KR102157973B1 - 이물질 제거 장치 및 이물질 제거 방법 - Google Patents
이물질 제거 장치 및 이물질 제거 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102157973B1 KR102157973B1 KR1020197018146A KR20197018146A KR102157973B1 KR 102157973 B1 KR102157973 B1 KR 102157973B1 KR 1020197018146 A KR1020197018146 A KR 1020197018146A KR 20197018146 A KR20197018146 A KR 20197018146A KR 102157973 B1 KR102157973 B1 KR 102157973B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- cleaning head
- sheet
- foreign matter
- ejection slit
- fluid
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B11/00—Cleaning flexible or delicate articles by methods or apparatus specially adapted thereto
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
- B08B5/02—Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
- B08B5/023—Cleaning travelling work
- B08B5/026—Cleaning moving webs
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
- B08B5/04—Cleaning by suction, with or without auxiliary action
- B08B5/043—Cleaning travelling work
- B08B5/046—Cleaning moving webs
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016255096A JP6975953B2 (ja) | 2016-12-28 | 2016-12-28 | 異物除去装置及び異物除去方法 |
JPJP-P-2016-255096 | 2016-12-28 | ||
PCT/JP2017/045465 WO2018123715A1 (ja) | 2016-12-28 | 2017-12-19 | 異物除去装置及び異物除去方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190089182A KR20190089182A (ko) | 2019-07-30 |
KR102157973B1 true KR102157973B1 (ko) | 2020-09-18 |
Family
ID=62708125
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020197018146A KR102157973B1 (ko) | 2016-12-28 | 2017-12-19 | 이물질 제거 장치 및 이물질 제거 방법 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6975953B2 (zh) |
KR (1) | KR102157973B1 (zh) |
CN (1) | CN110087784B (zh) |
TW (1) | TWI668056B (zh) |
WO (1) | WO2018123715A1 (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11318509B2 (en) * | 2017-11-06 | 2022-05-03 | Air Systems Design, Inc. | Dust hood |
CN110963564B (zh) * | 2019-12-19 | 2020-08-18 | 浙江海盐力源环保科技股份有限公司 | 一种工业废水中去除重金属离子的处理设备 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001156033A (ja) | 1999-11-25 | 2001-06-08 | Yokogawa Electric Corp | ドライ洗浄方法及び装置 |
KR101248534B1 (ko) | 2005-07-06 | 2013-04-02 | 휴글엘렉트로닉스가부시키가이샤 | 기판용 반송 제진 장치의 사용 방법 및 기판용 반송 제진장치 |
KR101598360B1 (ko) | 2014-09-05 | 2016-02-29 | 지에스티 반도체장비(주) | 기판 세척용 기판 위치 제어 장치 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62119781A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-06-01 | Hitachi Ltd | 表面清掃装置 |
GB2282463A (en) * | 1993-09-10 | 1995-04-05 | Manfred George Michelson | Cleaning photographic film |
JPH1064868A (ja) * | 1996-08-15 | 1998-03-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
JPH11300301A (ja) * | 1998-04-27 | 1999-11-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄方法及びその装置 |
JP2000262989A (ja) * | 1999-01-13 | 2000-09-26 | Uct Kk | 基板洗浄装置 |
EP1091388A3 (en) * | 1999-10-06 | 2005-09-21 | Ebara Corporation | Method and apparatus for cleaning a substrate |
JP3728406B2 (ja) * | 2000-06-15 | 2005-12-21 | シャープ株式会社 | 基板洗浄装置 |
US6565711B1 (en) * | 2000-08-05 | 2003-05-20 | Kleissler Jr Edwin A | Method for controlling dust on paper machinery and the like |
JP3625766B2 (ja) * | 2000-12-27 | 2005-03-02 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板表面処理装置および基板表面処理方法 |
JP4179592B2 (ja) * | 2002-08-21 | 2008-11-12 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板周縁処理装置および基板周縁処理方法 |
JP2005034782A (ja) * | 2003-07-17 | 2005-02-10 | Sony Corp | 洗浄装置及び洗浄方法 |
JP4040063B2 (ja) * | 2003-11-18 | 2008-01-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置およびコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP2005296809A (ja) * | 2004-04-12 | 2005-10-27 | Hugle Electronics Inc | 除塵装置用異物検出装置 |
JP2005349291A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Sharp Corp | スピン洗浄装置 |
CN100508159C (zh) * | 2004-06-14 | 2009-07-01 | 大日本网目版制造株式会社 | 基板处理装置和基板处理方法 |
JP4255459B2 (ja) * | 2005-06-15 | 2009-04-15 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
JP5016351B2 (ja) * | 2007-03-29 | 2012-09-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム及び基板洗浄装置 |
CN101327572B (zh) * | 2007-06-22 | 2012-01-25 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 晶圆背面减薄工艺 |
JP5151629B2 (ja) * | 2008-04-03 | 2013-02-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置、現像方法、現像装置及び記憶媒体 |
JP5403407B2 (ja) * | 2008-06-18 | 2014-01-29 | 株式会社リコー | 洗浄装置 |
JP5889537B2 (ja) * | 2011-03-23 | 2016-03-22 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンダ |
JP2013051301A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
US9991141B2 (en) * | 2012-03-23 | 2018-06-05 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and heater cleaning method |
JP6090837B2 (ja) * | 2012-06-13 | 2017-03-08 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP6058312B2 (ja) * | 2012-08-06 | 2017-01-11 | ヒューグル開発株式会社 | クリーニングヘッド |
TW201420219A (zh) * | 2012-11-16 | 2014-06-01 | Nitto Ind Co Ltd | 除塵裝置 |
US20140261572A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Dainippon Screen Mfg.Co., Ltd. | Substrate treatment apparatus and substrate treatment method |
JP6182347B2 (ja) * | 2013-04-19 | 2017-08-16 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置 |
CN103977973B (zh) * | 2014-05-09 | 2016-10-05 | 欧蒙医学诊断(中国)有限公司 | 一种载片清洗装置和方法 |
JP6504890B2 (ja) * | 2015-04-09 | 2019-04-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 異物除去装置、異物除去方法および剥離装置 |
CN105977547B (zh) * | 2016-05-18 | 2018-09-18 | 合肥国轩高科动力能源有限公司 | 一种用于卷绕叠片电池极片清理装置及清理方法 |
-
2016
- 2016-12-28 JP JP2016255096A patent/JP6975953B2/ja active Active
-
2017
- 2017-12-19 KR KR1020197018146A patent/KR102157973B1/ko active IP Right Grant
- 2017-12-19 CN CN201780078289.0A patent/CN110087784B/zh active Active
- 2017-12-19 WO PCT/JP2017/045465 patent/WO2018123715A1/ja active Application Filing
- 2017-12-25 TW TW106145506A patent/TWI668056B/zh active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001156033A (ja) | 1999-11-25 | 2001-06-08 | Yokogawa Electric Corp | ドライ洗浄方法及び装置 |
KR101248534B1 (ko) | 2005-07-06 | 2013-04-02 | 휴글엘렉트로닉스가부시키가이샤 | 기판용 반송 제진 장치의 사용 방법 및 기판용 반송 제진장치 |
KR101598360B1 (ko) | 2014-09-05 | 2016-02-29 | 지에스티 반도체장비(주) | 기판 세척용 기판 위치 제어 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201829079A (zh) | 2018-08-16 |
CN110087784A (zh) | 2019-08-02 |
TWI668056B (zh) | 2019-08-11 |
JP6975953B2 (ja) | 2021-12-01 |
JP2018103153A (ja) | 2018-07-05 |
KR20190089182A (ko) | 2019-07-30 |
WO2018123715A1 (ja) | 2018-07-05 |
CN110087784B (zh) | 2022-03-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100339716B1 (ko) | 판상부재의 반송 및 세정장치 | |
KR20060041868A (ko) | 노즐 세정 장치 및 기판 처리 장치 | |
TWI620238B (zh) | Substrate processing method and substrate processing device | |
JP5877954B2 (ja) | 非接触浮上搬送機能を有する基板処理装置 | |
CN1908819B (zh) | 显影处理装置以及显影处理方法 | |
KR102157973B1 (ko) | 이물질 제거 장치 및 이물질 제거 방법 | |
KR20200003200A (ko) | 유리판의 반송 장치 및 그 반송 방법 | |
JP4451385B2 (ja) | 塗布処理装置及び塗布処理方法 | |
CN107433240B (zh) | 喷嘴清扫装置、涂覆装置及喷嘴清扫方法 | |
CN101930184A (zh) | 显影处理装置 | |
JP2015027660A (ja) | ワイプ装置、インクジェット装置、および、ワイプ方法 | |
KR101941028B1 (ko) | 슬릿 타입의 분사구를 가지는 혼합 유체 분사 장치 | |
JP5388613B2 (ja) | 高圧洗浄液噴射式洗浄装置 | |
JP2007196094A (ja) | 処理液供給ユニットおよびそれを備えた基板処理装置 | |
JP5979456B2 (ja) | ガラス板の搬送装置及びその搬送方法 | |
JPWO2017204333A1 (ja) | 異物除去装置 | |
JP2000254605A (ja) | 可撓性基板の洗浄装置 | |
JP2009018427A (ja) | 液体噴射装置、および液体噴射装置における液体吐出ヘッドのクリーニング方法 | |
JP2014168896A (ja) | 液滴吐出ヘッドの洗浄装置 | |
JP5848812B1 (ja) | 吸着装置、及び、吸着装置の制御方法 | |
KR100809596B1 (ko) | 기판 세정 장치 | |
KR102351696B1 (ko) | 기판세정장치 | |
KR102415297B1 (ko) | 기판 코팅 장치 | |
JP2022177374A (ja) | 基板外観検査装置 | |
JP5118579B2 (ja) | インクジェット画像記録装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |