KR102219468B1 - 열전사 시트, 인화물의 제조 방법, 및 게임기 - Google Patents

열전사 시트, 인화물의 제조 방법, 및 게임기 Download PDF

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Abstract

본 발명은 적외선 흡수 재료를 함유하는 특별 화상을 정확하게 검출할 수 있는 인화물을 형성할 수 있는 열전사 시트 및 이 인화물의 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.
상기 과제는, 기재(1)의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료를 함유하는 적외선 흡수 재료 함유층(2), 색재를 함유하는 색재층(3)이 이 순서로 면 순차적으로 형성된 열전사 시트(10)에 있어서, 색재층(3)을, 가시광 영역의 파장을 흡수하며 또한 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 50% 이상인 색재층으로 함으로써 해결된다.

Description

열전사 시트, 인화물의 제조 방법, 및 게임기
본 발명은, 열전사 시트, 인화물의 제조 방법, 열전사 시트와 열전사 프린터의 조합, 열전사 프린터, 및 게임기에 관한 것이다.
게임 센터나 상업 시설 등에 있어서 설치·이용되고 있는 게임기의 하나로서, 카드에 인쇄된 코드 정보를 읽어들이고, 읽어들인 코드 정보를 이용하여 게임을 실행하는 아케이드 게임기가 알려져 있다. 이러한 아케이드 게임기에서 이용되는 카드에는, 아케이드 게임기에 재현되는 캐릭터의 화상, 명칭 및 스테이터스, 그리고 이차원 코드 등의 코드 정보가 인쇄되어 있고, 해당 코드 정보는 이 캐릭터를 정의하기 위한 정보를 갖고 있다.
최근, 그 내부에 프린터를 갖추며, 게임의 진행 상황에 따라서 캐릭터의 스테이터스가 변화되고, 게임 종료 후에, 게임의 진행 시에 변화된 스테이터스가 반영된 캐릭터의 카드를 온디맨드로 발행할 수 있는 아케이드 게임기가 알려져 있다. 해당 아케이드 게임기에 의하면, 게임의 플레이어는, 새롭게 발행된 카드를 다음번 이후의 게임에 이용하여 캐릭터를 강화하거나 혹은 육성하거나 할 수 있어, 플레이어의 카드에 대한 흥취를 높일 수 있다. 예컨대 특허문헌 1에는, 이용자의 조작에 의해 게임을 실행하고, 실행된 게임의 결과를 보존하는 휴대 단말로부터 게임 결과 정보를 수신하는 통신부와, 복수의 캐릭터 화상의 데이터를 기억하는 기억부와, 수신한 게임 결과 정보에 기초하여 캐릭터 화상을 선택하고, 게임 결과 정보에 포함되는 스테이터스 정보와 조합하여 카드 화상 데이터를 생성하는 화상 데이터 생성부와, 카드 화상 데이터를 이용하여 카드 화상을 인화지에 프린트하여, 게임 카드를 출력하는 프린터를 구비하는 게임 카드 프린트 장치나, 이 게임 카드 프린트 장치와, 조작을 접수하는 입력부, 게임 화면을 표시하는 표시부, 게임 카드에 프린트된 코드 정보를 읽어들이는 판독부, 투입된 화폐를 식별 계수하는 과금부 및 읽어들인 코드 정보에 기초하여 게임 내에 캐릭터를 재현하는 재현부를 가지고, 소정 금액의 투입에 따라 게임을 실행하는 아케이드 게임 시스템이 제안되어 있다.
최근 아케이드 게임기의 사용 형태도 다양화되고 있으며, 적외선 스캐너 등을 내장한 아케이드 게임기 등도 제안되어 있다. 해당 아케이드 게임기에서는, 캐릭터 등을 나타내는 가시 화상과 함께 캐릭터 등을 정의하기 위한 코드 정보로서의 불가시 화상이 인화되어 있는 카드가 이용되고 있다. 이러한 불가시 화상을 갖는 카드(인화물이라고 하는 경우도 있다)에는, 적외선 스캐너 등을 이용하여 불가시 화상을 정확하게 검출할 수 있는 기능이 요구되고 있다.
특허문헌 1 : 일본 특허공개 2016-22208호 공보
본 발명은 이러한 상황에 감안하여 이루어진 것으로, 불가시 화상 및 가시 화상을 가지고, 불가시 화상을 정확하게 검출할 수 있는 인화물을 얻기 위한 열전사 시트를 제공하는 것, 또한 이 인화물을 형성하기 위한 인화물의 제조 방법, 열전사 시트와 열전사 프린터의 조합, 열전사 프린터를 제공하는 것, 또한 이 열전사 프린터를 구비하는 게임기를 제공하는 것을 주된 과제로 한다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명은, 색재층을 구비하는 열전사 시트이며, 기재의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료를 함유하는 적외선 흡수 재료 함유층, 색재를 함유하는 색재층이 면(面) 순차적으로 형성되고, 상기 색재층의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 50% 이상인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 열전사 시트의 상기 색재층의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율은 80% 이상인 것이 바람직하다.
또한, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명은, 색재층을 구비하는 열전사 시트이며, 기재의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료를 함유하는 적외선 흡수 재료 함유층, 색재를 함유하는 색재층이 면 순차적으로 형성되고, 상기 색재층은, 상기 색재로서 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 80% 이상인 1의 색재를 함유하고 있으며, 또한 상기 색재층은, 상기 색재로서 (1) 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 10% 미만인 다른 색재를 함유하고 있지 않거나, 또는 (2) 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 10% 미만인 다른 색재를 함유하고 있는 경우라도 그 함유량이 상기 색재의 총 질량에 대하여 15 질량% 미만인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 열전사 시트에 있어서, 상기 기재의 한쪽의 면 위에, 상기 적외선 흡수 재료 함유층, 전사층, 상기 색재층을 면 순차적으로 형성하고, 상기 전사층을, 수용층만으로 이루어지는 단층 구조, 또는 상기 기재에서부터 가장 가까이에 상기 수용층이 위치한 적층 구조로 하여도 좋다.
또한, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명은, 적외선 흡수 재료를 함유하는 특별 화상 위에 열전사 화상을 형성하기 위해서 이용되는 열전사 시트이며, 기재의 한쪽의 면 위에 색재를 함유하는 색재층이 형성되고, 상기 색재층의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 50% 이상인 색재층인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기한 열전사 시트에 있어서, 상기 기재의 한쪽의 면 위에, 전사층, 상기 색재층이 면 순차적으로 형성되고, 상기 전사층을, 수용층만으로 이루어지는 단층 구조, 또는 상기 기재에서부터 가장 가까이에 상기 수용층이 위치한 적층 구조로 하여도 좋다.
또한, 상기 열전사 시트에 있어서, 상기 적외선 흡수 재료 함유층이 디이모늄계 화합물을 함유하고 있어도 좋다.
또한, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명은, 인화물의 제조 방법이며, 피전사체를 준비하는 피전사체 준비 공정과, 기재의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료를 함유하는 적외선 흡수 재료 함유층과 색재를 함유하는 색재층이 면 순차적으로 형성된 열전사 시트를 준비하는 열전사 시트 준비 공정과, 상기 피전사체의 한쪽의 면 위에, 상기 열전사 시트의 상기 적외선 흡수 재료 함유층을 전사하여 적외선 흡수 재료를 함유하는 특별 화상을 형성하는 특별 화상 형성 공정과, 상기 피전사체의 한쪽의 면 위에, 상기 열전사 시트의 상기 색재층을 열전사하여 열전사 화상을 형성하는 열전사 화상 형성 공정을 포함하고, 상기 색재층의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 50% 이상인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 열전사 시트 준비 공정에서 준비되는 상기 열전사 시트가, 기재의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료를 함유하는 적외선 흡수 재료 함유층, 전사층, 색재를 함유하는 색재층이 면 순차적으로 형성된 열전사 시트이며, 또한 상기 전사층은, 수용층만으로 이루어지는 단층 구조, 또는 상기 기재에서부터 가장 가까이에 상기 수용층이 위치한 적층 구조를 나타내고, 상기 특별 화상 형성 공정 후에, 상기 특별 화상 위에 상기 열전사 시트의 상기 전사층을 전사하는 전사층 전사 공정을 추가로 구비하고, 상기 열전사 화상 형성 공정이, 상기 전사층 전사 공정에 있어서 상기 특별 화상 위에 전사된 상기 전사층 상에 상기 열전사 시트의 상기 색재층을 열전사하여 열전사 화상을 형성하는 공정이라도 좋다.
또한, 상기 전사층 전사 공정이, 상기 특별 화상 및 상기 피전사체의 한쪽의 면의 전면을 덮도록 상기 전사층을 전사하는 공정이라도 좋다.
또한, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명은, 열전사 시트와 열전사 프린터의 조합이며, 상기 열전사 시트가 상기한 열전사 시트인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명은, 열전사 시트 및 피전사체가 장전된 열전사 프린터이며, 상기 장전된 열전사 시트 및 피전사체를 반송 경로를 따라서 반송하는 반송 수단과, 상기 열전사 시트와 상기 피전사체의 반송 경로 중에 배치된 플라텐 롤러와, 상기 열전사 시트에 에너지를 인가하기 위한 서멀 헤드를 가지고, 상기 열전사 시트가 상기한 열전사 시트인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명은, 열전사 프린터를 내장하는 게임기이며, 게임 기능을 실행하는 게임 실행 수단과, 상기 게임 실행 수단에 의한 상기 게임 기능의 실행 결과를 반영시킨 열전사 화상을 갖는 인화물을, 상기 열전사 프린터에 의해 형성하는 인화물 형성 수단과, 인화물 형성 수단에 의해 형성된 인화물을 발행하는 발행 수단을 포함하고, 상기 열전사 프린터가 상기한 열전사 프린터인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 게임기가 적외선 흡수 재료를 함유하는 열전사 화상에 기록된 정보를 식별하는 식별 수단을 추가로 포함하고 있고, 상기 게임 실행 수단은 상기 식별 수단에 의해 식별된 상기 열전사 화상의 정보에 기초하여 상기 게임 기능을 실행시키더라도 좋다.
본 발명의 열전사 시트, 인화물의 제조 방법, 열전사 프린터와 열전사 시트의 조합, 열전사 프린터 및 게임기에 의하면, 불가시 화상 및 가시 화상을 가지고, 불가시 화상을 정확하게 검출할 수 있는 인화물을 형성할 수 있다.
도 1의 (a), (b)는 일 실시형태의 열전사 시트의 개략 단면도이다.
도 2의 (a), (b)는 일 실시형태의 열전사 시트의 개략 단면도이다.
도 3은 일 실시형태의 열전사 시트의 개략 단면도이다.
도 4는 일 실시형태의 열전사 시트의 개략 단면도이다.
도 5는 일 실시형태의 열전사 시트의 개략 단면도이다.
도 6은 일 실시형태의 열전사 시트의 개략 단면도이다.
도 7은 일 실시형태의 인화물의 제조 방법을 설명하기 위한 공정도이며, (a)∼(d)는 전부 개략 단면도이다.
도 8은 일 실시형태의 인화물의 제조 방법을 설명하기 위한 공정도이며, (a)∼(d)는 전부 개략 단면도이다.
도 9는 일 실시형태의 인화물의 제조 방법을 설명하기 위한 공정도이며, (a)∼(e)는 전부 개략 단면도이다.
도 10은 일 실시형태의 게임기의 개략도이다.
<<열전사 시트>>
이하, 본 발명의 열전사 시트에 관해서 도면을 참조하면서 설명한다. 또한, 본 발명은 많은 다른 양태로 실시하는 것이 가능하며, 이하에 예시하는 실시형태의 기재 내용에 한정하여 해석되는 것이 아니다. 또한, 도면은 설명을 보다 명확하게 하기 위해서, 실제의 양태와 비교하여 각 부의 폭, 두께, 형상 등에 관해서 모식적으로 나타내어지는 경우가 있지만, 어디까지나 일례이며, 본 발명의 해석을 한정하는 것이 아니다. 또한, 본원 명세서와 각 도면에 있어서, 이미 나온 도면에 관해서 상술한 것과 같은 요소에는 동일한 부호를 붙여 상세한 설명을 적절하게 생략하는 경우가 있다.
본 발명의 일 실시형태의 열전사 시트(이하, 일 실시형태의 열전사 시트라고 하는 경우가 있다)는, 도 1의 (a), (b), 도 2의 (a), (b)에 도시한 것과 같이, 기재(1)의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료 함유층(2), 색재층(3)이 면 순차적으로 형성된 구성을 나타내고 있다. 또한, 도 1(a)에 도시하는 형태의 열전사 시트(10)는 하나의 색재층(3)을 구비하고 있고, 도 1(b)에 도시하는 형태의 열전사 시트(10)는 복수의 색재층(도시하는 형태에서는 색재층(3Y), 색재층(3M), 색재층(3C))을 구비하고 있다. 또한, 도 2(a)에 도시하는 형태의 열전사 시트(10)는, 기재(1)의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료 함유층(2), 제1 전사층(5), 색재층(3)이 면 순차적으로 형성된 구성을 나타내고, 도 2(b)에 도시하는 형태의 열전사 시트(10)는, 기재(1)의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료 함유층(2), 제1 전사층(5), 색재층(3), 제2 전사층(7)이 면 순차적으로 형성된 구성을 나타내고 있다. 또한, 기재(1), 적외선 흡수 재료 함유층(2), 색재층(3)은 일 실시형태의 열전사 시트(10)에 있어서의 필수적인 구성이고, 제1 전사층(5), 제2 전사층(7)은 일 실시형태의 열전사 시트(10)에 있어서의 임의의 구성이다. 이하, 각 구성에 관해서 구체적으로 설명한다.
(기재)
기재(1)에 관해서 어떠한 한정도 되지 않으며, 열전사 시트 분야에서 종래 공지된 것을 적절하게 선택하여 이용할 수 있다. 일례로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리페닐렌설파이드, 폴리에테르케톤 혹은 폴리에테르술폰 등의 내열성이 높은 폴리에스테르, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 아세트산셀룰로오스, 폴리에틸렌 유도체, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리스티렌, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리메틸펜텐 또는 아이오노머 등의 플라스틱의 연신 또는 미연신 필름을 들 수 있다. 또한, 이들 재료를 2종 이상 적층한 복합 필름도 사용할 수 있다.
또한, 기재(1)에, 코로나 방전 처리, 플라즈마 처리, 오존 처리, 플레임 처리, 프라이머(앵커코트, 접착촉진제, 이접착제라고도 불린다) 도포 처리, 예열 처리, 진애 제거 처리, 증착 처리, 알칼리 처리, 대전방지층 부여 등의 이접착 처리를 행하여도 좋다. 또한, 기재(1)는 필요에 따라서 충전재, 가소제, 착색제, 대전방지제 등의 첨가재를 함유하고 있어도 좋다. 기재(1)의 두께에 관해서 특별히 한정은 없지만, 2 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하의 범위인 것이 바람직하다.
(적외선 흡수 재료 함유층)
각 도면에 도시한 것과 같이, 기재(1)의 한쪽의 면 위(도시하는 형태에서는 기재(1)의 상면)에는 적외선 흡수 재료 함유층(2)이 형성되어 있다. 적외선 흡수 재료 함유층(2)은 필수적인 성분으로서 적외선 흡수 재료를 함유하고 있다. 본원 명세서에서 말하는 적외선 흡수 재료란 적외광을 흡수하는 재료를 의미한다.
즉, 일 실시형태의 열전사 시트(10)에 의하면, 해당 열전사 시트(10)와 피전사체(100)를 서로 겹쳐, 피전사체(100) 상에 적외선 흡수 재료 함유층(2)을 용융 전사함으로써, 피전사체(100) 상에, 가시광 하에서는 시인할 수 없거나 혹은 시인하기 어렵고, 적외광 하에서 인식할 수 있는 적외선 흡수 재료를 함유하는 화상(50A)을 형성할 수 있다(도 7 참조). 이하, 적외선 흡수 재료를 함유하는 화상의 것을 「특별 화상」이라고 하는 경우가 있다. 또한, 「특별 화상」의 것을 불가시 화상이라고 부를 수도 있다.
본원 명세서에서 말하는 「적외광 영역」이란, 750 nm 이상 2500 nm 이하의 파장 영역을 의미한다. 또한, 「가시광 영역」이란, 400 nm보다 크고 750 nm 미만인 파장 영역을 의미한다. 또한, 후술하는 「근적외광 영역」이란, 750 nm 이상 1400 nm 이하의 파장 영역을 의미한다.
적외선 흡수 재료로서는, 예컨대 디이모늄계 화합물, 아미늄계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 디티올계 유기 금속 착체, 시아닌계 화합물, 아조계 화합물, 폴리메틴계 화합물, 퀴논계 화합물, 나프토퀴논계 화합물, 디페닐메탄계 화합물, 트리페닐메탄계 화합물, 옥솔계 화합물이나 카본 블랙 등을 들 수 있다. 적외선 흡수 재료 함유층(2)은, 이들 적외선 흡수 재료의 1종을 단독으로 함유하고 있어도 좋고, 2종 이상을 함유하고 있어도 좋다.
특히 디이모늄계 화합물이나 시아닌계 화합물을 함유하는 적외선 흡수 재료 함유층(2)으로 한 경우에는, 이 적외선 흡수 재료 함유층(2)을 용융 전사함으로써 얻어지는 특별 화상 위에, 후술하는 색재층을 이용하여 열전사 화상을 형성했을 때에, 열전사 화상의 내광성이나 내가소제성에 악영향을 미치게 하지 않는다는 점에서 바람직한 적외선 흡수 재료라고 할 수 있다. 디이모늄계 화합물로서는 예컨대 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드산의 디이모늄염을 들 수 있다.
또한, 적외선 흡수 재료 함유층(2)은, 상기 적외선 흡수 재료와 함께 바인더 수지를 함유하고 있어도 좋다. 바인더 수지로서는, 예컨대 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐계 수지, 불소계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리아크릴계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리프로필렌 수지 등의 폴리올레핀계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리이미드계 수지, 페놀계 수지 및 폴리우레탄계 수지 등의 공지된 수지를 들 수 있다.
또한, 적외선 흡수 재료 함유층(2)은 각종 첨가재를 함유하고 있어도 좋다. 첨가재의 일례로서는, 색상을 갖는 화합물 등, 예컨대 유기 안료나 무기 안료 등을 들 수 있다. 유기 안료로서는, 예컨대 옐로우, 마젠타, 시안 등의 유채색 안료나 중공 입자 등을 들 수 있다. 무기 안료로서는, 실리카, 산화티탄, 이산화티탄, 산화아연, 산화세륨, 운모티탄, 백운모, 화이트 카본, 탄산칼슘, 황산바륨, 알루미나화이트, 탈크 등을 들 수 있다. 또한, 무기 안료로 이루어지는 코어의 주위를 유기 안료로 이루어지는 쉘로 피복한 코어·쉘 안료 등을 이용할 수도 있다. 이외에도 옐로우 염료, 마젠타 염료, 시안 염료 등의 유기 염료 등을 이용할 수도 있다.
또한, 특별 화상(50A)이 형성되는 피전사체(100)는, 일반적으로 백색을 나타내는 것이 바람직하게 이용되므로, 백색을 나타내는 피전사체(100)를 이용했을 때의 특별 화상(50A)의 은닉성의 더 한층의 향상을 목적으로 하는 경우에는, 상기 첨가재로서 산화티탄, 탄산칼슘 등의 백색 화합물을 이용하는 것이 바람직하다. 그 중에서도 산화티탄이 특히 적합하다.
또한, 일 실시형태의 조합에서 이용되는 열전사 시트(10)는, 기재(1)의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료 함유층(2), 색재층(3)이 면 순차적으로 형성된 구성을 나타내고, 적외선 흡수 재료 함유층(2)과 색재층(3)의 색상이 가까운 경우에는, 열전사 프린터 내에 있어서 적외선 흡수 재료 함유층(2)을 정확하게 검지할 수 없어, 인화 시의 위치 결정을 정확하게 할 수 없다고 하는 문제가 생길 수 있다. 그래서, 바람직한 형태의 적외선 흡수 재료 함유층(2)은, 적외선 흡수 재료와 함께, 안료나 색재층(3)의 색상과 다른 유기 염료 등을 함유하고 있다. 바람직한 형태의 적외선 흡수 재료 함유층(2)에 의하면, 적외선 흡수 재료 함유층(2)과 색재층(3)의 색상에 차를 갖게 할 수 있어, 열전사 프린터 내에 있어서 적외선 흡수 재료 함유층(2)을 정확하게 검지할 수 있다.
상기 첨가재의 함유량에 관해서 특별히 한정은 없고, 일례로서는 적외선 흡수 재료 함유층(2)의 총 질량에 대하여 0.1 질량% 이상 80 질량% 이하의 범위이며, 바람직하게는 5 질량% 이상 40 질량% 이하의 범위이다.
또한, 적외선 흡수 재료 함유층(2)에 안료나 유기 염료를 함유시키는 대신에, 적외선 흡수 재료 함유층(2)을, 적외선 흡수 재료를 함유하는 층(2A)과, 안료 또는 색재층(3)의 색상과 다른 유기 염료를 함유하는 층(2B)의 적층 구조로 함으로써, 열전사 프린터 내에 있어서의 적외선 흡수 재료 함유층(2)의 검지 정밀도를 향상시킬 수 있다.
적외선 흡수 재료 함유층(2)을 적층 구조로 하는 경우에 있어서, 적외선 흡수 재료를 함유하는 층(2A)은, 도 6(a)에 도시한 것과 같이, 기재(1)에서부터 가장 가까이에 위치시키더라도 좋고, 도 6(b)에 도시한 것과 같이, 기재(1)에서부터 가장 멀리에 위치시키더라도 좋고, 도 6의 (c), (d)에 도시한 것과 같이, 적외선 흡수 재료 함유층(2)을, 적외선 흡수 재료를 함유하는 층(2A), 안료를 함유하는 층(2B) 및 하나 또는 2개 이상의 임의의 층(2C)을 포함하는 적층 구조로 하여, 어느 층 사이에 적외선 흡수 재료를 함유하는 층(2A)를 위치시키더라도 좋다. 안료를 함유하는 층(2B)에 관해서도 마찬가지이다. 또한, 도 6에 도시하는 형태의 열전사 시트(10)에 있어서, 제1 전사층(5)을 제외한 구성으로 하여도 좋다.
안료를 함유하는 층(2B)으로서는, 상기 예시한 유기 안료, 무기 안료의 적어도 1종 및 필요에 따라서 바인더 등의 첨가재를 함유하고 있다. 바인더로서는, 예컨대 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-아크릴산에스테르 공중합체, 폴리에틸렌, 폴리스티렌, 염화비닐 수지, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 폴리비닐알코올, 염화비닐리덴 수지, 아크릴 수지, 메타크릴 수지, 폴리아미드, 폴리카보네이트, 불소 수지, 폴리비닐포르말, 폴리비닐부티랄, 아세틸셀룰로오스, 니트로셀룰로오스, 폴리아세트산비닐, 폴리이소부틸렌, 에틸셀룰로오스 또는 폴리아세탈 등을 들 수 있다. 더욱이, 각종 저분자량 폴리에틸렌, 쉘락 왁스, 칸데릴라 왁스, 페트롤라텀, 폴리에스테르 왁스, 일부 변성 왁스, 지방산에스테르, 지방산아미드 등 다양한 왁스를 이용할 수도 있다.
안료를 함유하는 층(2B)의 두께에 관해서 특별히 한정은 없지만, 0.1 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하의 범위가 바람직하고, 0.5 ㎛ 이상 1.5 ㎛ 이하의 범위가 보다 바람직하다.
또한, 상기 안료를 함유하는 층(2B)을 유기 염료를 함유하는 층(2B)으로 할 수도 있다. 유기 염료를 함유하는 층으로서는 후술하는 색재층(3)을 적절하게 선택하여 이용할 수 있다.
적외선 흡수 재료 함유층(2)의 두께에 관해서 특별히 한정은 없지만, 0.1 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하의 범위인 것이 바람직하다. 적외선 흡수 재료 함유층(2)의 두께를 바람직한 범위로 함으로써, 적외광에 있어서 충분히 식별 가능한 특별 화상(50A)을 형성할 수 있다. 또한, 적외선 흡수 재료 함유층(2)의 두께를 지나치게 얇게 한 경우에는, 상기 적외선 흡수 재료 함유층(2)을 이용하여 형성되는 특별 화상(50A)을 검지할 때의 검지 성능이 저하하는 경향이 있다. 한편, 적외선 흡수 재료 함유층(2)의 두께를 지나치게 두껍게 한 경우에는, 적외선 흡수 재료 함유층(2)을 피전사체 상에 전사할 때 테일링(Tailing)이나 문자 깨짐 등이 생기기 쉽게 되는 경향이 있다. 여기서, 본원 명세서에서 말하는 테일링이란, 전사층을 피전사체 상에 전사할 때에, 전사층의 전사 영역과 비전사 영역의 경계를 기점으로 하여, 그 경계에서 비전사 영역 측으로 비어져 나오게 전사층이 전사되어 버리는 현상을 의미한다. 또한, 본원 명세서에서 말하는 문자 깨짐이란, 문자로서 나타내어지는 전사 영역에 둘러싸였거나 혹은 사이에 끼워진 피전사 영역이 테일링과 같은 현상으로 전사되어 버려, 원래의 문자를 재현하지 못하는 현상을 의미한다.
적외선 흡수 재료 함유층(2)의 형성 방법에 관해서 특별히 한정은 없지만, 적외선 흡수 재료, 바인더 수지, 필요에 따라서 첨가되는 각종 첨가재를 적당한 용매에 분산 혹은 용해한 적외선 흡수 재료 함유층용 도공액을 조제하고, 이 도공액을 기재(1) 혹은 기재(1) 상에 형성되는 임의의 층 위에 도포·건조하여 형성할 수 있다. 적외선 흡수 재료 함유층용 도공액의 도포 방법에 관해서 특별히 한정은 없고, 종래 공지된 도포 방법을 적절하게 선택하여 이용할 수 있다. 도포 방법으로서는, 예컨대 그라비아 인쇄법, 스크린 인쇄법, 그라비아판을 이용한 리버스코팅법 등을 들 수 있다. 또한, 이 밖의 도포 방법을 이용할 수도 있다. 이것은 후술하는 각종 도공액의 도포 방법에 관해서도 마찬가지이다.
(이형층)
적외선 흡수 재료 함유층(2)의 전사성(이형성)을 향상시키기 위해서 기재(1)와 적외선 흡수 재료 함유층(2)의 사이에 이형층(도시하지 않는다)을 마련할 수도 있다. 여기서, 이형층은 적외선 흡수 재료 함유층(2)을 피전사체(100) 상으로 이행시킬 때에 기재(1) 측에 남는 층이다. 이형층의 재료로서는, 예컨대 실리콘 왁스 등의 각종 왁스류, 실리콘 수지, 실리콘 변성 수지, 불소 수지, 아크릴 수지, 폴리비닐알코올, 셀룰로오스 유도체 수지 등의 각종 수지 등이나 이들의 혼합물 등을 들 수 있다. 이형층의 두께는 통상 0.5 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하의 범위 내이다.
(색재층)
도 1에 도시한 것과 같이, 기재(1)의 한쪽의 면 위에는, 상기 적외선 흡수 재료 함유층(2)과 면 순차적으로 색재층(3)이 형성되어 있다. 색재층(3)은 가시광 영역의 파장을 흡수하는 색재 및 바인더 수지를 함유하고 있다. 일 실시형태의 열전사 시트(10)를 이용하여 형성되는 열전사 화상(50B)이 모노 컬러인 경우에는, 도 1에 도시한 것과 같이 적절하게 선택한 1색의 층만 형성하여도 좋고, 원하는 화상이 풀 컬러 화상인 경우에는, 도 2에 도시한 것과 같이, 옐로우 색재를 함유하는 옐로우 색재층(3Y), 마젠타의 색재를 함유하는 마젠타 색재층(3M), 시안의 색재를 함유하는 시안 색재층(3C)을, 기재(1)의 동일 면에 면 순차적으로 반복하여 형성하여도 좋다. 본원 명세서에서 말하는 색재란, 승화성 염료, 형광 염료 등의 염료나 안료 등을 포함하는 개념이다.
일 실시형태의 열전사 시트(10)에 의하면, 일 실시형태의 열전사 시트(10)와 피전사체(100)를 조합하여, 피전사체(100)의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료 함유층(2)을 이용한 특별 화상(50A)의 형성 및 색재층(3)을 이용한 열전사 화상(50B)의 형성을 행함으로써, 피전사체(100)의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료를 함유하는 특별 화상(50A)과 색재를 함유하는 열전사 화상(50B)이 형성된 인화물(200)을 얻을 수 있다.
일 실시형태의 열전사 시트(10)를 이용하여 형성되는 인화물(200)에 있어서의 특별 화상(50A)은, 예컨대 인화물(200)에 적외선을 조사하여, 특별 화상(50A)에 함유되어 있는 적외선 흡수 재료가 적외선을 흡수하는 특성을 이용하고, 적외선의 흡수 정도에 따른 광학 특성을 이용하는 방법 등을 이용하여 검출할 수 있다. 특별 화상(50A)의 검출기로서는 예컨대 적외선 스캐너 등을 들 수 있다.
그런데, 열전사 시트의 색재층을 이용하여 형성되는 열전사 화상(50B)이 근적외광 영역 및 적외광 영역의 파장에 대한 흡수성이 높은 화상인 경우에는, 환언하면, 열전사 화상(50B)을 형성하기 위한 색재층이 근적외광 영역 및 적외광 영역의 파장에 대한 흡수성이 높은 색재층인 경우에는, 상기 적외선 스캐너 등을 이용한 특별 화상(50A)의 검출 시에, 특별 화상(50A)과 함께 열전사 화상(50B)이 검출되어 버리는 문제나, 근적외광 영역 및 적외광 영역의 파장에 대한 흡수성이 높은 색재층을 이용하여 형성된 열전사 화상(50B)이 특별 화상(50A)의 검출에 영향을 미치게 하여 특별 화상(50A)을 정확하게 검출할 수 없다고 하는 문제가 생길 수 있다.
(제1 실시형태의 색재층)
이러한 점을 고려한 제1 실시형태의 색재층(3)은, 상기 색재층의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 50% 이상인 것을 특징으로 한다. 여기서, 본원 명세서에서 말하는 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이란, 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 색재층의 반사율을 측정하여, 측정되는 반사율 중 그 값이 최대가 되는 반사율을 의미한다. 즉, 색재층의 반사율을 측정했을 때에, 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하의 어느 한 파장 영역에 있어서 색재층의 반사율이 50% 이상으로 되어 있으면 된다.
제1 실시형태의 색재층(3)에 의하면, 상기 색재층(3)을 이용하여 형성되는 열전사 화상(50B)이, 적외선 흡수 재료를 함유하는 특별 화상(50A)의 검출성에 영향을 미치는 일이 없거나 혹은 그 영향 정도를 작게 할 수 있다. 즉, 제1 실시형태의 색재층(3)을 구비하는 일 실시형태의 열전사 시트(10)에 의하면, 특별 화상(50A) 및 열전사 화상(50B)을 가지며, 또한 적외선 스캐너 등을 이용하여 특별 화상(50A)을 정확하게 검출할 수 있는 인화물을 얻을 수 있다.
또한, 제1 실시형태의 색재층(3)에 있어서, 상기 색재층의 최대 반사율이 50% 이상이 되는 파장 영역을 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하의 범위로 하고 있는 것은, 근적외광 영역인 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 색재층(3)의 최대 반사율이, 적외선 흡수 재료를 함유하는 특별 화상(50A)의 검출성에 영향을 주기 쉽고, 적외광 영역에 있어서의 색재층(3)의 최대 반사율을 50% 이상으로 한 경우라도, 근적외광 영역에 있어서의 색재층(3)의 최대 반사율을 50% 이상으로 하지 않으면 특별 화상(50A)의 검출성을 충분히 높일 수 없음에 의한 것이다. 제1 실시형태의 색재층(3)은, 또한 1400 nm보다 크고 2500 nm 이하의 범위에도 반사율이 50% 이상인 파장 영역이 존재하고 있어도 좋다.
구체적으로는, 색재층의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 50% 미만인 경우에는, 적외선 흡수 재료를 포함하는 특별 화상(50A)을 적외선 스캐너 등을 이용하여 검출할 때에, 특별 화상(50A)과 함께 열전사 화상(50B)이 검출되어 버리는 문제나, 열전사 화상(50B)이 특별 화상(50A)의 검출성에 영향을 미쳐 특별 화상(50A)을 정확하게 검출할 수 없다고 하는 문제가 생기기 쉽게 된다.
바람직한 제1 실시형태의 색재층(3)은, 해당 색재층의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 80% 이상이다. 바람직한 제1 실시형태의 색재층(3)에 의하면, 적외선 스캐너 등을 이용하여 적외선 흡수 재료를 포함하는 특별 화상(50A)을 검출할 때의 검출성의 더 한층의 향상을 도모할 수 있다.
또한, 적외선 흡수 재료를 포함하는 특별 화상(50A) 상에 열전사 화상(50B)을 형성하고, 해당 특별 화상(50A)의 검출을, 830 nm의 파장을 검지하는 센서를 이용하여 행하는 경우의 바람직한 제1 실시형태의 색재층(3)은, 색재층의 파장 750 nm 이상 950 nm 이하 범위 내의 어느 한 파장에 있어서의 반사율이 50% 이상, 특히 80% 이상으로 되어 있고, 보다 바람직하게는 750 nm 이상 950 nm 이하의 전체 범위에 있어서 반사율이 50% 이상, 특히 80% 이상으로 되어 있다.
(색재층의 반사율의 측정 방법)
본원 명세서에서 말하는 색재층의 반사율은 이하의 방법에 의해 측정한 반사율을 의미한다.
측정 대상인 색재층을 이용하여, 피전사체 상에, 255/255 계조(에너지 계조)의 고체 화상(Solid image)을 형성한다. 고체 화상을 형성하기 전의 피전사체에서 미리 베이스라인을 측정해 둔다.
고체 화상의 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 반사율을 반사율 측정기를 이용하여 측정한다. 반사율 측정기로서는 (주)시마즈세이사쿠쇼 제조의 자외 가시 근적외 분광 광도계(UV-3100PC)를 이용했다.
상기 측정 방법에 의해, 750 nm 이상 1400 nm 이하의 범위 내에 반사율이 50% 이상이 되는 영역이 존재하고 있는 경우에는, 측정 대상인 색재층의 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 50% 이상이라고 말할 수 있다.
제1 실시형태의 색재층(3)이 함유하는 색재에 관해서 어떠한 한정도 되지 않으며, 색재층(3) 부분의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 50% 이상이라는 조건을 만족하는 범위에서 적절하게 설정할 수 있다. 일례로서의 제1 실시형태의 색재층(3)은 색재와 바인더 수지를 함유하고 있다.
제1 실시형태의 색재층(3)이 함유하는 색재로서는, 예컨대 디아릴메탄계 염료, 트리아릴메탄계 염료, 티아졸계 염료, 메로시아닌 염료, 피라졸론 염료, 메틴계 염료, 인도아닐린계 염료, 피라졸로메틴계 염료, 아세토페논아조메틴, 피라졸로아조메틴, 이미다졸아조메틴, 이미다조아조메틴, 피리돈아조메틴 등의 아조메틴계 염료, 크산텐계 염료, 옥사진계 염료, 디시아노스티렌, 트리시아노스티렌 등의 시아노스티렌계 염료, 티아진계 염료, 아진계 염료, 아크리딘계 염료, 벤젠아조계 염료, 피리돈아조, 티오펜아조, 이소티아졸아조, 피롤아조, 피라졸아조, 이미다졸아조, 티아디아졸아조, 트리아졸아조, 디스아조 등의 아조계 염료, 스피로피란계 염료, 인돌리노스피로피란계 염료, 플루오란계 염료, 로다민락탐계 염료, 나프토퀴논계 염료, 안트라퀴논계 염료, 퀴노프탈론계 염료 등을 들 수 있다. 구체적으로는, MSRedG(미츠이도아츠카가쿠(주)), Macrolex Red Violet R(바이엘사), Ceres Red 7B(바이엘사), Samaron Red F3BS(미쓰비시케미컬(주)) 등의 적색 염료, 홀론 브릴리언트 옐로우 6GL(클라리안트사), PTY-52(미쓰비시케미컬(주)), 마크로렉스 옐로우 6G(바이엘(주)) 등의 황색 염료, 카야셋트(등록상표) 블루 714(닛폰가야쿠사), 홀론 브릴리언트 블루 S-R(클라리안트사), MS 블루 100(미츠이도아츠카가쿠(주)), C.I. 솔벤트 블루 63 등의 청색 염료 등을 들 수 있다.
제1 실시형태의 색재층(3)은 색재로서 1종을 단독으로 함유하고 있어도 좋고, 2종 이상을 함유하고 있어도 좋다.
바람직한 제1 실시형태의 색재층(3)은, 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 80% 이상인 색재(이하, 「1의 색재」라고 하는 경우가 있다)를 함유하고 있다. 바람직한 제1 실시형태의 색재층(3)에 의하면, 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율의 한층 더한 향상을 도모할 수 있다.
파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 80% 이상인 「1의 색재」로서는 예컨대 안트라퀴논계 염료, 시아노메틸렌계 염료 등을 들 수 있다.
또한, 바람직한 제1 실시형태의 색재층(3)은, (1) 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 10% 미만인 색재(이하, 이 색재를 「다른 색재」라고 하는 경우가 있다)를 함유하고 있지 않거나, (2) 색재의 총 질량에 대하여 「다른 색재」를 15 질량% 미만의 범위에서 함유하고 있다. 바람직한 제1 실시형태의 색재층(3)에 의하면, 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 색재층(3)의 최대 반사율의 저하를 억제할 수 있어, 색재층의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율을 50% 이상으로 할 수 있다.
파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 10% 미만인 「다른 색재」로서는 예컨대 인도아닐린계 염료 등을 들 수 있다.
바람직한 제1 실시형태의 색재층(3)은, 색재로서 「1의 색재」 1종을 단독으로 함유하고 있어도 좋고, 2종 이상을 함유하고 있어도 좋다. 또한, 색재로서 「1의 색재」와 함께 「다른 색재」 1종을 함유하고 있어도 좋고, 「1의 색재」와 함께 「다른 색재」 2종 이상을 함유하고 있어도 좋다. 또한, 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 10% 이상 80% 미만인 색재를 함유하고 있어도 좋다. 이것은 제2 실시형태의 색재층(3)에 관해서도 마찬가지이다.
제1 실시형태의 색재층(3)이 함유하고 있는 색재의 함유량에 관해서 특별히 한정은 없으며, 열전사 화상(50B)에 요구되는 화상 농도나 후술하는 바인더 수지의 함유량 등에 따라서 적절하게 설정할 수 있다. 일례로서는, 색재의 함유량(모든 색재의 합계 함유량)은, 바인더 수지의 총 질량에 대하여 5 질량% 이상 300 질량% 이하의 범위이다. 이것은 후술하는 제2 실시형태의 색재층(3)에 관해서도 마찬가지이다.
제1 실시형태의 색재층(3)이 함유하고 있는 바인더 수지에 관해서도 특별히 한정은 없으며, 어느 정도의 내열성을 가지고, 승화성 염료와 알맞은 친화성이 있는 것을 적절하게 선택하여 사용할 수 있다. 이러한 바인더 수지로서는, 예컨대 니트로셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트부틸레이트, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스계 수지; 폴리아세트산비닐, 폴리비닐부티랄, 폴리비닐아세탈 등의 비닐계 수지; 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리(메트)아크릴아미드 등의 아크릴계 수지; 폴리우레탄계 수지; 폴리아미드계 수지; 폴리에스테르계 수지; 등을 들 수 있다.
바인더 수지의 함유량에 관해서 특별히 한정은 없지만, 제1 실시형태의 색재층(3)의 총 질량에 대한 바인더 수지의 함유량이 20 질량% 미만인 경우에는, 제1 실시형태의 색재층(3) 중에서 색재를 충분히 유지할 수 없고 보존성이 저하되어 가는 경향이 있다. 따라서, 제1 실시형태의 색재층(3)의 총 질량에 대한 바인더 수지의 함유량은 20 질량% 이상인 것이 바람직하다. 바인더 수지의 함유량의 상한치에 관해서 특별히 한정은 없고, 색재나 임의의 첨가재의 함유량에 따라서 적절하게 설정할 수 있다. 이것은 후술하는 제2 실시형태의 색재층(3)에 관해서도 마찬가지이다.
또한, 제1 실시형태의 색재층(3)은 무기 입자, 유기 미립자 등의 첨가재를 함유하고 있어도 좋다. 무기 입자로서는 탈크, 카본 블랙, 알루미늄, 이황화몰리브덴 등을 들 수 있고, 유기 미립자로서는 폴리에틸렌 왁스, 실리콘 수지 미립자 등을 들 수 있다. 색재층(3)은 이형제를 함유하고 있어도 좋다. 이형제로서는 변성 혹은 미변성의 실리콘 오일(실리콘 수지라고 불리는 것도 포함한다), 인산에스테르, 지방산에스테르 등을 들 수 있다. 이것은 후술하는 제2 실시형태의 색재층(3)에 관해서도 마찬가지이다.
제1 실시형태의 색재층(3)의 형성 방법에 관해서 특별히 한정은 없으며, 바인더 수지, 색재, 필요에 따라서 첨가되는 첨가재나 이형제를, 적당한 용제 중에 용해 혹은 분산시킨 색재층용 도공액을 조제하고, 이 도공액을 기재(1) 혹은 기재(1) 상에 형성되는 임의의 층 위에 도포·건조하여 형성할 수 있다. 색재층(3)의 두께는 0.2 ㎛ 이상 2.0 ㎛ 이하의 범위가 일반적이다. 이것은 후술하는 제2 실시형태의 색재층(3)에 관해서도 마찬가지이다.
(제2 실시형태의 색재층)
제2 실시형태의 색재층(3)은, 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 80% 이상인 「1의 색재」를 함유하고 있으며, 또한 (1) 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 10% 미만인 「다른 색재」를 함유하고 있지 않거나, 또는 (2) 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 10% 미만인 「다른 색재」를 함유하고 있는 경우라도 그 함유량이 색재의 총 질량에 대하여 15 질량% 미만인 것을 특징으로 한다.
「1의 색재」를 함유하며, 또한 「다른 색재」를 함유하고 있지 않거나 혹은 제2 실시형태의 색재층(3)이 함유하고 있는 색재의 총 질량에 대한 「다른 색재」의 함유량을 15 질량% 미만으로 규정한 제2 실시형태의 색재층(3)을 구비하는 일 실시형태의 열전사 시트(10)에 의하면, 특별 화상(50A) 및 열전사 화상(50B)을 가지며 또한 적외선 스캐너 등을 이용하여 특별 화상(50A)을 정확하게 검출할 수 있는 인화물(200)을 얻을 수 있다.
제2 실시형태의 색재층(3)은, 상기 「1의 색재」 및 「다른 색재」 이외의 색재, 구체적으로는 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 10% 이상 80% 미만인 색재를 함유하고 있어도 좋다. 이 경우에는, 색재의 총 질량에 대한 「1의 색재」의 함유량은 85 질량% 이상인 것이 바람직하다.
일례로서의 제2 실시형태의 색재층(3)은, 「1의 색재」로서 안트라퀴논계 염료, 시아노메틸렌계 염료 등을 함유하고 있으며, 또한 「다른 색재」로서의 인도아닐린계 염료를 함유하고 있지 않거나 혹은 제2 실시형태의 색재층(3)이 함유하고 있는 색재의 총 질량에 대하여 「다른 색재」로서의 인도아닐린계 염료를 15 질량% 미만의 범위에서 함유하고 있다.
상기에서는 「1의 색재」 및「다른 색재」로서 시안 색재층이 함유하고 있는 색재를 중심으로 설명했지만, 옐로우 색재층, 마젠타 색재층으로 하는 경우에 관해서도 마찬가지이다.
또한, 기재(1) 상에, 색상이 다른 복수의 색재층을 면 순차적으로 형성하는 경우에는, 적어도 복수의 색재층의 하나가 상기 제1 실시형태, 제2 실시형태의 색재층이며, 모든 색재층이 상기 제1 실시형태, 제2 실시형태의 색재층인 것이 바람직하다.
상기에서는 승화형 열전사 방식에 이용되는 색재층을 예로 들어 설명했지만, 이들 색재층(3) 대신에 혹은 이와 함께 색재층(3)을 열용융형 열전사 방식에 이용되는 열용융성 잉크층으로 할 수도 있다. 열용융성 잉크층은 바인더 수지와 색재로서의 착색제를 함유하고 있다.
이 경우, 상기 제1 실시형태, 제2 실시형태의 색재층에 있어서, 색재층이라는 기재를 열용융성 잉크층으로 바꿔 읽고, 색재라는 기재를 착색제로 바꿔 읽어도 좋다.
제2 실시형태의 색재층(3)이 함유하고 있는, 상기 「1의 색재」 및 「다른 색재」의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율은, 이하의 방법으로 측정했을 때의 값이다.
(색재층이 함유하고 있는 색재의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 반사율의 측정 방법)
본원 명세서에서 말하는 색재층이 함유하고 있는 색재의 반사율은 이하의 방법에 의해 측정한 반사율을 의미한다.
색재층을 갖춘 열전사 시트를 준비하고, 해당 색재층이 함유하고 있는 색재를 각종 분석 수단을 이용하여 특정한다. 색재를 특정한 후, DB비(「특정한 색재」/바인더 수지)가 「1」이 되도록 색재층용 도공액을 조정하고, 이 도공액을 기재 상에 도포·건조함으로써, 기재 상에 측정 대상인 색재를 함유하는 색재층이 형성된 열전사 시트의 샘플을 작성한다.
또한, 바인더 수지는 폴리비닐아세탈 수지(에스렉크(등록상표) KS-5 세키스이카가쿠고교(주))를 사용한다.
작성한 열전사 시트의 샘플을 이용하여, 상기 「색재층의 반사율의 측정 방법」에서 설명한 방법에 의해, 피전사체 상에 고체 화상을 형성하고, 이 고체 화상의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 반사율을 측정한다.
측정되는 반사율 중 그 값이 최대가 되는 것을, 색재층이 함유하고 있는 색재의 최대 반사율로 한다.
(색재 프라이머층)
기재(1)와 색재층(3)의 사이에, 기재(1)와 색재층(3)의 밀착성 향상을 목적으로 하는 색재 프라이머층(도시하지 않는다)을 형성할 수도 있다.
색재 프라이머층에 관해서 특별히 한정은 없고, 열전사 시트 분야에서 종래 공지된 색재 프라이머층을 적절하게 선택하여 이용할 수 있다. 일례로서의 색재 프라이머층은 수지 재료로 구성되어 있다. 색재 프라이머층을 구성하는 수지 재료로서는, 예컨대 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐피롤리돈 수지, 폴리비닐알코올 수지, 폴리아크릴산에스테르계 수지, 폴리아세트산비닐계 수지, 폴리우레탄계 수지, 스티렌아크릴레이트계 수지, 폴리아크릴아미드계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리비닐아세트아세탈이나 폴리비닐부티랄 등의 수지 등을 들 수 있다. 또한, 색재 프라이머층은 이들 수지 성분과 함께 유기 입자나 무기 입자 등의 각종 첨가재를 함유하고 있어도 좋다.
색재 프라이머층의 형성 방법에 관해서도 특별히 한정은 없으며, 위에서 예시한 수지 성분, 필요에 따라서 첨가되는 첨가재를, 적당한 용매에 용해 혹은 분산시킨 색재 프라이머층용 도공액을 조제하고, 이 도공액을 기재(1) 상에 도포·건조하여 형성할 수 있다. 색재 프라이머층의 두께에 관해서 특별히 한정은 없지만, 통상은 0.02 ㎛ 이상 1 ㎛ 이하의 범위이다.
(제1 전사층)
도 2(a)에 도시한 것과 같이, 기재(1) 상에, 상기 적외선 흡수 재료 함유층(2), 제1 전사층(5), 상기 색재층(3)을 면 순차적으로 형성할 수도 있다. 제1 전사층(5)은 기재(1)로부터 박리 가능하게 형성되어 있다. 제1 전사층(5)은, 열전사 방식에 의해, 피전사체(100) 상에 직접적으로 혹은 적외선 흡수 재료 함유층(2)에 의해서 특별 화상(50A)이 형성된 피전사체(100) 상으로 이행하는 층이다.
제1 전사층(5)을 구비하는 일 실시형태의 열전사 시트(10)에 의하면, 피전사체(100) 상에 적외선 흡수 재료를 함유하는 특별 화상(50A)을 형성하고, 또한 이 특별 화상(50A) 상에는 제1 전사층(5)을 형성할 수 있다. 즉, 특별 화상(50A)을 제1 전사층(5)에 의해서 덮을 수 있다. 이에 따라, 특별 화상(50A)이 표면에 노출됨으로 인한 여러 가지 문제, 예컨대 특별 화상(50A)이 외부로부터의 충격 등에 의해서 소실되어 버리는 것 등을 억제할 수 있다. 또한, 제1 전사층(5) 상에, 상기 제1 실시형태, 제2 실시형태의 색재층(3)에 의해 열전사 화상(50B)을 형성함으로써, 특별 화상(50A)과 열전사 화상(50B)을 갖는 인화물(200)에 입체감을 부여할 수 있다.
제1 전사층(5) 상에 승화형 열전사 방식에 의해서 열전사 화상(50B)을 형성하는 경우에는, 제1 전사층(5)은 적어도 수용층(5A)을 포함하고 있고, 수용층(5A)만으로 이루어지는 단층 구조, 혹은 기재(1) 측에서부터 수용층(5A), 다른 층이 이 순서로 적층되어 이루어지는 적층 구조를 나타내고 있다(도 2(a) 참조). 제1 전사층(5)을 구성하는 층 중 기재(1)에서부터 가장 가까이에 위치한 층을 수용층(5A)으로 하는 것은, 피전사체 상에 제1 전사층(5)을 전사했을 때에, 그 가장 표면에 수용층(5A)을 위치시키기 위해서이다.
「수용층」
수용층(5A)의 재료에 관해서 특별히 한정은 없지만, 색재층(3)이 함유하는 색재가 염착되기 쉬운 바인더 수지를 이용하는 것이 바람직하다. 이러한 바인더 수지로서는, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀계 수지, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴 등의 할로겐화 수지, 폴리아세트산비닐, 폴리아크릴에스테르 등의 비닐계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리아미드계 수지, 아이오노머, 셀룰로오스계 수지 등을 들 수 있다. 수용층(5A)은 이들 바인더 수지의 1종을 단독으로 함유하고 있어도 좋고, 2종 이상을 함유하고 있어도 좋다. 또한, 이들 바인더 수지의 모노머를 2종 이상 공중합하여 이루어지는 공중합체를 이용할 수도 있다. 이러한 공중합체로서는, 예컨대 에틸렌이나 프로필렌 등의 올레핀과 다른 비닐계 모노머와의 공중합체를 들 수 있다. 그 중에서도 셀룰로오스계 수지는, 전사 계면에 위치하는 층인 수용층(5A)의 전사성을 충분히 만족시킬 수 있어, 열전사 시트(10)에 인가되는 에너지를 높여 간 경우라도, 수용층(5A)을 포함하는 제1 전사층(5)의 전사성을 만족시킬 수 있다는 점에서 수용층(5A)의 재료로서 바람직하다. 또한, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체는, 수용층(5A)의 염료 염착성이나 수용층(5A)과 색재층(3)과의 이형성을 높일 수 있다는 점에서 수용층(5A)의 재료로서 바람직하다.
셀룰로오스계 수지로서는, 예컨대 셀룰로오스아세테이트 수지, 셀룰로오스아세테이트부틸레이트 수지, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 수지, 니트로셀룰로오스 수지, 아세트산셀룰로오스 등을 들 수 있다.
수용층(5A)은 인화 시에 있어서의 색재층(3)과의 열융착을 억제하기 위해서 이형제를 함유하고 있어도 좋다. 이형제로서는, 예컨대 폴리에틸렌 왁스, 아미드 왁스, 테플론(등록상표) 파우더 등의 고형 왁스류, 불소계 또는 인산에스테르계 계면활성제, 실리콘 오일, 반응성 실리콘 오일, 경화형 실리콘 오일 등의 각종 변성 실리콘 오일 및 각종 실리콘 수지 등을 들 수 있다.
수용층(5A)은, 상기 바인더 수지, 필요에 따라서 첨가되는 이형제 등의 첨가재를 적당한 용매에 분산 혹은 용해시킨 수용층용 도공액을 조제하고, 이 도공액을 기재(1) 혹은 기재(1) 상에 형성되는 임의의 층 상에 도포·건조하여 형성할 수 있다. 수용층(5A)의 두께에 관해서 특별히 한정은 없고, 통상 0.3 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하의 범위이다.
「히트시일층」
피전사체(100)와 제1 전사층(5)의 밀착성을 향상시키기 위해서, 도 2(a)에 도시한 것과 같이, 제1 전사층(5)을, 기재(1) 측에서부터 수용층(5A), 히트시일층(5C)을 이 순서로 적층하여 이루어지는 적층 구조로 할 수도 있다. 히트시일층(5C)의 재료로서는 피전사체(100)와의 접착성이 양호한 재료가 바람직하다. 이러한 재료로서는, 예컨대 에틸셀룰로오스, 아세트산부티르산셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체, 폴리스티렌, 폴리α-메틸스티렌 등의 스티렌 공중합체, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸메타크릴레이트, 폴리에틸아크릴레이트 등의 아크릴계 수지, 폴리염화비닐, 폴리아세트산비닐, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 폴리비닐부티랄 등의 비닐계 수지, 폴리에스테르 수지, 나일론 수지, 에폭시 수지, 폴리우레탄 수지 등을 들 수 있다. 히트시일층(5C)의 두께는 0.1 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하의 범위가 바람직하다.
「프라이머층」
도 2(a)에 도시한 것과 같이, 수용층(5A)과 히트시일층(5C)의 사이에 프라이머층(5B)을 형성할 수도 있다. 프라이머층(5B)을 형성함으로써, 수용층(5A)과 히트시일층(5C)의 밀착성의 향상, 수용층(5A)와 색재층의 이형성의 향상을 도모할 수 있고, 또한 수용층(5A) 상에 형성된 열전사 화상에 생길 수 있는 번짐의 억제나 대전방지성을 부여할 수 있다.
프라이머층(5B)의 두께에 관해서 특별히 한정은 없지만, 0.01 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하의 범위가 바람직하고, 0.02 ㎛ 이상 3 ㎛ 이하의 범위가 특히 바람직하다.
또한, 피전사체(100)에 전사된 제1 전사층(5) 상에, 열용융형 열전사 방식에 의해서 열전사 화상(50B)을 형성하는 경우에는, 제1 전사층(5)은 수용층(5A)을 갖고 있지 않아도 좋고, 피전사체 상에 전사할 수 있는 히트시일 패널 등을 적절하게 선택하여 이용할 수 있다. 히트시일 패널로서는, 상기 박리층이나 히트시일층 및 후술하는 보호층 등을 적절하게 선택하여 혹은 이들을 조합하여 이용할 수 있다.
(제2 전사층)
도 2(b)에 도시한 것과 같이, 기재(1)의 한쪽의 면 위에, 상기 적외선 흡수 재료 함유층(2), 제1 전사층(5), 색재층(3)과 함께 보호층(7A)을 포함하는 제2 전사층(7)을 면 순차적으로 형성할 수도 있다. 제2 전사층(7)은, 보호층(7A)만으로 이루어지는 단층 구조를 나타내고 있어도 좋고, 도 2(b)에 도시한 것과 같이, 기재(1) 측에서부터 박리층(7B), 보호층(7A)이 이 순서로 적층되어 이루어지는 적층 구조를 나타내고 있어도 좋다. 또한, 이 밖의 구성을 나타내고 있어도 좋다. 예컨대, 제1 전사층(5)을 형성하지 않고서 기재(1)의 한쪽의 면 위에 상기 적외선 흡수 재료 함유층(2), 상기 색재층(3), 제2 전사층(7)이 면 순차적으로 형성된 구성으로 할 수도 있다.
「보호층」
보호층(7A)을 구성하는 바인더 수지로서는, 예컨대 폴리에스테르 수지, 폴리에스테르우레탄 수지, 폴리카보네이트 수지, 아크릴 수지, 자외선 흡수성 수지, 에폭시 수지, 아크릴우레탄 수지, 이들 각 수지를 실리콘 변성시킨 수지, 이들 각 수지의 혼합물, 활성 광선 경화성 수지 등을 들 수 있다. 여기서 활성 광선이란, 활성 광선 경화성 수지에 대하여 화학적으로 작용시켜 중합을 촉진시키는 광선을 의미하며, 구체적으로는 가시광선, 자외선, 엑스선, 전자선, 알파선, 베타선, 감마선 등을 의미한다.
보호층(7A)을 구성하는 바인더 수지의 함유량에 관해서 특별히 한정은 없지만, 보호층(7A)의 고형분 총량에 대하여, 바인더 수지는 20 질량% 이상 함유되어 있는 것이 바람직하고, 30 질량% 이상 함유되어 있는 것이 보다 바람직하다. 바인더 수지의 함유량의 상한에 관해서 특별히 한정은 없으며, 그 상한은 100 질량%이다. 또한, 보호층(7A)은 바인더 수지에 더하여 각종 필러나 형광 증백제, 내후성을 향상시키기 위한 자외선 흡수제 등, 그 밖의 재료를 함유하고 있어도 좋다.
보호층(7A)의 형성 방법에 관해서도 특별히 한정은 없으며, 위에서 예시한 바인더 수지, 필요에 따라서 첨가되는 첨가재를 적당한 용매에 용해 혹은 분산시킨 보호층용 도공액을 조제하고, 이 도공액을 기재(1) 혹은 기재(1) 상에 형성되는 임의의 층 위에 도포·건조하여 형성할 수 있다. 보호층(7A)의 두께에 관해서 특별히 한정은 없지만, 통상은 0.5 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하의 범위이다.
「박리층」
제2 전사층(7)의 전사성을 향상시키기 위해서, 제2 전사층(7)을, 기재(1) 측에서부터 박리층(7B), 보호층(7A)이 이 순서로 적층되어 이루어지는 적층 구조로 할 수도 있다. 박리층(7B)을 구성하는 바인더 수지로서는, 예컨대 에틸셀룰로오스, 니트로셀룰로오스, 아세트산셀룰로오스 등의 셀룰로오스 유도체, 폴리메타크릴산메틸, 폴리메타크릴산에틸, 폴리아크릴산부틸 등의 아크릴계 수지, 폴리염화비닐, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 폴리비닐부티랄 등의 비닐계 수지 등으로 예시되는 열가소성 수지, 포화 또는 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 열경화성 에폭시-아미노 공중합체 및 열경화성 알키드-아미노 공중합체(열경화성 아미노알키드 수지) 등으로 예시되는 열경화성 수지, 실리콘 왁스, 실리콘 수지, 실리콘 변성 수지, 불소 수지, 불소 변성 수지, 폴리비닐알코올 등을 들 수 있다. 또한, 제2 전사층(7)의 박(箔) 절단성의 향상을 도모하기 위해서, 박리층(7B)에 마이크로실리카나 폴리에틸렌 왁스 등의 필러를 함유시키더라도 좋다. 또한 박리층은, 상기에 예시한 수지에 더하여 이소시아네이트 화합물 등의 가교제, 주석계 촉매, 알루미늄계 촉매 등의 촉매를 이용하여 형성하는 것으로 하여도 좋다.
박리층(7B)의 형성 방법에 관해서도 특별히 한정은 없으며, 상기에서 예시한 바인더 수지, 필요에 따라서 첨가되는 첨가재를 적당한 용매에 용해 혹은 분산시킨 박리층용 도공액을 조제하고, 이 도공액을 기재(1) 상에 도포·건조하여 형성할 수 있다. 박리층(7B)의 두께에 관해서 특별히 한정은 없지만, 통상은 0.1 ㎛ 이상 5 ㎛ 이하의 범위이다.
(배면층)
또한, 기재(1)의 다른 쪽의 면 위에 배면층(도시하지 않는다)을 형성할 수도 있다. 여기서, 배면층은 일 실시형태의 조합에서 이용되는 열전사 시트(10)에 있어서의 임의의 구성이다.
배면층의 재료에 관해서 한정은 없으며, 예컨대 셀룰로오스아세테이트부틸레이트, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스계 수지, 폴리비닐부티랄, 폴리비닐아세탈 등의 비닐계 수지, 폴리메타크릴산메틸, 폴리아크릴산에틸, 폴리아크릴아미드, 아크릴로니트릴스티렌 공중합체 등의 아크릴계 수지, 폴리아미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리우레탄 수지, 실리콘 변성 또는 불소 변성 우레탄 등의 천연 또는 합성 수지의 단일체 또는 혼합물 등을 들 수 있다.
또한, 배면층은 고형 혹은 액상의 윤활제를 함유하고 있어도 좋다. 윤활제로서는, 예컨대 폴리에틸렌 왁스 등의 각종 왁스류, 고급 지방족 알코올, 오르가노폴리실록산, 음이온계 계면활성제, 양이온계 계면활성제, 논이온계 계면활성제, 불소계 계면활성제, 유기 카르복실산 및 그 유도체, 금속 비누, 불소계 수지, 실리콘계 수지, 탈크, 실리카 등의 무기 화합물의 미립자 등을 들 수 있다. 배면층의 총 질량에 대한 윤활제의 질량은, 5 질량% 이상 50 질량% 이하의 범위, 바람직하게는 10 질량% 이상 40 질량% 이하의 범위이다.
배면층의 형성 방법에 관해서 특별히 한정은 없으며, 수지, 필요에 따라서 첨가되는 윤활제 등을 적당한 용제 중에 용해 혹은 분산시킨 배면층용 도공액을 조제하고, 이 도공액을 기재(1) 상에 도포·건조함으로써 형성할 수 있다. 배면층의 두께는 0.5 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하의 범위가 바람직하다.
<피전사체>
이어서, 일 실시형태의 조합에 이용되는 피전사체(100)에 관해서 설명한다. 일 실시형태의 조합에서 이용되는 피전사체(100)에 관해서 특별히 한정은 없으며, 천연 섬유지, 코트지, 트레이싱 페이퍼, 플라스틱 필름, 유리, 금속, 세라믹스, 목재, 천 등으로 이루어지는 것이며, 단층으로 이루어지는 것이라도 복수의 층으로 이루어지는 것이라도 좋다.
피전사체(100)가 플라스틱 필름으로 이루어지는 경우, 플라스틱 필름으로서는, 예컨대 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 나일론 6, 나일론 6,6 등의 폴리아미드계 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀계 수지, 폴리염화비닐 등의 비닐계 수지, 폴리아크릴레이트, 폴리메타아크릴레이트, 폴리메틸메타아크릴레이트 등의 아크릴계 수지, 폴리이미드, 폴리페닐렌술피드(PPS), 폴리스티렌, 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체(AS 수지), 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체(ABS 수지) 등의 스티렌계 수지, 셀로판, 셀룰로오스아세테이트, 니트로셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 필름 등을 들 수 있다. 플라스틱 필름은 상기한 수지를 주성분으로 하는 공중합 수지 혹은 혼합체(얼로이를 포함한다)라도 좋다.
피전사체(100) 자체는 수용층을 구바하지 않아도 좋지만, 열전사 화상(50B)을 승화형 열전사 방식에 의해 형성하는 경우이며, 일 실시형태의 열전사 시트(10)가 수용층(5A)를 포함하는 제1 전사층(5)을 구비하고 있지 않은 경우(도 1의 (a), (b) 참조)에는, 피전사체(100)는 한쪽의 면에 수용층을 구비하고 있는 것이 바람직하다. 또한, 피전사체(100)의 양면이 수용층을 구비하고 있어도 좋다. 또한, 일 실시형태의 열전사 시트(10)가 수용층(5A)을 포함하는 제1 전사층(5)을 구비하는 경우(도 2의 (a), (b) 참조)에는, 피전사체(100)는 열전사 화상(50B)의 형성면에 수용층을 구비하고 있을 필요가 없다.
피전사체(100)의 두께에 관해서 특별히 한정은 없지만, 3 ㎛ 이상 800 ㎛ 이하의 범위인 것이 바람직하고, 100 ㎛ 이상 600 ㎛ 이하의 범위인 것이 보다 바람직하다.
(다른 실시형태의 열전사 시트)
이상 일 실시형태의 열전사 시트에 관해서 구체적인 예를 들어 설명했지만, 다른 실시형태의 열전사 시트(10)는, 기재의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료 함유층(2)이 형성되어 있지 않고, 상기 제1 실시형태의 색재층(3) 또는 제2 실시형태의 색재층이 형성된 구성을 나타내고 있다. 다른 실시형태의 열전사 시트(10)는, 미리 특별 화상(50A)이 형성된 피전사체 상에 열전사 화상(50B)을 형성하기 위해서 이용되는 열전사 시트이다. 다른 실시형태의 열전사 시트(10)에 의하면, 미리 특별 화상(50A)이 형성된 피전사체 상에, 상기 제1 실시형태의 색재층(3) 또는 제2 실시형태의 색재층(3)을 이용하여 열전사 화상(50B)을 형성함으로써, 특별 화상(50A) 및 열전사 화상(50B)을 가지며 또한 적외선 스캐너 등에 의해 특별 화상(50A)을 정확하게 검출할 수 있는 인화물(200)을 얻을 수 있다.
다른 실시형태의 열전사 시트(10)는, 기재(1)의 한쪽의 면 위에, 상기 제1 실시형태의 색재층(3) 또는 제2 실시형태의 색재층과 함께, 적외선 흡수 재료 함유층(2)과는 다른 층이 면 순차적으로 형성된 구성으로 할 수도 있다. 적외선 흡수 재료 함유층(2)과는 다른 층으로서는 상기 제1 전사층(5)이나 제2 전사층(7) 등을 들 수 있다.
<열전사 시트의 구성예>
도 3∼도 5는 일 실시형태의 조합에서 이용되는 열전사 시트의 구성의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 3(a)에 도시하는 형태의 열전사 시트(10)는, 기재(1)의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료 함유층(2), 제1 전사층(5), 옐로우 색재층(3Y), 마젠타 색재층(3M), 시안 색재층(3C), 제2 전사층(7), 옐로우 색재층(3Y), 마젠타 색재층(3M), 시안 색재층(3C), 제2 전사층(7)이 면 순차적으로 형성된다. 도 3에 도시하는 형태의 열전사 시트(10)는, 각 층을 「1 패널」로 했을 때에, 인쇄 상류 측(도시하는 형태에서는 도면의 좌측)에서부터 「6 패널」이, 피전사체(100)의 한쪽의 면 측에 화상을 형성하기(1번째 화면의 화상을 형성한다) 위해서 이용되는 패널로 되어 있고, 나머지 「4 패널」이 피전사체(100)의 다른 쪽의 면 측에 화상을 형성하기(2번째 화면의 화상을 형성한다) 위해서 이용되는 패널로 되어 있다. 또한, 피전사체(100)가 수용층을 갖지 않는 경우에는, 제2 전사층(7)과 옐로우 색재층(3Y)의 사이에 제1 전사층(5)을 형성하고, 제1 전사층(5), 옐로우 색재층(3Y), 마젠타 색재층(3M), 시안 색재층(3C), 제2 전사층(7)으로 구성되는 「5 패널」에 의해서, 피전사체(100)의 다른 쪽의 면 측에 화상을 형성할 수도 있다. 또한, 도 3(b)에 도시한 것과 같이, 도 3(a)의 「6 패널」과 「4 패널」을 바꿀 수 있다. 또한, 제2 전사층(7)을 제외한 구성으로 할 수도 있다(도시하지 않는다). 또한, 도 3(c)에 도시하는 형태에서는, 적외선 흡수 재료 함유층(2), 제1 전사층(5), 옐로우 색재층(3Y), 마젠타 색재층(3M), 시안 색재층(3C), 제2 전사층(7), 옐로우 색재층(3Y), 마젠타 색재층(3M), 시안 색재층(3C), 제2 전사층(7)의 「10 패널」을 「1 유닛」으로 했을 때에, 이 「1 유닛」이 반복해서 형성되어 있다. 이하, 피전사체(100)의 한쪽의 면 측에 형성되는 화상을 「1번째 화면의 화상」이라고 하고, 피전사체의 다른 쪽의 면 측에 형성되는 화상을 「2번째 화면의 화상」이라고 하는 경우가 있다.
그런데, 인화 시에 있어서의 얼라인먼트(alignment)나 큐잉(cueing)은, 각 「패널」의 집합체를 「1 유닛」으로 했을 때에 「1 유닛」단위로 행해지고, 「1 유닛」은 다른 「1 유닛」과 「1 유닛」을 구성하는 「패널」의 배열이 동일하게 되어 있을 필요가 있다. 즉, 도 3에 도시하는 형태에서는, 피전사체(100)의 한쪽의 면 측에 「1번째 화면의 화상」을 형성할 때에 이용되는 「6 패널」과 피전사체의 다른 쪽의 면 위에 「2번째 화면의 화상」을 형성하기 위해서 이용되는 「4 패널」 각각을 「1 유닛」으로 할 수는 없고, 「6 패널」과 「4 패널」을 모은 「10 패널」을 「1 유닛」으로 할 필요가 있다. 그러나 「1 유닛」을 구성하는 「패널」수가 많아짐에 따라서, 각 층을 검지하기 위한 열전사 프린터의 설계 부하가 커진다고 하는 문제를 내재하고 있어, 「1 유닛」을 구성하는 「패널수」는 적을 것이 요구되고 있다.
그래서, 도 4에 도시하는 형태의 열전사 시트(10)는, 기재(1)의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료 함유층(2), 제1 전사층(5), 옐로우 색재층(3Y), 마젠타 색재층(3M), 시안 색재층(3C), 제2 전사층(7)의 「6 패널」로 이루어지는 집합체를 「1 유닛」으로 했을 때에, 해당 「1 유닛」이 반복하여 형성되어 있다. 즉, 도 3에 도시하는 형태에서는, 피전사체의 한쪽의 면 측에 「1번째 화면의 화상」을 형성하기 위해서 이용되는 패널을 「6 패널」로 구성하고, 피전사체(100)의 다른 쪽의 면 측에 「2번째 화면의 화상」을 형성하기 위해서 이용되는 패널을 「4 패널」로 구성하고 있는 데 대하여, 도 4에 도시하는 형태에서는 「1번째 화면의 화상」 및 「2번째 화면의 화상」을 형성하기 위한 패널을 함께 「6 패널」로 구성하여, 이 「6 패널」을 「1 유닛」으로 함으로써 「1 유닛」을 구성하는 패널수를 적게 하고 있다.
한편, 도 4에 도시하는 형태에서는, 「1번째 화면의 화상」을 특별 화상(50A)을 포함하는 화상으로 하고, 「2번째 화면의 화상」을 특별 화상(50A)을 포함하지 않는 화상으로 하는 경우라도, 「1 유닛」을 구성하는 패널수를 적게 하기 위해서 「1 유닛」 모두에 적외선 흡수 재료 함유층(2)을 포함할 필요가 있어, 낭비가 많아진다고 하는 문제가 생길 수 있다.
그래서, 도 5에 도시하는 형태의 열전사 시트(10)는, 기재(1)의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료 함유층(2), 제1 전사층(5), 옐로우 색재층(3Y), 마젠타 색재층(3M), 시안 색재층(3C), 제2 전사층(7)의 「6 패널」로 이루어지는 집합체를 「1 유닛」으로 했을 때에, 1번째 화면의 화상 및 2번째 화면의 화상의 형성에 제공되는 패널을 일체화시켜, 2 화면 길이의 「패널」로 하고 있다. 도시하는 형태에서는, 옐로우 색재층(3Y), 마젠타 색재층(3M), 시안 색재층(3C) 각각이 2 화면 길이의 「패널」로 되어 있다. 즉, 하나의 색재층을, 1번째 화면의 화상 및 2번째 화면의 화상의 형성에 이용하는 구성으로 하고 있다. 이 형태의 열전사 시트(10)에 의하면, 피전사체의 한쪽의 면 측 및 다른 쪽의 면 측에 형성되는 화상에 이용되는 층의 「패널」 길이를 2 화면분의 길이로 하고, 어느 한쪽의 면 측에 형성되는 화상에 이용되는 층의 「패널」 길이를 1 화면분의 길이로 함으로써, 사용되지 않는 「패널」에 의한 낭비를 억제할 수 있다. 예컨대, 도 5에 도시하는 형태의 열전사 시트(10)에 의하면, 「1 유닛」을 이용하여, 피전사체(100)의 한쪽의 면 위에 1번째 화면의 화상을 형성하고, 이어서 피전사체(100)를 상하 반전시킴과 더불어, 열전사 시트(10)를 되감고, 앞서 사용한 「1 유닛」을 다시 이용하여 피전사체(100)의 다른 쪽의 면 위에 2번째 화면의 화상을 형성할 수 있다. 또한, 도 5에 도시하는 형태에서는, 옐로우 색재층(3Y), 마젠타 색재층(3M), 시안 색재층(3C)을, 1번째 화면의 화상 및 2번째 화면의 화상 형성에 이용하도록 그 「패널」 길이를 2 화면분의 길이로 하고 있지만, 이 밖의 층, 예컨대 제1 전사층(5)이나 제2 전사층(7)의 「패널」 길이를 2 화면분의 길이로 할 수도 있다. 또한 「1 유닛」을 반복하여 마련할 수도 있다.
<<인화물의 제조 방법>>
이어서, 도 7∼도 9를 참조하여 본 발명의 일 실시형태의 인화물의 제조 방법(이하, 일 실시형태의 인화물의 제조 방법이라고 한다)에 관해서 설명한다.
(제1 실시형태의 인화물의 제조 방법)
제1 실시형태의 인화물의 제조 방법은, 열전사 시트(10)와 피전사체(100)를 이용한 인화물의 제조 방법이며, 피전사체(100)를 준비하는 피전사체 준비 공정과, 기재(1)의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료를 함유하는 적외선 흡수 재료 함유층(2)과 색재를 함유하는 색재층(3)이 면 순차적으로 형성된 열전사 시트(10)를 준비하는 열전사 시트 준비 공정과, 도 7(a), 도 8(a)에 도시한 것과 같이, 피전사체(100)의 한쪽의 면 위에, 열전사 시트의 적외선 흡수 재료 함유층(2)을 전사하여 적외선 흡수 재료를 함유하는 특별 화상(50A)을 형성하는 특별 화상 형성 공정과, 도 7(b), 도 8(b)에 도시한 것과 같이, 피전사체(100)의 한쪽의 면 위에, 열전사 시트(10)의 색재층(3)을 열전사하여 열전사 화상(50B)을 형성하는 열전사 화상 형성 공정을 포함하고, 열전사 시트(10)의 색재층(3) 부분의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 50% 이상인 것을 특징으로 한다. 즉, 열전사 시트(10)로서, 상기 제1 실시형태의 색재층(3)을 구비하는 일 실시형태의 열전사 시트(10)가 이용되는 것을 특징으로 한다.
상기 일 실시형태의 인화물의 제조 방법에 의하면, 열전사 시트(10)의 적외선 흡수 재료를 함유하는 특별 화상(50A)과 색재를 함유하는 열전사 화상(50B)을 가지고, 적외선 스캐너 등에 의해 특별 화상(50A)을 정확하게 검출할 수 있는 인화물(200)을 얻을 수 있다. 이하, 각 공정에 관해서 구체적으로 설명한다.
(피전사체를 준비하는 공정)
본 공정에서 준비되는 피전사체(100)는 상기 일 실시형태의 조합에서 설명한 피전사체(100)를 그대로 이용할 수 있으며, 여기서의 상세한 설명은 생략한다.
(열전사 시트를 준비하는 공정)
본 공정에서 준비되는 열전사 시트(10)는 상기 일 실시형태의 조합에서 설명한 열전사 시트(10)를 그대로 이용할 수 있으며, 여기서의 상세한 설명은 생략한다.
(특별 화상 형성 공정)
본 공정은, 열전사 시트(10)와 피전사체(100)를, 열전사 시트(10)의 적외선 흡수 재료 함유층(2)과 피전사체(100)의 한쪽의 면이 대향하도록 서로 겹쳐, 도 7(a), 도 8(a)에 도시한 것과 같이, 피전사체(100)의 한쪽의 면 위에, 열전사 시트(10)의 적외선 흡수 재료 함유층(2)을 용융 전사하여 특별 화상(50A)을 형성하는 공정이다. 특별 화상(50A)에 관해서 특별히 한정은 없으며, 예컨대 후술하는 열전사 화상(50B)의 화상 정보를 포함하는 이차원 코드 등을 들 수 있다. 특별 화상(50A)의 형성 및 제1 전사층(5)의 전사, 그리고 열전사 화상(50B)의 형성에 이용되는 열전사 프린터로서는, 서멀 헤드 등의 가열 수단을 갖는 종래 공지된 프린터를 적절하게 선택하여 이용할 수 있다. 또한, 서멀 헤드 등에 의한 가열 수단을 이용하는 방법 외에, 예컨대 핫스탬프 방식이나 히트롤 방식 등을 이용할 수 있다. 또한, 특별 화상(50A)은 열용융형 열전사 방식을 이용하여 형성할 수 있다. 열용융형 열전사 방식이란, 가열 수단으로부터 화상 정보에 따른 에너지를 인가함으로써 용융 연화된 색재층을, 피전사체 상에 전사하여 화상을 형성하는 방식이다.
(열전사 화상 형성 공정)
본 공정은, 열전사 시트(10)와 피전사체(100)를, 열전사 시트(10)의 색재층(3)과 피전사체(100)의 한쪽의 면이 대향하도록 서로 겹치고, 색재층(3)이 함유하고 있는 색재를 이행시켜, 도 7(b), 도 8(b)에 도시한 것과 같이, 피전사체(100) 상에 열전사 화상(50B)을 형성하는 공정이다. 본 공정을 거침으로써, 피전사체(100)의 한쪽의 면 위에 특별 화상(50A) 및 열전사 화상(50B)이 형성되어 이루어지는 인화물(200)을 얻는다.
도 8(b)에 도시하는 형태에서는, 특별 화상(50A)의 적어도 일부와 겹치도록 열전사 화상(50B)이 형성되어 있지만, 도 7(b)에 도시한 것과 같이, 특별 화상(50A)과 열전사 화상(50B)은 겹쳐 있지 않아도 좋다. 또한, 특별 화상(50A)의 전면을 덮도록 열전사 화상(50B)을 형성하여도 좋다.
또한, 피전사체(100) 상에 열전사 화상(50B)을 형성한 후에, 해당 열전사 화상(50B)의 적어도 일부와 겹치도록 열전사 화상(50B) 상에 특별 화상(50A)을 형성하여도 좋다(도시하지 않는다).
또한, 열전사 시트(10)의 색재층(3)이 색재로서 승화성 염료를 함유하고 있고, 승화형 열전사 방식을 이용하여 열전사 화상(50B)을 형성하는 경우에는, 피전사체(100)는 승화성 염료를 수용하기 위한 수용층을 갖고 있는 것이 바람직하다.
(제2 전사층 전사 공정)
또한, 도 7(c), 도 8(c)에 도시한 것과 같이, 특별 화상(50A) 및 열전사 화상(50B)의 형성 후, 특별 화상(50A) 및 열전사 화상(50B)을 덮도록 제2 전사층(7)을 전사하는 제2 전사층 전사 공정을 포함하고 있어도 좋다. 제2 전사층 전사 공정은 일 실시형태의 인화물의 제조 방법에 있어서의 임의의 공정이다. 제2 전사층(7)의 전사는, 도 2(b), 도 3∼도 5에 도시한 것과 같이, 제2 전사층(7)을 갖는 열전사 시트(10)를 이용하여 행하여도 좋고, 위에서 준비한 열전사 시트(10)와는 다른 별도의 열전사 시트(보호층 전사 시트 등)를 이용하여 행하여도 좋다.
(별도의 열전사 화상 형성 공정)
또한, 도 3∼도 5에 도시하는 열전사 시트(10)를 이용하여, 상기한 각종 공정에 앞서서 혹은 상기 각종 공정을 행한 후에, 도 7(d), 도 8(d)에 도시한 것과 같이, 피전사체(100)의 다른 쪽의 면 위에 별도의 열전사 화상(50C)을 형성하는 공정을 포함하고 있어도 좋다. 이 경우에, 피전사체(100)의 다른 쪽의 면이 수용층을 갖고 있지 않고, 승화형 열전사 방식에 의해 열전사 화상(50C)을 형성하는 경우에는, 열전사 화상(50C)을 형성하기 전에, 피전사체(100)의 다른 쪽의 면 위에 수용층을 전사하는 공정을 포함하고 있어도 좋다. 수용층의 전사는, 후술하는 것과 같이 제1 전사층(5)을 전사함으로써 행하여도 좋고, 다른 열전사 시트를 이용하여 행하여도 좋다. 별도의 열전사 화상 형성 공정을 포함하는 일 실시형태의 인화물의 제조 방법에 의하면, 양면에 열전사 화상이 형성된 인화물을 얻을 수 있다. 또한, 열전사 화상(50C) 대신에 혹은 이것과 함께 피전사체(100)의 다른 쪽의 면 위에 특별 화상(50A)을 형성하여도 좋다.
(제2 실시형태의 인화물의 제조 방법)
제2 실시형태의 인화물의 제조 방법은, 열전사 시트(10)와 피전사체(100)를 이용한 인화물의 제조 방법이며, 피전사체(100)를 준비하는 피전사체 준비 공정과, 기재(1)의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료를 함유하는 적외선 흡수 재료 함유층(2)과 색재를 함유하는 색재층(3)이 면 순차적으로 형성된 열전사 시트(10)를 준비하는 열전사 시트 준비 공정과, 도 9(a)에 도시한 것과 같이, 피전사체(100)의 한쪽의 면 위에, 열전사 시트의 적외선 흡수 재료 함유층(2)을 전사하여 적외선 흡수 재료를 함유하는 특별 화상(50A)을 형성하는 특별 화상 형성 공정과, 도 9(b)에 도시한 것과 같이, 열전사 시트(10)의 제1 전사층(5)을 전사하는 전사층 전사 공정과, 도 9(c)에 도시한 것과 같이, 제1 전사층(5) 상에 열전사 시트(10)의 색재층(3)을 열전사하여 열전사 화상(50B)을 형성하는 열전사 화상 형성 공정을 포함하고, 열전사 시트(10)의 색재층(3) 부분의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 50% 이상인 것을 특징으로 한다. 즉, 열전사 시트(10)로서, 상기 제1 실시형태의 색재층(3)을 구비하는 일 실시형태의 열전사 시트(10)가 이용되는 것을 특징으로 한다.
상기 제1 실시형태의 인화물의 제조 방법이, 피전사체(100) 상에 특별 화상(50A) 및 열전사 화상(50B)을, 특별 화상(50A)과 열전사 화상(50B)이 직접적으로 접하게 하거나(도 8 참조) 혹은 피전사체(100)의 동일 면 위에 특별 화상(50A)과 열전사 화상(50B)을 나란하게 형성하고 있는(도 7 참조) 것에 대하여, 제2 실시형태의 인화물의 제조 방법은, 특별 화상(50A) 상에 제1 전사층(5)을 전사하고, 전사된 제1 전사층(5) 상에 열전사 화상(50B)을 형성하고 있다는 점에서, 제1 실시형태의 인화물의 제조 방법과 제2 실시형태의 인화물의 제조 방법은 상이하며, 그 밖의 점에서는 일치하고 있다.
(제1 전사층 전사 공정)
본 공정은, 열전사 시트(10)와 특별 화상(50A)이 형성된 피전사체(100)를, 열전사 시트(10)의 제1 전사층(5)과 피전사체(100)의 한쪽의 면이 대향하도록 서로 겹쳐, 도 9(b)에 도시한 것과 같이, 특별 화상(50A)이 형성된 피전사체(100) 상에 열전사 시트(10)의 제1 전사층(5)을 용융 전사하는 공정이다. 제1 전사층(5)은, 후술하는 열전사 화상(50B)이 형성되는 영역에 전사되어 있으면 되며, 그 전사 영역은 피전사체(100)의 한쪽의 면의 전면이라도 좋고, 피전사체(100)의 한쪽의 면의 일부라도 좋다(도시하는 형태에서는 피전사체의 한쪽의 면의 전면).
또한, 제1 전사층(5)은 특별 화상(50A)과 겹치지 않는 위치에 전사하여도 좋다. 또한, 특별 화상(50A)의 보호라는 관점에서는 특별 화상(50A)을 덮도록 제1 전사층(5)을 전사하는 것이 바람직하다.
또한, 제2 실시형태의 인화물의 제조 방법에 있어서도, 상기 제1 실시형태의 인화물의 제조 방법에서 설명한 임의의 공정을 포함하고 있어도 좋다(도 9의 (d), (e) 참조).
또한, 상기 제1 실시형태 및 제2 실시형태의 인화물의 제조 방법에서는, 그 인화물의 형성에 이용되는 열전사 시트로서, 열전사 시트(10)의 색재층의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 50% 이상인 경우를 중심으로 설명했지만, 요컨대 열전사 시트(10)가 상기 제1 실시형태의 색재층(3)을 구비하는 열전사 시트(10)인 경우를 중심으로 설명했지만, 이 대신에, 상기 제2 실시형태의 색재층(3)을 구비하는 열전사 시트를 이용할 수도 있다.
<<열전사 프린터>>
이어서, 본 발명의 일 실시형태의 열전사 프린터(이하, 일 실시형태의 열전사 프린터라고 한다)에 관해서 설명한다.
일 실시형태의 열전사 프린터는, 열전사 시트 및 피전사체가 장전된 열전사 프린터이며, 장전된 열전사 시트 및 피전사체를 반송 경로를 따라서 반송하는 반송 수단과, 열전사 시트와 피전사체의 반송 경로 중에 배치된 플라텐 롤러와, 열전사 시트에 에너지를 인가하기 위한 서멀 헤드를 갖고 있다.
그리고 일 실시형태의 열전사 프린터는, 이 열전사 프린터 내에 장전되어 있는 열전사 시트가 위에서 설명한 열전사 시트인 것을 특징으로 한다. 이 특징을 갖는 일 실시형태의 열전사 프린터에 의하면, 간편하게 가시광 하에서 시인할 수 있는 열전사 화상(가시 화상) 및 가시광 하에서는 시인할 수 없거나 혹은 시인하기 어렵고, 적외광 하에서 인식할 수 있는 적외선 흡수 재료를 함유하는 화상(특별 화상)을 가지며, 또한 특별 화상을 정확하게 검출할 수 있는 인화물을 형성할 수 있다.
일 실시형태의 열전사 프린터는, 이 열전사 프린터 내에 장전되어 있는 열전사 시트에 특징을 가지고, 따라서 이 밖의 열전사 프린터의 구성에 관해서는 어떠한 한정도 되지 않으며, 종래 공지된 열전사 프린터를 적절하게 선택하여 이용할 수 있다.
일 실시형태의 열전사 프린터에 장전되어 있는 피전사체에 관해서도 특별히 한정은 없으며, 위에서 설명한 피전사체를 적절하게 선택하여 이용할 수 있다.
<<열전사 시트와 열전사 프린터의 조합>>
이어서, 본 발명의 일 실시형태의 열전사 시트와 열전사 프린터의 조합(이하, 일 실시형태의 조합이라고 한다)에 관해서 설명한다.
일 실시형태의 조합은, 열전사 시트와 열전사 프린터의 조합이며, 열전사 시트가 위에서 설명한 본 발명의 열전사 시트인 것을 특징으로 한다. 이 특징을 갖는 일 실시형태의 조합에 의하면, 간편하게 가시광 하에서 시인할 수 있는 열전사 화상(가시 화상) 및 가시광 하에서는 시인할 수 없거나 혹은 시인하기 어렵고, 적외광 하에서 인식할 수 있는 적외선 흡수 재료를 함유하는 특별 화상을 가지며, 또한 특별 화상을 정확하게 검출할 수 있는 인화물을 형성할 수 있다.
일 실시형태의 조합은, 해당 조합을 구성하는 열전사 시트에 특징을 가지고, 따라서 열전사 프린터에 관해서는 어떠한 한정도 되지 않으며, 종래 공지된 열전사 프린터를 적절하게 선택하여 이용할 수 있다.
<<게임기>>
이어서, 본 발명의 일 실시형태의 게임기(이하, 일 실시형태의 게임기라고 한다)에 관해서 설명한다.
일 실시형태의 게임기는, 열전사 프린터를 내장하는 게임기이며, 게임 기능을 실행하는 게임 실행 수단과, 게임 실행 수단에 의한 게임 기능의 실행 결과를 반영시킨 열전사 화상을 갖는 인화물을 열전사 프린터에 의해 형성하는 인화물 형성 수단과, 인화물 형성 수단에 의해 형성된 인화물을 발행하는 발행 수단을 포함하고 있다.
그리고 일 실시형태의 게임기는, 인화물 형성 수단이, 그 게임기에 내장되어 있는 열전사 프린터가 상기 설명한 본 발명의 열전사 프린터인 것을 특징으로 한다.
상기 특징을 갖는 일 실시형태의 게임기에 의하면, 게임의 실행 결과를 반영시킨 인화물을 온디맨드로 발행할 수 있다. 또한, 간편하게 가시광 하에서 시인할 수 있는 열전사 화상(가시 화상) 및 가시광 하에서는 시인할 수 없거나 혹은 시인하기 어렵고, 적외광 하에서 인식할 수 있는 적외선 흡수 재료를 함유하는 특별 화상을 가지며, 또한 특별 화상을 정확하게 검출할 수 있는 인화물을 형성할 수 있다.
일 실시형태의 게임기에서 형성되는 인화물이 갖는 가시 화상으로서는, 예컨대 게임 실행 수단에 의한 게임 기능의 실행 결과를 반영시킨 캐릭터 화상 등을 들 수 있다. 또한 특별 화상으로서는, 가시 화상인 캐릭터 화상의 스테이터스를 나타내는 정보 화상, 게임의 진행 상황을 나타내는 정보 화상 등을 들 수 있다. 정보 화상으로서는 예컨대 이차원 코드 등을 들 수 있다.
게임 기능을 실행하는 게임 실행 수단 및 인화물 형성 수단에 의해 형성된 인화물을 발행하는 발행 수단을 갖는 게임기에 관해서 특별히 한정은 없으며, 종래 공지된 게임을 적절하게 선택하여 이용할 수 있다.
또한, 일 실시형태의 게임기는 특별 화상에 기록된 정보를 식별하는 식별 수단을 추가로 포함하고 있어도 좋다. 식별 수단으로서는 예컨대 적외선 스캐너 등을 들 수 있다. 식별 수단을 추가로 구비하는 일 실시형태의 게임기에 의하면, 일 실시형태의 게임기에서 발행된 인화물(예컨대, 카드)을 다음번 이후의 게임에 이용하고, 이 이용 시에, 인화물이 갖는 특별 화상에 기록되어 있는 정보를 식별 수단에 의해 식별하여, 식별 수단에 의해 식별된 정보와 이번 게임에 있어서의 게임 기능의 실행 결과를 반영시킨 가시 화상, 및 가시 화상의 정보 등을 나타내는 특별 화상을 갖는 인화물을 새롭게 발행할 수 있다.
특히, 일 실시형태의 게임기는, 해당 게임기가 내장하는 열전사 프린터에 의해, 가시광 하에서 시인할 수 있는 열전사 화상(가시 화상) 및 가시광 하에서는 시인할 수 없거나 혹은 시인하기 어렵고, 적외광 하에서 인식할 수 있는 적외선 흡수 재료를 함유하는 특별 화상을 가지며, 또한 특별 화상을 정확하게 검출할 수 있는 인화물을 간편하게 형성할 수 있고, 식별 수단에 의해 특별 화상에 기록되어 있는 정보를 정확하게 식별할 수 있다.
도 10은 일 실시형태의 게임기(500)의 구성의 일례를 도시한 개략도이다. 도시하는 형태의 게임기(500)는, 그 하우징 내부에 열전사 프린터(400) 및 상기 게임기(500)에서 형성된 인화물이 갖는 특별 화상의 정보를 식별하기 위한 식별 수단(410)을 갖고 있다.
또한, 도시하는 형태의 게임기(500)는 컨트롤 패널(도시하지 않는다), 모니터(515), 스피커, 카드 삽입구(510), 카드 배출구(511), 코인 투입구(도시하지 않는다), 전원 등, 일반적인 게임기의 구성을 갖고 있다. 도시하는 형태에 있어서, 열전사 프린터(400), 컨트롤 패널, 모니터(515), 스피커는 제어 유닛에 접속되어 있다. 제어 유닛은, 게임 프로그램에 따라서 게임의 실행을 제어하는 게임 제어부(도시하지 않는다), 게임 제어부에 의해 주어지는 데이터에 기초하여 모니터(515)에 화상을 표시하게 하는 표시 제어부(도시하지 않는다), 게임 제어부에 의해 주어지는 데이터에 기초하여 스피커로부터 소리를 출력하는 음성 제어부(도시하지 않는다) 등을 갖고 있다. 게임 제어부는 CPU(Central Processing Unit), ROM(Read Only Memory)이나 RAM(Randam Access Memory) 등으로 구성되어 있다. CPU는 기억부, ROM, 기록 매체 등에 저장된 게임 프로그램을 RAM 상의 워크 메모리 영역에 불러내어 실행하고, 버스를 통해 접속된 각 장치를 구동시켜 게임 처리를 실행한다.
기억부는 예컨대 HDD(Hard Disk Drive)이며, 게임 제어부가 실행하는 프로그램, 프로그램 실행에 필요한 데이터, OS(Operating System) 등이 저장되어 있다. 프로그램에 관해서는, OS에 상당하는 제어 프로그램이나, 게임 프로그램, 소정의 처리를 컴퓨터에 실행시키기 위한 애플리케이션 프로그램이 저장되어 있다. 이들 각 프로그램 코드는, 게임 제어부에 의해 필요에 따라서 독출되어 RAM으로 옮겨져, 각종 수단으로서 실행된다.
식별 수단(410)은 카드 삽입구(510)의 내부에 마련되어, 인화물(카드)에 인화된 특별 화상의 정보를 읽어들인다. 식별 수단(410)으로서는 적외선 스캐너 등을 예로 들 수 있다.
게임 제어 수단은, 특별 화상의 정보에 기초하여 게임을 실행하고, 게임의 실행 결과에 기초하여 화상 데이터를 생성한다. 해당 화상 데이터에는, 게임 기능의 실행 결과를 반영시킨 가시 화상 및 가시 화상의 정보 등을 나타내는 특별 화상의 데이터가 포함된다. 게임 제어 수단은 생성한 화상 데이터를 열전사 프린터(400)에 송신하고, 열전사 프린터(400)의 서멀 헤드는 송신된 화상 데이터에 기초하여 열전사 시트의 적외선 흡수 재료 함유층, 색재층을 선택적으로 가열하여, 피전사체 상에 화상 데이터에 기초한 특별 화상 및 가시 화상을 형성한다. 형성된 피전사체 상에 가시 화상 및 특별 화상이 형성되어 이루어지는 인화물은 카드 배출구(511)로부터 배출된다.
상기 구성 대신에, 게임 제어부가 게임의 실행을 종료시킨 후에, 게임 정보를 네트워크를 통해 서버 등에 송신하는 구성으로 하여도 좋다. 또한, 서버 측에 있어서 게임 결과에 기초한 화상 데이터의 생성을 행하여도 좋다. 어느 구성을 취하는 경우라도, 일 실시형태의 게임기는, 열전사 프린터를 내장하여, 게임의 실행 및 게임의 실행 결과에 따라서 피전사체 상에 가시 화상, 특별 화상을 형성할 수 있는 것이라면, 이 밖에 관해서 어떠한 한정도 되지 않는다.
실시예
이어서 실시예를 들어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 이하, 특별히 양해를 구하지 않는 한, 부는 질량 기준이다.
(실시예 1)
기재로서 두께 4.5 ㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름을 이용하여, 이 기재의 한쪽의 면 위에, 하기 조성의 배면층용 도공액을 건조 시의 두께가 1 ㎛가 되도록 도포·건조하여 배면층을 형성했다. 또한, 기재의 다른 쪽의 면 위에, 하기 조성의 적외선 흡수 재료 함유층용 도공액을 건조 시의 두께가 0.5 ㎛가 되도록 도포·건조하여 적외선 흡수 재료 함유층을 형성했다. 또한, 기재의 다른 쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료 함유층과 면 순차적으로 하기 조성의 수용층용 도공액을 건조 시의 두께가 1 ㎛가 되도록 도포·건조하여 수용층을 형성했다. 또한, 기재의 다른 쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료 함유층, 수용층과 면 순차적으로 하기 조성의 프라이머층용 도공액을 건조 시의 두께가 0.2 ㎛가 되도록 도포·건조하여 프라이머층을 형성하고, 이 프라이머층 상에 하기 조성의 색재층용 도공액 1을, 그라비아 인쇄기에 의해 건조 시의 두께가 0.7 ㎛가 되도록 도포·건조하여 색재층을 형성했다. 이어서, 기재의 다른 쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료 함유층, 수용층, 색재층과 면 순차적으로 하기 조성의 박리층용 도공액을 건조 시의 두께가 1.0 ㎛가 되도록 도포·건조하여 박리층을 형성하고, 이 박리층 상에 하기 조성의 보호층용 도공액을 건조 시의 두께가 1 ㎛가 되도록 도포·건조하여 보호층을 형성함으로써, 기재의 한쪽의 면 위에 배면층이 형성되고, 기재의 다른 쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료 함유층, 수용층, 색재층, 박리층과 보호층의 적층체가 이 순서로 면 순차적으로 형성된 실시예 1의 열전사 시트를 얻었다.
(배면층용 도공액)
·폴리비닐부티랄 수지 1.8 부
(에스렉크(등록상표) BX-1 세키스이카가쿠고교(주))
·폴리이소시아네이트 5.5 부
(바녹크(등록상표) D750 DIC(주))
·인산에스테르계 계면활성제 1.6 부
(플라이서프(등록상표) A208N 다이이치고교세이야쿠(주))
·탈크 0.35 부
(미크로에이스(등록상표) P-3 닛폰탈크고교(주))
·톨루엔 18.5 부
·메틸에틸케톤 18.5 부
(적외선 흡수 재료 함유층용 도공액)
·아크릴 수지 24.0 부
(다이야날(등록상표) BR-87 미츠비시케미컬(주))
·디이모늄염 1.0 부
(CIR-RL 닛폰카릿트(주))
·톨루엔 37.5 부
·메틸에틸케톤 37.5 부
(수용층용 도공액)
·염화비닐-아세트산비닐 공중합체 15.8 부
(솔바인(등록상표) CNL 닛신카가쿠고교(주))
·염화비닐-아세트산비닐 공중합체 1 부
(솔바인(등록상표) C 닛신카가쿠고교(주))
·유기 변성 실리콘 오일 1.2 부
(X-22-3000T 신에츠카가쿠고교(주))
·유기 변성 실리콘 오일 1.2 부
(X-24-510 신에츠카가쿠고교(주))
·유기 변성 실리콘 오일 0.8 부
(KF-352A 신에츠카가쿠고교(주))
·톨루엔 40 부
·메틸에틸케톤 40 부
(프라이머층용 도공액)
·알루미나 졸 2.5 부
(알루미나졸 200 닛산카가쿠고교(주))
·폴리비닐피롤리돈 수지 2.5 부
(PVP K-90 아이에스피재팬사)
·물 47.5 부
·이소프로필알코올 47.5 부
(색재층용 도공액 1)
·하기 식(1)의 염료(「1의 색재」로서) 4 부
·폴리비닐아세탈 수지 3 부
(에스렉크(등록상표) KS-5 세키스이카가쿠고교(주))
·톨루엔 50 부
·메틸에틸케톤 50 부
Figure 112019011525749-pct00001
(박리층용 도공액)
·아크릴 수지 20 부
(다이야날(등록상표) BR-87 미츠비시케미컬(주))
·톨루엔 40 부
·메틸에틸케톤 40 부
(보호층용 도공액)
·폴리에스테르 수지 24 부
(바이론(등록상표) 700 도요보(주))
·자외선흡수제 6 부
·톨루엔 35 부
·메틸에틸케톤 35 부
(실시예 2)
색재층용 도공액 1 대신에 하기 조성의 색재층용 도공액 2를 이용하여 색재층을 형성한 것 이외에는, 전부 실시예 1과 같은 식으로 하여 실시예 2의 열전사 시트를 얻었다.
(색재층용 도공액 2)
·하기 식(2)의 염료(「1의 색재」로서) 4 부
·폴리비닐아세탈 수지 3 부
(에스렉크(등록상표) KS-5 세키스이카가쿠고교(주))
·톨루엔 50 부
·메틸에틸케톤 50 부
Figure 112019011525749-pct00002
(실시예 3)
색재층용 도공액 1 대신에 하기 조성의 색재층용 도공액 3을 이용하여 색재층을 형성한 것 이외에는 전부 실시예 1과 같은 식으로 하여 실시예 3의 열전사 시트를 얻었다.
(색재층용 도공액 3)
·상기 식(1)의 염료(「1의 색재」로서) 3.6 부
·하기 식(3)의 염료(「다른 색재」로서) 0.4 부
·폴리비닐아세탈 수지 3 부
(에스렉크(등록상표) KS-5 세키스이카가쿠고교(주))
·톨루엔 50 부
·메틸에틸케톤 50 부
Figure 112019011525749-pct00003
(비교예 1)
색재층용 도공액 1 대신에 하기 조성의 색재층용 도공액 A를 이용하여 색재층을 형성한 것 이외에는 전부 실시예 1과 같은 식으로 하여 비교예 1의 열전사 시트를 얻었다.
(색재층용 도공액 A)
·상기 식(3)의 염료(「다른 색재」로서) 4 부
·폴리비닐아세탈 수지 3 부
(에스렉크(등록상표) KS-5 세키스이카가쿠고교(주))
·톨루엔 50 부
·메틸에틸케톤 50 부
(비교예 2)
색재층용 도공액 1 대신에 하기 조성의 색재층용 도공액 B를 이용하여 색재층을 형성한 것 이외에는 전부 실시예 1과 같은 식으로 하여 비교예 1의 열전사 시트를 얻었다.
(색재층용 도공액 B)
·하기 식(4)의 염료(「다른 색재」로서) 4 부
·폴리비닐아세탈 수지 3 부
(에스렉크(등록상표) KS-5 세키스이카가쿠고교(주))
·톨루엔 50 부
·메틸에틸케톤 50 부
Figure 112019011525749-pct00004
(피전사체 1의 작성)
두께 35 ㎛의 다공질 폴리올레핀 필름(SP-U 미쓰이카가쿠도셀로(주)) 상에 하기 조성의 프라이머층용 도공액 1을 바코터에 의해 건조 시의 두께가 1.5 ㎛가 되도록 도포·건조하여 프라이머층을 형성하고, 이어서 프라이머층 상에 하기 조성의 수용층용 도공액을 바코터에 의해 건조 시의 두께가 4.0 ㎛가 되도록 도포·건조하여 수용층을 형성하여, 다공질 폴리올레핀 필름 상에 프라이머층, 수용층이 이 순서로 적층된 적층체를 얻었다. 이어서, 두께 400 ㎛(평량 310 g/㎡)의 심재지(OKL 카드 오지세이시(주))의 한쪽의 면 위에, 위에서 얻어진 적층체를 하기 조성의 접착층용 도공액(두께 4 ㎛)을 이용하여 접합했다. 또한, 상기 심재지의 다른 쪽의 면도 마찬가지로 다공질 폴리올레핀 필름 상에 프라이머층, 수용층이 이 순서로 적층된 적층체를 접합했다. 이에 따라, 심재지의 양면에 이 심재지 측에서부터 다공질 폴리올레핀 필름, 프라이머층, 수용층이 형성된 피전사체 1을 얻었다.
(프라이머층용 도공액 1)
·폴리에스테르 수지 4.2 부
(폴리에스터 WR-905 닛폰고세이카가쿠(주))
·산화티탄 8.4 부
(TCA-888 사카이카가쿠고교(주))
·형광증백제 0.07 부
(유비텍스(등록상표) BAC BASF재팬사)
·이소프로필알코올 7.2 부
·물 21 부
(수용층용 도공액)
·염화비닐-아세트산비닐 공중합체 10 부
(솔바인(등록상표) C 닛신카가쿠(주))
·실리콘 오일 1 부
(X-22-3000T 신에츠카가쿠고교(주))
·톨루엔 20 부
·아세트산에틸 20 부
(접착층용 도공액)
·폴리올 수지 30 부
(타케라크(등록상표) A-969V 미쓰이카가쿠(주))
·이소시아네이트 경화제 10 부
(타케네이트(등록상표) A-5 미쓰이카가쿠(주))
·아세트산에틸 60 부
(인화물의 형성)
<적외선 흡수 재료 함유층을 함유하는 화상(특별 화상)의 형성>
상기에서 작성한 피전사체 1과 각 실시예 및 비교예의 열전사 시트를 조합하여 이용하고, 하기 테스트 프린터를 이용하여, 피전사체 상에 180/255 계조(에너지 계조)의 조건으로 적외선 흡수 재료 함유층을 용융 전사하여 특별 화상을 형성했다.
(테스트 프린터)
서멀 헤드: KEE-57-12GAN2-STA(교세라(주))
발열체 평균 저항치: 3303(Ω)
주주사 방향 인자 밀도: 300(dpi)
부주사 방향 인자 밀도: 300(dpi)
인화 전압: 18(V)
라인 주기: 1.5(msec.)
인자 시작 온도: 35(℃)
펄스 듀티 비: 85(%)
<수용층의 전사>
상기 테스트 프린터를 이용하여, 피전사체 상 및 특별 화상 상에 180/25 5계조(에너지 계조)의 조건으로 수용층을 전사했다.
<열전사 화상의 형성>
상기 테스트 프린터를 이용하여, 위에서 전사한 수용층 상의 특별 화상이 형성되어 있지 않은 부분에 255/255 계조(에너지 계조)의 조건으로 열전사 화상(고체 화상)을 인화하여, 각 실시예 및 비교예의 인화물을 얻었다.
(최대 반사율의 측정)
각 실시예 및 비교예의 열전사 시트가 갖는 색재층의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 반사율을 자외 가시 근적외 분광 광도계(UV-3100PC (주) 시마즈세이사쿠쇼)를 이용하여 측정하여, 측정된 반사율 중 그 값이 최대가 되는 것을 최대 반사율로 했다. 측정 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 색재층의 최대 반사율은 상기 「색재층의 반사율의 측정 방법」에 의해 측정했다. 또한, 열전사 시트의 색재층의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 높아짐에 따라서 적외선 스캐너 등에 의한 특별 화상의 검출 정밀도는 양호하게 되고, 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 50% 미만인 경우에는 적외선 스캐너 등에 의해 특별 화상을 정확하게 검출할 수 없다.
(특별 화상의 검출성 평가)
적외선 스캐너(테스트용)를 이용하여, 각 실시예 및 비교예의 인화물이 갖는 특별 화상의 검출성을 평가하고, 이하의 평가 기준에 기초하여 특별 화상의 검출성을 평가했다. 평가 결과를 표 1에 함께 나타낸다.
「평가 기준」
A: 검출 정밀도가 높고, 특별 화상을 정확하게 인식할 수 있다.
B: 검출 정밀도는 떨어지지만, 특별 화상을 인식할 수 있다.
NG: 검출 정밀도가 낮고, 특별 화상을 인식할 수 없다.
Figure 112019011525749-pct00005
1: 기재
2: 적외선 흡수 재료 함유층
2A: 적외선 흡수 재료를 함유하는 층
2B: 안료 또는 유기 염료를 함유하는 층
3: 색재층
5: 제1 전사층
5A: 수용층
5B: 프라이머층
5C: 히트시일층
7: 제2 전사층
7A: 보호층
10: 열전사 시트
50A: 적외선 흡수 재료를 함유하는 화상(특별 화상)
50B: 열전사 화상
100: 피전사체
200: 인화물

Claims (14)

  1. 열전사 시트로서,
    기재의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료 함유층, 색재층이 면 순차적으로 형성되고,
    상기 적외선 흡수 재료 함유층은 적외선 흡수 재료와, 산화티탄 및 탄산칼슘 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 함유하며,
    상기 색재층은 바인더 수지 및 승화성 염료를 함유하고,
    상기 색재층의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 50% 이상인 것을 특징으로 하는 열전사 시트.
  2. 제1항에 있어서, 상기 색재층의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 80% 이상인 것을 특징으로 하는 열전사 시트.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 색재층의 파장 750 nm 이상 950 nm 이하의 전체 범위에 있어서의 반사율이 50% 이상인 것을 특징으로 하는 열전사 시트.
  4. 열전사 시트로서,
    기재의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료 함유층, 색재층이 면 순차적으로 형성되고,
    상기 적외선 흡수 재료 함유층은 적외선 흡수 재료와, 산화티탄 및 탄산칼슘 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 함유하며,
    상기 색재층은 바인더 수지 및 승화성 염료를 함유하고,
    상기 색재층은, 상기 승화성 염료로서, 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 80% 이상인 1의 승화성 염료를 함유하고 있으며,
    또한 상기 색재층은, 상기 승화성 염료로서, (1) 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 10% 미만인 다른 승화성 염료를 함유하고 있지 않거나, 또는 (2) 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 10% 미만인 다른 승화성 염료를 함유하고 있는 경우라도 그 함유량이 상기 승화성 염료의 총 질량에 대하여 15 질량% 미만인 것을 특징으로 하는 열전사 시트.
  5. 제1항 또는 제4항에 있어서, 상기 기재의 한쪽의 면 위에, 상기 적외선 흡수 재료 함유층, 전사층, 상기 색재층이 면 순차적으로 형성되고,
    상기 전사층은, 수용층만으로 이루어지는 단층 구조, 또는 상기 기재에서부터 가장 가까이에 상기 수용층이 위치한 적층 구조를 나타내는 것을 특징으로 하는 열전사 시트.
  6. 제1항 또는 제4항에 있어서, 상기 적외선 흡수 재료 함유층이 디이모늄계 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 열전사 시트.
  7. 인화물의 제조 방법으로서,
    피전사체를 준비하는 피전사체 준비 공정과,
    기재의 한쪽의 면 위에, 적외선 흡수 재료 함유층, 전사층, 색재층이 면 순차적으로 형성된 열전사 시트를 준비하는 열전사 시트 준비 공정
    을 포함하고,
    상기 열전사 시트의 적외선 흡수 재료 함유층은 적외선 흡수 재료와, 산화티탄 및 탄산칼슘 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 함유하고,
    상기 전사층은, 수용층만으로 이루어지는 단독 구조, 또는 상기 기재에서부터 가장 가까이에 상기 수용층이 위치한 적층 구조를 나타내며,
    상기 색재층은 바인더 수지 및 승화성 염료를 함유하고,
    상기 피전사체의 한쪽의 면 위에, 상기 열전사 시트의 상기 적외선 흡수 재료 함유층을 전사하여 적외선 흡수 재료를 함유하는 특별 화상을 형성하는 특별 화상 형성 공정과,
    상기 특별 화상 형성 공정 후에, 상기 특별 화상 위에, 상기 열전사 시트의 상기 전사층을 전사하는 전사층 전사 공정과,
    상기 전사 공정 후에, 상기 전사층 위에, 상기 색재층이 함유하고 있는 승화성 염료를 이행하여 열전사 화상을 형성하는 열전사 화상 형성 공정
    을 추가로 포함하고,
    상기 열전사 시트의 색재층의 파장 750 nm 이상 1400 nm 이하 범위에 있어서의 최대 반사율이 50% 이상인 것을 특징으로 하는 인화물의 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 열전사 시트의 색재층의 파장 750 nm 이상 950 nm 이하의 전체 범위에 있어서의 반사율이 50% 이상인 것을 특징으로 하는 인화물의 제조 방법.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 전사층 전사 공정이, 상기 특별 화상 및 상기 피전사체의 한쪽의 면의 전면을 덮도록 상기 전사층을 전사하는 공정인 것을 특징으로 하는 인화물의 제조 방법.
  10. 인화물의 제조 방법으로서,
    제1항 또는 제4항에 기재한 열전사 시트를 사용하는 것을 특징으로 하는 인화물의 제조 방법.
  11. 열전사 시트와 열전사 프린터의 조합체로서,
    상기 열전사 시트가 제1항 또는 제4항에 기재한 열전사 시트인 것을 특징으로 하는 열전사 시트와 열전사 프린터의 조합체.
  12. 열전사 시트 및 피전사체가 장전된 열전사 프린터로서,
    상기 장전된 열전사 시트가 제1항 또는 제4항에 기재한 열전사 시트인 것을 특징으로 하는 열전사 프린터.
  13. 열전사 프린터를 내장하는 게임기로서,
    게임 기능을 실행하는 게임 실행 수단과,
    상기 게임 실행 수단에 의한 상기 게임 기능의 실행 결과를 반영시킨 열전사 화상을 갖는 인화물을 상기 열전사 프린터에 의해 형성하는 인화물 형성 수단과,
    인화물 형성 수단에 의해 형성된 인화물을 발행하는 발행 수단
    을 포함하고,
    상기 열전사 프린터가 제12항에 기재한 열전사 프린터인 것을 특징으로 하는 게임기.
  14. 제13항에 있어서, 상기 게임기는 적외선 흡수 재료를 함유하는 열전사 화상에 기록된 정보를 식별하는 식별 수단을 추가로 포함하고,
    상기 게임 실행 수단은, 상기 식별 수단에 의해 식별된 상기 열전사 화상의 정보에 기초하여 상기 게임 기능을 실행시키는 것을 특징으로 하는 게임기.
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