JP2753886B2 - 磁気ディスク装置の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は磁気ディスク装置の製造方法に係り、特に磁
気ディスク装置の製造時に発生し、磁気ディスク装置内
に封入された初期封入塵埃の除去に好適な磁気ディスク
装置の製造方法に関する。

［従来の技術］ 磁気ディスク装置即ち、HDA（Head and Disk Assembl
y）の信頼性向上を図るためには、ディスク損傷の原因
を排除することが、重要な課題の一つとなっている。

磁気ディスクはHDAの記録媒体として使用されるもの
で、大容量の機種では通常複数枚積層されて用いられ
る。この磁気ディスクと相対運動し、磁気ディスクに対
して記録・再生を行なう磁気ヘッドスライダとの浮上隙
間は年々狭小化が進められており、現在ではわずか0.2
μｍ程度になっている。そのため磁気ディスクと磁気ヘ
ッドスライダとの接触による損傷を防止するためには、
磁気ディスクに平滑性が要求される。そこで磁気ディス
クの製造工程において、アルミニウム基板に塗膜を形成
した後、平滑化を図るためにポリッシュ工程やバニッシ
ュ工程が設けられている。ポリッシュ工程はアルミニウ
ム基板上に形成された塗膜を所定の膜厚にすることと巨
視的に平滑化するために塗膜表面をラッピングテープや
布等によってポリッシュする工程である。バニッシュ工
程は、ポリッシュ工程の後に設けられ、ポリッシュ工程
で取り残した突起の除去を行なう工程で、製品に搭載さ
れる磁気ヘッドスライダよりも浮上隙間の小さい模擬ス
ライダ（バニッシュスライダ）を磁気ディスク表面の突
起に衝突させて除去するものである。このように個々の
磁気ディスク製造時には、磁気ディスクと磁気ヘッドス
ライダの接触要因となる突起は除去されている。

なお、磁気ディスク製造時の清掃に関する公知例とし
て、特開昭61−190767号公報及び特開昭63−157317号公
報がある。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、このように磁気ディスクの単板製造時
に接触要因となる突起は除去され磁気ディスクはクリー
ンな状態で保存されるが、その後の製造工程において接
触要因となる塵埃が発生する問題は解決されていない。
磁気ディスク装置の組立工程はクリーンな環境で行なわ
れるが、そのような環境においても組立時における部品
の締結作業や勘合作業時に塵埃の発生を免れることは非
常に困難である。このような塵埃が磁気ディスクに付着
し、この塵埃に磁気ヘッドスライダが衝突すると、その
浮上姿勢が不安定となり正常な記録再生に支障をきたす
場合やさらに磁気ディスクに損傷を与える場合もある。
従来、塵埃を除去することを目的とした方法には、単板
状態で清掃を行う方法や磁気ディスクを積層した状態で
磁気ディスクと接触させながら清掃を行う方法が採用さ
れている。しかし、単板状態に清掃を行う方法だけで
は、単板の加工時に生じた加工残渣等を除去することは
可能であっても、その後の組立工程で生じる塵埃の付着
には対処できない。またHDAの完成に近い状態に清掃を
行う方法においても、接触式の清掃方法では磁気ディス
ク表面に何らかの損傷を与える可能性がある。例えば、
磁気ヘッドスライダと磁気ディスクの接触による相互間
の摩耗・摩擦を防止するために磁気ディスク表面に所定
の膜厚で塗布されている液体潤滑剤量の減少や清掃手段
との接触による磁気ディスクからの発塵などが挙げられ
る。

本発明の目的は、正常な記録・再生の障害となり、か
つ磁気ディスクに損傷を与える製造時の塵埃を非接触で
排除し、磁気ディスク装置の高信頼性化を達成すること
にある。

［課題を解決するための手段］ 上記目的は、磁気記録媒体と該磁気記録媒体を回転さ
せる回転機構系を収納するケーシングと、該磁気記録媒
体に読み書きを行う磁気ヘッドスライダを移動せしめる
シーク機構部とを組み立て、前記ケーシングに予め形成
した挿入口から清掃手段を挿入し、該清掃手段の清掃用
支持手段に支持される清掃体を用いて非接触で前記磁気
記録媒体表面を清掃し、該清掃後に前記挿入口を密閉す
る磁気ディスク装置の製造方法において、前記清掃用支
持手段には遮蔽部材によって中空部を形成し、前記遮蔽
部材には磁気記録媒体表面に対向して開口部を設け、前
記開口部から前記清掃体がわずかに突出して前記磁気記
録媒体上を浮上する構造とし、前記開口部の清掃体周部
と遮蔽部材との隙間から前記中空部内に流入した気体
を、前記中空部を気体流通路として排出することにより
前記磁気記録媒体表面を清掃することを特徴とする磁気
ディスク装置の製造方法によって達成される。

［作用］ 以下、第１〜３図を参考にして、本発明の作用を説明
する。

上記構成によれば、清掃用支持手段１に、遮蔽部材例
えば遮蔽板４などを被せて中空部を形成し、この遮蔽板
４の一部に、磁気記録媒体10の表面に対向して開口部５
を設け、中空部内に収容して取り付けた清掃体２が、こ
の開口部５からわずかに突出して設けられ、清掃体２の
周部と遮蔽板４との間には隙間６が形成されている。中
空部内は気体流通路となっており、例えば吸引手段８な
どによって中空部内を負圧にすることにより、媒体10表
面の気体や塵埃を、隙間６から中空部内に流入させて外
部に排出できる。また、清掃体としてバニッシュヘッド
を用いることにより、これを媒体表面の突起に衝突さ
せ、除去した突起の微粒子などを補集して外部に排出す
ることができる。

したがって、ケーシング12とシーク機構部13を組み立
てた後、ケーシング12に予め形成しておいた挿入口14か
ら清掃手段を挿入し、清掃用支持手段１の磁気記録媒体
10と対向する部分に設けた開口部５の、清掃体２との隙
間６から媒体上の気体を吸引することによって、媒体表
面に付着していた塵埃等の微粒子を補集し外部に排出す
ることが可能となる。

そのため、清掃手段の挿入口14の他に、ケーシング部
12にクリーンエアを流す通風口を設ける必要がなく、ま
た、清掃直後に挿入口14を密閉することによって、内部
に初期塵埃のない清浄な磁気ディスク装置を製造するこ
とができるので、磁気ヘッドスライダが塵埃に接触した
りして生じる磁気ディスクの損傷を未然に防止すること
ができる。

［実施例］ 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。

第１図は清掃用支持手段としてのガイドアームの構成
図である。ガイドアーム１に清掃手段としての清掃用ス
ライダ２を取り付けた支持バネ構造体３を組込み、その
上から遮蔽板４を被せガイドアーム１に固定する。清掃
用スライダ２は浮上時に磁気ディスク表面とは接触しな
い浮上量に設定されている。遮蔽板４の一部には開口部
５が設けられており、開口部５より清掃用スライダ２の
磁気ディスク対向面がわずかに突出する構造となってい
る。清掃用スライダ１の側面と遮蔽板４の隙間６は清掃
用スライダ２の動きを拘束しない程度に狭くなってい
る。ガイドアーム１には清掃用スライダ２方向の断面が
Ｈ字状に形成されており、その上部に遮蔽板４を被せる
ことによって内部に気体を通過させる中空部即ち気体流
通路を形成し、清掃用スライダ２の側面と開口部５の隙
間６以外は密閉される。またガイドアーム１には支持バ
ネ構造体３の背面にあたる部分に、支持バネ構造体３の
所定以上の変位を拘束するストッパー７が設けられてい
る。清掃時には複数個のガイドアーム１の気体流通路を
連結し、磁気ディスク枚数分積層して使用する。

第２図は本清掃手段を用いた清掃方法を説明する図で
ある。複数個のガイドアーム１の気体流通路をマニホー
ルドにより集合し吸引手段８と接続し、清掃用スライダ
２と遮蔽板４の開口部５の隙間６から塵埃９を含む気体
を吸引することによって、HDA内に浮遊している塵埃９
あるいは磁気ディスク10の表面に付着している塵埃９を
HDAをガイドアーム１の中空部に取り込み、捕集した塵
埃９を内部に流出させることなしに外部に排出すること
ができる。さらにガイドアーム１の中空部の圧力を吸引
手段８の吸引力の調整により、清掃用スライダ２にオー
トローディング機構を付加することができ、清掃用スラ
イダ２の磁気ディスク面への取り付け、又は取りはずし
に人手を要しないため、清掃工程の簡略化を図ることが
できる。

第３図はこのガイドアーム１を用いた清掃方法の一実
施例を示す図である。回転機構系11と複数枚の磁気ディ
スク10を収納したケーシング12にシーク機構系13を組み
立てる。ガイドアーム１の中空部の圧力を吸引手段８の
吸引力を強くして負圧に調整し、清掃用スライダ２と磁
気ディスク10が接触しないように、清掃用スライダ２と
磁気ディスク10の隙間を大きくするため背面方向に持ち
上げ、アンロード状態にする。ガイドアーム１をケーシ
ング12の一部に予め形成されている挿入口14から磁気デ
ィスク面内方向に、HDAのケーシング12の挿入口から清
掃手段を挿入し移動させた後固定する。中空部の圧力を
大気圧に解放して、清掃用スライダ２を支持バネ構造体
３の反力により磁気ディスク上にローディングさせる。
その後中空部を所定の圧力に調整し、塵埃９を含む気体
を吸引しながら磁気ディスク10の外周領域方向へ向けて
シークを行う。外周領域に向けてシークを行うことによ
り、ガイドアーム内に捕捉できなかった塵埃９を、HDA
内を流れる循環流に乗せて内部のフィルタ等の濾過手段
（図示せず）に捕捉させることが可能である。またこの
ガイドアーム１から外部に排出された塵埃を捕捉し、そ
の成分分析を行うことによって発生源を同定することが
可能であり、発塵対策を行うことができる。清掃終了
後、ガイドアーム１を磁気ディスクの面外に移動させ、
その後にケーシングカバー15によって挿入口14を密閉す
る。

第4a図は圧電素子20を清掃用スライダ２に搭載した図
である。圧電素子20は微小な機械的歪を電気信号に変換
する機能を有し、清掃を行った後再度シークを行い、上
記圧電素子20の出力をモニタすることによって、磁気デ
ィスク10が損傷を受けた場合や清掃用スライダ２に塵埃
９が付着し、浮上量低下をきたしたことによる接触があ
った場合第4b図に示すような信号を検知することができ
る。これによって容易に清掃効果を確認することが可能
であり、同時に清掃手段の異常をも検知することができ
る。

第５図に清掃用スライダのロード／アンロードの検出
方法の一実施例を示す。ガイドアーム１をケーシング12
内に挿入する前に、清掃用スライダ２の側面に光があた
るように光源16を配置し、清掃用スライダ２をアンロー
ド状態にする。アンローディング状態にない清掃用スラ
イダ２があるならば、反射光として検出されるため、順
次各スライダに対して行えば、清掃用スライダ２と磁気
ディスク10との衝突による損傷を未然に防止することが
できる。ここで用いられる光源16として、例えばレーザ
やLED等が挙げられるが、この他反射型でなくても透過
型であってもよい。

次に清掃用スライダのロード／アンロードの他の検出
方法を示す。

第6a図にアンロードの状態を示す。アンロード時には
吸引手段８によってガイドアーム１の内部が負圧になる
ため、清掃用スライダ２は背面方向に持ち上がり、支持
バネ構造体３はストッパー７に接触する。

第6b図に待機時、清掃時の状態を示す。逆に待機時、
清掃時には内部の圧力が大気圧又はほぼそれに近い圧力
に開放されているため、支持バネ構造体３とストッパー
７は離れる。これを利用しガイドアーム１の支持バネ構
造体３の取付け部に絶縁層17を設け、この間の抵抗を検
出回路18で測定し支持バネ構造体３とストッパー７の接
触を調べる。この情報を清掃装置の動作を制御する制御
回路19に送り、異常が生じたと判断される場合にはケー
シング12内へガイドアーム１の挿入を中断または警報を
発するなどの動作が可能である。

［発明の効果］ 本発明によれば、磁気記録媒体上の塵埃などの微粒子
を、清掃用支持手段に設けた中空部内に吸引し外部へ排
出できる。そのため、ケーシングとシーク機構部を組み
立てた後、ケーシングに予め形成しておいた挿入口から
清掃手段を挿入し、非接触で磁気記録媒体を清掃出来る
ので、正常な記録・再生の障害となり、かつ磁気ディス
クに損傷を与える製造時の塵埃を排除し、磁気ディスク
装置の高信頼性化を達成する効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例に係る清掃用支持手段の構成を
示す斜視図、第２図は本発明の実施例に係る清掃用支持
手段による塵埃捕集原理を示す説明図、第３図は本発明
の実施例に係る磁気ディスク装置の製造方法を示す斜視
図、第4a図は本発明の実施例に係る圧電素子を示す斜視
図、第4b図は第4a図に示した圧電素子が出力する磁気デ
ィスク装置異常時の電気信号を示す図表、第５図、第6a
図及び第6b図は清掃用スライダのロード／アンロード検
出方法を示す説明図である。 １……ガイドアーム、２……清掃用スライダ、５……開
口部、６……隙間、７……ストッパー、８……吸引手
段、９……塵埃、10……磁気ディスク、11……回転機構
系、12……ケーシング、13……シーク機構系、14……挿
入口、15……ケーシングカバー、16……光源、20……圧
電素子

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久世 務 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式 会社日立製作所小田原工場内 (56)参考文献 特開 平２−42696（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−119781（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−13180（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−156966（ＪＰ，Ａ)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】磁気記録媒体と該磁気記録媒体を回転させ
   る回転機構系を収納するケーシングと、該磁気記録媒体
   に読み書きを行う磁気ヘッドスライダを移動せしめるシ
   ーク機構部とを組み立て、前記ケーシングに予め形成し
   た挿入口から清掃手段を挿入し、該清掃手段の清掃用支
   持手段に支持される清掃体を用いて非接触で前記磁気記
   録媒体表面を清掃し、該清掃後に前記挿入口を密閉する
   磁気ディスク装置の製造方法において、 前記清掃用支持手段には遮蔽部材によって中空部を形成
   し、前記遮蔽部材には磁気記録媒体表面に対向して開口
   部を設け、前記開口部から前記清掃体がわずかに突出し
   て前記磁気記録媒体上を浮上する構造とし、前記開口部
   の清掃体周部と遮蔽部材との隙間から前記中空部内に流
   入した気体を、前記中空部を気体流通路として排出する
   ことにより前記磁気記録媒体表面を清掃することを特徴
   とする磁気ディスク装置の製造方法。
2. 【請求項２】前記清掃体はバニッシュスライダであるこ
   とを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク装置の製
   造方法。