JP3309847B2 - 磁気転写装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスク装
置やフロッピー（登録商標）ディスク装置に用いられる
磁気ディスクの製造過程の中で磁気転写を行う磁気転写
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、磁気記録再生装置は、小型でかつ
大容量のものを実現するために、高記録密度化の傾向に
ある。

【０００３】現在、代表的な磁気ディスク装置であるハ
ードディスクドライブの分野においては、既に面記録密
度が１０Ｇｂｉｔ／ｓｑｉｎを越える装置が商品化され
ており、数年後には、面記録密度が２０Ｇｂｉｔ／ｓｑ
ｉｎの装置の実用化が予測されるほどの急峻な技術の進
歩が認められる。

【０００４】このような高記録密度を可能とした技術的
背景には、線記録密度の向上もさることながら、わずか
数μｍのトラック幅の信号をＳＮ良く再生できる磁気抵
抗素子型ヘッドに依るところが大である。

【０００５】また、高記録密度に伴い磁気記録媒体に対
する浮動磁気スライダの浮上量の低減化も要求されてき
ており、浮上中も何らかの要因でディスク／スライダの
接触が発生する可能性が増大している。このような状況
下において、記録媒体にはより平滑性が要求されてきて
いる。

【０００６】さて、ヘッドが狭トラックを正確に走査す
るためにはヘッドのトラッキングサーボ技術が重要な役
割を果たしている。このようなトラッキングサーボ技術
を用いた現在のハードディスクドライブでは、磁気記録
媒体に一定の角度間隔でトラッキング用サーボ信号やア
ドレス情報信号、再生クロック信号等が記録された領域
を設け（以下、プリフォーマット記録という。）、ドラ
イブ装置は、ヘッドから一定時間間隔で再生されるこれ
らの信号によりヘッドの位置を検出し修正して、ヘッド
が正確にトラック上を走査することを可能にしている。

【０００７】ここで、上述のように、サーボ信号やアド
レス情報信号、再生クロック信号等はヘッドが正確にト
ラック上を走査するための基準信号となるものであるか
ら、その書き込み（以下、フォーマティングと記す）に
は高い位置決め精度が必要である。現在のハードディス
クドライブでは、光干渉を利用した高精度位置検出装置
を組み込んだ専用のサーボ装置（以下サーボライタ）を
用いて記録ヘッドを位置決めしてフォーマティングが行
われている。

【０００８】しかしながら、上記サーボライタによるフ
ォーマティングには以下の課題が存在する。

【０００９】第１に、磁気ヘッドによる記録は、基本的
に磁気ヘッドと磁気記録媒体との相対移動に基づく線記
録であり、多数のトラックにわたって信号を書き込む必
要があるため、サーボライタによる方法では、プリフォ
ーマット記録に多大な時間を要するとともに、生産性を
あげるためには高価な専用のサーボライタが複数台必要
であり、プリフォーマット記録が高コストとなってい
た。

【００１０】また、第２に、多くのサーボライタの導
入、維持管理には多額のコストがかかる。これらの課題
はトラック密度が向上し、トラック数が多くなるほど深
刻である。

【００１１】そこで、フォーマティングをサーボライタ
ではなく、予め全てのサーボ情報が書き込まれたマスタ
と呼ばれるディスクとフォーマティングすべき磁気ディ
スクを重ね合わせ外部から転写用のエネルギーを与える
ことによりマスタの情報を磁気ディスクに一括転写する
方式が提案されている。

【００１２】その一例として、特開平１０−４０５４４
号公報に示された磁気転写装置があげられる。

【００１３】同公報には、基体の表面に、情報信号に対
するパターン形状で強磁性材料からなる磁性部を形成し
てマスター情報坦体とし、このマスター情報坦体の表面
を、強磁性薄膜あるいは強磁性粉塗布層が形成されたシ
ート状もしくはディスク状磁気記録媒体の表面に接触さ
せ、所定の磁界をかけることにより、マスター情報坦体
に形成した情報信号に対応するパターン形状の磁化パタ
ーンを磁気記録媒体に記録する方法が開示されている。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、かかる従来
の磁気転写装置を用いた情報信号の記録においては、マ
スター情報坦体に設けられた情報信号に対応する配列パ
ターンを磁化パターンとして磁気記録媒体に一括記録す
る方法であるが、磁気記録媒体表面全体に亘って均一に
安定して高密度の情報信号が記録されることが重要であ
る。

【００１５】しかし、上記従来の磁気転写装置において
は、磁気記録媒体５の表面もしくはマスタ情報担体４の
凸部６に異常突起や異物が存在する場合、両者が接触す
ることによって磁気記録媒体の表面に陥没部が発生す
る。

【００１６】図１２は従来の磁気転写方法において磁気
記録媒体５とマスタ情報担体４の凸部６とを接触させた
後の磁気記録媒体５の表面形状を示す図であり、中央の
丸印は異常突起により出来た陥没部である。また図１３
は、この陥没部の断面を測定した図である。

【００１７】図１３において、磁気記録媒体表面より５
０ｎｍ程度窪んだ陥没部のまわりには２０ｎｍ程度の微
小突起が存在している。

【００１８】ここで、スライダの磁気記録媒体表面から
の浮上量としては２０ｎｍ程度であり、それに対して、
磁気記録媒体上に図１２（１３）に示すような２０ｎｍ
程度の突起が存在すれば、データ記録再生時に、磁気ヘ
ッドと磁気記録媒体とが接触することになり、かかる場
合、接触した瞬間に磁気ヘッドが飛ばされ、磁気ヘッド
と磁気ディスクのクリアランスが大となり信号の記録再
生性能が低下し、また磁気ヘッドが磁気ディスクと物理
的に接触することにより、磁気ヘッドの寿命が低下した
り、ともすれば磁気記録媒体自体の破損につながる原因
となっていた。

【００１９】図１４は、かかる従来の磁気転写方法によ
って磁気転写を行った後の磁気記録媒体全体の表面の突
起の状態を光学的に測定した結果を示したものであり、
磁気記録媒体の表面に２０ｎｍあるいはそれを越える突
起が多数存在することがわかる。

【００２０】このように、従来の磁気転写方法によれ
ば、磁気ディスク上に多数の突起が存在することとな
り、記録再生性能および磁気ヘッド寿命の低下という問
題があり、今後の高記録密度化に伴って磁気ヘッド、デ
ィスク間の浮上量がさらに小さくなればますます深刻な
問題となる。

【００２１】本発明は上記従来の問題点に鑑みてなされ
たものであり、磁気ディスクに微小突起が発生せず、信
頼性の高い磁気転写を実現することを目的とする。

【００２２】

【課題を解決するための手段】上記従来の課題を解決す
るために、本発明の磁気転写装置は、磁性膜が少なくと
も片面に形成された磁気転写用マスタを磁気ディスクに
密着させ、外部磁界によって前記磁気ディスクに前記磁
気転写用マスタの磁性膜パターンを磁気転写する磁気転
写装置であって、ディスク欠陥検出手段によって、前記
磁気転写用マスタと密着するディスク表面上の欠陥数或
いは欠陥の大きさが所定の値以下であることを検査した
クリーニング用ディスクに対して、前記磁気転写用マス
タを前記クリーニング用ディスクと密着／離間させる操
作を所定の回数繰り返した後、前記クリーニング用ディ
スクを前記磁気ディスクに交換し、前記磁気ディスクと
前記磁気転写用マスタを密着させ、磁気転写を行うこと
を特徴とするものである。これにより、素早く、確実に
磁気転写用マスタに付着している異物を取り除くことが
できる。

【００２３】また、本発明の磁気転写装置は、磁性膜が
少なくとも片面に形成された磁気転写用マスタを磁気デ
ィスクに密着させ、外部磁界によって前記磁気ディスク
に前記磁気転写用マスタの磁性膜パターンを磁気転写す
る磁気転写装置であって、前記磁気転写用マスタをクリ
ーニング用ディスクと密着／離間させる操作を行った後
に、ディスク欠陥検出手段によって、前記磁気転写用マ
スタと密着するディスク表面上の欠陥数或いは欠陥の大
きさが所定の値以下であることを検査した検査用ディス
クに対して前記磁気転写用マスタを密着させ、その後前
記検査用ディスクに対して、前記ディスク欠陥検出手段
によって、前記磁気転写用マスタと密着するディスク表
面上の欠陥数或いは欠陥の大きさが所定の値以下である
ことを検査した後に、前記検査用ディスクを前記磁気デ
ィスクに交換し、前記磁気ディスクに対して、前記磁気
転写用マスタを密着させ、磁気転写を行うことを特徴と
するものである。これにより、磁気転写用マスタの欠陥
検査を極めて簡単で、かつ高精度にできるため、信頼性
の高い磁気転写ディスクを提供し得る。

【００２４】また、本発明の磁気転写装置は、磁性膜が
表面に形成された磁気転写用マスタを強磁性膜が形成さ
れた磁気ディスク表面に密着させ、外部磁界により前記
磁気ディスク表面に前記磁気転写用マスタの磁性膜パタ
ーンを磁気転写する工程を行った後に、欠陥検出手段に
よって前記磁気ディスクの欠陥を検査し、欠陥数或いは
欠陥の大きさが所定の値以上であった時に、前記磁気転
写用マスタをクリーニング用ディスクと密着／離間させ
る操作を所定の回数繰り返すことによって前記磁気転写
用マスタに付着した異物を除去することを特徴とするも
のである。これにより、磁気転写用マスタに異物が付着
したかどうかを簡単に、かつ素早く判断し、除去するこ
とが可能となるため、信頼性の高い磁気転写を実現し得
る。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて、図面を参照しながら説明する。 （実施の形態１）図１〜図１１を用いて本発明の実施の
形態における磁気転写装置および磁気記録媒体を製造す
る方法について説明する。

【００２６】図１に、本発明の実施の形態の磁気転写を
行う工程のチャートを示す。

【００２７】まず、磁気転写用マスタに関する説明を行
う。

【００２８】図２は、本発明の実施の形態における磁気
転写用マスタ２の構成を説明するための部分拡大図であ
る。図２において、３０は磁気ディスク１に磁気パター
ンを転写するための磁性膜であり、磁性膜３０上には磁
気ディスク１に記録されるディジタル情報信号に対応し
たパターン形状で強磁性薄膜からなる磁性部によるマス
ター情報パターンが形成されている。ここで、強磁性薄
膜としては、硬質磁性材料、半硬質磁性材料、軟質磁性
材料を問わず、多くの種類の磁性材料を用いることがで
き、磁気記録媒体にディジタル情報信号を転写記録出来
るものであればよい。例えば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ
合金などを用いることが出来る。

【００２９】尚、マスター情報パターンが記録される磁
気ディスク１の種類によらずに十分な記録磁界を発生さ
せるためには、磁性材料の飽和磁束密度が大きいほどよ
い。特に２０００エルステッドを越える高保磁力の磁気
ディスクや磁性層の厚みの大きいフレキシブルディスク
に対しては、飽和磁束密度が０．８テスラ以下になると
十分な記録を行うことができない場合があるので、一般
的には、０．８テスラ以上、好ましくは１．０テスラ以
上の飽和磁束密度を有する磁性材料が用いられる。

【００３０】４は磁気転写用マスタ２の磁性膜１６が設
けられている転写面３に設けられた放射状の溝である。
このように構成された磁気転写用マスタ２に対して、ま
ず図１中ＳＴ１に示すように、公知の方法、例えばスク
ラブ洗浄によって磁気転写用マスタ２の洗浄を行う。し
かし、現存の洗浄方法では磁気転写用マスタ２の転写面
３に残存する２０〜５０ｎｍ程度の超微小な異物を除去
することができないことが実験により明らかになってき
た。超微小な異物を確実に除去するために実施するＳＴ
２の工程について図３および図４を用いて説明する。

【００３１】図３は本発明の実施の形態におけるＳＴ２
の工程を示す装置の断面図であり、特に離間手段につい
て示している。図４は本発明の実施の形態におけるＳＴ
２の工程を示す装置の断面図であり、特に密着手段につ
いて示している。

【００３２】図３において、１Ａはクリーニング用Ｎｉ
Ｐディスクであり、２はクリーニング用ＮｉＰディスク
１Ａの表面と密着させるための磁気転写用マスタディス
クである。

【００３３】３は磁気転写用マスタ２におけるクリーニ
ング用ＮｉＰディスク１Ａとの接触面であり、接触面３
には磁気転写用マスタ２の中心から放射状に広がった溝
４が設けられてある。図５は磁気転写用マスタ２におけ
るクリーニング用ＮｉＰディスク１Ａとの接触面３を示
した図であり、図５に示すように、溝４は磁気転写用マ
スタ２の中心から放射状に広がっている。本実施の形態
では、溝の深さは５μｍ程度に設定している。５は、磁
気転写用マスタ２の中心部に固着されたボスであり、ク
リーニング用ＮｉＰディスク１Ａの内周孔に勘合させる
ことによってクリーニング用ＮｉＰディスク１Ａと磁気
転写用マスタ２とのセンタリングを行っている。また、
クリーニング用ＮｉＰディスク１Ａの内周孔とボス５と
の間には所定の隙間５１（図６参照）が設けられてお
り、空気の流れが可能なように構成されている。

【００３４】図３中６は、クリーニング用ＮｉＰディス
ク１Ａを支持するための支持台であり、中心部に空気を
流すための通気孔７が設けられてある。８は磁気転写用
マスタ２とクリーニング用ＮｉＰディスク１Ａの間の空
気を排出、圧送するための空気通路、９は空気通路８か
ら空気を排出するための空気排出口、１０は空気排出口
に接続された吸引ポンプ、１１は空気の排出を制御する
排気弁である。また、１２は空気通路８に空気を圧送す
るための給気ポンプ、１３は空気の給気を制御する給気
弁である。給気ポンプ１２には、０．０１μｍのエアー
フィルタが設けられており、０．０１μｍ以上の異物が
空気通路８に圧送されないように構成されている。１４
は、磁気転写用マスタ２を保持するための保持アームで
あり、保持アーム１４に設けられた貫通孔から空気を吸
引することによって（図示せず）磁気転写用マスタ２を
吸着している。

【００３５】まず、図３を使用して離間手段について説
明する。排気弁１１を閉じて給気弁１３を開放した状態
で吸引ポンプ１２を動作させることによって、空気を空
気通路８に流し込む。すると通気孔７には図３の矢印Ａ
で示したように上方向に空気が圧送される。このことに
より、通気孔７に圧送された空気は、ボス５を上方向に
押し上げ、さらに矢印Ｂに示すように、空気は溝４に圧
送される。溝４に圧送された空気は溝４を通って磁気転
写用マスタ２の中心から外周へ向かって放射状に広が
る。そして、さらに溝４から磁気転写用マスタ２とクリ
ーニング用ＮｉＰディスク１Ａとの隙間を通って大気へ
と抜ける。この空気の流れにより、磁気転写用マスタ２
やクリーニング用ＮｉＰディスク１Ａの表面に付着して
いた微細な異物は空気とともに大気へと排出されること
になる。

【００３６】この時の時間経過と、磁気転写用マスタ２
とクリーニング用ＮｉＰディスク１Ａとで挟まれた空間
（以下、空間Ｓと称す）の気圧との関係を示すのが図７
で、同図で時間経過が約３秒のあたりから空間Ｓの気圧
が１０１．３ｋＰaから瞬間的に上昇し、その後約１秒
間は１３０ｋＰａほどの気圧を保持している期間が、上
記に示した磁気転写用マスタ２とクリーニング用ＮｉＰ
ディスク１Ａが離間している状態に相当する。

【００３７】このとき、クリーニング用ＮｉＰディスク
１Ａと磁気転写用マスタ２との間の隙間はできる限り小
さく設定するほうが好ましい。本実施例では約０．５ｍ
ｍに設定している。このことによって、クリーニング用
ＮｉＰディスク１Ａと磁気転写用マスタ２との間の空気
の流れは速くなるため、両者の間に存在する微細な異物
を確実に大気へと排出することができる。

【００３８】次に、密着手段について図４を用いて説明
する。

【００３９】前述した離間手段で動作させた給気ポンプ
１２をまず停止させ、給気弁１３を閉じる。そして、保
持アーム１４に取り付けられた空気の吸引を解除させる
ことによって磁気転写用マスタ２を保持アーム１４から
離す。すると、磁気転写用マスタ２は重力によって下方
向に移動し、ボス５がクリーニング用ＮｉＰディスク１
Ａの内周孔と勘合した状態でクリーニング用ＮｉＰディ
スク１Ａに載置される。その後、排気弁１１を開き、排
気ポンプ１０を作動させる。すると、図３の矢印Ｃに示
したように通気孔７の空気が下方向に排出されるため、
溝４内部の空気もクリーニング用ＮｉＰディスク１Ａの
内周孔とボス５との隙間を通って排出されることにな
り、クリーニング用ＮｉＰディスク１Ａによって閉じら
れた溝４の空間の圧力は大気圧よりも低くなる。従っ
て、クリーニング用ＮｉＰディスク１Ａはほぼ大気圧１
５により磁気転写用マスタ２に押しつけられる。その結
果、磁気転写用マスタ２に存在する異物はクリーニング
用ＮｉＰディスク１Ａと磁気転写用マスタ２との間に挟
まれることになる。ここで、クリーニング用ＮｉＰディ
スク１Ａと磁気転写用マスタ２との硬度を比較すれば、
クリーニング用ＮｉＰディスクのほうが硬度が低いた
め、両者に挟まれた異物は磁気転写用マスタ２を傷つけ
ることなく、クリーニング用ＮｉＰディスク１Ａ側にめ
り込む、或いは欠陥を生じさせることとなる。また、磁
気転写用マスタ２上に存在する微少な異常突起について
は、クリーニング用ＮｉＰディスク１Ａと密着すること
により平坦化されることとなる。図７で空間Ｓの気圧が
３０ｋＰａほどの区間が上記密着状態に相当する。

【００４０】次に、再度図３に示した離間手段を実施す
る。すなわち、排気弁１１を閉じ、給気弁１３を開き、
給気ポンプ１２を作動させる。すると、図３中矢印Ａ，
Ｂに示すように空気が圧送され、磁気転写用マスタ２は
空気が圧送する力によって上方向に移動し、保持アーム
１４と当接した所で止まる。このとき、矢印Ｂに示した
ように、空気は溝４を通して磁気転写用マスタ２の中心
から外周側へ放射状に圧送された状態を保っている。そ
のことによって、磁気転写用マスタ２の表面に存在して
いた異物は、給気ポンプ１２から圧送された空気と共に
大気へ排出されるか、クリーニング用ＮｉＰディスク１
Ａ上に転写される。このように、密着／離間の操作を所
定の回数繰り返すことによって、磁気転写用マスタ２の
表面上に存在する異物を除去することが可能となる。

【００４１】ここで、クリーニング用のディスクには潤
滑剤を塗布していないほうが好ましい。これは、通常の
磁気ディスクのように潤滑剤を塗布すると、異物の吸着
性が低下するため、クリーニングディスク側に異物を付
着させにくくなるためである。本実施の形態のように、
潤滑剤を塗布させる前であるＮｉＰディスクを使用する
ことによって、磁気転写用マスタに付着している異物を
確実にクリーニング用ディスクに付着させることが可能
となる。

【００４２】また、本実施の形態に示したように、クリ
ーニング用ディスク１Ａの硬度は、磁気転写用マスタ２
の硬度よりも小さいほうが好ましい。これは、もしクリ
ーニング用ディスク表面の硬度が磁気転写用マスタ２の
硬度よりも高いとすると、磁気転写用マスタ２の硬度よ
り高く、かつクリーニング用ディスクの硬度よりも低い
異物が磁気転写用マスタ２とクリーニング用ディスクの
間に存在していた場合、クリーニング用ディスク表面の
硬度は異物の硬度よりも高いため、クリーニング用ディ
スク表面に窪みが生じず、逆に異物はより硬度の低い磁
気転写用マスタ２の表面にめり込むことになり、磁気転
写用マスタ２には欠陥が生じる。このようにして磁気転
写用マスタ２に一旦欠陥が生じると、その後の全ての磁
気転写に悪影響を及ぼすこととなる。

【００４３】そこで、本実施の形態に示したように、ク
リーニング用ディスク表面の硬度を磁気ディスク表面の
硬度よりも小さくすることによって、磁気ディスク１と
磁気転写用マスタ２とが磁気ディスク１に窪みを発生さ
せることを確実に防止することができる。

【００４４】また、本実施の形態では、クリーニング用
ディスクとしてアルミニウムの基板にＮｉＰのめっき層
を塗布させた構成としたが、これに限定されるものでは
なく、例えばＣｏ−Ｒｅ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ、Ｃｏ−
Ｎｉ−Ｒｅ−Ｐのような磁気特性を有したものでもよ
い。磁気特性を有しためっき層を塗布させることによっ
て、以下に示す効果が得られる。すなわち、磁気転写用
マスタ２の表面上に存在する磁性膜に異常突起が存在し
ていた場合、密着／離間の繰り返し動作によって磁性膜
が剥がれることになるが、クリーニング用ディスク１Ａ
の表面に磁気特性を有しためっき層が塗布されている
と、磁性層は確実にクリーニング用ディスク側に付着す
ることになる。

【００４５】また、クリーニング用ディスク１Ａの磁気
転写用マスタ２と接触する領域Ｓａは、磁気ディスク１
の磁気転写用マスタ２と接触する領域Ｓｂよりも大き
く、かつ、少なくともＳａの領域は必ずＳｂを全て含む
ようにするのがよい。これは、クリーニングされた領域
Ｓaから外れた場所で磁気ディスク１と磁気転写用マス
タ２とが接触すると、磁気ディスク１に異物が付着する
可能性が発生するためである。

【００４６】領域Ｓａを領域Ｓｂよりも大きくする方法
としては、まず、クリーニング用ディスク１Ａとして磁
気ディスク１よりもサイズの大きなディスクを用いると
よい。

【００４７】但し、実用上は、クリーニング用ディスク
も磁気ディスクと同じ製造装置で製造される場合もあ
り、かかる場合は同サイズのディスクとなるため、領域
Ｓａを領域Ｓｂよりも大きくするためには次の方法がと
られる。

【００４８】つまり、クリーニング用ディスク１Ａを図
３中の支持台６に偏心させて装着し、前述した密着／離
間の動作を１サイクル行う度に回転させれば、磁気転写
用マスタ２に対して、クリーニング用ディスク１Ａの位
置が順次ずれることとなり、Ｓｂ（磁気ディスク１の磁
気転写用マスタ２と接触する領域）よりも広い領域に対
して吸引／圧送を行うことが出来る。

【００４９】次に、磁気転写用マスタ２の表面３に異物
が付着していないかどうかを検査する。検査の方法とし
て、磁気転写用マスタ２の表面３に付着している異物を
直接検査することは極めて困難である。なぜなら、図２
に示したように、磁気転写用マスタ２の表面３には、溝
４による凹凸や磁性膜３０による微小な凹凸が存在する
ため、例えば光学的な検査方法では凹凸部の端部で光源
の散乱光が発生するため、この部分を誤って異物と判定
することがあるためである。

【００５０】しかし、以下に示す方法によって簡単かつ
確実に磁気転写用マスタ２の表面３に異物が付着してい
ないかどうかを検査することが可能となる。

【００５１】つまり、磁気転写用マスタ２の表面３に異
物が付着しているか否かの検査を、磁気転写用マスタ２
の表面を直接検査するのではなく、磁気転写用マスタ２
と検査用ＮｉＰディスクを密着させ、磁気転写用マスタ
２表面の形状が反映された検査用ＮｉＰディスクの表面
を検査することにより行うものである。詳細は以下に説
明する。

【００５２】まず、図１中ＳＴ３に示すように、磁気転
写用マスタ２と検査用ＮｉＰディスク１Ｂとを１回だけ
密着させ、離間させる。この時の装置は前述したＳＴ２
の工程と同様、図３および図４に示したもので、ＳＴ２
の工程と異なるのは、クリーニング用ＮｉＰディスク１
Ａではなく、検査用ＮｉＰディスク１Ｂを使用する点で
ある。ここで、検査用ＮｉＰディスク１Ｂ表面の材質と
しては、磁気転写用マスタ２表面よりも硬度の低いもの
を用いることで、磁気転写用マスタ２表面の凹凸が転写
される。

【００５３】次に、ＳＴ４の工程として検査用ＮｉＰデ
ィスク１Ｂの磁気転写用マスタ２との密着面を光学的な
検査方法、例えばドップラー効果によりディスクの凹凸
面、すなわち欠陥を測定する方法によって所定の深さ以
上の欠陥が存在しないかどうかを検査する。

【００５４】ここで、検査用ＮｉＰディスク１Ｂ表面に
は磁気転写用マスタ２表面の凹凸形状が転写されてお
り、検査用ＮｉＰディスク１Ｂはその表面全体が同一面
であり、磁気転写用マスタ２のような溝がないため、光
学的測定において散乱光の発生がなく、正確な検査を行
うことが出来る。そしてその表面を検査することで、間
接的に磁気転写用マスタ２の検査を行うことが出来る。

【００５５】このＳＴ４の検査にて所定の深さ以上の欠
陥が存在しなければ、磁気転写用マスタ２に異物が存在
していないと判断する。この方法を採ることによって、
簡単な方法で確実に磁気転写用マスタ２に異物が存在す
るかどうかを判断することが可能となる。

【００５６】このＳＴ４の検査にて所定の深さ以上の欠
陥が存在しなければ、ＳＴ３の工程で使用した磁気転写
用マスタ２をＳＴ８の磁気転写の工程で使用する。

【００５７】また、ＳＴ４の工程の検査にてＮＧであれ
ば再度ＳＴ２の工程にて磁気転写用マスタ２をクリーニ
ングする。

【００５８】ここで、クリーニング用ＮｉＰディスク１
Ａおよび検査用ＮｉＰディスク１Ｂは、ＳＴ５の工程お
よびＳＴ６の工程に示すように、磁気転写用マスタ２と
のクリーニングを実施する前に光学的な検査を行う。光
学的な検査方法としては、散乱光方式であることが望ま
しい。これは、散乱光方式の検査方法は特にディスク表
面上の異物を検出しやすいためである。クリーニングを
実施する前に光学的な検査を行う理由について、図８を
用いて説明する。

【００５９】図８はクリーニング用ＮｉＰディスク１Ａ
に対して光学的検査を行い、表面上に異物が存在してい
た場合と異物が存在していない場合とで、磁気転写用マ
スタ２とクリーニング用ＮｉＰディスクの密着／離間を
繰り返し行い、その回数とクリーニング用ＮｉＰディス
ク表面の欠陥数との関係をグラフにしたものである。

【００６０】図８中黒三角印はクリーニング用ＮｉＰデ
ィスク表面上に異物が存在していた場合の密着回数と欠
陥との関係を、黒四角印は異物が存在していない場合の
密着回数と欠陥との関係のグラフをそれぞれ示す。

【００６１】つまり、まず磁気転写用マスタ２とクリー
ニング用ＮｉＰディスクの密着／離間を１回行った後、
クリーニング用ＮｉＰディスクの表面に対して光学的検
査を行い、欠陥数をカウントする。測定はＴＨＯＴ製の
ディスクテスタ４２１８を用いて行った。この時の欠陥
数を初期の値とする。この時、磁気転写用マスタ２上の
欠陥がクリーニング用ＮｉＰディスクに転写されるた
め、クリーニング用ＮｉＰディスクの表面の検査を行う
ことで、間接的に磁気転写用マスタ２上の欠陥の状態を
把握出来る。

【００６２】次に、磁気転写用マスタ２とクリーニング
用ＮｉＰディスクの密着／離間を所定回数行った後、ク
リーニング用ＮｉＰディスクを新しいクリーニング用Ｎ
ｉＰディスクに交換し、その新しいクリーニング用Ｎｉ
Ｐディスクと磁気転写用マスタ２の密着／離間を１回行
った後に、新しいクリーニング用ＮｉＰディスクの表面
に対して光学的検査を行い、欠陥数をカウントする。こ
の欠陥数を、間接的にこの時の磁気転写用マスタ２の欠
陥数とみなすことが出来る。

【００６３】図８の結果より、異物が存在しないクリー
ニング用ＮｉＰディスクを用いれば、１０回の密着／離
間によって、磁気転写用マスタ２上の欠陥数が０となる
のに対し、異物が存在するクリーニング用ＮｉＰディス
クを用いれば、欠陥数を０とするためには密着／離間を
１０００回繰り返す必要があることがわかる。

【００６４】つまり、磁気転写用マスタ２のクリーニン
グ工程（図１中ＳＴ２）の前に、クリーニング用ＮｉＰ
ディスクの検査を行い、異物のないクリーニング用Ｎｉ
Ｐディスクを用いることで、効率的なクリーニングを行
うことが出来る。

【００６５】また、ＳＴ６の工程に示すように検査用Ｎ
ｉＰディスクを密着前に検査するのは、検査用ＮｉＰデ
ィスクを磁気転写用マスタ２と接触させることによって
磁気転写用マスタに異物を付着することを未然に防ぐた
めである。

【００６６】次に磁気ディスク１の製造方法について説
明する。まず、公知の方法で表面に磁性層を形成する。
磁性層の形成については、例えばアルミニウム製の基板
上に蒸着やスパッタ手段のような乾式めっき手段により
磁性層を設ける工程がある。また、通常は磁性層上に蒸
着やスパッタ手段のような乾式めっき手段あるいはディ
ッピングやスピンコート法により保護膜を設ける工程を
行うことによって磁性層を保護する方法が採られてい
る。

【００６７】その後、公知の手段である潤滑剤を形成す
る工程を実施する。潤滑剤溶液中に磁気ディスク１を浸
けた後に所定の速度で引き上げることによって潤滑剤を
塗布する工程である。以上が磁気ディスク１の製造方法
である。

【００６８】次に、ＳＴ７の工程に示すように、光学的
な検査方法によって磁気ディスク１の表面に異物が存在
しないかどうかの検査を実施する。ここで、検査の方法
としては散乱光方式を使用するのが好ましい。散乱光方
式の検査方法は、ディスク表面上の異物を検出するのに
適した方法であるため、この工程の後に実施する磁気転
写の直前に異物を確実に除去するためには、この方法を
採るのがよい。勿論、既存の磁気ディスク１を入手し、
ＳＴ７の工程で光学的な検査を実施する方法を採っても
よい。

【００６９】次に、ＳＴ８の工程である磁気転写を実施
する。この内容について図９および図１０を用いて説明
する。磁気転写の構成に関しては図３とほぼ同じであ
り、図９は磁気転写における磁気転写用マスタ２と磁気
ディスク１間の離間工程を示している。この時の時間経
過と磁気転写用マスタ２と磁気ディスク１とで挟まれた
空間（以下、空間Ｓと称す）の気圧との関係を示すのが
図７で、同図で時間経過が３秒のあたりから空間Ｓの気
圧が１０１．３ｋＰaから瞬間的に上昇し、その後約１
秒間は１３０ｋＰaほどの気圧を保持している期間が、
上記に示した磁気転写用マスタ２と磁気ディスク１が離
間している状態に相当する。次に、吸引による密着工程
について図１０を用いて説明する。

【００７０】給気ポンプ１２を停止させ、給気弁１３を
閉じる。すると、磁気ディスク１を固着した保持アーム
１４が自重で下方向に移動し、ボス５が磁気ディスク１
の内周孔と勘合した状態で磁気ディスク１に載置され
る。その後、排気弁１１を開き、排気ポンプ１０を作動
させる。すると、図１０の矢印Ｃに示したように通気孔
７の気体が下方向に排出されるため、溝４内部、すなわ
ち空間Ｓの気体も磁気ディスク１の内周孔とボス５との
隙間を通って排出されることになる。

【００７１】そのことにより、磁気転写用マスタ２と磁
気ディスク１とは全周にわたり密着した状態となってお
り、その圧力は大気圧よりも低くなる。従って、磁気デ
ィスク１は大気圧１５により磁気転写用マスタ２に押し
付けられることとなる。

【００７２】図７で空間Ｓの気圧が３０ｋＰａほどの区
間が上記密着状態に相当する。

【００７３】その後、図１０に示すようにマグネット２
０を矢印Ｄ方向に移動させ、磁気転写用マスタ２に接近
させ、その距離が１ｍｍになった時に矢印Ｄ方向への移
動を停止し、次に磁気ディスク１の円周方向、すなわち
矢印Ｅの向きにマグネット２０を１回転以上させること
により、転写に必要な磁界を印可する。

【００７４】その後、再び図９に示した離間工程によっ
て磁気転写用マスタ２と磁気ディスク１とを離間させ
る。

【００７５】次にＳＴ９の工程について図１１を用いて
説明する。図１１は本発明の実施の形態におけるグライ
ドハイトテストを行うための装置を説明する斜視図であ
る。

【００７６】グライドハイトテストとは、実際の磁気デ
ィスクと磁気ヘッドの走査時のクリアランスよりも若干
小さいクリアランスをもって、磁気ディスク上に検出用
ヘッドを走査させ、その時、検出用ヘッドによって衝撃
を検出することにより、磁気ディスク上の欠陥を検出す
るテストのことである。

【００７７】図１１の装置は、ＳＴ８の工程（磁気転
写）を経た後の磁気ディスク１を保持して回転させるス
ピンドル２１と、磁気ディスク１をスピンドル２１に固
定するクランプ機構２２と、グライドハイトテスト用ヘ
ッドスライダ４０を備えるヘッド支持機構２３と、ヘッ
ド支持機構２３をその根元で片持ち支持し、アコーステ
ィックエミッションセンサー２５が固着されたガイドア
ーム２４と、ヘッド４０をヘッド支持機構２３及びガイ
ドアーム２４を介して磁気ディスク１の記録面上で動か
して位置決めするヘッド位置決め部２６と、ヘッド位置
決め部２６の動作を制御する位置決め制御部２７と、ス
ピンドル２１の動作を制御するスピンドル制御部２８
と、位置決め制御部２７とスピンドル制御部２８を制御
するコントローラ２９とから構成されている。

【００７８】まず、コントローラ２９によって、スピン
ドル制御部２８を介して、磁気ディスク１を定速回転さ
せる。次に、ヘッド位置決め部２６を図１１中Ｆ方向に
移動させるように位置決め制御部２７で制御し、磁気デ
ィスク１とヘッド４０との間が所定の距離、すなわち１
５ｎｍになった位置で停止させる。この位置の設定方法
を以下に示す。

【００７９】予めヘッド位置決め部２６がある位置にあ
る時の、磁気ディスク１とヘッド２０との間の距離を測
定しておく。そして、磁気ディスク１とヘッド４０との
間の距離が１５ｎｍとするために移動させるべき距離を
算出し、コントローラ２９に記憶させる。コントローラ
２９は位置決め制御部２７を介してヘッド位置決め部２
６を移動させ、磁気ディスク１とヘッド４０との間の距
離を１５ｎｍに設定する。ここで磁気ディスク１とヘッ
ド４０との間の距離、すなわち１５ｎｍは、実際の装置
での記録再生を行う時の浮上量、もしくはそれよりも若
干小さい値に設定している。

【００８０】その後、磁気ディスク１を回転させた状態
で図１１中Ｇ方向、すなわち磁気ディスク半径方向にヘ
ッド４０を移動させるように位置決め制御部２７によっ
て制御し、少なくともＳＴ８の工程で磁気転写を行う際
に磁気転写用マスタ２と接触した面に対してグライドハ
イトテストを行う。

【００８１】このことによって、磁気ディスク１の表面
に存在する異常突起、特に、記録再生途中における磁気
ディスクと磁気ヘッドとのクリアランス以上の突起、を
衝突によって発生する過大振動エネルギーを通じてアコ
ースティックエミッションセンサー２５によって検出
し、異常突起の存在を検出するものである。ここで、１
枚の磁気ディスク１において１個以上の異常突起が存在
すれば不良ディスクと判断し、図１中ＳＴ２で示すよう
に磁気転写用マスタ２のクリーニングを開始させる。

【００８２】また、異常突起が検出されなかった場合
は、ＯＫディスクと判断し、次の工程であるＳＴ１０を
実施する。

【００８３】ＳＴ１０の工程は、磁気ディスク１の表面
上の欠陥を検査する工程であり、磁気ディスク１の表面
に対して光学的に欠陥検査を行う。この検査にて、欠陥
が見つかった場合は、図１に示すように、ＳＴ２の工程
にて磁気転写用マスタ２のクリーニングを開始させる。
欠陥が見つからなかった場合は、磁気ディスク１をハー
ドディスク装置に組み込む。

【００８４】このように、磁気転写の工程を繰り返して
いる最中に磁気転写用マスタ２に異物が付着したかどう
かを判断する方法として、磁気転写後の磁気ディスク１
の表面に対して欠陥を検査し、欠陥が発見された時に磁
気転写用マスタをクリーニングし、再検査するという方
法を採ることによって、磁気転写用マスタ２に異物が付
着したかどうかを簡単に、かつ素早く判断し、除去する
ことが可能となるため、信頼性の高い磁気転写を実現し
得る。

【００８５】以上のように本実施の形態によれば、光学
検査によって表面を異物がないことを確認したディスク
と、磁気転写用マスタとを密着／離間することによって
クリーニングする方法を採ったため、効率よく確実に磁
気転写用マスタをクリーニングすることができる。

【００８６】また、本実施の形態によれば、磁気転写用
マスタの表面上に異物がなくなったかどうかを密着後の
ディスクを検査する方法を採ったため、マスタディスク
の洗浄度合いを簡単に、かつ正確に判断することができ
る。

【００８７】また、本実施の形態によれば、磁気転写の
工程を繰り返している最中に磁気転写用マスタ２に異物
が付着したかどうかを判断する方法として、磁気転写後
の磁気ディスク１の表面に対して欠陥を検査し、欠陥が
発見された時に磁気転写用マスタをクリーニングし、再
検査するという方法を採ったので、磁気転写用マスタ２
に異物が付着したかどうかを簡単に、かつ素早く判断
し、除去することが可能となるため、信頼性の高い磁気
転写を実現し得る。

【００８８】なお、本発明の実施の形態においては、磁
気転写用マスタ２の洗浄後にＳＴ２の工程を行う方法を
採ったが、ＳＴ１の工程を省略してＳＴ２から実施して
も磁気転写用マスタ２のクリーニング効果は十分に発揮
される。

【００８９】また、ＳＴ２の工程とＳＴ８の工程を同一
の装置で実施してもよい。

【００９０】また、本発明の実施の形態においては、磁
気転写用マスタ２と磁気ディスク１との位置合わせをボ
ス５を使用して行う方法を採ったが、これに限定される
ものではなく、例えば磁気転写用マスタ２を保持する保
持アーム１４に移動可能なステージを設け、光学的な方
法によって磁気ディスク１と磁気転写用マスタ２との位
置合わせを行う方法を採ってもよい。

【００９１】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、光学検査
によって表面を異物がないことを確認したディスクと、
磁気転写用マスタとを密着／離間することによってクリ
ーニングする方法を採ったため、効率よく確実に磁気転
写用マスタをクリーニングすることができる。

【００９２】また、本実施の形態によれば、磁気転写用
マスタの表面上に異物がなくなったかどうかを密着後の
ディスクを検査する方法を採ったため、マスタディスク
の洗浄度合いを簡単に、かつ正確に判断することができ
る。

【００９３】また、本実施の形態によれば、磁気転写の
工程を繰り返している最中に磁気転写用マスタ２に異物
が付着したかどうかを判断する方法として、磁気転写後
の磁気ディスク１の表面に対して欠陥を検査し、欠陥が
発見された時に磁気転写用マスタをクリーニングし、再
検査するという方法を採ったので、磁気転写用マスタ２
に異物が付着したかどうかを簡単に、かつ素早く判断
し、除去することが可能となるため、信頼性の高い磁気
転写を実現し得る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態における磁気転写を行う工
程のチャート

【図２】本発明の実施の形態における磁気転写用マスタ
の構成を説明するための部分拡大図

【図３】本発明の実施の形態におけるＳＴ２の工程を示
す装置の断面図

【図４】本発明の実施の形態におけるＳＴ２の工程を示
す装置の断面図

【図５】本発明の実施の形態における磁気転写用マスタ
におけるクリーニング用ＮｉＰディスクとの接触面を示
した図

【図６】本発明の実施の形態におけるボスの詳細図

【図７】本発明の実施の形態における空間Ｓの気圧と経
過時間との関係を示す図

【図８】本発明の実施の形態における磁気ディスク表面
の欠陥数と繰り返し密着回数との関係を示す図

【図９】本発明の実施の形態における磁気転写の工程を
示す図

【図１０】本発明の実施の形態における磁気転写の工程
を示す図

【図１１】本発明の実施の形態におけるグライドハイト
テストを行うための装置を説明する斜視図

【図１２】従来の磁気転写後の磁気ディスク表面観察結
果を示す図

【図１３】従来の磁気ディスクの陥没部の断面図

【図１４】従来の磁気転写後の磁気ディスク表面を光学
的な測定方法で測定した結果を示す図

【符号の説明】

１ 磁気ディスク １Ａ クリーニング用ＮｉＰディスク １Ｂ 検査用ＮｉＰディスク ２ 磁気転写用マスタ ３ マスタの転写面

フロントページの続き (56)参考文献 特開2001−14666（ＪＰ，Ａ) 特開2001−357523（ＪＰ，Ａ) 特開2001−167434（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G11B 5/86 G11B 5/82

Claims (12)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁性膜が少なくとも片面に形成された磁
   気転写用マスタを磁気ディスクに密着させ、外部磁界を
   印加することにより前記磁気ディスクに前記磁気転写用
   マスタの磁性膜パターンを磁気転写する磁気転写方法で
   あって、 ディスク欠陥を検出する検査工程を有し、 クリーニング用ディスク表面を前記検査工程で検査し、
   欠陥数或いは欠陥の大きさが所定の値以下であることを
   検査した後に、 前記クリーニング用ディスクに対して、前記磁気転写用
   マスタを密着／離間させる操作を所定の回数繰り返し、 その後、前記磁気ディスクと前記磁気転写用マスタを密
   着させ、磁気転写を行うことを特徴とする磁気転写方
   法。
2. 【請求項２】 磁性膜が少なくとも片面に形成された磁
   気転写用マスタを磁気ディスクに密着させ、外部磁界を
   印加することにより前記磁気ディスクに前記磁気転写用
   マスタの磁性膜パターンを磁気転写する磁気転写方法で
   あって、 ディスク欠陥を検出する検査工程を有し、 前記磁気転写用マスタをクリーニング用ディスクに対し
   て、密着／離間させる操作を所定の回数繰り返した後、 前記磁気転写用マスタとの密着面上の欠陥数或いは欠陥
   の大きさが所定の値以下であることを前記検査工程によ
   り検査をした検査用ディスクに対して前記磁気転写用マ
   スタを密着させ、 前記検査用ディスクに対して、前記検査工程による欠陥
   検査を行い、表面上の欠陥数或いは欠陥の大きさが所定
   の値以下であった場合には前記磁気ディスクと前記磁気
   転写用マスタを密着させ、磁気転写を行うことを特徴と
   する磁気転写方法。
3. 【請求項３】 磁性膜が少なくとも片面に形成された磁
   気転写用マスタを磁気ディスクに密着させ、外部磁界を
   印加することにより前記磁気ディスクに前記磁気転写用
   マスタの磁性膜パターンを磁気転写する磁気転写方法で
   あって、 ディスク欠陥を検出する検査工程を有し、 前記磁気転写用マスタとの密着面上の欠陥数或いは欠陥
   の大きさが所定の値以下であることを前記検査工程によ
   り検査をしたクリーニング用ディスクに対して前記磁気
   転写用マスタを密着／離間させる操作を所定の回数繰り
   返した後、 前記磁気転写用マスタとの密着面上の欠陥数或いは欠陥
   の大きさが所定の値以下であることを前記検査工程によ
   り検査をした検査用ディスクに対して前記磁気転写用マ
   スタを密着させ、 その後、前記検査用ディスクに対して、前記検査工程に
   よる欠陥検査を行い、 表面上の欠陥数或いは欠陥の大きさが所定の値以下であ
   った場合にはその後前記磁気ディスクと前記磁気転写用
   マスタを密着させ、磁気転写を行うことを特徴とする磁
   気転写方法。
4. 【請求項４】 磁性膜が少なくとも片面に形成された磁
   気転写用マスタを磁気ディスクに密着させ、外部磁界を
   印加することにより前記磁気ディスクに前記磁気転写用
   マスタの磁性膜パターンを磁気転写する磁気転写方法で
   あって、 ディスク欠陥を検出する検査工程を有し、 前記磁気ディスクに前記磁気転写用マスタの磁性膜パタ
   ーンを磁気転写した後に、 前記検査工程により前記磁気ディスクの欠陥を検査し、
   欠陥数或いは欠陥の大きさが所定の値以上であった場合
   にはその後、前記磁気転写用マスタをクリーニング用デ
   ィスクと密着／離間させる操作を所定の回数繰り返すこ
   とを特徴とする磁気転写方法。
5. 【請求項５】 密着／離間の操作は、磁気転写用マスタ
   とクリーニング用ディスク間の気体を吸引し、あるいは
   前記磁気転写用マスタと前記クリーニング用ディスク間
   に気体を流入させることにより行うことを特徴とする請
   求項１又は２又は４記載の磁気転写方法。
6. 【請求項６】 磁気転写用マスタの硬度は磁気ディスク
   およびクリーニング用ディスクの硬度よりも高いことを
   特徴とする請求項１又は２又は４記載の磁気転写方法。
7. 【請求項７】 クリーニング用ディスクの硬度は、磁気
   ディスクの硬度よりも低いことを特徴とする請求項１又
   は２又は４記載の磁気転写方法。
8. 【請求項８】 前記磁気転写用マスタと前記クリーニン
   グ用ディスクとを密着させる領域は、前記磁気転写用マ
   スタから前記磁気ディスクへ磁気転写する際の磁気転写
   領域を含むことを特徴とする請求項１又は２又は４記載
   の磁気転写方法。
9. 【請求項９】 前記マスタディスクと潤滑剤の塗布され
   ていない前記クリーニング用ディスクとの密着、離間を
   繰り返すことにより、前記マスタディスク上の異物を除
   去することを特徴とする請求項１又は２又は４記載の磁
   気転写方法。
10. 【請求項１０】 前記クリーニング用ディスクの表面に
    めっき膜を予め塗布させたことを特徴とする請求項１又
    は２又は４記載の磁気転写方法。
11. 【請求項１１】 前記めっき膜は磁気特性を有している
    ことを特徴とする請求項１０記載の磁気転写方法。
12. 【請求項１２】 磁気転写を行う前の磁気ディスク表面
    の欠陥を前記検査工程により検査し、欠陥数或いは欠陥
    の大きさが所定の値以下であった場合にはその直後に、
    前記磁気ディスクと前記磁気転写用マスタを密着させ、
    磁気転写を行うことを特徴とする請求項１乃至１１に記
    載の磁気転写方法。