JPH0449585A - 磁気ディスク装置の製造方法 - Google Patents

磁気ディスク装置の製造方法

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JPH0449585A
JPH0449585A JP15949590A JP15949590A JPH0449585A JP H0449585 A JPH0449585 A JP H0449585A JP 15949590 A JP15949590 A JP 15949590A JP 15949590 A JP15949590 A JP 15949590A JP H0449585 A JPH0449585 A JP H0449585A
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cleaning
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magnetic
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若月 耕作
Takeshi Takahashi
毅 高橋
Takemasa Shimizu
丈正 清水
Tsutomu Kuze
久世 務
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(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は磁気ディスク装置の製造方法に関わり、特に磁
気ディスク装置の製造時に発生し、磁気ディスク装置内
に封入された初期封入塵埃の除去に好適な磁気ディスク
装置の製造方法に関する。
[従来の技術] 磁気ディスク装置即ち、HDA (Head and 
DiskAssembly)の信頼性向上を図るために
は、ディスク損傷の原因を排除することが、重要な課題
の一つとなっている。
磁気ディスクはHD Aの記録媒体として使用されるも
ので、大容量の機種では通常複数枚積層されて用いられ
る。この磁気ディスクと相対運動し、磁気ディスクに対
して記録・再生を行なう磁気ヘッドスライダとの浮上隙
間は年々狭小化が進められており、現在ではわずか0.
2μm程度になっている。そのため磁気ディスクと磁気
ヘッドスライダとの接触による損傷を防止するためには
、磁気ディスクに平滑性が要求される。そこで磁気ディ
スクの製造工程において、アルミニウム基板に塗膜を形
成した後、平滑化を図るためにポリッシュ工程やバニッ
シュ工程が設けられている。ポリッシュ工程はアルミニ
ウム基板上に形成された塗膜を所定の膜厚にすることと
巨視的に平滑化するために塗膜表面をラッピングテープ
や布等によってポリッシュする工程である。バニッシュ
工程は、ポリッシュ工程の後に設けられ、ポリッシュ工
程で取り残した突起の除去を行なう工程で、製品に搭載
される磁気ヘッドスライダよりも浮上隙間の小さい模擬
スライダ(バニッシュスライダ)を磁気ディスク表面の
突起に衝突させて除去するものである。このように個々
の磁気ディスク製造時には、磁気ディスクと磁気ヘッド
スライダの接触要因となる突起は除去されている。
なお、磁気ディスク製造時の清掃に関する公知例として
、特開昭61−190767号公報及び特開昭6315
7317号公報がある。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、このように磁気ディスクの単板製造時に
接触要因となる突起は除去され磁気ディスクはクリーン
な状態で保存されるが、その後の製造工程において接触
要因となる塵埃が発生する問題は解決されていない。磁
気ディスク装置の組立工程はクリーンな環境で行なわれ
るが、そのような環境においても組立時における部品の
締結作業や勘合作業時に塵埃の発生を免れることは非常
に困難である。このような塵埃が磁気ディスクに付着し
、この塵埃に磁気ヘッドスライダが衝突すると、その浮
上姿勢が不安定となり正常な記録再生に支障をきたす場
合やさらに磁気ディスクに損傷を与える場合もある。従
来、塵埃を除去することを目的とした方法には、単板状
態で清掃を行う方法や磁気ディスクを積層した状態で磁
気ディスクと接触させながら清掃を行う方法が採用され
ている。しかし、単板状態に清掃を行う方法だけでは、
単板の加工時に生じた加工残渣等を除去することは可能
であっても、その後の組立工程で生じる塵埃の付着には
対処できない。またHDAの完成に近い状態に清掃を行
う方法においても、接触式の清掃方法では磁気ディスク
表面に何らかの損傷を与える可能性がある。例えば、磁
気ヘッドスライダと磁気ディスクの接触による相互間の
摩耗・摩擦を防止するために磁気ディスク表面に所定の
膜厚で塗布されている液体潤滑剤量の減少や清掃手段と
の接触による磁気ディスクからの発塵などが挙げられる
本発明の目的は、正常な記録・再生の障害となり、かつ
磁気ディスクに損傷を与える製造時の塵埃を非接触で排
除し、磁気ディスク装置の高信頼性化を達成することに
ある。
[課題を解決するための手段] 上記目的は、磁気記録媒体と該磁気記録媒体を回転させ
る回転機構系を収納するケーシングと、該磁気記録媒体
に読み書きを行う磁気ヘッドスライダを移動せしめるシ
ーク機構部とを組み立てて磁気ディスク装置を製造する
磁気ディスク装置の製造方法において、前記ケーシング
と前記シーク機構部を組み立てた後、前記ケーシングに
予め形成しておいた挿入口から清掃手段を挿入し、該清
掃手段に支持される清掃体を用いて非接触で前記磁気記
録媒体表面を清掃し、該清掃後に前記挿入口を密閉する
ことによって達成される。
上記目的は、前記清掃用支持手段は前記磁気記録媒体と
対向する部分に開口部を設けた中空部を有し、該開口部
から該中空部に導入される気体を外部に導出するための
気体流通路を配設してなり、前記清掃用支持手段に支持
される清掃体より構成される清掃手段を用いることによ
って達成される。
上記目的は、前記清掃体に圧電素子を搭載し、前記清掃
体により清掃した後に再度シークを行いながら前記圧電
素子の出力をモニタし、清掃効果を確認することによっ
て達成される。
上記目的は、磁気記録媒体と対向する部分に開口部を設
けた中空部を有し、該開口部から該中空部に導入される
気体を外部に導出するための気体流通路を配設してなる
清掃用支持手段と、該清掃用支持手段に支持される清掃
体より構成される清掃手段を備えた磁気ディスク装置の
清掃装置において、前記清掃体のロード/アンロード状
態を検出する検出手段と、該検出手段によって検出され
た結果から前記清掃体の位置を制御する制御手段とを設
けたことによって達成される。
[作用] ケーシングとシーク機構部を組み立てた後、ケシングに
予め形成しておいた挿入口から清掃用支持手段とそれに
支持される清掃体より構成される清掃手段を挿入し、清
掃用支持手段の磁気記録媒体と対向する部分に設けた開
口部と清掃体の隙間より流出する気体を、清掃用支持手
段に設けた気体流通路を介して外部に吸引し捕集するこ
とによって、磁気記録媒体表面に付着していた塵埃等の
微粒子を捕集し外部に排出することが可能となる。その
為清掃手段を挿入し、塵埃を外部に排出されるため挿入
口の他にケーシング部にクリーンエアを流す通風口を設
ける必要がない。
そして非接触で清掃を行った直後に、挿入口を密閉する
ことによって、内部に初期塵埃のない清浄な磁気ディス
ク装置を製造することが可能であり、磁気ヘッドスライ
ダが塵埃に接触する磁気デフ ィスクの損傷を未然に防止することができる。
[実施例] 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第1図は清掃用支持手段としてのガイドアームの構成図
である。ガイドアーム1に清掃手段としての清掃用スラ
イダ2を取り付けた支持バネ構造体3を組込み、その上
から遮蔽板4を被せガイドアーム1に固定する。清掃用
スライダ2は浮上時に磁気ディスク表面とは接触しない
浮上量に設定されている。遮蔽板4の一部には開口部5
が設けられており、開口部5より清掃用スライダ2の磁
気ディスク対向面がわずかに突出する構造となっている
。清掃用スライダ1の側面と遮蔽板4の隙間6は清掃用
スライダ2の動きを拘束しない程度に狭くなっている。
ガイドアーム1には清掃用スライダ2方向の断面がH字
状に形成されており、その上部に遮蔽板4を被せること
によって内部に気体を通過させる中空部即ち気体流通路
を形成し清掃用スライダ2の側面と開口部5の隙間6以
外は密閉される。またガイドアーム1には支持バネ構造
体3の背面にあたる部分に、支持バネ構造体3の所定以
上の変位を拘束するストッパー7が設けられている。清
掃時には複数個のガイドアーム1の気体流通路を連結し
、磁気ディスク枚数分積暦して使用する。
第2図は本清掃手段を用いた清掃方法を説明する図であ
る。複数個のガイドアーム1の気体流通路をマニホール
ドにより集合し吸引手段8と接続し、清掃用スライダ2
と遮蔽板4の開口部5の隙間6から塵埃9を含む気体を
吸引することによって、HDA内に浮遊している塵埃9
あるいは磁気ディスク10の表面に付着している塵埃9
をHDAをガイドアーム1の中空部に取り込み、捕集し
た塵埃9を内部に流出させることなしに外部に排出する
ことができる。さらにガイドアーム1の中空部の圧力を
吸引手段8の吸引力の調整により、清掃用スライダ2に
オートローディング機構を付加することができ、清掃用
スライダ2の磁気ディスク面への取り付け、又は取りは
ずしに人手を要しないため、清掃工程の簡略化を図るこ
とができる。
第3図はこのガイドアーム1を用いた清掃方法の一実施
例を示す図である。回転機構系11と複数枚の磁気ディ
スク10を収納したケーシング12にシーク機構系13
を組み立てる。ガイドアーム1の中空部の圧力を吸引手
段8の吸引力を強くして負圧に調整し、清掃用スライダ
2と磁気ディスク10が接触しないように、清掃用スラ
イダ2と磁気ディスク10の隙間を大きくするため背面
方向に持ち上げ、アンロード状態にする。ガイドアーム
1をケーシング12の一部に予め形成されている挿入口
14から磁気ディスク面内にたHDAのケーシング12
の挿入口から清掃手段を挿入し移動させた後固定する。
中空部の圧力を大気圧に解放して、清掃用スライダ2を
支持バネ構造体3の反力により磁気ディスク上にローデ
ィングさせる。その後中空部を所定の圧力に調整し、塵
埃9を含む気体を吸引しながら磁気ディスク10の外周
領域方向へ向けてシークを行う。外周領域に向けてシー
クを行うことにより、ガイドアーム内に捕捉できなかっ
た塵埃9を、HDA内を流れる循環流に乗せて内部のフ
ィルタ等の濾過手段(図示せず)に捕捉させることが可
能である。またこのガイドアーム1から外部に排出され
た塵埃を捕捉し、その成分分析を行うことによって発生
源を同定することが可能であり、発塵対策を行うことが
できる。清掃終了後、ガイドアーム1を磁気ディスクの
面外に移動させ、その後にケーシングカバー15によっ
て挿入口14を密閉する。
第4a図は圧電素子20を清掃用スライダ2に搭載した
図である。圧電素子2oは微小な機械的歪を電気信号に
変換する機能を有し、清掃を行った後再度シークを行い
、上記圧電素子20の出力をモニタすることによって、
磁気ディスク10が損傷を受けた場合や清掃用スライダ
2に塵埃9が付着し、浮上量低下をきたしたことによる
接触があった場合第4b図に示すような信号を検知する
ことができる。これによって容易に清掃効果を確認する
ことが可能であり、同時に清掃手段の異常をも検知する
ことができる。
第5図に清掃用スライダのロード/アンロードの検出方
法の一実施例を示す。ガイドアーム1をケーシング12
内に挿入する前に、清掃用スライダ2の側面に光があた
るように光源16を配置し、清掃用スライダ2をアンロ
ード状態にする。アンローディング状態にない清掃用ス
ライダ2があるならば、反射光として検出されるため、
順次各スライダに対して行えば、清掃用スライダ2と磁
気ディスク10との衝突による損傷を未然に防止するこ
とができる。ここで用いられる光源16として、例えば
レーザやLED等が挙げられるが、この他反射型でなく
ても透過型であってもよい。
次に清掃用スライダのロード/アンロードの他の検出方
法を示す。
第6a図にアンロードの状態を示す。アンロード時には
吸引手段8によってガイドアーム1の内部が負圧になる
ため、清掃用スライダ2は背面方向に持ち上がり、支持
バネ構造体3はストッパー7に接触する。
第6b図に待機時、清掃時の状態を示す。逆に待機時、
清掃時には内部の圧力が大気圧又はほぼそれに近い圧力
に開放されているため、支持バネ構造体3とストッパー
7は離れる。これを利用しガイドアーム1の支持バネ構
造体3の取付は部に絶縁層17を設け、この間の抵抗を
検出回路18で測定し支持バネ構造体3とストッパー7
の接触を調べる。この情報を清掃装置の動作を制御する
制御回路19に送り、異常が生じたと判断される場合に
はケーシング12内ヘガイドアーム1の挿入を中断また
は警報を発するなどの動作が可能である。
[発明の効果] 本発明によれば、ケーシングとシーク機構部を組み立て
た後、ケーシングに予め形成しておいた挿入口から清掃
手段を挿入し、非接触で磁気記録媒体を清掃出来るので
、正常な記録・再生の障害となり、かつ磁気ディスクに
損傷を与える製造時の塵埃を排除し、磁気ディスク装置
の高信頼性化を達成する効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例に係る清掃用支持手段の構成を
示す斜視図、第2図は本発明の実施例に係る清掃用支持
手段による塵埃捕集原理を示す説明図、第3図は本発明
の実施例に係る磁気ディスク装置の製造方法を示す斜視
図、第4a図は本発明の実施例に係る圧電素子を示す斜
視図、第4b図は第4a図に示した圧電素子が出力する
磁気ディスク装置異常時の電気信号を示す図表、第5図
、第6a図及び第6b図は清掃用スライダのロード/ア
ンロード検出方法を示す説明図である。 1・・・ガイドアーム、2・・・清掃用スライダ、5・
・・開口部、6・・・隙間、7・・・ストッパー8・・
・吸引手段、9・・・塵埃、10・・・磁気ディスク、
11・・・回転機構系、12・・・ケーシング、13・
・・シーク機構系、14・・・挿入口、15・・・ケー
シングカバー、16・・・光源、20・・・圧電素子

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、磁気記録媒体と該磁気記録媒体を回転させる回転機
    構系を収納するケーシングと、該磁気記録媒体に読み書
    きを行う磁気ヘッドスライダを移動せしめるシーク機構
    部とを組み立てて磁気ディスク装置を製造する磁気ディ
    スク装置の製造方法において、前記ケーシングと前記シ
    ーク機構部を組み立てた後、前記ケーシングに予め形成
    しておいた挿入口から清掃手段を挿入し、該清掃手段に
    支持される清掃体を用いて非接触で前記磁気記録媒体表
    面を清掃し、該清掃後に前記挿入口を密閉することを特
    徴とした磁気ディスク装置の製造方法。 2、前記清掃用支持手段は前記磁気記録媒体と対向する
    部分に開口部を設けた中空部を有し、該開口部から該中
    空部に導入される気体を外部に導出するための気体流通
    路を配設してなり、前記清掃用支持手段に支持される清
    掃体より構成される清掃手段を用いることを特徴とした
    特許請求範囲第1項に記載の磁気ディスク装置の製造方
    法。 3、前記清掃体に圧電素子を搭載し、前記清掃体により
    清掃した後に再度シークを行いながら前記圧電素子の出
    力をモニタし、清掃効果を確認することを特徴とした特
    許請求範囲第2項に磁気ディスク装置の製造方法。 4、磁気記録媒体と対向する部分に開口部を設けた中空
    部を有し、該開口部から該中空部に導入される気体を外
    部に導出するための気体流通路を配設してなる清掃用支
    持手段と、該清掃用支持手段に支持される清掃体より構
    成される清掃手段を備えた磁気ディスク装置の清掃装置
    において、前記清掃体のロード/アンロード状態を検出
    する検出手段と、該検出手段によって検出された結果か
    ら前記清掃体の位置を制御する制御手段とを設けたこと
    を特徴とする磁気ディスク装置の清掃装置。
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