이 향상된다.

또, 스팀노즐(51)의 위쪽위치에 이온노즐(53)을 배설하고 있는데, 음이온을 방출하는 이온노즐(53)로부터의 전계분포와 가벼운 스팀은 위쪽을 향하는 성질에 따라 스팀노즐(51)보다 위쪽에 이온노즐(53)을 설치함으로써 스팀에 음이온을 효율적으로 대전시킬 수 있다.

또, 이온노즐(53)의 이온방출구(52)를 스팀노즐(51)의 스팀방출구(59)보다 방출방향 앞쪽으로 배설하고 있으므로 다음과 같이 바람직하다.

습도의 영향을 받는 음이온은 고습도에서는 그 발생량이 감소되어 버리므로이온노즐(53)의 이온방출구(52)를 스팀노즐(51)의 스팀방출구(59)보다 방출방향 앞쪽에 배설하여 직접 스팀에 접촉하지 않도록 함으로써, 음이온발생량의 저하없이 안정되게 방출시킬 수 있게 되어, 스팀에 음이온을 효율적으로 대전시키는 것이 가능해진다.

또, 방전에 의해 스팀을 미세화하는 고압방전장치(8)를 구비하였으므로, 고압방전으로 스팀을 미세화하여 음이온을 대전시킴으로써, 음이온 대전미립화스팀은 피부에 따라 침투 흡수되기 쉬워진다. 또, 스팀은 미립화되어 있으므로 스팀입자의 열용량이 작아 피부에 접촉해도 끈적거림 등의 불쾌감을 없앨 수 있다.

또, 도 7a 및 7b에는 피부케어장치의 다른 예를 나타내고, 음이온을 방출하는 초음파식 미안기를 나타낸다. 본체(62) 내부에 초음파발생회로(63)를 구비하여, 이에 접속되는 프로브(64)에 손잡이부(65)와 접촉자(66)와 이온방출구(67)를 배설하고 있다.

이온방출구(67)에 이온노즐(68)이 접속되어 있으며, 이온노즐(68)에 내장된 이온전극(69)에 접속되는 고압리드선(70)은 이온발생회로(71)에 접속되어 있다. 이온전극(69)이나 이온발생회로(71)로 이루어지는 음이온발생장치에서 발생한 음이온은 이온노즐(68)을 통해 이온방출구(67)에서 방출하게 되어 있다.

제어회로(72)에는 이온발생회로(71)와 초음파발생회로(63)와 초음파나 음이온의 온／오프 전환스위치(73)와 전원공급용 전원코드(74)가 접속되어 있다.

이 초음파식 미안기는 프로브(64)를 손으로 쥐고 접촉자(66)를 얼굴 등에 접촉시켜 사용된다. 이 때, 접촉자(66)가 초음파 진동하여 피부에 자극을 주어 피부 손질이 되지만, 이에 더하여 음이온발생장치에서 발생한 음이온이 이온방출구(67)에서 방출된다.

이와 같이 하여 음이온발생장치에 의해 발생되는 음이온이 피부에 부착함으로써, 보습성이 향상되어 촉촉하고 산뜻하고 매끈한 피부 표면의 감촉을 얻을 수 있다. 이러한 감촉이 이 초음파식 미안기의 초음파 진동의 자극에 의한 피부손질효과에 더하여 얻어지므로, 피부케어 후의 감촉이 더욱 좋아진다.

상기 초음파식 미안기에 있어서, 도 8에 나타낸 바와 같이 프로브(64)의 접촉자(66)의 피부접촉면(75)에 이온방출구(67)를 배설하여 개구시키고 있는 것이 바람직하다. 이와 같이 접촉자(66)의 피부접촉면(75)에 이온방출구(67)를 개구시키고 있으면, 항상 피부에 닿는 접촉자(66)의 피부접촉면(75)에 이온방출구(67)가 있으므로 더욱 많은 음이온을 확실하게 피부에 부착시킬 수 있다.

도 9a 및 9b는 피부케어장치의 다른 예를 나타내고, 음이온을 방출하는 족욕기이다. 족욕수를 넣는 조체(槽體)(76)를 구비하고 있으며, 이 조체(76)의 내벽면에 이온방출구(77)를 설치하고 있으며, 이온방출구(77)에 이온노즐(78)을 접속하고 있으며, 이온노즐(78)에 내장된 이온전극(79)에 접속되는 고압리드선(80)은 이온발생회로 (81)에 접속되어 있다.

이온방출구(77)에는 시일용 덮개(82)가 착탈 가능하게 장착되어 있으며, 족욕시에는 덮개(82)를 부착하여 족욕 후에는 조체(76)의 바닥부에 형성한 배수구 (83)에서 배수전(84)을 벗겨내어 배수한 후, 덮개(82)를 벗기고 음이온을 방출하도록 되어 있다.

조체(76)는 발이 들어가는 체적으로 구성되어 있으며, 족욕수의 보온용 히터 (85)를 조 외벽면에 설치하고 있다. 제어회로(86)에는 이온발생회로(81)와 보온용 히터(85)와 음이온이나 히터의 온／오프 전환스위치(87)와 전원공급용 전원코드(88)가 접속되어 있다.

족욕기의 조체(76)의 배수구(83)를 배수전(84)으로 막는 동시에 이온방출구 (77)를 덮개(82)로 막은 상태로 조체(76)내에 족욕수를 넣고, 필요에 따라 보온용 히터(85)로 보온하여, 족욕수내에 발을 담그고 족욕을 한다.

족욕을 한 후, 배수전(84)을 벗겨내어 배수구(83)에서 배수하고, 배수한 후에 덮개(82)를 벗겨내어 이온방출구(77)를 개방하고, 음이온발생장치에서 발생한 음이온을 이온방출구(77)에서 방출하여 족욕한 발에 음이온을 닿게 한다.

이와 같이 조체(76)내의 족욕수에 발을 담그고 발에 충분한 수분을 주어 음이온을 조사함으로써, 발에 있어서의 보습성, 감촉적 효과가 향상된다. 또, 조체(76)내의 족욕수를 온수로 함으로써 발의 혈행을 촉진하여, 상기 효과에 더하여 부종, 냉증 등의 해소가 가능해져 발을 건강한 상태로 할 수 있다.

도 10a 및 10b는 음이온을 방출하는 족욕기의 다른 예를 나타낸다. 족욕수내에 공기를 분출하는 공기분출구(89)를 조체(76)의 바닥판에 형성하고 있으며, 이 공기분출구(89)와 펌프(90)를 접속하는 분출경로(91)에 이온방출구(92)를 형성하고 있다.

공기분출구(89)와 이온방출구(92)와의 사이에는 체크밸브(93)를 설치하고 있어, 이온방출구(92) 및 펌프(90)에의 물의 침입을 방지하도록 되어 있다. 또 이온방출구(92)는 펌프흡입구(94)측에 배치해도 된다. 이 경우, 펌프(90)에 체크기구를 배설함으로써 체크밸브(93)를 폐지할 수 있다.

족욕기의 조체(76)내에 족욕수를 넣고, 발을 족욕수에 담금으로써 족욕을 할수 있다. 이 때, 펌프(90)를 구동함으로써 공기분출구(89)에서 기포를 분출하여 족욕을 할 수 있다.

그리고, 음이온발생장치에서 발생한 음이온을 이온방출구(92)에서 방출함으로써 음이온을 함유하는 기포를 족욕수에 투입할 수 있다. 이와 같이 하면 음이온을 기포로서 조체(76)내의 족욕수내에 효율적으로 투입할 수 있으므로, 발을 물 또는 온수에 담근 상태로 음이온효과를 발생시킬 수 있어 케어시간단축이 가능해진다.

도 11은 피부케어장치의 다른 예를 나타내고, 음이온을 방출하는 두피케어장치이다. 브리슬(95)을 진동시키기 위한 모터(96)를 구비하는 진동발생기구(97)와, 두피에 진동자극을 주는 브리슬(95)면에 음이온을 방출하는 이온방출구(98)을 구비한 것이다.

이온방출구(98)에 이온노즐(99)을 접속하고 있으며, 이온노즐(99)에 내장된 이온전극(100)에 접속되는 고압리드선(101)은 이온발생회로(102)에 접속되어 있다. 제어회로(103)에는 모터(96)와 이온발생회로(102)와 진동이나 음이온의 온／오프 전환스위치(104)와 전원공급용 전원코드(105)가 접속되어 있다.

이 두피케어장치에서 브리슬(95)을 진동시켜 브리슬(95)을 두피에 접촉시킴으로써 두피에 진동 자극을 주어 케어를 할 수 있다. 이 때, 음이온발생장치에서 발생한 음이온을 방출함으로써, 음이온을 두피에 조사할 수 있다.

이와 같이 하는 진동에 의한 두피 마사지로 두피의 혈행을 촉진하여 두피를 활성화시키는 동시에, 두피에의 음이온조사에 의해 두피에서의 보습성, 감촉적 효과가 향상하여 두피를 건강한 상태로 할 수 있다.

도 12는 피부케어장치의 다른 예를 나타내며, 음이온방출부와 하전단자부를 구비한 스팀식 미안기이다. 이것은 기본적으로는 도 1의 예와 같으므로 같은 부분에 같은 부호를 붙이고, 상세한 설명은 생략한다.

도 1에 나타낸 구성에 더하여 본체 내부에 제어회로에 접속한 하전회로(106)를 설치하고 있으며, 하전회로(106)로부터 하전리드선(107)을 연출시켜 본체 외각 패널(108)에 하전리드선(107)의 심선을 알루미늄테이프 등으로 전기적으로 접속하고 있다. 본체 외각패널(108)은 대전방지기능을 형성하는 것이 바람직하고, 예를 들면 대전방지제가 들어있는 수지성형품으로 구성되어 있다.

스팀식 미안기를 사용하고 있을 때에는 히터(2)에서 기화된 스팀이 스팀경로 (4)를 지나 필요에 따라 고압방전장치(8)에서 미세화되어 스팀노즐(51), 스팀방출구(59)를 통하여 스팀이 분출되어, 스팀이 피부에 닿아 피부 케어가 이루어지도록 되어 있다.

그리고, 음이온발생장치에 의해 발생한 음이온이 이온노즐(53)을 통해 이온방출구(52)에서 방출된다. 스팀식 미안기 사용중에 본체 외각패널(108)을 손 등으로 만짐으로써 피부를 플러스전위측으로 유지할 수 있다.

이와 같이 하여 인체를 플러스로 대전함으로써 피부의 음이온 대전포화가 없어지고, 항상 다량의 음이온이 플러스로 대전된 피부에 끌어 당겨지므로 음이온이 피부에 더욱 부착되기 쉬워진다.

도 13은 피부케어장치의 다른 예를 나타내고, 음이온방출부와 하전단자부를구비한 초음파식 미안기이다. 이것은 기본적으로는 도 7의 예와 같으므로 같은 부분에 같은 부호를 붙이고, 상세한 설명은 생략한다.

도 7에 나타낸 구성에 더하여, 본체 내부에 제어회로(72)에 접속한 하전회로 (109)를 설치하고 있으며, 하전회로(109)로부터 하전리드선(110)을 연출시켜, 프로브(64)의 하우징부(111)에 하전리드선(110)의 심선을 알루미늄테이프 등으로 전기적으로 접속하고 있다. 하우징부(111)는 대전방지기능을 설치하는 것이 바람직하고, 예를 들면 대전방지제가 들어있는 수지성형품으로 구성되어 있다.

이 초음파식 미안기는 프로브(64)를 손으로 쥐고 접촉자(66)를 얼굴 등에 접촉시켜 사용된다. 이 때, 접촉자(66)가 초음파 진동하여 피부에 자극을 주어 피부 손질이 되지만, 이에 더하여 음이온발생장치에서 발생한 음이온이 이온방출구(67)에서 방출된다.

초음파식 미안기의 사용중에는 프로브(64)를 손으로 쥐어 하우징부(111)를 닿게 하고 있으므로, 피부를 플러스전위측으로 유지할 수 있다. 이와 같이 하여 인체를 플러스로 대전함으로써 피부의 음이온 대전포화가 없어지고, 항상 다량의 음이온이 플러스로 대전된 피부에 끌어 당겨지므로 음이온이 피부에 더욱 부착되기 쉬워진다. 또, 초음파식 미안기의 사용중에는 프로브(64)를 손으로 쥐어 하우징부 (111)를 닿게 하고 있으므로, 의식하지 않고 피부를 항상 플러스전위측으로 유지할 수 있다.

도 14는 피부케어장치의 다른 예를 나타내고, 음이온방출부와 인출이 가능한 하전단자부를 구비한 스팀식 미안기를 나타낸다. 이것은 기본적으로는 도 1의 예와 같으므로 같은 부분에 같은 부호를 붙이고, 상세한 설명은 생략한다.

도 1에 나타낸 구성에 더하여, 본체 내부에 제어회로(6)에 접속한 하전회로 (106)를 설치하고 있으며, 하전회로(106)로부터 연출시킨 하전리드선(107)과 코드길이조정기구(112)내의 배선코드(113)을 접속하고 있다.

배선코드(113)의 단부에는 배선코드(113)를 완전히 몰드 고정한 하전단자부 (114)를 장착하고 있다. 하전단자부(114)는 대전방지기능을 형성한 것이 바람직하고, 예를 들면 대전방지제가 들어 있는 성형품으로 구성되어 있다.

스팀식 미안기를 사용하고 있을 때에는 히터(2)에서 기화된 스팀이 스팀경로 (4)를 지나 필요에 따라 고압방전장치(8)에서 미세화되고, 스팀노즐(51), 스팀방출구(59)를 통하여 스팀이 분출되어, 스팀이 피부에 닿아 피부의 케어가 이루어지도록 되어 있다.

그리고, 음이온발생장치에 의해 발생한 음이온이 이온노즐(53)을 통해 이온방출구(52)에서 방출된다. 스팀식 미안기 사용중에 하전단자부(114)를 접촉하면서 사용함으로써 피부를 플러스전위측으로 유지할 수 있다.

이와 같이 하여 인체를 플러스로 대전함으로써 피부의 음이온 대전포화가 없어지고, 항상 다량의 음이온이 플러스로 대전된 피부에 끌어 당겨지므로 음이온이 피부에 더욱 부착되기 쉬워진다.

또, 스팀식 미안기 사용중에는 이 하전단자부(114)를 인출하여 본체에서 떨어진 위치에서 하전단자부(114)에 접촉하면서 사용함으로써 피부를 플러스전위측으로 안전하게 유지할 수 있다.

도 15는 모발케어장치의 일 예를 나타내고, 모발의 가열협지기구와 스팀방출부와 음이온방출부를 구비한 헤어아이론이다. 히터(123)를 구비한 가열판(115)과, 가열지점부(116)에 의해 가동하는 가동판(117)과, 스팀방출구(145)와 이온방출구 (118)로 주체를 구성한 것이다.

모발은 가열판(115)과 가동판(117)과의 사이에 끼워 사용하도록 되어 있다. 이온방출구(118)에 이온노즐(119)을 접속하고 있으며, 이온노즐(119)에 내장된 이온전극(120)에 접속되는 고압리드선(121)은 이온발생회로(122)에 접속되어 있다.

이온전극(120)이나 이온발생회로(122)로 이루어지는 음이온발생장치에서 발생한 음이온은 이온방출구(118)에서 방출하도록 되어 있다. 스팀방출구(145)는 히터(123)를 구비한 기화실(146)과 연결되어 있다. 히터(123)에의 물의 공급은 착탈이 가능한 탱크(147)내의 물을 펠트(148)에 의해 모세관에서 급수함으로써 실시하도록 되어 있다.

제어회로(124)에는 히터(123)와 이온발생회로(122)와 음이온의 온／오프 전환스위치(125)와 전원공급용 전원코드(126)가 접속되어 있다. 이러한 전환스위치 (125)의 전환으로 히터에의 통전을 온(ON)한 상태에서 음이온의 발생을 온(ON)하거나, 히터에의 통전을 오프(OFF)한 상태에서 음이온의 발생을 온(ON)하는 전환을 할 수 있도록 되어 있다.

이 헤어아이론은 히터(123)에 통전하여 가열판(115)을 가열하고, 가열판 (115)과 가동판(117)과의 사이에 모발을 끼워서 정발한다. 이 때, 스팀발생장치의 기화실(146)에서 발생한 스팀을 스팀방출구(145)에서 모발의 가압협지면에 방출하는 동시에 음이온발생장치에서 발생한 음이온을 이온방출구(118)에서 모발의 가압협지면에 방출한다.

이와 같이 함으로써, 모발을 가열함으로써 모발로부터 방출되는 수분을 스팀가습으로 보충하고, 또한 음이온의 방출에 의해 모발의 보습성, 촉감이 향상하여 모발 케어 후의 감촉이 더욱 좋아진다.

도 16a 및 16b는 모발케어장치의 다른 예를 나타내고, 공기방출구와 이온방출구와 브리슬면을 구비한 모발건조기능이 있는 브러시이다. 흡입구(127)와 공기방출구 (128)를 구비하고 있으며, 손잡이부와 병용한 원통형 풍동(風洞)(129)내에 송풍용 팬(130)과 모터(131)와 정류날개(132)와 히터(133)를 내장하고 있다.

공기방출구(128)를 갖는 브리슬(134)면에 스팀을 방출하는 스팀방출구(135)와 음이온을 방출하는 이온방출구(136)룰 배설하고 있으며, 이온방출구(136)에는 이온노즐(137)이 접속되어 있다. 이온노즐(137)에는 고압리드선(138)을 접속한 이온전극(139)을 내장하고 있으며, 고압리드선(138)은 이온발생회로(140)에 접속되어 있다.

이온전극(139)이나 이온발생회로(140)로 이루어지는 음이온발생장치에서 발생한 음이온은 이온방출구(136)에서 방출하도록 되어 있다. 스팀방출구(135)는 기화히터(141)를 구비한 기화실(142)과 연결되어 있다. 기화히터(141)에의 물의 공급은 착탈이 가능한 탱크(143)내의 물을 펠트(144)에 의해 모세관에서 급수함으로써 실시하도록 되어 있다.

송풍, 스팀 및 음이온의 온／오프 전환스위치(150)에는 기화히터(141)와 이온발생회로(140)와 모터와 히터(133)와 전원공급용 전원코드(151)가 접속되어 있다.

건조기능이 있는 브러시는 팬(130)을 구동하는 동시에 필요에 따라 통전함으로써, 공기방출구(128)에서 온풍이나 냉풍공기를 분사할 수 있어, 이 상태에서 손잡이부를 쥐고 브리슬(134)로 모발을 빗어 내림으로써 모발을 건조하면서 정발할 수 있다. 이 때, 스팀발생장치의 기화실(142)에서 발생한 스팀이 스팀방출구(135)에서 방출할 수 있는 동시에 음이온발생장치에서 발생한 음이온을 이온방출구(136)에서 방출할 수 있다.

이와 같이 함으로써, 모발의 스팀보습, 건조, 세트, 음이온의 조사를 하나의 건조기능이 있는 브러시로 할 수 있고, 모발 케어 후의 감촉을 더욱 좋게 할 수 있다.

그리고, 상기 피부케어장치나 모발케어장치에 있어서, 음이온발생장치로서 도 2a 및 2b 내지 도 6의 구조의 것을 적절히 채용해도 된다.

본 발명의 청구항 1의 발명은, 얼굴, 손목, 팔굼치 또는 무릎, 두피 등 인체의 피부표면을 손질하는 피부케어장치에 있어서, 침형(針形)전극에 고전압을 가하고 코로나방전시켜, 음이온을 발생시키는 음이온발생장치를 구비하고, 음이온발생장치에 의해 발생한 음이온을 상기 피부 표면의 손질과 관계없이 또는 병행하여 상기 피부 표면에 방출시키도록 구성하였으므로, 피부케어를 할 때 음이온발생장치에의해 발생하는 음이온이 피부에 부착함으로써, 피부의 보습성이 향상되어 촉촉하고 산뜻하고 매끈한 피부 표면의 감촉이 얻어지는 것이다. 이러한 감촉이 이 피부케어장치의 스팀, 공기의 방출 또는 자극에 의한 피부 표면의 손질효과에 더하여 얻어지므로, 피부케어 후의 감촉이 더욱 좋아지는 것이다.

또 본 발명의 청구항 2의 발명은, 청구항 1에 있어서, 스팀을 피부 표면에 방출하도록 구성하였으므로, 스팀을 음이온에 의해 마이너스 대전(帶電)시킴으로써, 피부에의 스팀부착성을 향상하는 동시에, 스팀의 열로 얼굴, 손목, 팔굼치 또는 무릎 등에 있어서의 해당 부위의 피부 표면의 혈행을 촉진시켜, 피부를 활성화시키고 수분을 효율적으로 피부 표면에 접촉 유지시킬 수 있는 것이다.

또 본 발명의 청구항 3의 발명은, 청구항 2에 있어서, 스팀을 방출하는 스팀노즐과, 음이온발생장치에서 발생한 음이온을 방출하는 이온노즐을 병설하였으므로, 스팀과 음이온의 방출방향을 일치시킴으로써 스팀에 음이온을 효율적으로 대전시킬 수 있는 것이다.

또 본 발명의 청구항 4의 발명은, 청구항 3에 있어서, 탁상 등에 설치되는 하우징내에 스팀발생장치, 스팀의 발생상태와 온도 등을 제어하는 콘트롤회로를 구비하고, 스팀발생장치에서 보내오는 스팀을 방출하는 스팀노즐을 하우징의 외면에 돌출 설치하고, 스팀노즐과 이온노즐을 일체로 형성하는 동시에, 양 노즐의 하우징으로부터의 돌출방향을 조정 가능하게 하였으므로, 손질부위 위치에 적합하게 하여 스팀이나 음이온의 방출방향을 맞출 수 있으므로 사용성이 향상하는 것이다.

또 본 발명의 청구항 5의 발명은, 청구항 3에 있어서, 장치의 사용상태에서의 스팀노즐의 위쪽 위치에 이온노즐을 배설하였으므로, 스팀에 음이온을 효율적으로 대전시킬 수 있는 것이다.

또 본 발명의 청구항 6의 발명은, 청구항 3에 있어서, 이온노즐의 이온방출구를 스팀노즐의 스팀방출구보다 방출방향 바로 앞쪽에 배설하였으므로, 이온노즐의 이온방출구에 직접 스팀이 접촉하지 않도록 함으로써 음이온발생량의 저하가 없이 안정되게 방출시킬 수 있게 되어, 스팀에 음이온을 효율적으로 대전시키는 것이 가능해지는 것이다.

또 본 발명의 청구항 7의 발명은, 청구항 2에 있어서, 방전에 의해 스팀을 미세화하는 고압방전장치를 구비하였으므로, 고압방전으로 스팀을 미세화하여 음이온을 대전시킴으로써, 음이온대전 미립화 스팀은 피부에 의해 침투 흡수되기 쉬워지는 것이며, 또 스팀은 미립화되어 있으므로 스팀입자의 열용량이 작아 피부에 접촉해도 끈적거림 등의 불쾌감을 없앨 수 있는 것이다.

또 본 발명의 청구항 8의 발명은, 청구항 1에 있어서, 초음파 진동, 기계적인 힘 또는 냉온열 등의 자극을 피부면에 부여하는 접촉자를 갖는 프로브를 설치하여, 이 프로브에 음이온을 방출하는 이온방출구를 구비하였으므로, 음이온발생장치에 의해 발생되는 음이온이 피부에 부착함으로써, 보습성이 향상되어 촉촉하고 산뜻하고 매끈한 피부 표면의 감촉을 얻을 수 있는 것이다. 이러한 감촉이 이 피부케어장치의 초음파 진동, 기계적인 힘 또는 냉온열 등의 자극에 의한 피부손질효과에 더하여 얻어지므로, 피부케어 후의 감촉이 더욱 좋아지는 것이다.

또 본 발명의 청구항 9의 발명은, 청구항 8에 있어서, 접촉자의 피부접촉면에 이온방출구를 개구하였으므로, 항상 피부에 닿는 접촉자의 피부 접촉면에 이온방출구가 있으므로, 더욱 많은 음이온을 확실하게 피부에 부착시킬 수 있는 것이다다.

또 본 발명의 청구항 10의 발명은, 청구항 1에 있어서, 족욕수(足浴水)를 넣어 발을 따뜻하게 할 수 있는 조체(槽體)를 구비하여, 이 조체 내면에 음이온을 방출하는 이온방출구를 구비하였으므로, 조체내의 족욕수에 발을 담가 발에 충분한 수분을 주어 음이온을 조사함으로써, 발에 있어서의 보습성, 감촉적 효과가 향상하는 것이며, 또 조체내의 족욕수를 온수로 함으로써, 발의 혈행을 촉진하여 상기 효과에 더하여 부종, 냉증 등이 해소 가능해져 발을 건강한 상태로 할 수 있는 것이다.

또 본 발명의 청구항 11의 발명은, 청구항 10에 있어서, 족욕수내에 공기를 분출하는 공기분출구를 조체의 바닥판에 설치하여, 이 공기분출구의 상류측의 유로에 음이온발생장치에 의해 발생되는 음이온의 유로를 합류시켰으므로, 음이온을 기포로 하여 조체내의 족욕수내에 효율적으로 투입할 수 있으므로, 발을 물 또는 온수에 담근 상태로 음이온효과를 발생시킬 수 있어, 케어시간단축이 가능해지는 것이다.

또 본 발명의 청구항 12의 발명은, 청구항 1에 있어서, 두피에 브리슬로 진동자극을 주도록 구성하고, 브리슬면에 음이온을 방출하는 이온방출구를 구비하였으므로, 진동 등에 의한 두피 마사지로 두피의 혈행을 촉진하여 두피를 활성화시키는 동시에, 두피에의 음이온조사에 의해 두피에서의 보습성, 감촉적 효과가 향상하여 두피를 건강한 상태로 할 수 있는 것이다.

또 본 발명의 청구항 13의 발명은, 청구항 1에 있어서, 피부에 접촉하여 처리되는 피부를 플러스전위측에 유지하는 하전(荷電)단자부를 구비하였으므로, 인체를 플러스로 대전함으로써 피부의 음이온 대전포화가 없어지고, 항상 다량의 음이온이 플러스로 대전된 피부에 끌어 당겨지므로 음이온이 피부에 더욱 부착되기 쉬워지는 것이다.

또 본 발명의 청구항 14의 발명은, 청구항 4에 있어서, 피부에 접촉하여 처리되는 피부를 플러스전위측에 유지하는 하전단자부를 구비하고, 이 하전단자부를 손으로 쥐는 하우징부에 배설하였으므로, 항상 피부에 닿는 외각(外殼)에 하전단자부를 배설함으로써 손질되는 피부를 플러스전위측으로 의식하지 않고 항상 유지할 수 있는 것이다.

또 본 발명의 청구항 15의 발명은, 청구항 4에 있어서, 피부에 접촉하여 처리되는 피부를 플러스전위측에 유지하는 하전단자부를 구비하고, 이 하전단자부와 하우징내의 하전회로부를 하우징에서 꺼내는 것이 가능한 배선코드로 접속하였으므로, 피부케어장치 본체에서 안전상의 이유 등으로 떨어져서 사용하지 않으면 안되는 경우, 하전단자부를 연출(延出)시킴으로써 무리한 자세로 사용하지 않아도 되어 사용성을 향상시킬 수 있는 것이다.

또 본 발명의 청구항 16의 발명은, 모발을 가열하는 가열판을 가지며, 모발을 가열판으로 가열하여 정발(整髮)하는 모발케어장치를 구비하며, 음이온발생장치를 구비하고, 음이온발생장치에서 발생한 이온을 모발을 향해 방출하는 이온방출구를 형성하였으므로, 모발을 가열함으로써 모발을 정발할 때, 음이온의 방출에 의해 모발의 보습성, 촉감이 향상하여 모발 케어 후의 감촉이 더욱 좋아지는 것이다.

또 본 발명의 청구항 17의 발명은, 청구항 16에 있어서, 모발을 가열하여 정발할 때에 음이온을 방출하는 상태와 모발의 가열과 관계없이 음이온을 방출하는 상태로 전환할 수 있는 전환수단을 배설하였으므로, 모발을 가열하여 정발할 때에 음이온을 방출하는 상태와 모발을 가열하지 않을 때에도 음이온을 방출하는 상태로 전환하여 사용할 수 있는 것이다.

또 본 발명의 청구항 18의 발명은, 모발을 가열 협지하는 모발케어장치에 있어서, 음이온발생장치를 구비하고, 모발을 가열 협지하는 협지면에 스팀을 방출하는 스팀방출구와, 음이온발생장치에서 발생한 음이온을 방출하는 이온방출구를 개구하였으므로, 모발을 가열함으로써 모발로부터 방출되는 수분을 스팀가습으로 보충하고, 또한 음이온의 방출에 의해 모발의 보습성, 촉감이 향상하여 모발 케어 후의 감촉이 더욱 좋아지는 것이다.

또 본 발명의 청구항 19의 발명은, 브리슬을 갖는 모발케어장치에 있어서, 음이온발생장치를 구비하고, 공기를 방출하는 공기방출구와, 스팀을 방출하는 스팀방출구와, 음이온발생장치에서 발생한 음이온을 방출하는 이온방출구를 브리슬면에 구비하였으므로, 모발의 스팀보습, 건조, 세트, 음이온의 조사를 하나의 모발케어장치(브러시 1개)로 할 수 있고, 모발 케어 후의 감촉을 더욱 좋게 할 수 있는 것이다.

Claims (19)

1. 인체의 피부표면을 손질하는 피부케어장치에 있어서, 침형(針形)전극에 고전압을 가하고 코로나방전시켜, 음이온을 발생시키는 음이온발생장치를 구비하고, 음이온발생장치에 의해 발생한 음이온을 상기 피부 표면의 손질과 관계없이 또는 병행하여 상기 피부 표면에 방출시키도록 구성한 것을 특징으로 하는 피부케어장치.
2. 제1항에 있어서, 스팀을 피부 표면에 방출하도록 구성한 것을 특징으로 하는 피부케어장치.
3. 제2항에 있어서, 스팀을 방출하는 스팀노즐과, 음이온발생장치에서 발생한 음이온을 방출하는 이온노즐을 병설한 것을 특징으로 하는 피부케어장치.
4. 제3항에 있어서, 탁상 등에 설치되는 하우징내에 스팀발생장치, 스팀의 발생상태와 온도 등을 제어하는 콘트롤회로를 구비하고, 스팀발생장치에서 보내오는 스팀을 방출하는 스팀노즐을 하우징의 외면에 돌출 설치하고, 스팀노즐과 이온노즐을 일체로 형성하는 동시에, 양 노즐의 하우징으로부터의 돌출방향을 조정 가능하게 하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 피부케어장치.
5. 제3항에 있어서, 장치의 사용상태에서의 스팀노즐의 위쪽 위치에 이온노즐을배설한 것을 특징으로 하는 피부케어장치.
6. 제3항에 있어서, 이온노즐의 이온방출구를 스팀노즐의 스팀방출구보다 방출방향 바로 앞쪽에 배설한 것을 특징으로 하는 피부케어장치.
7. 제2항에 있어서, 방전에 의해 스팀을 미세화하는 고압방전장치를 구비한 것을 특징으로 하는 피부케어장치.
8. 제1항에 있어서, 초음파 진동, 기계적인 힘 또는 냉온열 등의 자극을 피부면에 부여하는 접촉자를 갖는 프로브를 설치하여, 이 프로브에 음이온을 방출하는 이온방출구를 구비한 것을 특징으로 하는 피부케어장치.
9. 제8항에 있어서, 접촉자의 피부접촉면에 이온방출구를 개구한 것을 특징으로 하는 피부케어장치.
10. 제1항에 있어서, 족욕수(足浴水)를 넣어 발을 따뜻하게 할 수 있는 조체(槽體)를 구비하여, 이 조체 내면에 음이온을 방출하는 이온방출구를 구비한 것을 특징으로 하는 피부케어장치.
11. 제10항에 있어서, 족욕수내에 공기를 분출하는 공기분출구를 조체의 바닥판에 설치하여, 이 공기분출구의 상류측의 유로에 음이온발생장치에 의해 발생되는 음이온의 유로를 합류시킨 것을 특징으로 하는 피부케어장치.
12. 제1항에 있어서, 두피에 브리슬로 진동자극을 주도록 구성하고, 브리슬면에 음이온을 방출하는 이온방출구를 구비한 것을 특징으로 하는 피부케어장치.
13. 제1항에 있어서, 피부에 접촉하여 처리되는 피부를 플러스전위측에 유지하는 하전(荷電)단자부를 구비한 것을 특징으로 하는 피부케어장치.
14. 제4항에 있어서, 피부에 접촉하여 처리되는 피부를 플러스전위측에 유지하는 하전단자부를 구비하고, 이 하전단자부를 손으로 쥐는 하우징부에 배설한 것을 특징으로 하는 피부케어장치.
15. 제4항에 있어서, 피부에 접촉하여 처리되는 피부를 플러스전위측에 유지하는 하전단자부를 구비하고, 이 하전단자부와 하우징내의 하전회로부를 하우징에서 꺼내는 것이 가능한 배선코드로 접속한 것을 특징으로 하는 피부케어장치.
16. 모발을 가열하는 가열판을 가지며, 모발을 가열판으로 가열하여 정발(整髮)하는 모발케어장치에 있어서, 음이온발생장치를 구비하고, 음이온발생장치에서 발생한 이온을 모발을 향해 방출하는 이온방출구를 배설한 것을 특징으로 하는 모발케어장치.
17. 제16항에 있어서, 모발을 가열하여 정발할 때에 음이온을 방출하는 상태와 모발의 가열과 관계없이 음이온을 방출하는 상태로 전환할 수 있는 전환수단을 배설한 것을 특징으로 하는 모발케어장치.
18. 모발을 가열 협지하는 모발케어장치에 있어서, 음이온발생장치를 구비하고, 모발을 가열 협지하는 협지면에 스팀을 방출하는 스팀방출구와, 음이온발생장치에 서 발생한 음이온을 방출하는 이온방출구를 개구한 것을 특징으로 하는 모발케어장치.
19. 브리슬을 갖는 모발케어장치에 있어서, 음이온발생장치를 구비하고, 공기를 방출하는 공기방출구와, 스팀을 방출하는 스팀방출구와, 음이온발생장치에서 발생한 음이온을 방출하는 이온방출구를 브리슬면에 구비한 것을 특징으로 하는 모발케어장치.