JPS62119781A - 表面清掃装置 - Google Patents
表面清掃装置Info
- Publication number
- JPS62119781A JPS62119781A JP25850585A JP25850585A JPS62119781A JP S62119781 A JPS62119781 A JP S62119781A JP 25850585 A JP25850585 A JP 25850585A JP 25850585 A JP25850585 A JP 25850585A JP S62119781 A JPS62119781 A JP S62119781A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum suction
- magnetic disk
- surface cleaning
- cleaning head
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
- B08B5/02—Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B15/00—Preventing escape of dirt or fumes from the area where they are produced; Collecting or removing dirt or fumes from that area
- B08B15/04—Preventing escape of dirt or fumes from the area where they are produced; Collecting or removing dirt or fumes from that area from a small area, e.g. a tool
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は平面等の曲率の一定な表面に付着した塵埃を除
去する装置に係り、特に清掃装置がらの再付着塵埃を防
止するのに好適な表面清掃装置に関するものである。
去する装置に係り、特に清掃装置がらの再付着塵埃を防
止するのに好適な表面清掃装置に関するものである。
磁気ディスク、半導体基板等は表面に塵埃が付着すると
事故、不良等の発生が増すため従来からその除塵が必要
とされている。
事故、不良等の発生が増すため従来からその除塵が必要
とされている。
その方法として、例えば長繊維の不織布を用いて表面を
拭く方法が行われているが、不織布からの脱落繊維が有
り開運となる。また、特開昭59−201229号に記
載のように、表面に気体をノズルにより高速で吹き付け
る方法も提案されている。しかしこの方法では一旦吹き
飛ばされた付着塵埃が表面に再付着することがあり、清
掃効率が上らない欠点を持つ。
拭く方法が行われているが、不織布からの脱落繊維が有
り開運となる。また、特開昭59−201229号に記
載のように、表面に気体をノズルにより高速で吹き付け
る方法も提案されている。しかしこの方法では一旦吹き
飛ばされた付着塵埃が表面に再付着することがあり、清
掃効率が上らない欠点を持つ。
本発明の目的は、上記した欠点を除き、表面に非接触で
、塵埃の再付着のない、清掃効率の高い表面清掃装置を
提供することにある。
、塵埃の再付着のない、清掃効率の高い表面清掃装置を
提供することにある。
本発明では、清掃装置を真空吸引形のものとし、吸引部
分を表面から気体軸受により一定距離を保って保持する
ことにより上記目的を達成する。
分を表面から気体軸受により一定距離を保って保持する
ことにより上記目的を達成する。
以下本発明の一実施例を第1図により説明する。
本実施例は本発明を磁気ディスク表面の清掃に用いた例
である。
である。
磁気ディスク10をディスク固定装置15によリディス
ク回転軸16に固定する。ディスク回転軸16は駆動モ
ータ(図示せず)により毎分200回転で回転させる。
ク回転軸16に固定する。ディスク回転軸16は駆動モ
ータ(図示せず)により毎分200回転で回転させる。
表面清掃ヘッド3oはジンバル保持機構40により保持
アーム20に固定され、加圧バネ21によりディスク表
面に対し一定圧力で加圧される。
アーム20に固定され、加圧バネ21によりディスク表
面に対し一定圧力で加圧される。
加圧バネ21は移動台50に固定されており、移動モー
タ60によりガイドレール51に沿ってディスク10の
半径方向に表面清掃ヘッド30を移動させる。
タ60によりガイドレール51に沿ってディスク10の
半径方向に表面清掃ヘッド30を移動させる。
空気供給パイプ70により表面清掃ヘッド30に圧縮空
気を送り1表面清掃ヘッド30と磁気ディスク10の間
に静圧軸受を形成し、表面清掃ヘッド30と磁気ディス
ク10の間隔を微小かつ一定に保つ。
気を送り1表面清掃ヘッド30と磁気ディスク10の間
に静圧軸受を形成し、表面清掃ヘッド30と磁気ディス
ク10の間隔を微小かつ一定に保つ。
更に真空吸引パイプ80により表面清掃ヘッド30の中
央部から空気を吸引し、これにより磁気ディスク表面に
付着している塵埃を吸引除去する。
央部から空気を吸引し、これにより磁気ディスク表面に
付着している塵埃を吸引除去する。
表面清掃ヘッド30は、第2図に断面図を示す様に、磁
気ディスク1oの磁性面12に対向して静圧浮上ポケッ
ト110および、真空吸引室120を持つ。保持アーム
20からの加圧力および、真空吸引による吸引力と、静
圧浮上ポケット110に空気供給パイプ70により供給
される空気圧による浮上刃との平衡位置で表面清掃ヘッ
ド30は磁気ディスク10上に保持され、上面に固定さ
れたジンバル保持バネ40により水平方向の移動を固定
されている。
気ディスク1oの磁性面12に対向して静圧浮上ポケッ
ト110および、真空吸引室120を持つ。保持アーム
20からの加圧力および、真空吸引による吸引力と、静
圧浮上ポケット110に空気供給パイプ70により供給
される空気圧による浮上刃との平衡位置で表面清掃ヘッ
ド30は磁気ディスク10上に保持され、上面に固定さ
れたジンバル保持バネ40により水平方向の移動を固定
されている。
ディスク磁性面12上の付着塵埃13は、真空吸引室に
吸い寄せられ、真空吸引パイプ80を通って外部に排出
され、真空吸引ポンプの排出部に設置した除塵フィルタ
に補足される。
吸い寄せられ、真空吸引パイプ80を通って外部に排出
され、真空吸引ポンプの排出部に設置した除塵フィルタ
に補足される。
表面清掃ヘッド30は一辺10IIImの正方形の同一
形状をした静圧浮上ポケット110を4ヶ持ちそれぞれ
の静圧浮上ポケット110は対応したオリフィス111
を介して空気供給パイプ70と接続され、圧縮空気源か
ら減圧バルブによりゲージ圧1 kg/am2の圧力に
制御された空気を供給されている。
形状をした静圧浮上ポケット110を4ヶ持ちそれぞれ
の静圧浮上ポケット110は対応したオリフィス111
を介して空気供給パイプ70と接続され、圧縮空気源か
ら減圧バルブによりゲージ圧1 kg/am2の圧力に
制御された空気を供給されている。
真空吸引室120は、表面清掃ヘッド30の中央部に位
置し、幅5n+++長さ23mmあり、2本の真空吸引
パイプ80が接続され、真空ポンプにより0.9 気圧
になる様に吸引されている。
置し、幅5n+++長さ23mmあり、2本の真空吸引
パイプ80が接続され、真空ポンプにより0.9 気圧
になる様に吸引されている。
この状態で表面清掃ヘッド30は磁気ディスク10の磁
性膜12の表面上に平均5μmの高さで浮上し、磁気デ
ィスク10の回転と移動台50の半径方向移動により磁
気ディスク10の全面を走査し、表面に付着している塵
埃を除去する。
性膜12の表面上に平均5μmの高さで浮上し、磁気デ
ィスク10の回転と移動台50の半径方向移動により磁
気ディスク10の全面を走査し、表面に付着している塵
埃を除去する。
表面付着fII埃量の測定はフレオン溶液を入jした超
音波洗浄槽中に回転軸に固定されたディスクの磁性膜を
付着させた記録部分を浸漬し、4 p p mで1回転
させた後のフレオン溶液中の1μi11以上の塵埃量の
増加量により行なった。
音波洗浄槽中に回転軸に固定されたディスクの磁性膜を
付着させた記録部分を浸漬し、4 p p mで1回転
させた後のフレオン溶液中の1μi11以上の塵埃量の
増加量により行なった。
従来の不織布による表面清掃では、フレオン200cc
中に1μm以上の塵埃が約500ケであったのに対し、
本実施例で清掃したディスクでは約150ケと3分の1
以下に低下した。
中に1μm以上の塵埃が約500ケであったのに対し、
本実施例で清掃したディスクでは約150ケと3分の1
以下に低下した。
本実施例では大面積を持つ磁気ディスクに対する例で説
明を行なったが、表面清掃ヘット部の形状を小型化する
ことにより、小面積の表面の清(()が可能であり、回
路パターン等の焼付けられた半導体回路基板の清掃が可
能であり、また表面清掃ヘッドの清掃面の曲率を被清掃
面と合わせることによりレーザ反射鏡等の高精度曲面の
清掃にも用いることが可能である。
明を行なったが、表面清掃ヘット部の形状を小型化する
ことにより、小面積の表面の清(()が可能であり、回
路パターン等の焼付けられた半導体回路基板の清掃が可
能であり、また表面清掃ヘッドの清掃面の曲率を被清掃
面と合わせることによりレーザ反射鏡等の高精度曲面の
清掃にも用いることが可能である。
本発明によれば、表面に接触せずに表面付着gq埃を除
去できるため、非常に清浄な表面を得ることができる。
去できるため、非常に清浄な表面を得ることができる。
第1図は1本発明の実施例の概略図、第2図は。
本実施例の表面清掃ヘッドの断面図である。
10・・・磁気ディスク、11・・・基板、12・・・
磁性膜。 13・・・付着塵埃、15・・・ディスク固定部、16
・・・ディスク回転軸、20・・・ヘッド保持アーム、
21・・・ヘッド加圧バネ、30・・・表面清掃ヘッド
、40・・・ジンバル保持バネ、50・・・移動台、5
1・・・移動レール、60・・・移動モータ、70・・
・空気供給パイプ、80・・・真空吸引パイプ、100
・・・ベース。 110・・・静圧浮上ポケット、111・・・オリフィ
ス。
磁性膜。 13・・・付着塵埃、15・・・ディスク固定部、16
・・・ディスク回転軸、20・・・ヘッド保持アーム、
21・・・ヘッド加圧バネ、30・・・表面清掃ヘッド
、40・・・ジンバル保持バネ、50・・・移動台、5
1・・・移動レール、60・・・移動モータ、70・・
・空気供給パイプ、80・・・真空吸引パイプ、100
・・・ベース。 110・・・静圧浮上ポケット、111・・・オリフィ
ス。
Claims (1)
- 1、曲率一定の表面と清掃部分との間隔を一定にするた
めの気体軸受部分と表面に付着している塵埃を吸引する
ための真空吸引除塵部分とを持ち、気体軸受部分と真空
吸引除塵部分とを一体として構成してなる清掃部分とを
持つことを特徴とする表面清掃装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25850585A JPS62119781A (ja) | 1985-11-20 | 1985-11-20 | 表面清掃装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25850585A JPS62119781A (ja) | 1985-11-20 | 1985-11-20 | 表面清掃装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62119781A true JPS62119781A (ja) | 1987-06-01 |
Family
ID=17321140
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25850585A Pending JPS62119781A (ja) | 1985-11-20 | 1985-11-20 | 表面清掃装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62119781A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0449585A (ja) * | 1990-06-18 | 1992-02-18 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク装置の製造方法 |
KR100446288B1 (ko) * | 1997-12-31 | 2004-11-06 | 삼성전자주식회사 | 하드디스크 드라이브의 칩 제거장치 |
JP2015054256A (ja) * | 2013-09-10 | 2015-03-23 | 東レエンジニアリング株式会社 | 清掃装置 |
WO2018123715A1 (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-05 | ヒューグル開発株式会社 | 異物除去装置及び異物除去方法 |
CN109078921A (zh) * | 2018-08-10 | 2018-12-25 | 陈静 | 一种收音机回收用旋转式除尘设备 |
CN115999975A (zh) * | 2023-03-27 | 2023-04-25 | 山东黑旋风锯业有限公司 | 一种锯片清洗机 |
-
1985
- 1985-11-20 JP JP25850585A patent/JPS62119781A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0449585A (ja) * | 1990-06-18 | 1992-02-18 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク装置の製造方法 |
KR100446288B1 (ko) * | 1997-12-31 | 2004-11-06 | 삼성전자주식회사 | 하드디스크 드라이브의 칩 제거장치 |
JP2015054256A (ja) * | 2013-09-10 | 2015-03-23 | 東レエンジニアリング株式会社 | 清掃装置 |
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JP2018103153A (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-05 | ヒューグル開発株式会社 | 異物除去装置及び異物除去方法 |
TWI668056B (zh) * | 2016-12-28 | 2019-08-11 | 日商修谷魯開發股份有限公司 | Foreign matter removing device and foreign matter removing method |
CN109078921A (zh) * | 2018-08-10 | 2018-12-25 | 陈静 | 一种收音机回收用旋转式除尘设备 |
CN115999975A (zh) * | 2023-03-27 | 2023-04-25 | 山东黑旋风锯业有限公司 | 一种锯片清洗机 |
CN115999975B (zh) * | 2023-03-27 | 2023-11-21 | 山东黑旋风锯业有限公司 | 一种锯片清洗机 |
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