JP2002358635A - 磁気記録媒体の製造方法および磁気転写方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】磁気ディスクに微小突起が発生せず、信頼性の
高い磁気転写を実現できる磁気記録媒体の製造方法およ
び磁気転写方法を提供する。 【解決手段】ディスク状基体上に強磁性薄膜からなる磁
性層を形成させる工程ST1と、磁性膜が少なくとも片面
に形成された磁気転写用マスタを前記磁性層が形成され
た磁気ディスク表面に密着させ、外部磁界を印加するこ
とにより前記磁気ディスク表面に前記磁気転写用マスタ
の磁性膜パターンを磁気転写する工程ST4と、前記磁気
ディスクの前記磁気転写用マスタを密着させる側の表面
に気体を吹き付けることによって前記磁気ディスク表面
上に付着している異物を除去する工程ST2により製造す
る。磁気ディスク１枚ごとに、磁気ディスクに対して外
周部端部を中心に気体を吹き出し、その後、磁気転写す
ることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスク装
置やフレキシブルディスク装置に用いられる磁気ディス
クの製造方法、特に磁気転写に適した磁気記録媒体の製
造方法および磁気転写方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】現在、磁気記録再生装置は、小型でかつ
大容量のものを実現するために、高記録密度化の傾向に
ある。

【０００３】代表的な磁気ディスク装置であるハードデ
ィスクドライブの分野においては、既に面記録密度が10
Gbit/sqinを越える装置が商品化されており、１年後に
は、面記録密度が20Gbit/sqinの装置の実用化が予測さ
れるほどの急峻な技術の進歩が認められる。

【０００４】このような高記録密度を可能とした技術的
背景には、線記録密度の向上もさることながら、わずか
数μｍのトラック幅の信号をＳＮ良く再生できる磁気抵
抗素子型ヘッドに依るところが大である。

【０００５】また、高記録密度に伴い磁気記録媒体に対
する浮動磁気スライダの浮上量の低減化も要求されてき
ており、浮上中も何らかの要因でディスク／スライダの
接触が発生する可能性が増大している。このような状況
下において、記録媒体にはより平滑性が要求されてきて
いる。

【０００６】さて、ヘッドが狭トラックを正確に走査す
るためにはヘッドのトラッキングサーボ技術が重要な役
割を果たしている。このようなトラッキングサーボ技術
を用いた現在のハードディスクドライブでは、磁気記録
媒体に一定の角度間隔でトラッキング用サーボ信号やア
ドレス情報信号、再生クロック信号等が記録されてい
る。ドライブ装置は、ヘッドから一定時間間隔で再生さ
れるこれらの信号によりヘッドの位置を検出し修正し
て、ヘッドが正確にトラック上を走査することを可能に
している。

【０００７】ここで、上述のようにサーボ信号やアドレ
ス情報信号、再生クロック信号等はヘッドが正確にトラ
ック上を走査するための基準信号となるものであるか
ら、その書き込み（以下、フォーマティングと記す）に
は高い位置決め精度が必要である。現在のハードディス
クドライブでは、光干渉を利用した高精度位置検出装置
を組み込んだ専用のサーボ装置（以下サーボライタ）を
用いて記録ヘッドを位置決めしてフォーマティングが行
われている。

【０００８】しかしながら、上記サーボライタによるフ
ォーマティングには以下の課題が存在する。

【０００９】第１に、磁気ヘッドによる記録は、基本的
に磁気ヘッドと磁気記録媒体との相対移動に基づく線記
録であり、多数のトラックにわたって信号を書き込む必
要があるため、サーボライタによる方法では、プリフォ
ーマット記録に多大な時間を要するとともに、生産性を
あげるためには高価な専用のサーボライタが複数台必要
であり、プリフォーマット記録が高コストとなってい
た。

【００１０】また、第２に、多くのサーボライタの導
入、維持管理には多額のコストがかかる。これらの課題
はトラック密度が向上し、トラック数が多くなるほど深
刻であった。

【００１１】そこで、フォーマティングをサーボライタ
ではなく、予め全てのサーボ情報が書き込まれたマスタ
と呼ばれるディスクとフォーマティングすべき磁気ディ
スクを重ね合わせ外部から転写用のエネルギーを与える
ことによりマスタの情報を磁気ディスクに一括転写する
方式が提案されている。その一例として、特開平１０−
４０５４４号公報に示された磁気転写装置があげられ
る。同公報には、基体の表面に、情報信号に対するパタ
ーン形状で強磁性材料からなる磁性部を形成してマスタ
情報坦体、すなわち磁気転写用マスタとし、このマスタ
情報坦体の表面を、強磁性薄膜あるいは強磁性粉塗布層
が形成されたシート状もしくはディスク状磁気記録媒体
の表面に接触させ、所定の磁界をかけることにより、マ
スタ情報坦体に形成した情報信号に対応するパターン形
状の磁化パターンを磁気記録媒体に記録する方法が開示
されている。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】ところで、かかる従来
の磁気転写装置を用いた情報信号の記録においては、マ
スタ情報坦体に設けられた情報信号に対応する配列パタ
ーンを磁化パターンとして磁気記録媒体に一括記録する
方法であるが、磁気記録媒体表面全体に亘って均一に安
定して高密度の情報信号が記録されることが重要であ
る。

【００１３】しかし、上記従来の磁気転写装置において
は、磁気記録媒体に異物が存在する場合、両者が接触す
ることによって磁気記録媒体の表面に陥没部が発生す
る。

【００１４】図１５は従来の磁気転写方法において磁気
記録媒体とマスタ情報担体とを接触させ磁気転写を行っ
た後の磁気記録媒体の表面形状を示す図であり、中央の
丸印は異常突起により出来た陥没部である。また図１６
は、この陥没部の断面を測定した図である。図１６にお
いて、磁気記録媒体表面より５０ｎｍ程度窪んだ陥没部
のまわりには２０ｎｍ程度の微小突起が存在しているこ
とがわかる。

【００１５】ここで、前述したように浮動磁気スライダ
の磁気記録媒体表面からの浮上量としては通常２０ｎｍ
程度であり、それに対して、磁気記録媒体上に図１５ま
たは図１６に示すような２０ｎｍ程度の突起が存在すれ
ば、データ記録再生時に、磁気ヘッドと磁気記録媒体と
が接触することになり、かかる場合、接触した瞬間に磁
気ヘッドが飛ばされ、磁気ヘッドと磁気記録媒体のクリ
アランスが大となり信号の記録再生性能が低下し、また
磁気ヘッドが磁気記録媒体と物理的に接触することによ
り、磁気ヘッドの寿命が低下したり、ともすれば磁気記
録媒体自体の破損につながる原因となっていた。

【００１６】図１７は、かかる従来の磁気転写方法によ
って磁気転写を行った後の磁気記録媒体全体の表面の突
起の状態を光学的に測定した結果を示したものであり、
磁気記録媒体の表面に２０ｎｍまたはそれを越える突起
が多数存在することがわかる。

【００１７】このように、従来の磁気転写方法によれ
ば、磁気転写後の磁気ディスク上には多数の突起が存在
することとなり、記録再生性能および磁気ヘッド寿命の
低下という問題があり、今後の高記録密度化に伴って磁
気ヘッド、ディスク間の浮上量がさらに小さくなればま
すます深刻な問題となる。

【００１８】本発明は、上記従来の問題に鑑みてなされ
たものであり、磁気ディスクに微小突起が発生せず、信
頼性の高い磁気転写を実現できる磁気記録媒体の製造方
法および磁気転写方法を提供することを目的とする。

【００１９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の第１番目の磁気記録媒体の製造方法は、デ
ィスク状基体上に強磁性薄膜からなる磁性層を形成させ
る磁気ディスクを製造する工程１と、磁性膜が少なくと
も片面に形成された磁気転写用マスタを前記磁性層が形
成された磁気ディスク表面に密着させ、外部磁界を印加
することにより前記磁気ディスク表面に前記磁気転写用
マスタの磁性膜パターンを磁気転写する工程２と、前記
磁気ディスクの、少なくとも前記磁気転写用マスタを密
着させる側の表面に気体を吹き付けることによって前記
磁気ディスク表面上に付着している異物を除去する工程
３を含むことを特徴とする。

【００２０】次に本発明の第２番目の磁気記録媒体の製
造方法は、ディスク状基体上に強磁性薄膜からなる磁性
層を形成させる磁気ディスク製造の工程１と、磁性膜が
少なくとも片面に形成された磁気転写用マスタを前記磁
性層が形成された磁気ディスク表面に密着させ、外部磁
界を印加することにより前記磁気ディスク表面に前記磁
気転写用マスタの磁性膜パターンを磁気転写する工程２
と、前記磁気ディスクの、少なくとも前記磁気転写用マ
スタを密着させる側の表面に気体を吹き付けることによ
って前記磁気ディスク表面上に付着している異物を除去
する工程３と、前記磁気ディスク表面上の欠陥を光学的
に検出し、欠陥数或いは欠陥の大きさが所定の値以下で
あることを検査する工程４を含むことを特徴とする。

【００２１】前記第１〜２番目の製造方法においては、
工程３は、磁気ディスクの、少なくとも磁気転写用マス
タを密着させる側の表面に対して、前記磁気ディスクと
気体吹き出し口とを前記磁気ディスクの周方向に相対的
に移動させながら前記磁気ディスク１枚に対して気体を
吹き付けることが好ましい。

【００２２】また前記製造方法においては、工程３は、
磁気ディスクの少なくとも磁気転写用マスタを密着させ
る側の表面に対して外周部端部への気体の吹きつけ量、
或いは吹き付け時の流速を他の気体の吹きつけ部分に対
して略大きく設定することが好ましい。

【００２３】次に本発明の第１番目の磁気転写方法は、
磁性膜が少なくとも片面に形成された磁気転写用マスタ
を磁気ディスクに密着させる密接手段と、外部磁界を印
加することによって前記磁気ディスクに前記磁気転写用
マスタの磁性膜パターンを磁気転写する転写手段と、前
記磁気ディスクの、少なくとも前記磁気転写用マスタを
密着させる側の表面に気体を吹き付けることによって前
記磁気ディスク表面上に付着している異物を除去する異
物除去手段とを有する磁気転写方法であって、前記異物
除去手段を行った後に、前記密接手段及び前記転写手段
により磁気転写を行うことを特徴とする。

【００２４】次に本発明の第２番目の磁気転写方法は、
磁性膜が少なくとも片面に形成された磁気転写用マスタ
を磁気ディスクに密着させる密接手段と、外部磁界を印
加することによって前記磁気ディスクに前記磁気転写用
マスタの磁性膜パターンを磁気転写する転写手段と、前
記磁気ディスクの、少なくとも前記磁気転写用マスタを
密着させる側の表面に気体を吹き付けることによって前
記磁気ディスク表面上に付着している異物を除去する異
物除去手段と、前記磁気ディスク表面上の欠陥を光学的
に検出し、欠陥数或いは欠陥の大きさが所定の値以下で
あることを検査する検査工程とを有する磁気転写方法で
あって、前記異物除去手段を行った後に、前記検査工程
によって欠陥数或いは欠陥の大きさが所定の値以下であ
ることを検査した後に、前記密接手段及び前記転写手段
により磁気転写を行うことを特徴とする。

【００２５】前記第１〜２番目の転写方法においては、
異物除去手段は、磁気ディスクの、少なくとも磁気転写
用マスタを密着させる側の表面に対して、前記磁気ディ
スクと気体吹き出し口とを前記磁気ディスクの周方向に
相対的に移動させながら前記磁気ディスク１枚に対して
気体を吹き付けることが好ましい。

【００２６】また前記第１〜２番目の転写方法において
は、前記異物除去手段は、磁気ディスクの、少なくとも
磁気転写用マスタを密着させる側の表面に対して外周部
端部への気体の吹きつけ量、或いは吹き付け時の流速を
他の気体の吹きつけ部分に対して略大きく設定すること
が好ましい。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて、図面を参照しながら説明する。

【００２８】（実施の形態１）図１〜図１４を用いて本
発明の実施の形態における磁気転写方法および磁気記録
媒体を製造する方法について説明する。

【００２９】図１は、本実施の形態の工程を示すフロー
チャートである。図１において、まず、ＳＴ１の工程で
ある磁気ディスクの製造工程については、公知の方法で
表面に磁性層を形成しておく。磁性層の形成について
は、例えばアルミニウム製の基板上に蒸着やスパッタ手
段のような乾式めっき手段により磁性層を設ける工程が
ある。また、通常は磁性層上に蒸着やスパッタ手段のよ
うな乾式めっき手段あるいはディッピングやスピンコー
ト法により保護膜を設ける工程を行うことによって磁性
層を保護する方法が採られている。

【００３０】次に図１のＳＴ２、ＳＴ３の工程を実施す
るが、まずＳＴ４の工程である磁気転写工程について、
図２〜図６を用いて詳細に説明する。

【００３１】図２は本実施の形態における磁気転写装置
の断面図であり、磁気転写用マスタ２と磁気ディスク１
が離間しているときの状態を示す。図３は磁気転写用マ
スタ２と磁気ディスク１が密着しているときの状態を示
す。図４は磁気転写用マスタ２における磁気ディスク１
との接触面３を示した図であり、溝４は磁気転写用マス
タ２の中心から放射状に広がっている。本実施の形態で
は、溝の深さは５μｍ程度に設定している。

【００３２】図２において、磁気転写用マスタ２上のダ
ミーディスク１との接触面３には磁気転写用マスタ２の
中心から放射状に広がった溝４が設けられている。磁気
転写用マスタ２の中心部に固着されたボス５が設けられ
ている。磁気ディスク１を支持するための支持台６に
は、中心部に気体を流すための通気孔７が設けてある。
また、磁気転写用マスタ２と磁気ディスク１の間の気体
を排出、圧送するための通路８と、通路８から気体を排
出するための気体排出口９と、気体排出口に接続された
吸引ポンプ１０と、気体の排出を制御する排気弁１１が
設けられている。また、通路８に気体を圧送するための
給気ポンプ１２と、気体の給気を制御する給気弁１３が
設けられている。ここで、給気ポンプ１２には、０．０
１μｍのエアーフィルタが設けられており、０．０１μ
ｍ以上の異物が通路８に圧送されないように構成されて
いる。また、磁気転写用マスタ２を保持するための保持
アーム１４が磁気転写用マスタ２に固着されている。固
着方法としては、接着等の方法もあるが、図２のよう
に、保持アーム１４に設けられた貫通孔から気体を吸引
することによって磁気転写用マスタ２を吸着してもよ
い。保持アーム１４はさらにガイド部材１６により上部
のボス部を介して垂直方向に摺動自在に位置決めされて
いる。ただし、磁気転写用マスタ２の位置決め方法は保
持アーム１４によるものに限ったものではなく、例えば
ボス５の外周を、磁気ディスク１の内周孔に勘合させる
ことによっても行うことが出来る。かかる場合には、ボ
ス５の形状は図５のように構成され、磁気転写用マスタ
２とダミーディスク１の間の気体はボス５外周部に設け
られた切り欠き部５１を通って排出、圧送される。

【００３３】次に、図２〜図４を用いて吸引／圧送の工
程について詳細に説明する。

【００３４】まず、図２を使用して圧送による離間の工
程について説明する。排気弁１１を閉じて給気弁１３を
開放した状態で給気ポンプ１２を動作させることによっ
て、気体を通路８に流し込む。そうすると通気孔７には
図２の矢印Ａで示したように上方向に空気が圧送され
る。このことにより、通気孔７に圧送された空気は、ボ
ス５を上方向に押し上げ、さらに矢印Ｂに示すように、
空気は溝４に圧送される。溝４に圧送された空気は溝４
を通って磁気転写用マスタ２の中心から外周へ向かって
放射状に広がる。そして、さらに溝４から磁気転写用マ
スタ２と磁気ディスク１との隙間を通って大気へと抜け
る。

【００３５】この時の時間経過と、磁気転写用マスタ２
と磁気ディスク１とで挟まれた空間（以下、空間Ａと称
す）の気圧との関係を示すのが図６で、同図で時間経過
が３秒のあたりから空間Ａの気圧が１０１．３ｋｐａか
ら瞬間的に上昇し、その後約１秒間は１３０ｋｐａほど
の気圧を保持している期間が、上記に示した磁気転写用
マスタ２と磁気ディスク１が離間している状態に相当す
る。

【００３６】本実施の形態では、磁気ディスク１と磁気
転写用マスタ２が密着した状態から磁気転写用マスタ２
が保持アーム１４と一体的に０．５ｍｍ上昇した時点で
保持アーム１４の上面がガイド部材１６の下面と当接す
ることによって、磁気ディスク１と磁気転写用マスタ２
間の距離は制御される。

【００３７】次に、吸引による密着の工程について図３
を用いて説明する。給気ポンプ１２を停止させ、給気弁
１３を閉じる。すると、磁気ディスク１を固着した保持
アーム１４が自重で下方向に移動し、ボス５が磁気ディ
スク１の内周孔と勘合した状態で磁気ディスク１に載置
される。その後、排気弁１１を開き、吸引ポンプ１０を
作動させる。すると、図３の矢印Ｃに示したように通気
孔７の気体が下方向に排出されるため、溝４内部、即ち
空間Ａの気体も磁気ディスク１の内周孔とボス５との隙
間を通って排出されることになる。

【００３８】ここで、溝４は図４に示したごとく、磁気
転写用マスタ２の最外周まで抜けている形状ではない
為、最外周のドーナツ状部分では磁気転写用マスタ２と
磁気ディスク１とは全周にわたり密着した状態となって
おり、空間Ａは密閉された状態となっており、その圧力
は大気圧よりも低くなる。従って、磁気ディスク１は大
気圧１５により磁気転写用マスタ２に押しつけられる。

【００３９】図６で空間Ａの気圧が３０ｋｐａほどの区
間が上記密着状態に相当する。

【００４０】次に、図３に示すようにマグネット１７を
矢印Ｄ方向に移動させ、磁気転写用マスタ２に接近さ
せ、その距離が１ｍｍ程度になった時に矢印Ｄ方向への
移動を停止し、次に磁気ディスクの円周方向、すなわ
ち、矢印Ｅの向きにマグネット１７を１回転以上回転さ
せることにより、転写に必要な磁界を印可する。

【００４１】ここで、磁気転写用マスタ２について図７
〜図９を用いて詳細に説明する。

【００４２】図７に磁気転写用マスタ２の一例の平面を
模式的に示しており、図７に示すように、磁気転写用マ
スタ２の一主面、すなわち磁気ディスク１の強磁性薄膜
表面に接触する側の表面には、略放射状に信号領域２ａ
が形成されている。図４及び図７は模式的に示した図で
あり、実際には、図７における信号領域２ａは図４にお
ける接触面上に構成されている。

【００４３】図７の点線で囲んだ部分Ａの拡大図を、図
８に模式的に示す。図８に示すように、信号領域２ａに
は、磁気記録媒体に記録されるディジタル情報信号、例
えばプリフォーマット記録に対応する位置に、上記情報
信号に対応したパターン形状で強磁性薄膜からなる磁性
部によるマスタ情報パターンが形成されている。図８に
おいて、ハッチングを施した部分が強磁性薄膜によって
構成された磁性部である。この図８に示すマスタ情報パ
ターンは、クロック信号、トラッキング用サーボ信号、
アドレス情報信号等の各々の領域をトラック長さ方向に
順次配列したものである。なお、図８に示すマスタ情報
パターンは一例であり、磁気記録媒体に記録されるディ
ジタル情報信号に応じて、マスタ情報パターンの構成や
配置等を適宜決定する。

【００４４】例えば、ハードディスクドライブのよう
に、ハードディスクの磁性膜に、まずリファレンス信号
を記録し、そのリファレンス信号に基づきトラッキング
用サーボ信号などのプリフォーマット記録を行う場合に
は、本発明によるマスタ情報媒体を用いてハードディス
クの磁性膜に、あらかじめプリフォーマット記録に用い
るリファレンス信号のみを転写記録し、そしてそのハー
ドディスクをドライブの筐体に組み込み、トラッキング
用サーボ信号などのプリフォーマット記録は、ハードデ
ィスクドライブの磁気ヘッドを使用して行うようにして
もよい。

【００４５】図７、図８に示した領域の一部断面を図９
に示す。

【００４６】図９に示すように、磁気転写用マスタ２
は、Ｓｉ基板、ガラス基板、プラスチック基板などの非
磁性材料からなる円盤状の基体２ｂの一主面、すなわち
磁気ディスク１の表面が接触する側の表面に、情報信号
に対応する複数の微細な配列パターン形状で凹部２ｃを
形成し、その基体２ｂの凹部２ｃに磁性部である強磁性
膜２ｄを埋め込む形態で形成することにより構成されて
いる。

【００４７】ここで、強磁性薄膜２ｄとしては、硬質磁
性材料、半硬質磁性材料、軟質磁性材料を問わず、多く
の種類の磁性材料を用いることができ、磁気記録媒体に
ディジタル情報信号を転写記録できるものであればよ
い。例えば、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ合金などを用いる
ことができる。なお、マスタ情報が記録される磁気記録
媒体の種類によらずに十分な記録磁界を発生させるため
には、磁性材料の飽和磁束密度が大きいほどよい。特
に、２０００エルステッドを越える高保磁力の磁気ディ
スクや磁性層の厚みの大きいフレキシブルディスクに対
しては、飽和磁束密度が０．８テスラ以下になると十分
な記録を行うことができない場合があるので、一般的に
は、０．８テスラ以上、好ましくは１．０テスラ以上の
飽和磁束密度を有する磁性材料が用いられる。

【００４８】また、強磁性薄膜２ｄの厚さは、ビット長
や磁気記録媒体の飽和磁化や磁性層の膜厚によるが、例
えばビット長約１μｍ、磁気記録媒体の飽和磁化約５０
０ｅｍｕ／ｃｃ、磁気記録媒体の磁性層の厚さが約２０
ｎｍの場合では、５０ｎｍ〜５００ｎｍ程度あればよ
い。

【００４９】ここで、このような記録方法において、良
好な記録信号品質を得るためには、磁気転写用マスタに
設けた強磁性薄膜としての軟質磁性薄膜もしくは半硬質
磁性薄膜の配列パターンに基づき、プリフォーマット記
録時にはこれを励磁して一様に磁化することが望まし
く、また磁気転写用マスタを用いた信号記録に先立っ
て、ハードディスクなどの磁気記録媒体を一様に直流消
去しておくことが望ましい。

【００５０】次に、かかる磁気転写用マスタ２を製造す
る方法について説明する。

【００５１】すなわち、本発明の記録方法に用いる磁気
転写用マスタは、Ｓｉ基板の表面に、レジスト膜を製膜
し、フォトリソグラフィ法のようなレーザービームまた
は電子ビームを用いたリソグラフィ技術によってレジス
ト膜を露光、現像してパターニングした後、ドライエッ
チング等によってエッチングして、情報信号に対応した
微細な凹凸形状を形成し、その後Ｃｏ等からなる強磁性
薄膜をスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーテ
ィング法、ＣＶＤ法、めっき法等により、凹部に強磁性
薄膜が埋め込まれた形態でかつ情報信号に対応した磁性
部を備えた磁気転写用マスタを得ることができる。

【００５２】なお、磁気転写用マスタの表面に凹凸形状
を形成する方法は上述の方法に限定されるものではな
く、例えば、レーザー、電子ビームまたはイオンビーム
を用いて微細な凹凸形状を直接形成したり、機械加工に
よって微細な凹凸形状を直接形成してもよい。

【００５３】次に、磁気転写用マスタ２に形成したパタ
ーン形状に対応した情報信号を磁気ディスクに転写記録
する手順について、図１０〜図１２を用いてさらに詳し
く説明する。

【００５４】まず、マグネット１７を磁気ディスク１に
近づけた状態で、磁気ディスク１の中心軸を回転軸とし
て磁気ディスク１と平行に回転させることにより、図１
０の矢印で示すように磁気ディスク１を予め一方向にす
る（初期化）。

【００５５】次に、上述したように、磁気ディスク１に
磁気転写用マスタ２を位置決めして重ね合わせた状態
で、磁気転写用マスタ２と磁気ディスク１とを均一に密
着させ、その後図３中矢印Ｅに示すように、初期化とは
逆方向に磁界を印可することにより、磁気転写用マスタ
２の磁性部２ｄが磁化され、そして磁気転写用マスタ２
に重ね合わせた磁気ディスク１の所定の領域１ｂに、図
１１に示すように磁性部２ｄのパターン形状に対応した
情報信号が記録される。なお、図１１に示す矢印は、こ
の時磁気ディスク１に転写記録される磁化パターンの磁
界の方向を示している。

【００５６】図１２にその磁化処理時の様子を示してお
り、図１２に示すように、磁気転写用マスタ２を磁気デ
ィスク１に密着させた状態で、磁気転写用マスタ２に外
部から磁界を印可して磁性部２ｄを磁化することによっ
て、磁気ディスク１の強磁性層１ｃに情報信号を記録す
ることができる。すなわち、非磁性の基体２ｂに所定の
情報信号に対応する配列パターン形状で強磁性薄膜から
なる磁性部２ｄを形成して構成した磁気転写用マスタ２
を用いることにより、その情報信号に対応した磁化パタ
ーンとして磁気ディスク１に磁気的に転写記録すること
ができる。

【００５７】なお、磁気転写用マスタ２のパターンを磁
気ディスク１に転写記録する際の方法として、上述のよ
うに磁気転写用マスタ２を磁気ディスク１に接触させた
状態で外部磁界を印可する方法以外に、磁気転写用マス
タ２の磁性部２ｄをあらかじめ磁化させておき、その状
態で磁気転写用マスタ２を磁気ディスク１に密着するよ
うに接触させる方法であっても情報信号を記録すること
ができる。

【００５８】その後、再度図２に示した離間手段を実施
する。すなわち、排気弁１１を閉じ、給気弁１３を開
き、給気ポンプ１２を作動させる。すると、矢印Ａ，Ｂ
に示すように気体が圧送され、磁気転写用マスタ２は気
体が圧送する力によって保持アーム１４と一体的に移動
し、保持アーム１４の上面がガイド部材１６と当接した
所で止まる。このとき、矢印Ｂに示したように、気体は
溝４を通して磁気転写用マスタ２の中心から外周側へ放
射状に圧送された状態を保っている。

【００５９】ここで、磁気ディスク１と磁気転写用マス
タ２との間に異物が存在すると、磁気ディスク１に欠陥
が生じることになるが、図１のＳＴ２の工程及びＳＴ３
の工程をＳＴ４の工程の前に実施することによって、欠
陥の生じない信頼性の高い磁気転写装置を提供し得る。
この内容について以下説明する。

【００６０】図１３は、図１のＳＴ２の工程である異物
を除去する工程を詳細に示した図である。図１３におい
て、２０は気体吹き出し口であり、気体注入口２２から
注入された気体は、０．０１μｍのフィルタ２１を通っ
て吹き出し口２０から吹き出すように構成されている。
このことによって、磁気ディスク１には０．０１μｍ以
上の異物が混在することのない、クリーンエアーを吹き
出すことが可能となる。

【００６１】また、磁気ディスク１は、少なくとも気体
吹き出し口２０から気体が吹き出ている間、図１３に示
した回転方向Ｆに回転させる。

【００６２】このことによって、磁気ディスク１上に付
着している異物を除去することが可能となる。ここで、
吹き出し口２０からの気体の吹き出し量は、例えば吹き
出し口２０の形状を磁気ディスク１の外周側を大きく、
内周側を小さく設定することによって磁気ディスク１の
外周端部近傍を特に強くすることが好ましい。これは、
磁気ディスク１に付着している異物は外周端部近傍が一
番多いためである。外周端部はディスクを搬送するため
に保持する部分であることや、ディスクをカセットに挿
入する時にディスクとカセットとが接触する部分である
ため、この部分で異物が付着することが最も多い。これ
らの異物は図１３に示すような方法によって確実に除去
できることが実験的に明らかになった。

【００６３】以上のように、特に外周端部近傍に対して
他よりも強く気体を吹き付けることによって、磁気ディ
スク１に付着している異物を確実に除去することが可能
となる。

【００６４】図１中のＳＴ３の工程である欠陥を検査す
る工程は、磁気ディスク１の表面、特に磁気転写用マス
タ２と接触する面の上の欠陥を検査する工程であり、磁
気ディスク１の表面に対して光学的に欠陥検査を行う。
この検査にて、欠陥が見つかった場合は、図１に示すよ
うに、再度ＳＴ２の工程を行う。欠陥が見つからなかっ
た場合は、ＳＴ４の工程である磁気転写の工程を実施す
る。

【００６５】以上の工程を実施することによって、磁気
ディスクに付着している異物を確実に除去した後に磁気
転写を行うため、信頼性が高く、かつ磁気ディスクの歩
留まりの高い磁気転写を実現するこたが可能となる。こ
のことについて、図１４を用いて詳しく説明する。

【００６６】図１４に、磁気転写における各工程と、磁
気転写後の磁気ディスクの信頼性及び磁気ディスクのＮ
Ｇ数との関係を表に示した。

【００６７】図１４において、工程１は、磁気転写の工
程ＳＴ４を行う前に欠陥検査の工程ＳＴ３を実施し、欠
陥検査にて磁気ディスク１の表面上の所定の粒径以上、
本実施例では１μｍ以上の異物が０個であれば磁気転写
を行い、１個以上であればＮＧとする工程である。この
方法を採ると、磁気転写後の磁気ディスクの信頼性は高
いが、磁気ディスク１の歩留まりが悪くなり、１０％程
度となる。

【００６８】工程２は、異物除去の工程ＳＴ２を実施し
た後に磁気転写の工程ＳＴ４を実施するものであり、こ
の方法を採ると、磁気ディスクの歩留まりは良くなる。
しかし、ＳＴ２の工程で磁気ディスク１表面上の異物が
確実に除去できなかった場合、磁気転写後の磁気ディス
クの信頼性が悪化する可能性がある。

【００６９】それに対して、本発明の実施例である工程
３は、異物除去の工程ＳＴ２で磁気ディスク１表面上の
異物を除去しきれなかった場合でも、欠陥検査工程であ
るＳＴ３の工程で検査を行い、１μｍ以上の異物が１個
以上ある場合では再度ＳＴ２の工程を行うため、磁気デ
ィスク１の歩留まりも高く、かつ信頼性の高い磁気転写
を実現することが可能となる。

【００７０】ここで、本実施例で説明したように、気体
吹き出し口２０からの吹き出し量は、磁気ディスクの外
周端部を他よりも強くするほうが好ましい。これは、磁
気ディスクに付着している異物の殆どが外周端部である
ことが検査の結果明らかになったことからである。

【００７１】また、異物除去の工程は、本実施例に示し
たように、磁気ディスク１一枚ごとに実施するほうが、
例えば磁気ディスク１をカセットに収納したまま行うよ
りも、異物除去効果が高い。

【００７２】以上のような方法で異物除去効果を高め、
磁気ディスク１の不良率を０にし、ＳＴ３の工程を省
く、すなわち工程２の方法で磁気転写を行うことも可能
である。

【００７３】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、磁気ディ
スク表面上に異常突起や異物が存在することのない、信
頼性が高く、かつ歩留まりの高い磁気転写を実現するこ
とが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態における磁気ディスク製
造工程のフローチャートを示す図

【図２】同、一実施の形態における磁気転写装置の断面
図

【図３】同、一実施の形態における磁気転写用マスタ２
と磁気ディスク１が密着しているときの状態を示す図

【図４】同、一実施の形態における磁気転写用マスタ２
における磁気ディスク１との接触面３を示した図

【図５】同、一実施の形態におけるボスの形状を示す図

【図６】同、一実施の形態における空間Ａの時間と気圧
との関係を示す図

【図７】同、一実施の形態における磁気転写用マスタの
一例の平面を模式的に示した図

【図８】同、一実施の形態における図７のＡ部の拡大図

【図９】同、実施の形態における図７、図８に示した領
域の一部断面

【図１０】同、一本実施の形態における初期化を示す図

【図１１】同、一実施の形態における磁気転写を示す図

【図１２】同、一実施の形態における磁化処理時の様子
を示す図

【図１３】同、一実施の形態における異物を除去する工
程を詳細に示した図

【図１４】同、一実施の形態における磁気転写における
各工程と、磁気転写後の磁気ディスクの信頼性及び磁気
ディスクのＮＧ数との関係を示した図

【図１５】従来の磁気転写後の磁気ディスク表面観察結
果

【図１６】従来の磁気ディスクの陥没部の断面図

【図１７】従来の磁気転写方法によって磁気転写を行っ
た後の磁気記録媒体全体の表面の突起の状態を光学的に
測定した結果を示した図

【符号の説明】

ＳＴ１ 磁気ディスク製造工程 ＳＴ２ 異物を除去する工程 ＳＴ３ 欠陥を検査する工程 ＳＴ４ 磁気転写をする工程 １ 磁気ディスク ２ 磁気転写用ディスク ３ 磁気転写用マスタ ４ 溝 ５ ボス ６ 支持台 ７ 通気孔 １０ 吸引ポンプ １１ 排気弁 １２ 給気ポンプ １３ 給気弁 １４ 保持アーム ２０ 気体吹き出し口 ２１ フィルタ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮田 敬三 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 5D112 AA01 GA02 JJ03

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ディスク状基体上に強磁性薄膜からなる
   磁性層を形成させる磁気ディスクを製造する工程１と、 磁性膜が少なくとも片面に形成された磁気転写用マスタ
   を前記磁性層が形成された磁気ディスク表面に密着さ
   せ、外部磁界を印加することにより前記磁気ディスク表
   面に前記磁気転写用マスタの磁性膜パターンを磁気転写
   する工程２と、 前記磁気ディスクの、少なくとも前記磁気転写用マスタ
   を密着させる側の表面に気体を吹き付けることによって
   前記磁気ディスク表面上に付着している異物を除去する
   工程３を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方
   法。
2. 【請求項２】 ディスク状基体上に強磁性薄膜からなる
   磁性層を形成させる磁気ディスク製造の工程１と、 磁性膜が少なくとも片面に形成された磁気転写用マスタ
   を前記磁性層が形成された磁気ディスク表面に密着さ
   せ、外部磁界を印加することにより前記磁気ディスク表
   面に前記磁気転写用マスタの磁性膜パターンを磁気転写
   する工程２と、 前記磁気ディスクの、少なくとも前記磁気転写用マスタ
   を密着させる側の表面に気体を吹き付けることによって
   前記磁気ディスク表面上に付着している異物を除去する
   工程３と、 前記磁気ディスク表面上の欠陥を光学的に検出し、欠陥
   数或いは欠陥の大きさが所定の値以下であることを検査
   する工程４を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造
   方法。
3. 【請求項３】 前記工程３は、磁気ディスクの、少なく
   とも磁気転写用マスタを密着させる側の表面に対して、
   前記磁気ディスクと気体吹き出し口とを前記磁気ディス
   クの周方向に相対的に移動させながら前記磁気ディスク
   １枚に対して気体を吹き付ける請求項１または２に記載
   の磁気記録媒体の製造方法。
4. 【請求項４】 前記工程３は、磁気ディスクの少なくと
   も磁気転写用マスタを密着させる側の表面に対して外周
   部端部への気体の吹きつけ量、或いは吹き付け時の流速
   を他の気体の吹きつけ部分に対して略大きく設定する請
   求項１〜３のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方
   法。
5. 【請求項５】 磁性膜が少なくとも片面に形成された磁
   気転写用マスタを磁気ディスクに密着させる密接手段
   と、外部磁界を印加することによって前記磁気ディスク
   に前記磁気転写用マスタの磁性膜パターンを磁気転写す
   る転写手段と、前記磁気ディスクの、少なくとも前記磁
   気転写用マスタを密着させる側の表面に気体を吹き付け
   ることによって前記磁気ディスク表面上に付着している
   異物を除去する異物除去手段とを有する磁気転写方法で
   あって、 前記異物除去手段を行った後に、前記密接手段及び前記
   転写手段により磁気転写を行うことを特徴とする磁気転
   写方法。
6. 【請求項６】 磁性膜が少なくとも片面に形成された磁
   気転写用マスタを磁気ディスクに密着させる密接手段
   と、外部磁界を印加することによって前記磁気ディスク
   に前記磁気転写用マスタの磁性膜パターンを磁気転写す
   る転写手段と、前記磁気ディスクの、少なくとも前記磁
   気転写用マスタを密着させる側の表面に気体を吹き付け
   ることによって前記磁気ディスク表面上に付着している
   異物を除去する異物除去手段と、 前記磁気ディスク表面上の欠陥を光学的に検出し、欠陥
   数或いは欠陥の大きさが所定の値以下であることを検査
   する検査工程とを有する磁気転写方法であって、 前記異物除去手段を行った後に、前記検査工程によって
   欠陥数或いは欠陥の大きさが所定の値以下であることを
   検査した後に、 前記密接手段及び前記転写手段により磁気転写を行うこ
   とを特徴とする磁気転写方法。
7. 【請求項７】 前記異物除去手段は、磁気ディスクの、
   少なくとも磁気転写用マスタを密着させる側の表面に対
   して、前記磁気ディスクと気体吹き出し口とを前記磁気
   ディスクの周方向に相対的に移動させながら前記磁気デ
   ィスク１枚に対して気体を吹き付ける請求項５または６
   に記載の磁気転写方法。
8. 【請求項８】 前記異物除去手段は、磁気ディスクの、
   少なくとも磁気転写用マスタを密着させる側の表面に対
   して外周部端部への気体の吹きつけ量、或いは吹き付け
   時の流速を他の気体の吹きつけ部分に対して略大きく設
   定する請求項５〜７のいずれかに記載の磁気転写方法。